DE814919C - System zur Ablenkung von Elektronenstrahlen - Google Patents
System zur Ablenkung von ElektronenstrahlenInfo
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- DE814919C DE814919C DEF730A DEF0000730A DE814919C DE 814919 C DE814919 C DE 814919C DE F730 A DEF730 A DE F730A DE F0000730 A DEF0000730 A DE F0000730A DE 814919 C DE814919 C DE 814919C
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- DE
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- deflection
- electron beam
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/46—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the ray or beam, e.g. electron-optical arrangement
- H01J29/70—Arrangements for deflecting ray or beam
- H01J29/72—Arrangements for deflecting ray or beam along one straight line or along two perpendicular straight lines
- H01J29/76—Deflecting by magnetic fields only
- H01J29/764—Deflecting by magnetic fields only using toroidal windings
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Description
- System zur Ablenkung von Elektronenstrahlen Bei der Erzeugung und Allenkung von Elektronenstrahlen in Braunschen Röhren wird im wesentlichen der Strahl durch eine Fokussierspule, deren Feld in Richtung der Strahlachse verläuft, fokussiert und vom :#,1>lenksystem, dessen Feld senkrecht zur Strahlachse verläuft, abgelenkt.
- Es wurde festgestellt, daß die bei Fernsehbildern im allgemeinen in einzelnen Bildzonen beobachtete Unschärfe im wesentlichen Slavon herrührt, daß bei den bisher üblichen Bauformen der Ablenkjoche der Elektronensträhl zwischen Ablenksystem und Auftreffstelle durch Streukraftlinien des Ablenkfeldes etwas defokussiert wird. Die vorliegende Erfindung bezweckt, die Schärfe der Fernsehbilder zu verbessern, indem die Ursachen der Unschärfe vermieden werden.
- Erfindungsgemäß werden bei einem System zur Allenkung von Elektronenstrahlen Polschuhe ver-\%-endet und derart geformt bzw. zusätzliche Vorrichtungen angeordnet, daß sich in dem vom Elektronenstrahl zwischen Ablenksystem und Auftreffstelle geschaffenen Raum eine solche Kraftlinienrichtung einstellt, daß der Elektronenstrahl nicht defokussiert wird. Die Richtung der Kraftlinien soll hierbei in jedem Raumpunkt senkrecht zur Richtung des im Zuge der Ablenkbewegung diesen Raumpunkt passierenden Elektronenstrahls sein. Es ist zweckmäßig, den Abstand der Polschuhe auf der der Auftreffstelle zugekehrten Seite zu verringern. In vielen Fällen ist es günstig, den Abstand der Polschuhe auch an der der Kathode zugewendeten Seite gegenüber dem Abstand in Polschuhmitte zu verringern.
- Wird das System zur gleichzeitigen Strahlablenkung in zwei Koordinateneinrichtungen verwendet, dann ist es vorteilhaft, dieses derart auszubilden, daß die Polschuhe an der Innenseite eines geschlossenen, die Ablenkspulen tragenden Rahmens angebracht sind. Besitzt hierbei der Rahmen im wesentlichen rechteckförmige Gestalt, dann sollen zweckmäßig die an der Innenseite der vier Rahmenseiten befindlichen Polschuhe in. der Mitte, in Richtung des Elektronenstrahls gemessen, länger sein als am Rande.
- Die Erfindung wird nachstehend an Hand der Ausführungsbeispiele darstellenden Figuren beschrieben.
- In Fig. i ist die fokussierende Wirkung eines Magnetfeldes auf den Elektronenstrahl dargestellt, wobei der Strahl, der an und für sich schraubenförmig um die Achse läuft, in eine Ebene gedreht ist. Danach kann die Ablenkung des Elektronenstrahls innerhalb des Fokussierfeldes so charakterisiert werden, daß der Elektronenstrahl von der Kathode K bis zur Fokussierebene E von der Kraftliniennormale L weg auf den Kraftlinienweg und von der Fokussierebene E bis zum Schirm S nach der Kraftliniennormale L hin gebrochen wird.
- Ähnliche Erscheinungen treten nun auch im Ablenkfeld zusätzlich zu der ablenkenden Wirkung auf, wie dies in Fig. 2a und 2b angedeutet ist. In Fig. 2a würde der Randstrahl Str, der bereits das Fokussierfeld verlassen hat, im Punkt S entsprechend dem Abbildungsverhältnis im Abstand y von der Strahlachse abgebildet, wenn das Ablenkfeld keine fokussierende oder defokussierende Wirkung hätte. Da die Randkraftlinien des Ablenkfeldes in Richtung der Strahlachse ausgebuchtet sind, gelten hier die gleichen Gesetze wie bei der Fokussierspule. Der eintretende Strahl wird von der Kraftliniennormale weg und der austretende Strahl zur Kraftliniennormale hin gebrochen. Das bedeutet aber, daß der Randstrahl auf dem Schirm im Punkt S' abgebildet wird. Der Elektronenstrahl wird defokussiert. Das gleiche tritt in noch stärkerem Maße auf, wenn das Ablenkrandfeld entsprechend Fig. 21) in das Fokussierfeld hineingreift, insbesondere hinter der Fokussierebene, also zwischen Fokussierebene und Kathode, wo der Strahl noch eine Divergenz aufweist. Um den defokussierenden Einfluß an der Austrittsseite des Ablenkfeldes (Fig.2a) zu beseitigen, werden erfindungsgemäß die Polschuhe so geformt, daß das Ablenkfeld zwischen Schirm und Ablenksystem möglichst verschwindet und den restlichen Kraftlinien eine solche Richtung gegeben wird, daß sie in jedem Punkt senkrecht zum Elektronenstrahl verlaufen. Dies geschieht z: B. durch die rückwärts geöffnete Polschuhform der Fig. 3. Weiterhin kann man auch den defokussierenden Einfluß, den das Ablenkrandfeld im Fokussierfeld (Fig. 2b) auslöst, dadurch beseitigen, daß man die Polschühe auch an der der Kathode zugewandten Seite nach dem Schirm hin öffnet, wie dies in Fig. 4 dargestellt ist.
