[go: up one dir, main page]

DE901129C - Lichtempfindliches Material fuer die photomechanische Bilderzeugung - Google Patents

Lichtempfindliches Material fuer die photomechanische Bilderzeugung

Info

Publication number
DE901129C
DE901129C DEK10646A DEK0010646A DE901129C DE 901129 C DE901129 C DE 901129C DE K10646 A DEK10646 A DE K10646A DE K0010646 A DEK0010646 A DE K0010646A DE 901129 C DE901129 C DE 901129C
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
diazoketone
acid
decomposition
solution
photosensitive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DEK10646A
Other languages
English (en)
Inventor
Dr-Ing Fritz Endermann
Dr Wilhelm Neugebauer
Dr Oskar Sues
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kalle GmbH and Co KG
Original Assignee
Kalle GmbH and Co KG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kalle GmbH and Co KG filed Critical Kalle GmbH and Co KG
Priority to DEK10646A priority Critical patent/DE901129C/de
Application granted granted Critical
Publication of DE901129C publication Critical patent/DE901129C/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C245/00Compounds containing chains of at least two nitrogen atoms with at least one nitrogen-to-nitrogen multiple bond
    • C07C245/12Diazo compounds, i.e. compounds having the free valencies of >N2 groups attached to the same carbon atom
    • C07C245/14Diazo compounds, i.e. compounds having the free valencies of >N2 groups attached to the same carbon atom having diazo groups bound to acyclic carbon atoms of a carbon skeleton
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/016Diazonium salts or compounds
    • G03F7/0163Non ionic diazonium compounds, e.g. diazosulphonates; Precursors thereof, e.g. triazenes

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)

