ES2360018T3 - Procesos de sol-gel para producir artículos monolíticos de sílice vítrea. - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 38
- 239000011521 glass Substances 0.000 title description 6
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 title description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 77
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 30
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 25
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims abstract description 18
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract description 17
- 239000000499 gel Substances 0.000 claims abstract description 16
- 239000000017 hydrogel Substances 0.000 claims abstract description 16
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 claims abstract description 10
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 claims abstract description 5
- 238000005245 sintering Methods 0.000 claims abstract description 5
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims abstract description 3
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 150000004703 alkoxides Chemical group 0.000 claims description 9
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000007596 consolidation process Methods 0.000 claims description 5
- 239000001307 helium Substances 0.000 claims description 5
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000001354 calcination Methods 0.000 claims description 4
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 claims description 4
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 claims description 4
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- QYBKVVRRGQSGDC-UHFFFAOYSA-N triethyl methyl silicate Chemical compound CCO[Si](OC)(OCC)OCC QYBKVVRRGQSGDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 3
- 125000004103 aminoalkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 claims description 3
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- VWFZEDXWYKEODY-UHFFFAOYSA-N 3-[2-aminoethyl(diethoxy)silyl]propan-1-amine Chemical compound CCO[Si](CCN)(OCC)CCCN VWFZEDXWYKEODY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- NRYVQNNLDURGON-UHFFFAOYSA-N 3-[2-aminoethyl(dimethoxy)silyl]propan-1-amine Chemical compound NCC[Si](OC)(OC)CCCN NRYVQNNLDURGON-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 2
- INJVFBCDVXYHGQ-UHFFFAOYSA-N n'-(3-triethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNCCN INJVFBCDVXYHGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 2
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 claims 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 abstract description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract description 2
- -1 silicon alkoxide Chemical class 0.000 description 7
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 5
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 5
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 5
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 230000001698 pyrogenic effect Effects 0.000 description 3
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007514 bases Chemical class 0.000 description 2
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N cyclohexylamine Chemical compound NC1CCCCC1 PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002020 Aerosil® OX 50 Inorganic materials 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229910006124 SOCl2 Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011362 coarse particle Substances 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000280 densification Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 239000011152 fibreglass Substances 0.000 description 1
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000010907 mechanical stirring Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 230000002028 premature Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003021 water soluble solvent Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C1/00—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C1/00—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
- C03C1/006—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels to produce glass through wet route
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/12—Other methods of shaping glass by liquid-phase reaction processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/06—Glass compositions containing silica with more than 90% silica by weight, e.g. quartz
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2203/00—Production processes
- C03C2203/20—Wet processes, e.g. sol-gel process
- C03C2203/22—Wet processes, e.g. sol-gel process using colloidal silica sols
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2203/00—Production processes
- C03C2203/20—Wet processes, e.g. sol-gel process
- C03C2203/26—Wet processes, e.g. sol-gel process using alkoxides
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P40/00—Technologies relating to the processing of minerals
- Y02P40/50—Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
- Y02P40/57—Improving the yield, e-g- reduction of reject rates
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
Un proceso de sol-gel para producir artículos monolíticos de sílice vítrea, que comprende: - preparar una dispersión de sílice en agua a pH ácido; - añadir a dicha dispersión al menos un alcoxisilano en una cantidad tal para obtener una proporción molar de sílice:alcoxisilano entre 6 y 30, y una proporción molar de agua:alcoxisilano entre 40 y 200; - modificar el pH de la dispersión para obtener un sol; - verter el sol obtenido de este modo en un molde; - permitir la gelificación del sol para obtener un hidrogel; - secar el hidrogel para obtener un gel seco; - sinterizar el gel seco para obtener el artículo de sílice vítrea.
Description
Campo de la Invención
- [0001] La presente invención se refiere a un proceso de sol-gel para producir artículos monolíticos de sílice vítrea. La presente invención se refiere en particular a un proceso de sol-gel para producir artículos monolíticos de sílice vítrea, en el que se hace reaccionar una suspensión de sílice coloidal con al menos un alcoxisilano para obtener un gel que 5 posteriormente se seca y se sinteriza.
