DE843489C - Verfahren zum Elektroplattieren mit Indium - Google Patents
Verfahren zum Elektroplattieren mit IndiumInfo
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- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 title claims description 53
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 52
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 22
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 title 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 16
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 11
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 11
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 4
- RMSOEGBYNWXXBG-UHFFFAOYSA-N 1-chloronaphthalen-2-ol Chemical compound C1=CC=CC2=C(Cl)C(O)=CC=C21 RMSOEGBYNWXXBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 claims 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 claims 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- IGUXCTSQIGAGSV-UHFFFAOYSA-K indium(iii) hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[In+3] IGUXCTSQIGAGSV-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 2
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- 229910000978 Pb alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001464 adherent effect Effects 0.000 description 1
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 1
- -1 ferrous metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000002471 indium Chemical class 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000009738 saturating Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
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- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
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- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
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- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12771—Transition metal-base component
- Y10T428/12861—Group VIII or IB metal-base component
- Y10T428/12951—Fe-base component
- Y10T428/12972—Containing 0.01-1.7% carbon [i.e., steel]
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung galvanischer Überzüge aus Indium.
Insbesondere bezieht sich die Erfindung auf eine neuartige Zusammensetzung des elektrolytischen Bades
für diesen Zweck, das sich durch gewisse Vorteile gegenüber den bisher bekannten Bädern und Verfahren
auszeichnet.
Die erfindungsgemäße Elektrolytflüssigkeit besitzt einen hohen Wirkungsgrad und ist leicht herzustellen
und zu kontrollieren. Die zulässigen Bereiche von Stromdichten, Spannungen und Zusammensetzungen
sind sehr breit. Das Bad ist einfach zu bereiten, besitzt eine gute Leitfähigkeit und liefert einen glänzenden,
glatten und dichten Indiumüberzug. Die Badlösung läßt sich leicht bei Raumtemperatur zubereiten,
ist hell und farblos, und häufige chemische Analysen und Badergänzungen sind überflüssig. Vorzugsweise
finden lösliche Indiumanoden Verwendung. Die Kathodenwirksamkeit bleibt in solchen Fällen konstanter
als mit Bädern, die die Benutzung unlöslicher ao Anoden erfordern.
Das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung galvanischer Überzüge von Indium besteht darin,
daß man den elektrischen Strom durch einen Elektrolyt schickt, der im wesentlichen aus einer wäßrigen as
Lösung von Indiumfluoborat, Indiumfluosilicat oder Indiumfluorid besteht.
Bei der Bereitung eines Indiumfluoboratelektrolyts in Übereinstimmung mit der Erfindung kann man folgendermaßen
vorgehen: Fluoborsäure läßt sich einfach durch Sättigung von Fluorwasserstoffsäure mit Borsäure
herstellen. Diese Sättigung muß in einem Behälter durchgeführt werden, der mit hartem oder
weichem Gummi ausgekleidet ist, da die Flußsäüre
Glas leicht angreift und die Reaktionswärme Paraffin oder Wachsbehälter schmelzen würde. Die Fluoborsäure
wird dann filtriert und eine wäßrige Lösung im Verhältnis von 300 cm3 Säure auf 1 1 Wasser hergestellt.
Das so erhaltene Gemisch wird dann elektrolysiert, indem man reine Indiumanoden und Leeroder
Scheinkathoden (Dummy-Kathoden) benutzt. Zur Beschleunigung des Prozesses können die Kathoden
von einer durchlässigen tierischen Membran umgeben sein. Bei solcher Anordnung lagert sich
kein Indium auf den Kathoden ab. Die Stromdichte an der Kathode wird bei dieser Elektrolyse zweckmäßig
auf 100 bis 150 mA/cm2 gehalten. Die Elektrodenspannung
sollte über 1 Volt und vorzugsweise oberhalb 2 Volt liegen. Man läßt die Elektrolyse
fortschreiten, bis der gewünschte Gehalt von Indium im Bad vorhanden ist. Dieser Indiumgehalt
kann durch geeignete Analyse bestimmt werden, beispielsweise durch Elektroanalyse oder durgh Ausfällung
des Indiums als Hydroxyd (In (OH)3), Ausglühen des Indiumhydroxydes und Wägen als Indiumsesquioxyd
(In2 O3). Sobald ein ausreichender Indiumgehalt
in dem Bad vorhanden ist (vorzugsweise etwa .So bis 90 g pro Liter), wird das Bad sorgfältig
nitriert und ist dann fertig für die Benutzung. Ein kleiner Zusatz von Netzmitteln kann dem Bad zugefügt
werden, ist aber nicht notwendig.