Description

Erteilt auf Grund des Ersten tlberleitungsgeseizes vom 8.JuIi 1949
(WiGBl. S. 17S)
BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLAND
AUSGEGEBEN AM 7. JANUAR 1954
DEUTSCHES PATENTAMT
PATENTSCHRIFT
KLASSE 57 d GRUPPE 2 01
K10646IVa 157d
Dr. Wilhelm Neugebauer, Wiesbaden-Biebrich, Dr, Oskar Süs, Wiesbaden-Biebrich und . Fritz Endermann, Wiesbaden
sind als Erfinder genannt worden
Kalle & Co. Aktiengesellschaft, Wiesbaden-Biebrich
Lichtempfindliches Material für die photomechanische Bilderzeugung
Patentiert im Gebiet der Bundesrepublik Deutschland vom 18. Juli 1961 an
Patentanmeldung bekanntgemacht am 16. April 1953 Patenterteilung bekanntgemacht am 19. November 1953
Bei photomechanischen Reproduktionsverfahren, die ohne die lange Zeit übliche Mitverwendung von im Licht härtbaren Kolloidsubstanzen auskommen, ist es notwendig, daß entweder die zur Erzeugung eines Bildes dienende lichtempfindliche Substanz selbst oder ihre bei der Belichtung unter einer Vorlage entstehenden Lichtumwandlungsprodukte in der Lage sind, fette Farbe anzunehmen und bei den Beanspruchungen des Vervielfältigungsprozesses genügend lange festzuhalten.
Gegenstand der Erfindung ist lichtempfindliches Material, das für die Herstellung von mit Vorteil hauptsächlich für graphische, aber auch andere Zwecke verwendbaren Bildern geeignet ist und in dessen lichtempfindlicher Schicht Verbindungen enthalten sind, die zur Klasse der Diazoketone gehören und einer der beiden folgenden allgemeinen Formeln entsprechen:
A —CO —C
oder
B-CO-C^ ao N2
In diesen allgemeinen Formeln bedeuten A ein mehrkerniges aromatisches oder ein heterocyclisches Ringsystem oder einen Phenylrest, der durch Substituenten zweiter Ordnung, z. B.
— NO2, — SO2-NH Aryl,
.H
■ SO, — CH,- CO — C
— CO —Aryl, —CO —C
N2 H
N9
substituiert ist und außerdem noch Substituenten erster Ordnung, z. B. Halogen, Alkyl- oder Alkoxygruppen, tragen kann, B, B' einen gegebenenfalls substituierten Arylrest und R Wasserstoff oder einen Alkylrest.
Diazoketone, die als lichtempfindliche Substanzen zur Herstellung lichtempfindlicher Schichten gemäß der Erfindung zu verwenden sind, sind beispielsweise die Verbindungen:
ίο i. Diazoketon der i-Naphthoesäure (schmilzt oberhalb 2300 C unter Zersetzung)
2. Diazoketon der Anthrachinon-2-carbonsäure (schmilzt oberhalb 2300 C unter Zersetzung)
3. Diazoketon der 2-Phenylchinolin-4-carbonsäure (schmilzt bei 900 C unter Zersetzung)
4. Diazoketon der Thiophen-2-carbonsäure (schmilzt bei 1940 C unter Zersetzung)
5. Diazoketon der 2-Methyl-thiazol-5-carbonsäure (schmilzt bei 850 C unter Zersetzung)
6. Diazoketon der 2-Nitrobenzoesäure (zähes Öl)
7. Diazoketon der 3-Nitrobenzoesäure (schmilzt bei 1490 C unter Zersetzung)
8. Diazoketon der 4-Nitrobenzoesäure (schmilzt bei 119° C unter Zersetzung)
as 9. Diazoketon der 2-Methyl-5-nitrobenzoesäure (schmilzt bei 1120 C unter Zersetzung)
10. Diazoketon der 3-Nitroanissäure (schmilzt bei 1400 C unter Zersetzung)
11. Diazoketon der 2-Chlor-4-nitrobenzoesäure (zähes Öl)
12. Diazoketon der 2, 4-Dinitrobenzoesäure (schmilzt bei 120° C unter Zersetzung)
13. Diazoketon der 4-Methyl-3, 5-dinitrobenzoesäure (schmilzt bei 1240 C unter Zersetzung)
14. Diazoketon der ß-Nitrophthalsäure (zähes Öl)
15. Diazoketon der Nitro-terephthalsäure (schmilzt bei ii8° C unter Zersetzung)
16. Methyl-diazoketon der 2-Nitrobenzoesäure (schmilzt bei 141° C unter Zersetzung)
17. Äthyl-diazoketon der 2-Nitrobenzoesäure (schmilzt bei 1520 C unter Zersetzung)
18. Methyl-diazoketon der 4-Nitrobenzoesäure (schmilzt bei 2300 C unter Zersetzung)
19. Methyl-diazoketon der 2-Chlor-4-nitrobenzoesäure (zähes Öl)
20. Diazoketon der p-Sulfanilid-benzoesäure (zähes Öl)
21. Diazoketon der Benzol-sulfanilid-4,4'-dicarbonsäure (schmilzt bei 2000C unter Zersetzung)
22. Diazoketon der 2-Carboxymethyl-sulfon-benzoesäure (zähes Öl)
23. Diazoketon der Phenylthioglykol-2-carbonsäure (zähes Öl)
24. Diazoketon der 3-Thiophenol-i-carbonsäure (schmilzt bei 82° C unter Zersetzung)
25. Diazoketon der 4-Benzoyl-benzoesäure (zähes Öl)
26. Diazodesoxybenzoin (Azibenzü) (schmilzt bei 630 C unter Zersetzung)
27. 4, 4'-Dinitro-diazodesoxybenzoin (4, 4'-Dinitroazibenzü) (schmilzt bei 1150 C unter Zersetzung)
(Die Bezifferung der in der Zeichnung aufgeführten Formeln entspricht der Bezifferung der in der obenstehenden Tabelle enthaltenen Verbindungen.) Man kann die gemäß der Erfindung als lichtempfindliche Substanzen in lichtempfindlichen Schichten zur Erzeugung von Kontrasten zu verwendenden Diazoketone der allgemeinen Formel