Estado de la técnica
- [0002] Los procesos de sol-gel son conocidos en la técnica para producir artículos de sílice vítrea para su uso en sectores varios tales como procesos mecánicos, electromecánicos, aeronáuticos, de alta tecnología, de extrusión y similares, en particular en el sector óptico y electrónico, tales como fibras ópticas, moldes transparentes a los rayos UV, 10 receptáculos para lámparas y similares.
- [0003] En comparación con los procesos de síntesis tradicionales, la técnica de sol-gel permite obtener un producto vítreo, de alta calidad óptica y elevado punto de fusión, con temperaturas de proceso relativamente bajas, generalmente menores que 1400 ºC. Además, esta técnica permite obtener artículos monolíticos de forma deseada sin necesidad de llevar a cabo procesos largos y complicados de maquinizado mecánico y procesos de pulido. 15
- [0004] Por ejemplo, el documento WO 01/53225 describe un proceso de sol-gel para producir artículos de sílice vítrea, en el que se produce un sol mediante la introducción de una suspensión coloidal acuosa en el interior de una disolución de un alcóxido de silicio orgánico, que hidroliza para formar agregados finos de partículas de sílice. Preferentemente, la suspensión coloidal comprende sílice en forma de polvo. El sol obtenido de este modo forma un hidrogel que posteriormente se seca y se sinteriza para producir un artículo de vidrio denso. El sol presenta un contenido de sílice 20 mayor que 20 %, preferentemente entre 34 y 40 %. Preferentemente, el alcóxido de silicio es un tetraalcoxisilano. En el sol, preferentemente la proporción molar de alcóxido de silicio con respecto a agua está entre 1:4 y 1:20, más preferentemente entre 1:6 y 1:10. Los ejemplos descritos indican que una proporción de alcóxido:agua fuera de dicho intervalo conduce a un tamaño medio de partícula mayor que el valor deseado de 10 micrómetros. Preferentemente, la sílice es sílice pirógena Aerosil OX-50 con una proporción molar de sílice:agua entre 1:4 y 1:8. 25
- [0005] El documento EP 1700830 A1 describe un proceso para producir monolitos por medio de un proceso de sol-gel que comprende las siguientes etapas: a) dispersar un óxido de origen pirógeno (en particular sílice) en agua; b) hidrolizar un alcóxido en una disolución acuosa para formar un hidrolisato; c) mezclar el hidrolisato de alcóxido con el óxido de origen pirógeno para formar un sol coloidal; d) retirar de forma posible las partículas gruesas del sol coloidal; e) gelificar el sol coloidal en un molde; f) sustituir el agua presente en el aerogel resultante con un disolvente orgánico; g) 30 secar el aerogel; h) tratar térmicamente el aerogel seco. El contenido de sílice de la dispersión acuosa está entre 5 y 80 % en peso. En los ejemplos se usa una proporción molar de sílice:alcóxido de 2,0. El documento EP 1897860 A1 describe un proceso de sol-gel para producir monolitos de vidrio que comprenden: a) dispersar sílice pirógena en agua a un pH ácido; b) añadir un alcóxido de silicio a la sílice dispersa en una proporción molar de sílice/alcóxido de silicio de 2,5 a 5; c) ajustar el pH; d) verter el sol en un recipiente; e) gelificar el sol para formar un hidrogel; f) secar el hidrogel; g) 35 sinterizar el gel seco para obtener un artículo de vidrio libre de defectos y con una transmitancia aceptable entre 190 y 200 nm. En la etapa a) se ajusta el pH entre 1,5 y 3,0, mientras que en la etapa c) se ajusta el pH entre 4,2 y 5,5 mediante la adición de hidróxido de amonio. Tras verter el sol en un recipiente apropiado, se sustituye el agua presente en el hidrogel por un disolvente aprótico, considerándose que el agua tiene un punto crítico demasiado elevado y puede resultar agresiva tanto para el acero como para la estructura de sílice del sol. Disolventes apropiados para tal fin son 40 cetonas, alcoholes, acetatos y alcanos. Los disolventes solubles en agua son particularmente preferidos, por ejemplo acetona. A partir de los ejemplos aportados en dicha solicitud de patente, se obtienen unas proporciones de sílice:alcóxido de 2,13 a 5,37 y unas proporciones de agua:alcóxido de 16,9 a 27,1.
