DE9000821U1 - Walzenbahntrockner - Google Patents
WalzenbahntrocknerInfo
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- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/227—Drying of printed circuits
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F26—DRYING
- F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
- F26B15/00—Machines or apparatus for drying objects with progressive movement; Machines or apparatus with progressive movement for drying batches of material in compact form
- F26B15/10—Machines or apparatus for drying objects with progressive movement; Machines or apparatus with progressive movement for drying batches of material in compact form with movement in a path composed of one or more straight lines, e.g. compound, the movement being in alternate horizontal and vertical directions
- F26B15/12—Machines or apparatus for drying objects with progressive movement; Machines or apparatus with progressive movement for drying batches of material in compact form with movement in a path composed of one or more straight lines, e.g. compound, the movement being in alternate horizontal and vertical directions the lines being all horizontal or slightly inclined
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-
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Description
Derartige Walzenbahntrockner für plattenförmiges Material sind
aii~-mein bekannt. Sie werden verwendet, um im Rahmen eines
Herstellungsprozesses naß gereinigte Oberflächen des plattenförmigen Materials vor der Weiterverarbeitung wieder zu trocknen.
Da sich in der Regel in der nach dem Reinigen an den Oberflächen haftenden Reinigungsflüssigkeit oft Schmutzpartikel befinden,
bilden sich auf der im Luftstrom trocknenden Oberfläche häufig Schmutzschlieren, die bei der Weiterverarbeitung zu fehlerhaften
Produkten führen können. So können solche Schmutzschlieren bei einer nachfolgenden Klebeverbindung der Oberfläche
zu einer schlechteren Haftung oder zu Blasenbildungen führen, oder es können bei elektrischen Leiterplatten die elektrischen
Eigenschaften beeinträchtigt werden.
Aufgabe der Neuerung ist es daher, einen Walzentrockner der
eingangs genannten Art so abzuändern, daß die Bildung von
Schrautzschlieren beim Trocknen der Oberflächen von naß gereinigtem plattenförmigen! Material wenigstens im Nutzbereich der
Oberfläche vermieden wird.
Diese Aufgabe wird durch die kennzeichnenden Merkmale des An-Spruches 1 gelöst.
Danach ist ein wesentlicher Bestandteil der Neuerung die besondere Ausbildung der Manteloberflächen der Walzen, &Igr;&eegr;&agr;&ohacgr;&pgr;&idigr; schräg
' zur Walzenachse verlaufende durchgehende Rillen in der Manteloberfläche der Walzen die in die Rillen durch den Luftstrom
hineingedrückte Reinigungsflüssigkeit, zur Seite und damit vom
vorgesehenen Nutzflächenbereich ableiten.
Damit derartig ausgebildete Walzen in einem Walzenbahntrockner
ihre Wirkung voll entfalten können, ist für den Trockner weiterhin Voraussetzung, daß die Austrittsöffnungen der Luftdüsen
parallel zu den Walzenachsen ausgerichtet und entgegen der Förderrichtung schräg auf die zu trocknende Oberfläche des plattenförmigen Materials gerichtet sind.
>25 Die Neuerung bietet damit in einfacher Weise auch die Möglichkeit, daß diese Voraussetzungen bereitserfüllende vorhandene
Walzenbahntrockner durch einfaches Auswechseln der vorhandenen Walzen gegen Walzen entsprechend der Neuerung in solche entsprechend der Neuerung umgerüstet werden können.
Um weiterhin eine möglichst gleichmäßige Ableitung der Reinigungsflüssigkeit über die gesamte Walzenlänge zu gewährleisten,
sind gemäß einer Weiterbildung entsprechend Anspruch 3 die Rillen durch Stege mit gleichschenkeligem dreieckförmigem Quer-
schnitt voneinander getrennt. Die Mantelauflagefläche ist daher
die Spitzen dieser Dreieckstege beschränkt, so daß sich kein schädlicher F]ussiykeitsstauraum bilden kann, in dem sich
vorhandene Schmutzpartikel verstärkt ansammeln können. Andere Weiterbildungen, insbesondere hinsichtlich eine' zweckmäßigen
L'imen- ionierung der Rillen, ergeben sich aus den weiteren Ansprüchen
.
Einzelheiten der Neuerung seien nachfolgend anhand eines in der
Zeichnung dargestellten Ausführungsbeispieles näher erläutert. Im einzelnen zeigen
FIG 1 einen Teil des Walzenbahntrockner in seitlicher Ansicht,
HG 2 den Teil von FIG 1 in Draufsicht und
15
FIG 3 einen Teilquerschnitt einer Walzt senkrecht zu den Rillen
und Stegen.