A —CO —C
(R = H oder Alkyl)
nach der bekannten Methode von B. Eistert herstellen, die aus der Zeitschrift für angewandte Chemie, Jahrgang 1941, S. 99ff. und 124ff., bekannt ist. Diazoketone der allgemeinen Formel
,B'
— CO —C
N,
stellt man am besten nach der von Th. Curtius und K. Thun im Journal für praktische Chemie, Bd. 44, Jahrgang 1891, S. 182, beschriebenen Methode dar.
Man stellt lichtempfindliches, für die Bilderzeugung zu verwendendes und Diazoketone gemäß der Erfindung enthaltendes Material her, indem man die Lösung eines Diazoketons auf eine geeignete Unterlage aufträgt. Für die Auswahl der Unterlage ist der Verwendungszweck, für den man die erzeugten Bilder vorgesehen hat, von Bedeutung. Für eines der wichtigsten Anwendungsgebiete, die Herstellung von Druckformen oder Klischees für graphische Betriebe, ist unter anderem Metall als eine geeignete Unterlage anzusehen, beispielsweise eine Metallplatte, insbesondere aus Aluminium, welche mit einer chemisch oder elektrochemisch erzeugten Aluminiumoxydschicht versehen sein kann.
Das, Auftragen der Lösung erfolgt nach einer der für diese Zwecke in der Technik bekannten Methoden, beispielsweise mit Hilfe einer Plattenschleuder. Nachdem die lichtempfindliche Lösung auf den Schichtträger aufgetragen ist, wird die beschichtete Unterlage getrocknet.
An Stelle eines einzigen Diazoketons können vorteilhaft auch Gemische der lichtempfindlichen Diazoketone verwendet werden, besonders dann, wenn die einzelnen Verbindungen beim Auftragen auf den Schichtträger große Kristallisationsneigung zeigen. Oft eignen sich daher die bei der Herstellung zunächst anfallenden, nicht weiter gereinigten Rohprodukte für die Herstellung einer gleichmäßigen lichtempfindlichen Schicht besser als durch Umkristallisation gereinigte Diazoketone.
Für die Herstellung der Lösungen werden vorteilhaft solche organische Lösungsmittel benutzt, die mit der Diazoketongruppe chemisch nicht reagieren, z. B. Dioxan, Benzol, Glykolmonomethyläther und andere. Auch Gemische mehrerer Lösungsmittel können mit Vorteil zur Herstellung der auf den Schichtträger auf- ;utragenden Lösung gebraucht werden.
Zur Erzeugung des Bildes (Kontrastes) wird der mit einer Diazoketon- oder Diazoketongemischhaltigen Schicht versehene Schichtträger, z. B. unter
einer Vorlage mit Hilfe einer Bogen- oder Quecksilberlampe belichtet. Das so in der lichtempfindlichen Schicht erzeugte Bild wird dann entwickelt, was z. B. durch Entfernung der nicht belichteten Schichtanteile geschehen kann, indem' man den belichteten Schichtträger mit einer verdünnten Mineralsäure, wie Phosphorsäure, Schwefelsäure, Salzsäure, einreibt. Es kann zweckmäßig sein, der verdünnten Säure eine verdünnte Metallsalzlösung, z. B. Kupferazetat,
ίο Kupfersulfat, Silberazetat, Nickelazetat, zuzusetzen. Die Entwicklung kann auch durch Einreiben mit einem organischen Lösungsmittel erfolgen, welches das Lichtzersetzungsprodukt nicht löst, z. B. alkoholische Chlorcalciumlösung, Benzol, Toluol, Gasolin, Tetrachlorkohlenstoff u. a.
Anschließend an die Entwicklung wird das Bild von Hand oder auf der Druckmaschine mit fetter Farbe in Gegenwart von etwas Wasser eingefärbt. Es erscheint nunmehr klar das bereits vor dem Einfärben
ao schwach sichtbare umgekehrte Bild der Vorlage, Die vom Licht getroffenen Stellen, nehmen die fette Farbe an, während an den vom Licht nicht getroffenen Stellen Farbabweisung erfolgt.
Das Zustandekommen der Bilder (Kontraste) kann
as man sich vielleicht so erklären, daß an den vom Licht getroffenen Stellen der lichtempfindlichen Schicht die Diazoketone von den Lichtstrahlen unter Abspaltung des Stickstoffs zersetzt werden und nach Abspaltung des Stickstoffs aus der radikalartigen Zwischenstufe polymere Produkte entstehen, die sich vom Ausgangsstoff in Schmelzpunkt, Löslichkeitseigenschaften und Farbe unterscheiden. (Vgl. auch die Arbeiten von Ch. Grundmann in Liebigs Annalen der Chemie, Bd. 536 [1938], S. 29 ff.) Infolgedessen ist nach dem Belichten des Schichtträgers häufig ein Lichtbild erkennbar, das nach dem Entwickeln der Folie fette Farbe annimmt. Man erhält auf dem Schichtträger das umgekehrte Bild der Vorlage.
Das gemäß der Erfindung hergestellte lichtempfindliehe Material ist in unbelichteten! Zustand bei normaler Zimmertemperatur und Ausschluß von Feuchtigkeit lagerfähig, auch wenn als Schichtträger Metall verwendet ist.
Beispiele
