DE812806C - Verfahren zur Herstellung von Selengleichrichtern - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von SelengleichrichternInfo
- Publication number
- DE812806C DE812806C DE1949812806D DE812806DA DE812806C DE 812806 C DE812806 C DE 812806C DE 1949812806 D DE1949812806 D DE 1949812806D DE 812806D A DE812806D A DE 812806DA DE 812806 C DE812806 C DE 812806C
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- heat treatment
- selenium
- temperature
- application
- rectifiers
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 21
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 title claims description 21
- 239000011669 selenium Substances 0.000 title claims description 21
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 24
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N thallium Chemical compound [Tl] BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 2
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 8
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 4
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 4
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 3
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 3
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 3
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 2
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000005494 tarnishing Methods 0.000 description 1
- 238000005496 tempering Methods 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 238000005019 vapor deposition process Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D48/00—Individual devices not covered by groups H10D1/00 - H10D44/00
- H10D48/01—Manufacture or treatment
- H10D48/04—Manufacture or treatment of devices having bodies comprising selenium or tellurium in uncombined form
- H10D48/043—Preliminary treatment of the selenium or tellurium, its application to foundation plates or the subsequent treatment of the combination
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02518—Deposited layers
- H01L21/02521—Materials
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02656—Special treatments
- H01L21/02664—Aftertreatments
- H01L21/02667—Crystallisation or recrystallisation of non-monocrystalline semiconductor materials, e.g. regrowth
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Hybrid Cells (AREA)
Description
- Verfahren zur Herstellung von Selengleichrichtern Die bisher bekannten Verfahren zur Herstellung von Selengleichrichtern sehen eine Überführung der amorphen oder halbamorphen Selenschicht, wie sie nach dem Aufbringen des Selens auf die Grundelektrode vorliegt, in den bestleitenden kristallinen Zustand durch eine Wärmebehandlung (Temperung) vor. Bei einigen der bekannten Verfahren wird das auf die Grundelektrode aufgebrachte Selen einer zweifachen Wärmebehandlung unterworfen. Die erste Wärmebehandlung erfolgt in der Regel bei etwa i io° C, während die zweite bei einer Temperatur, etwa 21o° C, durchgeführt wird, die etwas unter dem Schmelzpunkt des Selens liegt. Dieses Herstellungsverfahren mit zwei bei verschiedenen Temperaturen durchgeführten Wärmebehandlungen hat vor allem den Vorteil, daß bei der ersten Wärmebehandlung das bis dahin amorphe Selen bereits vorkristallisiert wird, so daß die zweite Wärmebehandlung einen Vorbereitungszustand vorfindet, der einmal zu einer vollen Kristallisation während dieser zweiten Wärmebehandlung führt und außerdem verhindert, daß hierbei die Selenschicht rissig wird. Bei den Verfahren, bei denen das Selen auf die Grundelektrode aufgedampft wird, erfährt bei dem Aufdampfprozeß durch Einstellung einer entsprechenden Temperatur das aufgedampfte Selen ohnehin eine Wärmebehandlung, so daß eine gesonderte Vorbehandlung bei i io° C zu dem obenerwähnten Zweck, nämlich zur Vorbereitung der Endumwandlung bei 2i0°' C, nicht notwendig ist und, soweit bekannt, auch nicht angewendet worden ist.
- Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung von Selengleichrichtern, bei dem das auf die Grundelektrode aufgebrachte Selen ebenfalls einer zweifachen Wärmebehandlung bei verschiedenen Temperaturen unterworfen wird. Die neue Lösung besteht darin, daß die erste Wärmebehandlung in zwei Stufen zerlegt wird, deren erste vor dem Aufbringen und deren zweite nach dem Aufbringen der Deckelektrode erfolgt oder ganz oder teilweise mit dem Aufbringen der Deckelektrode zusammenfällt. Das neue Verfahren ist allgemein verwendbar, insbesondere ist es aber gedacht für jene Herstellungsverfahren, bei denen das Selen auf die Deckelektrode aufgedampft wird. Die besonderen Vorteile des neuen Verfahrens liegen in folgendem: Es hat sich herausgestellt, daß der Kristallisationszustand des Selens, bei welchem die Deckelektrode aufgebracht wird, auf die späteren Gleichrichtereigenschaften von, großem Einfluß ist. Ferner hat sich gezeigt, daß es sowohl für die Sperr- als auch für die Flußeigenschaften des Gleichrichters günstig ist, wenn die Deckelektrode mit dem Selen, welches sich in dem vorgenannten Kristallisationszustand befindet, eine Zeitlang bei einer mäßigen Temperatur, z. B. bei etwa iio° C, in Berührung bleibt, bevor die vollkommene Überführung in den bestleitenden kristallinen Zustand bei höherer Temperatur, z. B. bei etwa 21o° C, vorgenommen wird. Bei der zweiten Stufe der ersten Wärmebehandlung bilden sich an der Grenzfläche zwischen dem Selen und der Deckelektrode Anlauffarben aus, die im Zusammenhang' mit den späteren Eigenschaften der so hergestellten Gleichrichter zu dem Schluß berechtigen, daß die durch die Anlauffarben angezeigten chemischen Verbindungen besonders günstig sind. Die Bedeutung der ersten Stufe der ersten Wärmebehandlung besteht offenbar darin, daß beim Aufbringen der Deckelektrode diese die Selenschicht bereits in einem Zustande beginnender Kristallisation vorfindet und infolgedessen die durch die Anlauffarben gekennzeichneten Verbindungen in einer für die Gleichrichtereigenschaften besonders günstigen Weise ausgebildet werden.