Resumen de la invención
- [0006] El solicitante ha comprobado que debido a los problemas encontrados con las tecnologías conocidas y 45 siguiendo las indicaciones de las solicitudes de patente anteriormente mencionadas, resulta extremadamente difícil obtener artículos monolíticos de grandes dimensiones, por ejemplo artículos de diámetro superior a 80 mm y peso mayor que 7 Kg, debido a que el número de rechazos por rotura es muy elevado, de manera que el proceso no puede ponerse en práctica a escala industrial. Dichas dificultades se hacen más evidentes con artículos de grandes dimensiones y pequeña superficie de transferencia, por ejemplo piezas cilíndricas sólidas. Tras un análisis completo de 50 diferentes condiciones de proceso que pueden tener influencia en el resultado final, de manera sorprendente, el solicitante encontró que, mediante la puesta en práctica de un proceso de sol-gel tal como el definido anteriormente, se pueden obtener artículos monolíticos de sílice vítrea considerablemente libres de defectos, con óptimas propiedades ópticas, en partículas en términos de transmitancia de radiación IR (infrarroja) y/o UV (ultravioleta).
Descripción de la invención 55
- [0007] De acuerdo con un primer aspecto, la presente invención se refiere a un proceso de sol-gel para producir artículos monolíticos de sílice vítrea, que comprende:
- - preparar una dispersión de sílice en agua a pH ácido;
- - añadir a dicha dispersión al menos un alcoxisilano en una cantidad tal para obtener una proporción molar de sílice:alcoxisilano entre 6 y 30, preferentemente entre 6,5 y 25, más preferentemente entre 7 y 15;
- - modificar el pH de la dispersión para obtener un sol;
- - verter el sol obtenido de este modo en un molde; 5
- - permitir que el sol gelifique para obtener un hidrogel;
- - secar el hidrogel para obtener un gel seco;
- - sinterizar el gel seco para obtener un artículo de sílice vítrea.
- [0008] En la presente memoria descriptiva y en las reivindicaciones posteriores, excepto donde se especifique lo contrario, los intervalos numéricos incluyen todos los valores comprendidos dentro del intervalo, incluyendo los extremos 10 del intervalo.
- [0009] Con respecto a la etapa de preparación de la dispersión de sílice en agua, preferentemente el pH se ajusta a un valor de 1,5 a 3,0, preferentemente de 2,0 a 2,5, añadiendo un ácido, en particular un ácido inorgánico, por ejemplo ácido clorhídrico, ácido fosfórico, ácido sulfúrico o similar, o un ácido orgánico, por ejemplo ácido acético. Preferentemente, la sílice es sílice pirógena. De manera general, la preparación se lleva a cabo añadiendo la sílice al 15 medio acuoso y dispersándolo mediante agitación mecánica, por ejemplo con un mezclador de tipo Ultra-Turrax® o dispositivos similares.
- [0010] Preferentemente, dicho alcoxisilano es un tetraalcoxisilano en el que cada grupo alcóxido tiene de 1 a 6, preferentemente de 1 a 4 átomos de carbono. Más preferentemente, el tetraalcoxisilano se escoge entre: tetraetoxisilano (TEOS), tetrametoxisilano (TMOS), metoxitrietoxisilano (MTEOS). Para la solicitud específica se prefiere 20 tetraetoxisilano (TEOS).
- [0011] De acuerdo con una realización preferida, en dicha dispersión a pH ácido, la proporción molar de agua con respecto a alcoxisilano está entre 40 y 200, preferentemente entre 50 y 160, más preferentemente entre 60 y 120. De manera sorprendente, el solicitante ha encontrado de hecho que dicha proporción molar elevada de agua con respecto a alcoxisilano permite obtener una calidad diferente y mejor del producto final, reduciendo de forma considerable la 25 formación de defectos y/o roturas.