1. Die Lösung von 2 Teilen Diazoketon der p-Nitrobenzoesäure (Formel 8) in 100 Teilen Glykolmonomethyläther wird in bekannter Weise auf eine gegebenenfalls mechanisch angerauhte Aluminiumplatte, beispielsweise mittels einer Plattenschleuder, aufgetragen und getrocknet. Man belichtet die Schichtseite des trockenen Materials unter einer Vorlage, etwa mittels einer 18-Ampere-Bogenlampe in 60 cm Abstand ungefähr 3 bis 5 Minuten, und behandelt die
belichtete Schicht durch Überwischen mit einer 5°/oigen Kupferazetatlösung und fetter Farbe. Anschließend wird das Bild durch Überwischen mit einer i°/oigen Phosphorsäurelösung entwickelt. Man erhält auf der Metallunterlage das umgekehrte Bild der Vorlage, von dem nach dem Einspannen der Druckform in eine Offsetmaschine gedruckt werden kann.
2. Die Lösung von 2 Teilen Diazoketon der 2, 4-Dinitrobenzoesäure (Formel 12) in 100 Teilen Glykolmonomethyläther wird, wie im Beispiel 1 beschrieben, auf die Metallunterlage aufgetragen, getrocknet und belichtet. Die belichtete Schicht entwickelt man durch Überwischen mit einer 5%igen Phosphorsäurelösung und färbt die Platte mit fetter Farbe bei gleichzeitigem Auftragen einer 5%igen Kupferazetatlösung ein. Durch nochmaliges Überwischen mit gegebenenfalls höherprozentiger Phosphorsäure tritt das umgekehrte Bild der benutzten Vorlage auf der Metallfolie klar hervor.
3. Man beschichtet und belichtet eine Aluminiumfolie wie im Beispiel 2 angegeben und entwickelt die belichtete Schicht durch Uberwischen mit Xylol, dem ι % Benzylchlorid zugesetzt ist. Anschließend wird die Folie mit einer ungefähr 5%igen Phosphorsäürelösung und fetter Farbe eingerieben. Man erhält auf dem Schichtträger ein umgekehrtes Bild der verwen- ίο deten Vorlage, mit dem nach dem Einspannen in eine Flachdruckmaschine gedruckt werden kann.
4. Man beschichtet in der bereits beschriebenen Weise eine Aluminiumfolie mit einer Lösung von 2 Teilen des Diazoketons der 4-Methyl-3, 5-dinitrobenzoesäure (Formel 13) in 100 Teilen Glykolmonomethyläther und belichtet die trockne Schicht unter einer Vorlage 15 Minuten mittels einer 18-Ampere-Bogenlampe bei 60 cm Abstand. Man entwickelt auf der Folie das umgekehrte Bild der benutzten Vorlage durch Überwischen mit Xylol, dem 1 % Benzylchlorid zugesetzt ist, 5%iger Phosphorsäure und fetter Farbe.
5. Man verwendet zur Beschichtung der Aluminiumfolie das Diazoketon der 2-Chlor-4-nitrobenzoesäure (Formel 11) und verfährt im übrigen, wie im Beispiel 4 beschrieben.
6. Man verfährt gemäß Beispiel 4 unter Benutzung des Diazoketons der 3-Nitroanissäure (Formel 10) als lichtempfindliche Verbindung.
7. Man beschichtet eine Aluminiumfolie mit einer Lösung von 2 Teilen des Diazoketons der 2-Methyl-5-nitrobenzoesäure (Formel 9) in 100 Teilen Glykolmonomethyläther und belichtet die getrocknete Schicht unter einer Vorlage mit einer 18-Ampere-Bogenlampe. Man entwickelt die belichtete Schicht durch Überwischen mit Gasolin, 3%iger Phosphorsäure und fetter Farbe und erhält so das umgekehrte Bild der benutzten Vorlage.
8. Man beschichtet eine Aluminiumfolie mit einer Lösung von 2 Teilen Diazoketon der /MSTitrophthalsäure (Formel 14) in 100 Teilen Glykolmonomethyläther und belichtet die getrocknete Schicht unter einer Vorlage mittels einer 18-Ampere-Bogenlampe. Die belichtete Schicht entwickelt man zum umgekehrten Bild der benutzten Vorlage durch Überstreichen mit Xylol, dem 2 % Benzylchlorid zugesetzt ist, 3%iger Phosphorsäure und fetter Farbe.
9. Man benutzt als lichtempfindliche Verbindung das Diazoketon der Nitro-terephthalsäure (Formel 15) und verfährt gemäß Beispiel 8. iao
10. Man beschichtet eine Aluminiumfolie mit einer Lösung von 2 Teilen Azibenzil (Formel 26) in 100 Teilen Glykolmonomethyläther und belichtet die getrocknete Schicht mittels einer Vorlage unter einer Bogenlampe. Man entwickelt die belichtete Folie "5 durch Einreiben mit i°/oiger Phosphorsäurelösung und
fetter Farbe und erhält das umgekehrte Bild der benutzten Vorlage. Die belichtete Folie kann auch dadurch entwickelt werden, daß man die Schichtseite mit einer 5°/^βη Kupferazetatlösung und anschließend mit i%iger Phosphorsäure und fetter Farbe einreibt.
ii. Eine Aluminiumfolie wird mit einer Lösung von 2 Teilen 4,4'-Dinitro-azibenzil (Formel 27) und ioo Teilen Glykolmonomethyläther beschichtet und die getrocknete Schicht unter einer Vorlage mittels einer Bogenlampe belichtet. Man entwickelt die belichtete Schicht durch Überwischen mit Tetrachlorkohlenstoff, 3°/oiger Phosphorsäurelösung und fetter Farbe und erhält das umgekehrte Bild der verwendeten Vorlage.