FIG 1 und FIG 2 zeigen in schemata scher Darstellung drei, jeweils
aus einer Deckwalze la und einer Tragwalze Ib gebildete, nebeneinander liegende Walzenpaare des Walzenbahntrockners, die
das piattenförmige Material 2, z.B. eine Leiterplatte,in Richtung des Pfeiles F transportieren, wenn die Walzen sich entsprechend den zugehörigen Drehpfeilen drehen. Der Antrieb der
Walzen kann dabei in bekannter Weise erfolgen.
Zwischen den einzelnen Walzenpaaren la/lb sind jeweils Luftdüsen 3a bzw. 3b angeordnet, deren Austrittsoffnungen parallel zu
den Achsen 4 der Walzen la und Ib ausgerichtet und schräg auf
die jeweilige Oberfläche des plattenförmigen Materials 2 gerichtet sind, so daß die zum Trocknen benutzte Luft L jeweils
über die gesamte Walzenbreite auf die zu trocknenden Oberfläche
des plattenförmigen Materials einwirken kann und die an den
Cnerfiächen haftende Reinigungsflüssigkeit entgegen der Förderrichtung
F gezielt in Richtung auf die der Austrittsöffnung je-
4
weils gegenüberliegende Walze bläst.
weils gegenüberliegende Walze bläst.
Bei einer Walze mit durchgehender Manteloberfläche oder bei aus
E'.nzelrullen mit Zwischenraum zusammengesetzten Walzen würde
dadurch in den Bereichen, in denen die Walzen oder Rollen auf
der Oberfläche des zu fördernden plattenförmigen Materials aufliegen, jeweils ein Flüssigkeitsstau entstehen, in dem sich in
der Reinigungsflüssigkeit noch vorhandene Verunreinigungen verstärkt ansammeln können. Deshalb ist, wie aus FIG 2 ersichtlieh, die Manteloberfläche der Walzen la und Ib mit parallel
E'.nzelrullen mit Zwischenraum zusammengesetzten Walzen würde
dadurch in den Bereichen, in denen die Walzen oder Rollen auf
der Oberfläche des zu fördernden plattenförmigen Materials aufliegen, jeweils ein Flüssigkeitsstau entstehen, in dem sich in
der Reinigungsflüssigkeit noch vorhandene Verunreinigungen verstärkt ansammeln können. Deshalb ist, wie aus FIG 2 ersichtlieh, die Manteloberfläche der Walzen la und Ib mit parallel
nebeneinander liegenden und schräg zur Walzenachse 4 verlaufen- I
den durchgehenden Rillen 5 versehen, die durch Stege 6 vonein- |
ander getrennt sind. |
Durch diese Rillen 5 in der Manteloberfläche der Walzen wird ^
eine in Richtung der Walzenachse 4 durchgehende Auflagefläche |.|
vermieden. Die gegen die Walze gedrückte Reinigungsflüssigkeit >
kann vielmehr durch die Offnungen bildenden Rillen 5 kanali- *
siert entweichen, wobei sie quer zur Förderrichtung F abgelei- ;.
tet wird. Letzteres hat zur Folge, daß auch die in der Reini- §
gungsflüssigkeit noch enthaltenen Schmutzpartikel zur Seite ab- J1
geleitet werden und höchstenfalls in den Randzonen Schmutz- «
schlieren bilden können. I
Als zweckmäßig hat sich ein Steigungswinkel crt, zwischen 10° und |
30° für die Rillen 5 gegenüber der Walzenachse 4 erwiesen, wo- |
bei die kleineren Winkelwerte einerseits ein schnelleres Ablei- I
ten ermöglichen als die größeren, andererseits aber wegen zu |
geringer Anzahl von Windungen für die Rillen bei zu geringer f
Drehgeschwindigkeit der Walzen zu uinem frühzeitigeren Antrock- |
nen der Schmutzpartikel führen. t
Damit die wirksame Auflagefläche durch die die Rillen 5 tren- :
nenden Stege 6 möglichst klein ist, sind die Stege 6 Vorzugs- ;
weise von gleichschenkeligem dreieckförmigem Querschnitt, was >
5 zu Rillen mit trapezförmigem Querschnitt führt, wie der in
FIG 3 dargestellte Walzenteilquerschnitt zeigt. Die Tiefe h der Rillen beträgt zweckmäßig zwischen 1 bis 3 mm, und der Wert des
Dreieckswinkels &bgr; an der Spitze des Steges 6 liegt vorzugsweise
zwischen 60° und 90u, wobei die Breite bR am Grund der Rillen
etwa dem zwei- bis einfachen der Stegbreite bc entsprechen
sollte, so daß der Abstand der Stegspitzen unabhängig vom gewählten Spitzenwinkel/3 bei gleicher Rillentiefe h etwa gleich
bleibt.
Die Rillen 5 sind dabei zweckmäßig in eine, einen harten Waizenkern
8 in an sich bekannter Weise umschließende Mante.lschicht 9 aus elastomerem Material eingearbeitet, die um einige
Millimeter stärker ist als die Rillentiefe h.