- [0012] Tras añadir el alcoxisilano y antes de modificar el pH, preferentemente se aumenta la temperatura de la dispersión hasta un valor entre 30 y 50 ºC, durante un tiempo variable entre 6 y 18 horas. A continuación se modifica el pH de la dispersión, en particular se aumenta hasta un valor, de manera general, entre 4,0 y 6,0, preferentemente entre 4,7 y 5,2. Esta modificación de pH se puede conseguir, por ejemplo, añadiendo un compuesto básico, orgánico o 30 inorgánico, soluble en agua, por ejemplo hidróxido de amonio o aminas, en particular ciclohexilamina.
- [0013] De manera alternativa, se puede usar un aminoalquil-alcoxisilano como componente básico. Ejemplos de productos apropiados para tal fin son: 3-aminopropil-trimetoxisilano, 3-aminopropil-trietoxisilano, 2-aminoetil-3-aminopropil-dimetoxisilano, 2-aminoetil-3-aminopropil-dietoxisilano, [3-(2-aminoetil)aminopropil]-trimetoxisilano, [3-(2-aminoetil)aminopropil]-trietoxisilano o sus mezclas. El uso de un aminoalquil-alcoxisilano permite conseguir la 35 gelificación del sol sin dejar sales de amonio u otro sub-productos en el producto final que puedan disminuir la calidad del producto acabado.
- [0014] Preferentemente, el compuesto básico se añade bajo agitación para evitar un incremento excesivo del pH local que pueda provocar la gelificación prematura con la consiguiente falta de homogeneidad en el producto final.
- [0015] Antes de que la gelificación sea evidente, el sol se vierte en un molde y se deja que tenga lugar la formación de 40 gel para obtener un hidrogel. De esta forma, se puede obtener el artículo acabado con la forma deseada, sin necesidad de maquinizado mecánico adicional y/o etapas de pulido. Evidentemente, de manera general, el molde se llena de tal forma que se evite la inclusión de aire, y la consecuente formación de defectos en el producto final. El molde puede ser de varios materiales, por ejemplo materiales plásticos, metales, fibra de vidrio, fibra de carbono, cerámica, etc. Preferentemente, el molde comprende materiales plásticos tales como: polipropileno, polietileno, poliestireno, polímeros 45 fluorados (tales como politetrafluoroetileno), siliconas. Preferentemente, pero no de manera exclusiva, la gelificación se lleva a cabo a temperatura ambiente.
- [0016] Cuando se ha logrado la gelificación, el hidrogel se seca para retirar la mayor cantidad posible de agua presente en el interior de la estructura gelificada. De acuerdo con una realización preferida, este secado se lleva a cabo introduciendo el hidrogel en el interior de un horno de ciclo térmico y de humedad. De esta forma, se pueden controlar 50 tanto la temperatura como el grado de humedad a los que tiene lugar el secado, para evitar la formación de esfuerzos internos en el interior del material vítreo debido a la falta de uniformidad durante el proceso de secado.
- [0017] En general, el tiempo de secado puede variar dentro de unos límites amplios, dependiendo de varios
- parámetros de proceso implicados, en particular las dimensiones y/o el área de transferencia del artículo a producir. En general, el tiempo de secado puede variar de un mínimo de varias horas a 1200 horas, preferentemente entre 600 y 900 horas. Preferentemente, la temperatura a la cual se lleva a cabo la etapa de secado se varía durante el proceso, en general entre 15 ºC y 120 ºC, preferentemente entre 20 ºC y 100 ºC. Preferentemente, el grado de humedad también se varía durante el proceso de secado, en general entre 30 % y 100 %. Preferentemente, se mantiene el grado de 5 humedad, durante un tiempo al menos igual a 50 % del tiempo de secado total, en valores de media mayores que 70 %, para posteriormente reducirse hasta valores medios entre 60 % y 30 %.
- [0018] Por tanto, el proceso de secado no requiere un proceso de sustitución del agua presente en el hidrogel por un disolvente orgánico, al contrario que lo que se sugiere en las solicitudes de patente anteriormente mencionadas EP 1700830 A1 y EP 1897860 A1, y permite obtener un producto final de elevada calidad en un corto espacio de tiempo, 10 sin necesidad de usar disolventes orgánicos que tendrían que ser retirados, por ejemplo mediante tratamiento en un autoclave, y eliminados.