Claims (1)

  1. Patentanspruch:
    Lichtempfindliches Material für die photomechanische Bilderzeugung, dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche Schicht als lichtempfindliche Substanzen Verbindungen aus der Klasse der Diazoketone enthält, die den allgemeinen Formeln
    ,B'
    A-CO-
    oder B — CO — C
    X1
    entsprechen. In diesen Formehl bedeuten A ein mehrkerniges aromatisches oder einheterocyclisches Ringsystem oder einen Phenylrest, der durch Substituenten zweiter Ordnung, z. B.
    — NO2, — SO2 — NH Aryl,
    ,H
    — So2—CH2-CO-C;.
    ,H
    — CO — Aryl, — CO — C
    N2
    substituiert ist und außerdem noch Substituenten erster Ordnung, z. B. Halogen, Alkyl- oder Alkoxygruppen, tragen kann, B, B' einen gegebenenfalls substituierten Arylrest und R Wasserstoff oder einen Alkylrest.
    Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
    © 5660 12.53
DEK10646A 1951-07-17 1951-07-18 Lichtempfindliches Material fuer die photomechanische Bilderzeugung Expired DE901129C (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DEK10646A DE901129C (de) 1951-07-17 1951-07-18 Lichtempfindliches Material fuer die photomechanische Bilderzeugung

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2959482X 1951-07-17
DEK10646A DE901129C (de) 1951-07-17 1951-07-18 Lichtempfindliches Material fuer die photomechanische Bilderzeugung

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE901129C true DE901129C (de) 1954-01-07