Ein anderes Verfahren zur Vorbereitung des Fluoboratbades
besteht darin, Indiumhydroxyd in Fluoborsäure in der gewünschten Menge zu lösen und
Wasser hinzuzufügen, bis eine wäßrige Lösung in der gewünschten Konzentration vorliegt. Dieses Verfahren
ist jedoch zur Zeit weniger vorteilhaft infolge der Knappheit von Indiumhydroxyd im Handel.
Die so hergestellte Elektrolytlösung kann in allen möglichen Formen und Arbeitsweisen zur Herstellung
eines glänzenden, glatten und dichten Niederschlages oder Überzuges von Indium benutzt werden. Das
Bad kann bei Temperaturen zwischen io" C und 650 C
und bei Stromdichten zwischen 1 bis 300 mA/cm2 Kathodenoberfläche arbeiten. Der pn-Wert der Lösung
kann zwischen 0,0 und 2,5 oder auch noch höher liegen. Der Indiumgehalt (gerechnet auf Metall)
kann zwischen 1 und 100 g pro Liter Badlösung liegen.
Das bevorzugte Mengenverhältnis des Indiums (berechnet auf Metall) liegt zwischen 60 und 90 g/l Badlösung,
die Badtemperatur zwischen 20 und 330 C,
die Stromdichte bei 10 bis 100 mA/cm'2 Kathodenoberfläche,
der pn-Wert zwischen 0,1 und 0,4 bei Verwendung von Anoden aus reinem elektrolytisch
erzeugtem Indium. Auch Anoden aus gegossenem Indium können benutzt werden, sollten dann aber
zweckmäßig mit Beuteln umhüllt werden, um zu verhindern, daß kleine Indiumteilchen, die sich ablösen
könnten, eine rauhe Plattierung hervorrufen können. Das Verhältnis von Anode zu Kathode sollte wenigstens
ι : ι und vorzugsweise 2 : 1 zugunsten der
Anode sein. Bei einem hohen Indiumgehalt ist es angezeigt, mit einer Stromdichte von etwa 50 bis
100 mA/cm2 Kathodenoberfläche zu arbeiten. Wenn stärkere Indiumschichten als 0,012 mm erwünscht
sind, ist es zweckmäßig, das Bad umzurühren. Das kann in irgendeiner gewünschten Weise geschehen,
beispielsweise durch zweckentsprechende Bewegung der Kathode oder des Elektrolyts. Glatte Überzüge
im Bereich von 0,00025 bis 0,6 mm sind aus einem derartigen Indiumfluoboratbad hergestellt worden.
Mit fortschreitender Elektrolyse steigt der pn-Wert der Lösung. Diese Veränderung kann leicht durch
Zusatz von Fluoborsäure ausgeglichen werden. Es hat sich weiter gezeigt, daß, wenn der Indiumgehalt die
Sättigungsgrenze erreicht, der ungefähr bei 100 g Indiummetall/l Badflüssigkeit liegt, sich ein Niederschlag
bildet. Das muß vermieden werden. Sollte es aber eintreten, so kann dieser Übelstand leicht
durch Zusatz von Fluoborsäure od^r Wasser beseitigt
werden. Die Kathodenwirksamkeit ist nicht so hoch wie die der Anöde. Infolgedessen besteht ein Bestreben,
daß sich der Indiumgehalt des Bades erhöht. Diese Neigung kann ausgeglichen werden durch Verwendung
einer zusätzlichen Hilfsanode aus Kohle, die unlöslich ist, unter Verkleinerung der Oberfläche der Indiumanode,
oder indem man die Stromdichte an der Anode entsprechend regelt. Die Oberfläche dieser Kohlenhilfsanode
sollte ebenso groß sein wie die der Indiumanode. Die Benutzung einer solchen Kohlenhilfsanode
beeinträchtigt in keiner Weise den Niederschlag an der Kathode oder den Wirkungsgrad.