- [0019] Con respecto al proceso de sinterización del gel seco, esto puede llevarse a cabo sobre todo por métodos conocidos. En general, este proceso comprende tres etapas:
- 1) calcinación en atmósfera de oxígeno; 15
- 2) deshidratación y purificación en presencia de al menos un producto clorado;
- 3) consolidación en atmósfera inerte.
- [0020] Con respecto a la primera etapa, esto se lleva a cabo, de manera general pero no exclusiva, en un horno a una temperatura entre 30 ºC y 60 ºC, con etapas repetidas de extracción y alimentación de oxígeno para eliminar los productos de combustión formados. 20
- [0021] De manera general, la segunda etapa se lleva a cabo en un horno a una temperatura entre 60 ºC y 80 ºC, en presencia de productos clorados, tales como HCl y/o SOCl2, usando por ejemplo helio como portador, con una proporción de He:HCl de alrededor de 10:1. De manera general, la consolidación, que conduce a la densificación del material, se lleva a cabo en atmósfera de helio, posiblemente con trazas de oxígeno, a una temperatura entre 800 ºC y 1400 ºC. 25
- [0022] A continuación, se ilustra la presente invención por medio de algunas realizaciones, proporcionadas como ejemplos no limitantes del alcance de la invención.
EJEMPLOS 1-7
- [0023] Siguiendo las modalidades operativas de ejemplos 1-4 de la solicitud de patente EP 1897860 A1, se produjeron muestras de sílice vítrea de forma cilíndrica con unas dimensiones finales de 125 mm de diámetro y 90 mm de altura. 30
- [0024] La Tabla 1 muestra las diferentes condiciones operativas usadas en los distintos ejemplos. El método del proceso fue el siguiente.
- [0025] Se añadió una cantidad P1 de polvo de sílice coloidal (Aerosil® EG 50 de Degussa AG) a un volumen V1 de HCl 0,001 N, bajo agitación usando un dispositivo de mezcla Ultra-Turrax®. Se transfirió la dispersión al interior de un reactor y se añadió un volumen V2 de tetraetoxisilano (TEOS). 35
- [0026] Después de 16 horas, se añadió gota a gota una disolución de hidróxido de amonio 0,1 N a la dispersión hasta obtener un pH de 4,91. El sol obtenido de esta forma se vertió en el interior de varios moldes de forma cilíndrica.
- [0027] Después de alrededor de 12 horas, las muestras de hidrogel obtenidas de este modo se lavaron repetidamente con agua y posteriormente se introdujeron en un horno de ciclo térmico y de humedad para retirar el agua presente.
- [0028] Posteriormente, se sinterizó el gel seco mediante: calcinación a 600 ºC en atmósfera oxidante durante 5 horas; 40 deshidratación y purificación en un flujo de helio que contiene 2 % de cloro a 600 ºC durante 30 minutos; consolidación en atmósfera de helio a una temperatura de 1400 ºC durante 1 hora.
- [0029] Con respecto a los Ejemplos 1-4 (comparativos), el solicitante observó que las muestras tendían a la rotura durante la etapa de gelificación, evitando de este modo que el proceso se completara con las etapas posteriores de secado y sinterización. Al contrario, todas las muestras obtenidas en los Ejemplos 5-12 (invención) alcanzaron el final 45 del proceso de producción perfectamente enteras y sin defectos.
