DE901129C - Lichtempfindliches Material fuer die photomechanische Bilderzeugung - Google Patents
Lichtempfindliches Material fuer die photomechanische BilderzeugungInfo
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- DE901129C DE901129C DEK10646A DEK0010646A DE901129C DE 901129 C DE901129 C DE 901129C DE K10646 A DEK10646 A DE K10646A DE K0010646 A DEK0010646 A DE K0010646A DE 901129 C DE901129 C DE 901129C
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C245/00—Compounds containing chains of at least two nitrogen atoms with at least one nitrogen-to-nitrogen multiple bond
- C07C245/12—Diazo compounds, i.e. compounds having the free valencies of >N2 groups attached to the same carbon atom
- C07C245/14—Diazo compounds, i.e. compounds having the free valencies of >N2 groups attached to the same carbon atom having diazo groups bound to acyclic carbon atoms of a carbon skeleton
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/016—Diazonium salts or compounds
- G03F7/0163—Non ionic diazonium compounds, e.g. diazosulphonates; Precursors thereof, e.g. triazenes
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- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Description
(WiGBl. S. 17S)
BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLAND
AUSGEGEBEN AM 7. JANUAR 1954
DEUTSCHES PATENTAMT
PATENTSCHRIFT
KLASSE 57 d GRUPPE 2 01
K10646IVa 157d
Dr. Wilhelm Neugebauer, Wiesbaden-Biebrich, Dr, Oskar Süs, Wiesbaden-Biebrich und
. Fritz Endermann, Wiesbaden
sind als Erfinder genannt worden
Kalle & Co. Aktiengesellschaft, Wiesbaden-Biebrich
Lichtempfindliches Material für die photomechanische Bilderzeugung
Patentiert im Gebiet der Bundesrepublik Deutschland vom 18. Juli 1961 an
Patentanmeldung bekanntgemacht am 16. April 1953 Patenterteilung bekanntgemacht am 19. November 1953
Bei photomechanischen Reproduktionsverfahren, die ohne die lange Zeit übliche Mitverwendung von im
Licht härtbaren Kolloidsubstanzen auskommen, ist es notwendig, daß entweder die zur Erzeugung eines
Bildes dienende lichtempfindliche Substanz selbst oder ihre bei der Belichtung unter einer Vorlage entstehenden
Lichtumwandlungsprodukte in der Lage sind, fette Farbe anzunehmen und bei den Beanspruchungen
des Vervielfältigungsprozesses genügend lange festzuhalten.
Gegenstand der Erfindung ist lichtempfindliches Material, das für die Herstellung von mit Vorteil
hauptsächlich für graphische, aber auch andere Zwecke verwendbaren Bildern geeignet ist und in
dessen lichtempfindlicher Schicht Verbindungen enthalten sind, die zur Klasse der Diazoketone gehören
und einer der beiden folgenden allgemeinen Formeln entsprechen:
A —CO —C
oder
B-CO-C^ ao
N2
In diesen allgemeinen Formeln bedeuten A ein mehrkerniges aromatisches oder ein heterocyclisches
Ringsystem oder einen Phenylrest, der durch Substituenten zweiter Ordnung, z. B.
— NO2, — SO2-NH Aryl,
.H
■ SO, — CH,- CO — C
— CO —Aryl, —CO —C
N2 H
N9
substituiert ist und außerdem noch Substituenten erster Ordnung, z. B. Halogen, Alkyl- oder Alkoxygruppen,
tragen kann, B, B' einen gegebenenfalls substituierten Arylrest und R Wasserstoff oder einen
Alkylrest.
