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DE947853C - Verfahren zur photomechanischen Herstellung von Druckformen mit Hilfe lichtempfindlicher Platten, deren lichtempfindliche Schicht aus sensibilisiertem Polyvinylalkohol besteht - Google Patents

Verfahren zur photomechanischen Herstellung von Druckformen mit Hilfe lichtempfindlicher Platten, deren lichtempfindliche Schicht aus sensibilisiertem Polyvinylalkohol besteht

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Publication number
DE947853C
DE947853C DEV4523A DEV0004523A DE947853C DE 947853 C DE947853 C DE 947853C DE V4523 A DEV4523 A DE V4523A DE V0004523 A DEV0004523 A DE V0004523A DE 947853 C DE947853 C DE 947853C
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
polyvinyl alcohol
solution
photosensitive
plate
madder
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DEV4523A
Other languages
German (de)
English (en)
Inventor
Georges Vincent
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Individual
Original Assignee
Individual
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Individual filed Critical Individual
Application granted granted Critical
Publication of DE947853C publication Critical patent/DE947853C/de
Expired legal-status Critical Current

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Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/04—Chromates

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
DEV4523A 1951-04-18 1952-04-19 Verfahren zur photomechanischen Herstellung von Druckformen mit Hilfe lichtempfindlicher Platten, deren lichtempfindliche Schicht aus sensibilisiertem Polyvinylalkohol besteht Expired DE947853C (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR947853X 1951-04-18

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE947853C true DE947853C (de) 1956-08-23

Family

ID=9473656

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DEV4523A Expired DE947853C (de) 1951-04-18 1952-04-19 Verfahren zur photomechanischen Herstellung von Druckformen mit Hilfe lichtempfindlicher Platten, deren lichtempfindliche Schicht aus sensibilisiertem Polyvinylalkohol besteht

Country Status (4)

Country Link
BE (1) BE510704A (sv)
DE (1) DE947853C (sv)
FR (1) FR1035907A (sv)
NL (1) NL84786C (sv)

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BE510704A (sv)
FR1035907A (fr) 1953-09-01

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