TABLA 1
- Ejemplo
- HCl 0,01 N SiO2 TEOS Prop. Molar SiO2:TEOS Prop. Molar H2O:TEOS
- V1 (litros) Moles de H2O P1 (Kg) Conc. SiO2 (% en peso) Moles de SiO2 V2 (litros) P2 (Kg) Moles de TEOS
- 1 (*)
- 12,357 0,687 5,19 29,6 0,086 9,120 8,46 0,0406 2,13 16,9
- 2 (*)
- 12,500 0,694 5,28 29,7 0,088 7,120 6,61 0,0317 2,77 21,9
- 3 (*)
- 21,000 1,167 9,00 30,0 0,150 8,092 7,51 0,0360 4,15 32,4
- 4 (*)
- 11,270 0,626 7,44 39,8 0,124 5,180 4,81 0,0231 5,37 27,1
- 5
- 13,778 0,765 5,906 30,0 0,098 3,182 2,953 0,0142 6,93 54,0
- 6
- 7,797 0,433 3,341 30,0 0,056 1,477 1,371 0,0066 8,45 65,8
- 7
- 7,547 0,419 3,234 30,0 0,0538 1,268 1,177 0,0056 9,52 74,2
- 8
- 6,656 0,370 2,921 30,5 0,0486 1,078 1,000 0,0048 10,13 77,0
- 9
- 5,917 0,329 2,303 28,0 0,0383 0,754 0,700 0,0034 11,40 97,8
- 10
- 5,874 0,326 2,555 30,3 0,0425 0,689 0,639 0,0031 13,86 106,4
- 11
- 6,210 0,345 2,734 30,6 0,0455 0,591 0,548 0,0026 17,29 131,2
- 12
- 6,656 0,370 2,878 30,2 0,0479 0,522 0,484 0,0023 20,61 159,2
- (*) Comparativo (correspondiente a los Ejemplos 1-4 de EP 1897860 A1)
- Densidad MW
- Agua
- 1 18
- SiO2
- --- 60,1
- TEOS
- 0,928 208,33
REFERENCIAS CITADAS EN LA DESCRIPCIÓN
Esta lista de referencias citadas por el solicitante es sólo para la comodidad del lector. No forma parte del documento de patente europea. Aunque se ha tomado especial cuidado en la compilación de las referencias, no se pueden excluir errores u omisiones y la OEP rechaza toda responsabilidad a este respecto. 5
Documentos de patentes citados en la descripción
- WO 0153225 A [0004]
- EP 1700830 A1 [0005] [0018] 10
- EP 1897860 A1 [0005] [0018] [0023] [0029]
Claims (19)
- REIVINDICACIONES
- 1. Un proceso de sol-gel para producir artículos monolíticos de sílice vítrea, que comprende:
- - preparar una dispersión de sílice en agua a pH ácido;
- - añadir a dicha dispersión al menos un alcoxisilano en una cantidad tal para obtener una proporción molar de sílice:alcoxisilano entre 6 y 30, y una proporción molar de agua:alcoxisilano entre 40 y 200; 5
- - modificar el pH de la dispersión para obtener un sol;
- - verter el sol obtenido de este modo en un molde;
- - permitir la gelificación del sol para obtener un hidrogel;
- - secar el hidrogel para obtener un gel seco;
- - sinterizar el gel seco para obtener el artículo de sílice vítrea. 10
-
- 2. El proceso de acuerdo con la reivindicación 1, en el que la proporción molar de sílice:alcoxisilano está entre 6,5 y 25, preferentemente entre 7 y 15.
-
- 3. El proceso de acuerdo con la reivindicación 1, en el que durante la etapa de preparación de la dispersión de sílice en agua, se ajusta el pH a un valor de 1,5 a 3,0, preferentemente de 2,0 a 2,5.
-
- 4. El proceso de acuerdo con la reivindicación 1, en el que la sílice es sílice pirógena. 15
-
- 5. El proceso de acuerdo con la reivindicación 1, en el que el alcoxisilano es un tetraalcoxisilano en el que cada grupo alcóxido tiene de 1 a 6, preferentemente de 1 a 4, átomos de carbono; más preferentemente, el alcoxisilano se escoge entre: tetraetoxisilano (TEOS), tetrametoxisilano (TMOS), metoxitrietoxisilano (MTEOS).
-
- 6. El proceso de acuerdo con la reivindicación 1, en el que la proporción molar de agua con respecto a alcoxisilano está entre 50 y 160, preferentemente entre 60 y 120. 20
-
- 7. El proceso de acuerdo con la reivindicación 1, en el que después de añadir el alcoxisilano y antes de modificar el valor de pH, se aumenta la temperatura de la dispersión hasta un valor entre 30 y 50 ºC en un tiempo que varía entre 6 y 18 horas.