Diazoketone, die als lichtempfindliche Substanzen zur Herstellung lichtempfindlicher Schichten gemäß
der Erfindung zu verwenden sind, sind beispielsweise die Verbindungen:
ίο i. Diazoketon der i-Naphthoesäure (schmilzt oberhalb 2300 C unter Zersetzung)
ίο i. Diazoketon der i-Naphthoesäure (schmilzt oberhalb 2300 C unter Zersetzung)
2. Diazoketon der Anthrachinon-2-carbonsäure
(schmilzt oberhalb 2300 C unter Zersetzung)
3. Diazoketon der 2-Phenylchinolin-4-carbonsäure
(schmilzt bei 900 C unter Zersetzung)
4. Diazoketon der Thiophen-2-carbonsäure (schmilzt bei 1940 C unter Zersetzung)
5. Diazoketon der 2-Methyl-thiazol-5-carbonsäure (schmilzt bei 850 C unter Zersetzung)
6. Diazoketon der 2-Nitrobenzoesäure (zähes Öl)
7. Diazoketon der 3-Nitrobenzoesäure (schmilzt bei 1490 C unter Zersetzung)
8. Diazoketon der 4-Nitrobenzoesäure (schmilzt bei 119° C unter Zersetzung)
as 9. Diazoketon der 2-Methyl-5-nitrobenzoesäure
(schmilzt bei 1120 C unter Zersetzung)
10. Diazoketon der 3-Nitroanissäure (schmilzt bei
1400 C unter Zersetzung)
11. Diazoketon der 2-Chlor-4-nitrobenzoesäure (zähes
Öl)
12. Diazoketon der 2, 4-Dinitrobenzoesäure (schmilzt
bei 120° C unter Zersetzung)
13. Diazoketon der 4-Methyl-3, 5-dinitrobenzoesäure (schmilzt bei 1240 C unter Zersetzung)
14. Diazoketon der ß-Nitrophthalsäure (zähes Öl)
15. Diazoketon der Nitro-terephthalsäure (schmilzt
bei ii8° C unter Zersetzung)
16. Methyl-diazoketon der 2-Nitrobenzoesäure
(schmilzt bei 141° C unter Zersetzung)
17. Äthyl-diazoketon der 2-Nitrobenzoesäure (schmilzt
bei 1520 C unter Zersetzung)
18. Methyl-diazoketon der 4-Nitrobenzoesäure (schmilzt bei 2300 C unter Zersetzung)
19. Methyl-diazoketon der 2-Chlor-4-nitrobenzoesäure
(zähes Öl)
20. Diazoketon der p-Sulfanilid-benzoesäure (zähes
Öl)
21. Diazoketon der Benzol-sulfanilid-4,4'-dicarbonsäure
(schmilzt bei 2000C unter Zersetzung)
22. Diazoketon der 2-Carboxymethyl-sulfon-benzoesäure
(zähes Öl)
23. Diazoketon der Phenylthioglykol-2-carbonsäure
(zähes Öl)
24. Diazoketon der 3-Thiophenol-i-carbonsäure
(schmilzt bei 82° C unter Zersetzung)
25. Diazoketon der 4-Benzoyl-benzoesäure (zähes Öl)
26. Diazodesoxybenzoin (Azibenzü) (schmilzt bei 630 C unter Zersetzung)
27. 4, 4'-Dinitro-diazodesoxybenzoin (4, 4'-Dinitroazibenzü)
(schmilzt bei 1150 C unter Zersetzung)
(Die Bezifferung der in der Zeichnung aufgeführten Formeln entspricht der Bezifferung der in der obenstehenden
Tabelle enthaltenen Verbindungen.) Man kann die gemäß der Erfindung als lichtempfindliche
Substanzen in lichtempfindlichen Schichten zur Erzeugung von Kontrasten zu verwendenden
Diazoketone der allgemeinen Formel
A —CO —C
(R = H oder Alkyl)
nach der bekannten Methode von B. Eistert herstellen, die aus der Zeitschrift für angewandte Chemie,
Jahrgang 1941, S. 99ff. und 124ff., bekannt ist.
Diazoketone der allgemeinen Formel
,B'
— CO —C
N,
stellt man am besten nach der von Th. Curtius und K. Thun im Journal für praktische Chemie, Bd. 44,
Jahrgang 1891, S. 182, beschriebenen Methode dar.
Man stellt lichtempfindliches, für die Bilderzeugung
zu verwendendes und Diazoketone gemäß der Erfindung enthaltendes Material her, indem man die Lösung
eines Diazoketons auf eine geeignete Unterlage aufträgt.
Für die Auswahl der Unterlage ist der Verwendungszweck, für den man die erzeugten Bilder
vorgesehen hat, von Bedeutung. Für eines der wichtigsten Anwendungsgebiete, die Herstellung von
Druckformen oder Klischees für graphische Betriebe, ist unter anderem Metall als eine geeignete Unterlage
anzusehen, beispielsweise eine Metallplatte, insbesondere aus Aluminium, welche mit einer chemisch
oder elektrochemisch erzeugten Aluminiumoxydschicht versehen sein kann.