Das Fluoborbad gemäß der Erfindung besitzt die Fähigkeit, festhaftende Niederschläge von Indium unmittelbar
auf Stahl und Eisenmetallen zu erzeugen, wogegen es bei den meisten Indiumgalvanisierungsbädern,
die bisher vorgeschlagen wurden, notwendig war, zunächst einen Hauch von Kupfer, Silber, Blei oder Zinn
aufzutragen, um Indiumniederschläge zu bekommen, die eine gute Haftfähigkeit besaßen.
Besondere Vorteile bieten die charakteristischen Eigenschaften des neuen Bades da, wo es gewünscht
ist, Überzüge aus Indium auf die Innenflächen zylindrischer oder anderer hohler Gegenstände niederzuschlagen,
die in den Elektrolyten eingetaucht sind. Ordnet man dabei die Anode im Innern des Werkstückes
an, so wird der Überzug aus Indium weitgehend oder vollständig auf die Innenfläche des Werkstückes
beschränkt, so daß es nicht notwendig ist, die äußere Oberfläche desselben abzudecken. In gleicher
Weise kann dadurch, daß man die Anode an der Außenseite anordnet, der Überzug aus Indium weitgehend oder
vollständig auf die Außenfläche eines zylindrischen oder anderweits hohlen Werkstückes beschränkt werden,
ohne daß es notwendig ist, den Innenraum bzw. die Wandung desselben abzudecken.
Die Werkstücke, die mit Indium überzogen werden sollen, müssen vor dem Plattierungsvorgang gut gereinigt
werden, um ein gutes Haften des galvanisch aufgetragenen Überzuges auf dem Grundmetall zu
gewährleisten. Es empfiehlt sich, die zu plattierenden Teile zunächst zu entfetten, dann in einer alkalischen
Lösung elektrolytisch zu reinigen, sie dann gründlich in Wasser zu spülen und danach den galvanischen
Indiumüberzug aufzutragen. Wenn es gewünscht ist, können die Teile einer Tauchbehandlung in Säure
unterworfen werden, nachdem sie im Anschluß an die Reinigung in der alkalischen Lösung mit Wasser abgespült
sind. Wenn eine solche Säuretauchbehandlung stattfindet, müssen die Teile wieder mit Wasser
abgespült werden, bevor der galvanische Indiumüberzug
aufgebracht wird.
Durch Benutzung des erfindungsgemäßen Verfahrens kann Indium galvanisch auf Kathoden aus verschiedenen
Metallen aufgebracht werden. Von besonderem Vorteil ist das neue Verfahren für galvanische
Überzüge von Lagern und Lagermetallen oder -legierungen, um sie korrosionsfest zu machen. Beispielsweise
können Lagerwerkstoffe, wie Blei und gewisse
ίο Bleilegierungen, beispielsweise Kupferblei, ebenso wie
andere Lagerwerkstoffe, wie Kadmium und seine Legierungen, mit einem dünnen Überzug von Indium
versehen werden, um das Lager gegen die korrodierenden Einflüsse von Bestandteilen der Schmiermittel
zu schützen. Die mit dem Indiumüberzug versehene 'Lagerfläche kann dann noch einer Wärmebehandlung
bei einer Temperatur in der Größenordnung von 1700 C oder etwas darüber unterworfen
werden, um dadurch das Indium zu veranlassen, in das Grundmetall hineinzudiffundieren oder sich damit zu
legieren.
Im vorstehenden ist lediglich die Herstellung eines elektrolytischen Fluoboratbades beschrieben. Es ist
augenscheinlich, daß Bäder aus Fluosilicaten oder Fluoriden in analoger Weise hergestellt werden können.