-
- 8. El proceso de acuerdo con la reivindicación 1, en el que la etapa de modificar el pH de la dispersión comprende elevar el pH hasta un valor generalmente entre 4,0 y 6,0, preferentemente entre 4,7 y 5,2. 25
-
- 9. El proceso de acuerdo con la reivindicación 8, en el que la etapa de elevar el pH comprende añadir hidróxido de amonio o una amina.
-
- 10. El proceso de acuerdo con la reivindicación 8, en el que la etapa de elevar el pH comprende añadir un aminoalquil alcoxisilano; el aminoalquil alcoxisilano se escoge preferentemente entre 3-aminopropil-trimetoxisilano, 3-aminopropil-trietoxisilano, 2-aminoetil-3-aminopropil-dimetoxisilano, 2-aminoetil-3-aminopropil-dietoxisilano, [3-(2-aminoetil) 30 aminopropil]-trimetoxisilano, [3-(2-aminoetil)aminopropil]-trietoxisilano o sus mezclas.
-
- 11. El proceso de acuerdo con la reivindicación 1, en el que la etapa de secado del hidrogel se lleva a cabo por medio de un horno de ciclo térmico y de humedad.
-
- 12. El proceso de acuerdo con la reivindicación 11, en el que el tiempo de secado varía entre 400 y 1200 horas, preferentemente entre 600 y 900 horas. 35
-
- 13. El proceso de acuerdo con la reivindicación 11, en el que la temperatura a la cual se lleva a cabo la etapa de secado se varía, durante la propia etapa, entre 15 ºC y 120 ºC, preferentemente entre 20 ºC y 100 ºC.
-
- 14. El proceso de acuerdo con la reivindicación 1, en el que el grado de humedad al cual se lleva a cabo la etapa de secado se varía, durante la propia etapa, entre 30 % y 100 %.
-
- 15. El proceso de acuerdo con la reivindicación 14, en el que el grado de humedad se mantiene, durante un tiempo al 40 menos igual a 50 % del tiempo total de secado, en valores promedio mayores que 70 %, para posteriormente reducirse a valores medios entre 60 % y 30 %.
-
- 16. El proceso de acuerdo con la reivindicación 1, en el que la etapa de sinterizado comprende:
- - calcinación en atmósfera de oxígeno;
- - deshidratación y purificación en presencia de al menos un producto clorado; 45
- - consolidación en atmósfera inerte.
-
- 17. El proceso de acuerdo con la reivindicación 16, en el que la etapa de calcinación se lleva a cabo en un horno a una temperatura entre 30 ºC y 600 ºC.
-
- 18. El proceso de acuerdo con la reivindicación 16, en el que la etapa de deshidratación se lleva a cabo en un horno a una temperatura de entre 600 ºC y 800 ºC, en presencia de productos clorados. 5
-
- 19. El proceso de la reivindicación 16, en el que la etapa de consolidación se lleva a cabo en atmósfera de helio, posiblemente con trazas de oxígeno, a una temperatura entre 800 ºC y 1400 ºC.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP08162091A EP2151419B1 (en) | 2008-08-08 | 2008-08-08 | Sol-gel process for producing monolithic articles of vitreous silica |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
ES2360018T3 true ES2360018T3 (es) | 2011-05-31 |
Family
ID=39951735
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
ES08162091T Active ES2360018T3 (es) | 2008-08-08 | 2008-08-08 | Procesos de sol-gel para producir artículos monolíticos de sílice vítrea. |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20110169200A1 (es) |
EP (1) | EP2151419B1 (es) |
JP (1) | JP2011530468A (es) |
KR (1) | KR20110040975A (es) |
CN (1) | CN102112408A (es) |
AT (1) | ATE496011T1 (es) |
CA (1) | CA2733382A1 (es) |