9 Schutzansprüche 3 Figuren
Claims (8)
- Schutzansprüche1, Walzenbahntrockner mit paarweise angeordneten Walzen (ln/lb) zur Beförderung von plattenförmigen! Material, z.B. von gedruckten Leiterplatten (2), und zwischen den Walzenpaaren (la/lb) angeordneten Luftdüsen (3a,3b) zum Trocknen der Oberflächen des plattenförmigen Materials (2) während des Curchlaufes durch den Wal2enbahntrockner, dadurch gekennzeichnet , daß die Walzen (la,Ib) eine mit parallel nebeneinander liegenden, schräg zur Walzenachse (A) verlaufenden, durchgehenden Rillen (5) versehene durchgehende ManteloberVläche aufweisen und daß die Austrittsöffnungen der Luftdüsen (3a,3b) parallel zu den Walzenachsen (A) ausgerichtet und entgegen der Förderrichtung (F) schräg auf die zu trocknende Oberfläche des plattenförmigen Materials (2) gerichtet sind.
- 2. Walzenbahntrockner nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet , daß der Walzenbahntrockner integraler Bestandteil einer aus mehreren verschiedenen Behandlungszonen (z.B. Ätzen, Waschen, Trocknen) bestehende Anlage und mit dem die vorangehende Behandlungszone uildenden Aggregat der Anlage durch eine das plattenförmige Material in geeigneter Weise zuführenden Einrichtung gekoppelt ist.
- j25 3. Walzenbahntrockner nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet , daß die Rillen (5) der Walzen (la bzw. Ib) durch Stege (6) mit gleichschenkeligem dreieckförmigem Querschnitt voneinander getrennt sind.
- 4. Walzenbahntrockner nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet , daß der Winkel (/3) an der Spitze der Stege (6) zwischen 60° und 90° beträgt. ]
- 5. Walzenbahntrockner nach einem der Ansprüche 1 bis 4,dadurch gekennzeichnet, daß die Tiefe jg(h) der Rillen (5) zwischen 1 und 3 mm beträgt.
- 6. Wal/enbahntrockner nach einem der Ansprüche 1 bis 5,dadurch gekennzeichnet, daß die Rillenbreite (bR) am Grunde der Rillen (5) dem ein- bis zweifachen der Stegbreite (bs) entspricht.
- 7. Walzenbahntrockner nach einem der Ansprüche 1 bis 6,dadurch gekennzeichnet, daß der Neigungswinkel (OC) der Rillen (5) gegenüber der Walzenachse (4) zwischen 10° und 30° beträgt.
- 8. Walzenbahntrockner nach einem der Ansprüche 1 bis 7,dadurch gekennzeichnet, daß die die Rillen (5) aufweisende Manteloberfläche von einem, auf einen Walzenkern (8) aufgebrachten elastomeren Material (9) gebildet wird, dessen Schichtstärke größer als die Tiefe (h) der Rillen (5) ist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE9000821U DE9000821U1 (de) | 1990-01-25 | 1990-01-25 | Walzenbahntrockner |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE9000821U DE9000821U1 (de) | 1990-01-25 | 1990-01-25 | Walzenbahntrockner |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE9000821U1 true DE9000821U1 (de) | 1990-04-26 |
Family
ID=6850346
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE9000821U Expired - Lifetime DE9000821U1 (de) | 1990-01-25 | 1990-01-25 | Walzenbahntrockner |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE9000821U1 (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0547328A1 (de) * | 1991-12-13 | 1993-06-23 | Somar Corporation | Vorrichtung zur Aufbringung einer Schicht auf ein Substrat |
EP1070927A3 (de) * | 1999-07-22 | 2001-03-14 | Systronic Maschinenbau GmbH | Durchlauftrockner für Platten oder Bahnen |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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DE970462C (de) * | 1952-07-02 | 1958-09-25 | Julien Dungler | Trag- und Foerdervorrichtung fuer Maschinen mit Blasduesen zur Behandlung von band- oder plattenfoermigem Gut |
DE1212331B (de) * | 1960-08-09 | 1966-03-10 | Int Harvester Co | Quetschwalzen fuer Presszetter |
DE2603971A1 (de) * | 1975-03-10 | 1976-09-30 | Walter Engeler Ag | Verarbeitungsmaschine fuer druckplatten |
DE3730651A1 (de) * | 1986-09-11 | 1988-03-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | Verfahren zum aufbringen einer beschichtungsloesung |
DE3708605A1 (de) * | 1987-03-17 | 1988-09-29 | Boettcher Gmbh & Co Felix | Presswalze fuer die entwaesserung von stoffbahnen |
-
1990
- 1990-01-25 DE DE9000821U patent/DE9000821U1/de not_active Expired - Lifetime
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