Family

ID=25982892

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DEK10646A Expired DE901129C (de) 1951-07-17 1951-07-18 Lichtempfindliches Material fuer die photomechanische Bilderzeugung

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE901129C (de)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE945673C (de) * 1954-04-03 1956-07-12 Kalle & Co Ag Verfahren zur photomechanischen Herstellung von Druckplatten
DE947852C (de) * 1954-03-12 1956-08-23 Kalle & Co Ag Verfahren zur Herstellung von Druckplatten auf photomechanischem Wege durch Beschichten von Aluminiumfolien oder -platten mit lichtempfindlichen Substanzen
DE950618C (de) * 1954-04-03 1956-10-11 Kalle & Co Ag Verfahren zur Herstellung von Druckformen aus lichtempfindlichem Material, welches aus einem metallischen Traeger und einer darauf haftenden kolloidfreien lichtempfindlichen Schicht besteht

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE947852C (de) * 1954-03-12 1956-08-23 Kalle & Co Ag Verfahren zur Herstellung von Druckplatten auf photomechanischem Wege durch Beschichten von Aluminiumfolien oder -platten mit lichtempfindlichen Substanzen
DE945673C (de) * 1954-04-03 1956-07-12 Kalle & Co Ag Verfahren zur photomechanischen Herstellung von Druckplatten
DE950618C (de) * 1954-04-03 1956-10-11 Kalle & Co Ag Verfahren zur Herstellung von Druckformen aus lichtempfindlichem Material, welches aus einem metallischen Traeger und einer darauf haftenden kolloidfreien lichtempfindlichen Schicht besteht

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE907739C (de) Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen und dafuer verwendbares lichtempfindliches Material
DE938233C (de) Lichtempfindliches Material fuer die photomechanische Herstellung von Druckformen
DE929460C (de) Verfahren zur photomechanischen Herstellung von Flachdruckformen und lichtempfindliches Material dafuer
DE1228142B (de) Lichtempfindliches photographisches Kopiermaterial
DE1597614A1 (de) Lichtempfindliche Kopierschicht
DE1267546B (de) Verfahren zur Herstellung von AEtzschutzschichten
DE1237899B (de) Verfahren zur Herstellung von vorsensibilisierten Flachdruckfolien
CH373641A (de) Lichtempfindliches Kopiermaterial zur Herstellung von Flachdruckformen hoher mechanischer Widerstandsfähigkeit
DE1086123B (de) Einkomponenten-Diazotypiematerial
DE901129C (de) Lichtempfindliches Material fuer die photomechanische Bilderzeugung
DE1447002A1 (de) Kopiermaterial fuer die photomechanische Herstellung von Flach- und Offsetdruckformen
DE1224147B (de) Verfahren zur Umkehrentwicklung von Diazo-verbindungen enthaltenden Kopierschichten
DE937569C (de) Lichtempfindliches Material fuer die photomechanische Herstellung von Druckformen
DE884152C (de) Schichten fuer die photomechanische Reproduktion und Verfahren zur Herstellung von Druckformen
DE1572070C3 (de) Lichtempfindliches Kopiermaterial
DE943209C (de) Lichtempfindliches Material fuer photomechanische Reproduktionen
DE865108C (de) Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen
DE2234511A1 (de) Beschichtungsmasse zur herstellung von photoresistschichten und dgl
DE966131C (de) Diazotypieverfahren zur Herstellung von gruenblauen Teilfarbenbildern
DE1572067C3 (de) Lichtempfindliches Kopiermaterial
DE885198C (de) Schichten fuer photomechanische Reproduktion und Verfahren zur Herstellung von Druckformen
DE947852C (de) Verfahren zur Herstellung von Druckplatten auf photomechanischem Wege durch Beschichten von Aluminiumfolien oder -platten mit lichtempfindlichen Substanzen
DE903415C (de) Verfahren zur photomechanischen Herstellung von Flachdruckformen und Bildern und Material hierfuer
DE893748C (de) Verfahren zur Herstellung von Druckformen mit Hilfe von Diazoverbindungen
DE945673C (de) Verfahren zur photomechanischen Herstellung von Druckplatten