Claims (10)
- Patentansprüche:i. Verfahren zur Herstellung galvanischer Niederschläge von Indium, dadurch gekennzeichnet, daß man den Strom durch einen Elektrolyt schickt, der im wesentlichen aus einer wäßrigen Lösung besteht, die Indiumfiuoborat, Indiumfluosilicat oder Indiumfluorid enthält.
- 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das elektrolytische Bad aus einer wäßrigen Lösung eines Indiumfluoborates besteht und bei einer Temperatur zwischen 10 und 650 C, bei einer Stromdichte von 1 bis 300 mA/cm2, mit einem pn-Wert zwischen 0,0 und 2,5 und mit einem Indiumgehalt zwischen 1 und 100 g/l Badlösur.g Verwendung findet.
- 3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Temperatur etwa zwischen 20 und 33° C gehalten wird, die Stromdichte zwischen etwa 10 und 100 mA/cm2, der pa-Wert zwischen 0,1 und 0,4 und der Gehalt an Indium zwischen 60 und go g/l Badlösung.
- 4. Abänderung des Verfahrens nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß eine Lösung von Indiumfluosilicat an Stelle des Indiumfiuoborat Verwendung findet.
- 5. Abänderung des Verfahrens nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß eine Lösung von Indiumfluorid an Stelle einer Lösung von Indiumfiuoborat Verwendung findet.
- 6. Verfahren nach einem der Ansprüche 2 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Bad während des Verfahrens umgerührt wird.
- 7. Verfahren nach einem der Ansprüche 2 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Anode aus Indium besteht.
- 8. Verfahren nach einem der Ansprüche 2 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Kathode die Form eines Hohlkörpers, z. B. eines Hohlzylinders besitzt und die Anode im Innern des Hohlraumes bzw. des Hohlzylinders angeordnet ist, so daß die Indiumplattierung zum größten Teil öder vollständig auf die Innenwandung des Hohlzylinders beschränkt wird.
- 9. Verfahren nach einem der Ansprüche 2 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Kathode die Form eines Hohlkörpers, z. B. Hohlzylinders besitzt und die Anode an der Außenseite dieses Hohlzylinders angeordnet wird, so daß der elektrolytische Überzug weitgehend oder vollständig auf die Außenfläche des Hohlzylinders beschränkt wird.
- 10. Anwendung eines Verfahrens nach einem der vorhergehenden Ansprüche zur Herstellung von galvanischen Indiumüberzügen auf Lagern.O 5213 6.52
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US448003A US2409983A (en) | 1942-06-22 | 1942-06-22 | Electrodeposition of indium |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE843489C true DE843489C (de) | 1952-07-10 |
Family
ID=23778630
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DEG3694A Expired DE843489C (de) | 1942-06-22 | 1950-09-24 | Verfahren zum Elektroplattieren mit Indium |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US2409983A (de) |
DE (1) | DE843489C (de) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2765520A (en) * | 1952-11-14 | 1956-10-09 | Gen Motors Corp | Bearing and method of making the same |
US3389060A (en) * | 1964-06-15 | 1968-06-18 | Gen Motors Corp | Method of indium coating metallic articles |
US3367755A (en) * | 1965-02-26 | 1968-02-06 | Gen Dynamics Corp | Laminar conductive material having coats of gold and indium |
US20090188808A1 (en) * | 2008-01-29 | 2009-07-30 | Jiaxiong Wang | Indium electroplating baths for thin layer deposition |
US8092667B2 (en) * | 2008-06-20 | 2012-01-10 | Solopower, Inc. | Electroplating method for depositing continuous thin layers of indium or gallium rich materials |
US20100200417A1 (en) * | 2009-02-04 | 2010-08-12 | Impulse Devices, Inc. | Method and Apparatus for Electrodeposition in Metal Acoustic Resonators |
US11753736B2 (en) | 2020-11-16 | 2023-09-12 | Raytheon Company | Indium electroplating on physical vapor deposition tantalum |
-
1942
- 1942-06-22 US US448003A patent/US2409983A/en not_active Expired - Lifetime
-
1950
- 1950-09-24 DE DEG3694A patent/DE843489C/de not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US2409983A (en) | 1946-10-22 |
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