Das, Auftragen der Lösung erfolgt nach einer der für diese Zwecke in der Technik bekannten Methoden,
beispielsweise mit Hilfe einer Plattenschleuder. Nachdem die lichtempfindliche Lösung auf den Schichtträger
aufgetragen ist, wird die beschichtete Unterlage getrocknet.
An Stelle eines einzigen Diazoketons können vorteilhaft auch Gemische der lichtempfindlichen Diazoketone
verwendet werden, besonders dann, wenn die einzelnen Verbindungen beim Auftragen auf den
Schichtträger große Kristallisationsneigung zeigen. Oft eignen sich daher die bei der Herstellung zunächst
anfallenden, nicht weiter gereinigten Rohprodukte für
die Herstellung einer gleichmäßigen lichtempfindlichen Schicht besser als durch Umkristallisation gereinigte
Diazoketone.
Für die Herstellung der Lösungen werden vorteilhaft
solche organische Lösungsmittel benutzt, die mit der Diazoketongruppe chemisch nicht reagieren, z. B.
Dioxan, Benzol, Glykolmonomethyläther und andere. Auch Gemische mehrerer Lösungsmittel können mit
Vorteil zur Herstellung der auf den Schichtträger auf- ;utragenden Lösung gebraucht werden.
Zur Erzeugung des Bildes (Kontrastes) wird der mit einer Diazoketon- oder Diazoketongemischhaltigen
Schicht versehene Schichtträger, z. B. unter
einer Vorlage mit Hilfe einer Bogen- oder Quecksilberlampe belichtet. Das so in der lichtempfindlichen
Schicht erzeugte Bild wird dann entwickelt, was z. B. durch Entfernung der nicht belichteten Schichtanteile
geschehen kann, indem' man den belichteten Schichtträger mit einer verdünnten Mineralsäure, wie Phosphorsäure,
Schwefelsäure, Salzsäure, einreibt. Es kann zweckmäßig sein, der verdünnten Säure eine
verdünnte Metallsalzlösung, z. B. Kupferazetat,
ίο Kupfersulfat, Silberazetat, Nickelazetat, zuzusetzen.
Die Entwicklung kann auch durch Einreiben mit einem organischen Lösungsmittel erfolgen, welches
das Lichtzersetzungsprodukt nicht löst, z. B. alkoholische Chlorcalciumlösung, Benzol, Toluol, Gasolin,
Tetrachlorkohlenstoff u. a.
Anschließend an die Entwicklung wird das Bild von Hand oder auf der Druckmaschine mit fetter Farbe in
Gegenwart von etwas Wasser eingefärbt. Es erscheint nunmehr klar das bereits vor dem Einfärben
ao schwach sichtbare umgekehrte Bild der Vorlage, Die
vom Licht getroffenen Stellen, nehmen die fette Farbe an, während an den vom Licht nicht getroffenen
Stellen Farbabweisung erfolgt.
Das Zustandekommen der Bilder (Kontraste) kann
as man sich vielleicht so erklären, daß an den vom Licht
getroffenen Stellen der lichtempfindlichen Schicht die Diazoketone von den Lichtstrahlen unter Abspaltung
des Stickstoffs zersetzt werden und nach Abspaltung des Stickstoffs aus der radikalartigen Zwischenstufe
polymere Produkte entstehen, die sich vom Ausgangsstoff in Schmelzpunkt, Löslichkeitseigenschaften
und Farbe unterscheiden. (Vgl. auch die Arbeiten von Ch. Grundmann in Liebigs Annalen der
Chemie, Bd. 536 [1938], S. 29 ff.) Infolgedessen ist nach dem Belichten des Schichtträgers häufig ein
Lichtbild erkennbar, das nach dem Entwickeln der Folie fette Farbe annimmt. Man erhält auf dem
Schichtträger das umgekehrte Bild der Vorlage.
Das gemäß der Erfindung hergestellte lichtempfindliehe
Material ist in unbelichteten! Zustand bei normaler Zimmertemperatur und Ausschluß von Feuchtigkeit
lagerfähig, auch wenn als Schichtträger Metall verwendet ist.