- Bei der Erzeugung eines Fernsehrasters für beide Ablenkkoordinaten empfiehlt es sich, ein Polschuhjoch entsprechend Fig. 5 zu wählen, wobei die Erregerspulen für eine Ablenkrichtung auf je zwei gegenüberliegenden Rahmenseiten angebracht sind. Zur Erfüllung der Forderung, daß die im Raum zwischen Ablenksystem und Strahlauftreffpunkt noch vorhandenen Kraftlinien in jedem Raumpunkt senkrecht zum Elektronenstrahl stehen müssen, die in beiden Ablenkkoordinaten erfüllt sein muß, empfiehlt es sich, die Polschuhbreite in der Mitte des Systems gegenüber der an der Seite zu vergrößern, wie dies in der rechten Hälfte der Fig. 5b durch die Begrenzungslinie K angedeutet ist.
Claims (5)
- PATENTANSPRÜCHE: i. System zur Ablenkung von Elektronenstrahlen, gekennzeichnet durch Anwendung und eine derartige Formgebung von Polschuhen bzw. Anordnung zusätzlicher Vorrichtungen, daß sich in dem vom Elektronenstrahl zwischen Ablenksystem und Auftreffstelle durchlaufenden Raum in jedem Raumpunkt eine Kraftlinieneinrichtung einstellt, die senkrecht zur Richtung des Elektronenstrahls in diesem Raumpunkt steht, so daß der Elektronenstrahl nicht defokussiert wird.
- 2. System nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß der Abstand der Polschuhe an der der Auftreffstelle zugekehrten Seite verringert ist.
- 3. System nach Anspruch i und 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Abstand der Polschuhe an der der Kathode zugekehrten Seite gegenüber dem Abstand in Polschuhmitte verringert ist.
- 4. System nach Anspruch i bis 3, zur gleichzeitigen Ablenkung von Elektronenstrahlen in zwei Koordinaten, dadurch gekennzeichnet, daß die Polschuhe an der Innenseite eines geschlossenen, die Ablenkspulen tragenden Rahmens angebracht sind.
- 5. System nach Anspruch i bis 4, ausgeführt als im wesentlichen rechteckförmiger Rahmen, dadurch gekennzeichnet, daß die an der Innenseite der vier Rahmenseiten befindlichen Polschuhe in der Mitte (in Richtung des Elektronenstrahls gemessen) länger sind als am Rande.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEF730A DE814919C (de) | 1950-01-30 | 1950-01-31 | System zur Ablenkung von Elektronenstrahlen |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE305907X | 1950-01-30 | ||
DEF730A DE814919C (de) | 1950-01-30 | 1950-01-31 | System zur Ablenkung von Elektronenstrahlen |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE814919C true DE814919C (de) | 1951-09-27 |
Family
ID=25790202
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DEF730A Expired DE814919C (de) | 1950-01-30 | 1950-01-31 | System zur Ablenkung von Elektronenstrahlen |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE814919C (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE971018C (de) * | 1952-05-13 | 1959-01-08 | Leitz Ernst Gmbh | Elektronenoptisches System, aequivalent einem lichtoptischen Prisma |
DE1163986B (de) * | 1957-02-19 | 1964-02-27 | Associated Electrical Ind Manc | Verfahren zur Ablenkung eines geradlinigen Elektronenstrahlbuendels von gleichfoermigr Geschwindigkeit |
DE1170092B (de) * | 1960-06-21 | 1964-05-14 | Stauffer Chemical Co | Elektronenstrahlofen mit einem evakuierbaren Raum |
-
1950
- 1950-01-31 DE DEF730A patent/DE814919C/de not_active Expired
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE971018C (de) * | 1952-05-13 | 1959-01-08 | Leitz Ernst Gmbh | Elektronenoptisches System, aequivalent einem lichtoptischen Prisma |
DE1163986B (de) * | 1957-02-19 | 1964-02-27 | Associated Electrical Ind Manc | Verfahren zur Ablenkung eines geradlinigen Elektronenstrahlbuendels von gleichfoermigr Geschwindigkeit |
DE1170092B (de) * | 1960-06-21 | 1964-05-14 | Stauffer Chemical Co | Elektronenstrahlofen mit einem evakuierbaren Raum |
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