DE (1) | DE602008004652D1 (es) |
ES (1) | ES2360018T3 (es) |
WO (1) | WO2010015658A1 (es) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6857358B2 (ja) * | 2015-05-11 | 2021-04-14 | 日産化学株式会社 | アミノシラン修飾コロイダルシリカ分散液及びその製造方法 |
CN111018321A (zh) * | 2019-12-31 | 2020-04-17 | 北京工业大学 | 一种3d打印光固化成型制备玻璃的方法 |
CN113121107B (zh) * | 2019-12-31 | 2024-05-03 | 深圳市绎立锐光科技开发有限公司 | 一种微光学玻璃器件的制备方法 |
CN113121093A (zh) * | 2019-12-31 | 2021-07-16 | 深圳市绎立锐光科技开发有限公司 | 一种微光学玻璃器件的制备方法 |
WO2022069053A1 (en) * | 2020-10-01 | 2022-04-07 | Caradonna Emiliano | Process for the treatment of radioactive liquid sewage and apparatus for implementing the process |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1984002519A1 (en) * | 1982-12-23 | 1984-07-05 | Suwa Seikosha Kk | Process for producing quartz glass |
GB2165233B (en) * | 1984-10-04 | 1988-03-09 | Suwa Seikosha Kk | Method of making a tubular silica glass member |
US5236483A (en) * | 1985-07-16 | 1993-08-17 | Seiko Epson Corporation | Method of preparing silica glass |
US5207814A (en) * | 1989-02-10 | 1993-05-04 | Enichem S.P.A. | Process for preparing monoliths of aerogels of metal oxides |
IT1256359B (it) * | 1992-09-01 | 1995-12-01 | Enichem Spa | Procedimento per la preparazione di componenti e dispositivi ottici indimensioni finali o quasi finali, e prodotti cosi' ottenuti |
WO2001053225A1 (en) | 2000-01-24 | 2001-07-26 | Yazaki Corporation | Sol-gel process for producing synthetic silica glass |
EP1258456A1 (en) * | 2001-05-18 | 2002-11-20 | Degussa AG | Silica glass formation process |
EP1661866A1 (en) * | 2004-11-27 | 2006-05-31 | Degussa AG | Method for the production of shaped silica aquagels |
ATE377577T1 (de) * | 2005-03-09 | 2007-11-15 | Gegussa Novara Technology Spa | Verfahren zur herstellung von monolithen durch ein sol-gel verfahren |
EP1700830A1 (en) | 2005-03-09 | 2006-09-13 | Novara Technology S.R.L. | Process for the production of monoliths by means of the invert sol-gel process |
EP1897860A1 (en) * | 2006-09-07 | 2008-03-12 | Degussa Novara Technology S.p.A. | Sol-gel process |
EP2088128B1 (en) * | 2007-12-10 | 2015-04-08 | Cristal Materials Corporation | Method for the production of glassy monoliths via the sol-gel process |
-
2008
- 2008-08-08 ES ES08162091T patent/ES2360018T3/es active Active
- 2008-08-08 DE DE602008004652T patent/DE602008004652D1/de active Active
- 2008-08-08 EP EP08162091A patent/EP2151419B1/en not_active Revoked
- 2008-08-08 AT AT08162091T patent/ATE496011T1/de active
-
2009
- 2009-08-05 WO PCT/EP2009/060155 patent/WO2010015658A1/en active Application Filing
- 2009-08-05 KR KR1020117005195A patent/KR20110040975A/ko not_active Application Discontinuation
- 2009-08-05 CN CN200980130612XA patent/CN102112408A/zh active Pending
- 2009-08-05 CA CA2733382A patent/CA2733382A1/en not_active Abandoned
- 2009-08-05 US US13/057,702 patent/US20110169200A1/en not_active Abandoned
- 2009-08-05 JP JP2011521571A patent/JP2011530468A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE602008004652D1 (de) | 2011-03-03 |
WO2010015658A1 (en) | 2010-02-11 |
JP2011530468A (ja) | 2011-12-22 |
KR20110040975A (ko) | 2011-04-20 |
ATE496011T1 (de) | 2011-02-15 |
US20110169200A1 (en) | 2011-07-14 |
EP2151419B1 (en) | 2011-01-19 |
EP2151419A1 (en) | 2010-02-10 |
CA2733382A1 (en) | 2010-02-11 |
CN102112408A (zh) | 2011-06-29 |
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