1. Die Lösung von 2 Teilen Diazoketon der p-Nitrobenzoesäure
(Formel 8) in 100 Teilen Glykolmonomethyläther wird in bekannter Weise auf eine gegebenenfalls
mechanisch angerauhte Aluminiumplatte, beispielsweise mittels einer Plattenschleuder, aufgetragen
und getrocknet. Man belichtet die Schichtseite des trockenen Materials unter einer Vorlage, etwa
mittels einer 18-Ampere-Bogenlampe in 60 cm Abstand ungefähr 3 bis 5 Minuten, und behandelt die
belichtete Schicht durch Überwischen mit einer 5°/oigen Kupferazetatlösung und fetter Farbe. Anschließend
wird das Bild durch Überwischen mit einer i°/oigen Phosphorsäurelösung entwickelt. Man erhält
auf der Metallunterlage das umgekehrte Bild der Vorlage, von dem nach dem Einspannen der Druckform
in eine Offsetmaschine gedruckt werden kann.
2. Die Lösung von 2 Teilen Diazoketon der 2, 4-Dinitrobenzoesäure
(Formel 12) in 100 Teilen Glykolmonomethyläther wird, wie im Beispiel 1 beschrieben,
auf die Metallunterlage aufgetragen, getrocknet und belichtet. Die belichtete Schicht entwickelt man durch
Überwischen mit einer 5%igen Phosphorsäurelösung
und färbt die Platte mit fetter Farbe bei gleichzeitigem Auftragen einer 5%igen Kupferazetatlösung
ein. Durch nochmaliges Überwischen mit gegebenenfalls höherprozentiger Phosphorsäure tritt das umgekehrte
Bild der benutzten Vorlage auf der Metallfolie klar hervor.
3. Man beschichtet und belichtet eine Aluminiumfolie wie im Beispiel 2 angegeben und entwickelt die
belichtete Schicht durch Uberwischen mit Xylol, dem ι % Benzylchlorid zugesetzt ist. Anschließend wird
die Folie mit einer ungefähr 5%igen Phosphorsäürelösung
und fetter Farbe eingerieben. Man erhält auf dem Schichtträger ein umgekehrtes Bild der verwen- ίο
deten Vorlage, mit dem nach dem Einspannen in eine Flachdruckmaschine gedruckt werden kann.
4. Man beschichtet in der bereits beschriebenen Weise eine Aluminiumfolie mit einer Lösung von
2 Teilen des Diazoketons der 4-Methyl-3, 5-dinitrobenzoesäure (Formel 13) in 100 Teilen Glykolmonomethyläther
und belichtet die trockne Schicht unter einer Vorlage 15 Minuten mittels einer 18-Ampere-Bogenlampe
bei 60 cm Abstand. Man entwickelt auf der Folie das umgekehrte Bild der benutzten Vorlage
durch Überwischen mit Xylol, dem 1 % Benzylchlorid zugesetzt ist, 5%iger Phosphorsäure und fetter Farbe.
5. Man verwendet zur Beschichtung der Aluminiumfolie das Diazoketon der 2-Chlor-4-nitrobenzoesäure
(Formel 11) und verfährt im übrigen, wie im Beispiel 4 beschrieben.
6. Man verfährt gemäß Beispiel 4 unter Benutzung des Diazoketons der 3-Nitroanissäure (Formel 10) als
lichtempfindliche Verbindung.
7. Man beschichtet eine Aluminiumfolie mit einer Lösung von 2 Teilen des Diazoketons der 2-Methyl-5-nitrobenzoesäure
(Formel 9) in 100 Teilen Glykolmonomethyläther und belichtet die getrocknete
Schicht unter einer Vorlage mit einer 18-Ampere-Bogenlampe. Man entwickelt die belichtete Schicht
durch Überwischen mit Gasolin, 3%iger Phosphorsäure
und fetter Farbe und erhält so das umgekehrte Bild der benutzten Vorlage.
8. Man beschichtet eine Aluminiumfolie mit einer Lösung von 2 Teilen Diazoketon der /MSTitrophthalsäure
(Formel 14) in 100 Teilen Glykolmonomethyläther und belichtet die getrocknete Schicht unter einer
Vorlage mittels einer 18-Ampere-Bogenlampe. Die belichtete Schicht entwickelt man zum umgekehrten
Bild der benutzten Vorlage durch Überstreichen mit Xylol, dem 2 % Benzylchlorid zugesetzt ist, 3%iger
Phosphorsäure und fetter Farbe.
9. Man benutzt als lichtempfindliche Verbindung das Diazoketon der Nitro-terephthalsäure (Formel 15)
und verfährt gemäß Beispiel 8. iao
10. Man beschichtet eine Aluminiumfolie mit einer Lösung von 2 Teilen Azibenzil (Formel 26) in 100 Teilen
Glykolmonomethyläther und belichtet die getrocknete Schicht mittels einer Vorlage unter einer
Bogenlampe. Man entwickelt die belichtete Folie "5 durch Einreiben mit i°/oiger Phosphorsäurelösung und
fetter Farbe und erhält das umgekehrte Bild der benutzten Vorlage. Die belichtete Folie kann auch dadurch
entwickelt werden, daß man die Schichtseite mit einer 5°/^βη Kupferazetatlösung und anschließend
mit i%iger Phosphorsäure und fetter Farbe einreibt.
ii. Eine Aluminiumfolie wird mit einer Lösung von
2 Teilen 4,4'-Dinitro-azibenzil (Formel 27) und ioo Teilen Glykolmonomethyläther beschichtet und
die getrocknete Schicht unter einer Vorlage mittels einer Bogenlampe belichtet. Man entwickelt die belichtete
Schicht durch Überwischen mit Tetrachlorkohlenstoff, 3°/oiger Phosphorsäurelösung und fetter
Farbe und erhält das umgekehrte Bild der verwendeten Vorlage.
Claims (1)
- Patentanspruch:Lichtempfindliches Material für die photomechanische Bilderzeugung, dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche Schicht als lichtempfindliche Substanzen Verbindungen aus der Klasse der Diazoketone enthält, die den allgemeinen Formeln,B'A-CO-oder B — CO — CX1entsprechen. In diesen Formehl bedeuten A ein mehrkerniges aromatisches oder einheterocyclisches Ringsystem oder einen Phenylrest, der durch Substituenten zweiter Ordnung, z. B.— NO2, — SO2 — NH Aryl,,H— So2—CH2-CO-C;.,H— CO — Aryl, — CO — CN2substituiert ist und außerdem noch Substituenten erster Ordnung, z. B. Halogen, Alkyl- oder Alkoxygruppen, tragen kann, B, B' einen gegebenenfalls substituierten Arylrest und R Wasserstoff oder einen Alkylrest.Hierzu 1 Blatt Zeichnungen© 5660 12.53
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEK10646A DE901129C (de) | 1951-07-17 | 1951-07-18 | Lichtempfindliches Material fuer die photomechanische Bilderzeugung |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2959482X | 1951-07-17 | ||
DEK10646A DE901129C (de) | 1951-07-17 | 1951-07-18 | Lichtempfindliches Material fuer die photomechanische Bilderzeugung |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE901129C true DE901129C (de) | 1954-01-07 |
Family
ID=25982892
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DEK10646A Expired DE901129C (de) | 1951-07-17 | 1951-07-18 | Lichtempfindliches Material fuer die photomechanische Bilderzeugung |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE901129C (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE945673C (de) * | 1954-04-03 | 1956-07-12 | Kalle & Co Ag | Verfahren zur photomechanischen Herstellung von Druckplatten |
DE947852C (de) * | 1954-03-12 | 1956-08-23 | Kalle & Co Ag | Verfahren zur Herstellung von Druckplatten auf photomechanischem Wege durch Beschichten von Aluminiumfolien oder -platten mit lichtempfindlichen Substanzen |
DE950618C (de) * | 1954-04-03 | 1956-10-11 | Kalle & Co Ag | Verfahren zur Herstellung von Druckformen aus lichtempfindlichem Material, welches aus einem metallischen Traeger und einer darauf haftenden kolloidfreien lichtempfindlichen Schicht besteht |
-
1951
- 1951-07-18 DE DEK10646A patent/DE901129C/de not_active Expired
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE947852C (de) * | 1954-03-12 | 1956-08-23 | Kalle & Co Ag | Verfahren zur Herstellung von Druckplatten auf photomechanischem Wege durch Beschichten von Aluminiumfolien oder -platten mit lichtempfindlichen Substanzen |
DE945673C (de) * | 1954-04-03 | 1956-07-12 | Kalle & Co Ag | Verfahren zur photomechanischen Herstellung von Druckplatten |
DE950618C (de) * | 1954-04-03 | 1956-10-11 | Kalle & Co Ag | Verfahren zur Herstellung von Druckformen aus lichtempfindlichem Material, welches aus einem metallischen Traeger und einer darauf haftenden kolloidfreien lichtempfindlichen Schicht besteht |
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