- Die vorgenannte Erscheinung mit der günstigen Wirkung auf die Gleichrichtereigenschatten tritt in besonderem Maße hervor, wenn die Deckelektrode einen geringen Zusatz an Thallium oder einem anderen den Sperrwiderstand heraufsetzenden Zusatzstoff, z. B. Indium oder Silber, enthält. Es ist zwar bekannt, in der Deckelektrode einen solchen Zusatz zu verwenden. Die Verknüpfung dieser Maßnahme aber mit dem neuen Verfahren, d. h. mit der zweistufigen Ausbildung der ersten Wärmebehandlung in der oben angegebenen Weise, führt zu Gleichrichtern, die die nach den bisherigen Verfahren mit einem Thalliumzusatz o. dgl. hergestellten Gleichrichter übertreffen. Das bedeutet umgekehrt, daß man bei dem neuen Verfahren mit einem geringeren Thalliümzusatz auskommt, falls man nur Gleichrichter anstrebt, die hinsichtlich ihrer Gleichrichtereigenschaften mit den bisherigen Gleichrichtern übereinstimmen. An sich hat der Thalliumzusatz bei den bisherigen und bei dem neuen Verfahren die Wirkung, daß er zwar einerseits die Sperreigenschaften verbessert, anderseits den Widerstand in der Flußrichtung schon während der Herstellung vergrößert, und daß darüber hinaus bei größeren Thalliumzusätzen sich die Vergrößerung des Flußwiderstandes während des Betriebes der Gleichrichter fortsetzt. Diese letzte Eigenschaft, die allgemein mit Alterung bezeichnet wird, ist ein Nachteil, der um so mehr in Erscheinung tritt, je größer der Zusatz an Thallium o. dgl. gehalten ist. Beim neuen Verfahren kommt man hingegen, wie schon gesagt, zur Erzielung gleich guter Eigenschaften in der Sperrichtung mit einem geringeren Zusatz an Thallium o. dgl. aus, was bedeutet, daß die nach dem neuen Verfahren hergestellten Gleichrichter einen geringeren Widerstand in der Flußrichtung aufweisen und insbesondere sehr viel weniger altern. Andererseits kann man das neue Verfahren auch in der Weise durchführen, daß man den gleichen Zusatz an Thallium o. dgl. wie bisher verwendet und so einen gleich großen Flußwiderstand wie bei den bisherigen Gleichrichtern erhält. Jedoch führt alsdann das neue Verfahren zu einem wesentlich größeren Sperrwiderstand, als er bisher zu erreichen war.
- Die praktische Durchführung des neuen Verfahrens kann in einfacher Weise z. B. folgendermaßen erfolgen: Benutzt man einen Durchlaufofen mit Fließband, so werden für die Durchführung der Wärmebehandlung nach dem neuen Verfahren drei Teilöfen vorgesehen, deren Temperaturen unabhängig voneinander eingestellt werden können. Die Geschwindigkeit des Fließbandes und die Länge der Ofen werden so aufeinander abgestimmt, daß sich für die vorgesehenen Temperaturstufen die erforderlichen Durchlaufzeiten bzw. Behandlungszeiten ergeben. Hierfür können z. B. folgende Werte gewählt werden. Führt man die erste Stufe der ersten Wärmebehandlung bei einer Temperatur zwischen 70 und i3o° C durch, so kommt für diese Behandlung eine Zeitdauer von io bis 5o Minuten in Betracht. Für die zweite Stufe der ersten Wärmebehandlung wird eine Temperatur von etwa ioo bis 13o° C und eine Zeitdauer von etwa 30 bis 6o Minuten gewählt, während für die zweite Wärmebehandlung eine Temperatur von etwa 21o° C und eine Zeitdauer von 5 bis 30 Minuten empfehlenswert ist. Zwischen der ersten und zweiten Stufe der ersten Wärmebehandlung erfolgt, z. B. mit Hilfe einer Metallspritzvorrichtung, das Aufbringen der Deckelektrode. Hierbei brauchen die Gleichrichter nicht von dem Fließband genommen zu werden. Durch eine Beheizung des Gleichrichters kann während des Aufbringens der Deckelektrode zugleich die zweite Stufe der ersten Wärmebehandlung eingeleitet oder ganz oder teilweise durchgeführt werden.
Claims (1)
- PATENTANSPRÜCHE: i. Verfahren zur Herstellung von Selengleichrichtern, bei dem das auf die Grundelektrode aufgebrachte Selen einer zweifachen Wärmebehandlung bei verschiedenen Temperaturen, z. B. bei etwa i i o° C und bei einer Temperatur etwas unterhalb des Selenschmelzpunktes, unterworfen wird, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Wärmebehandlung in zwei Stufen zerlegt ist, deren erste vor dem Aufbringen und deren zweite nach dem Aufbringen der Deckelektrode erfolgt oder ganz oder teilweise mit dem Aufbringen der Deckelektrode zusammenfällt. z. Verfahren nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Stufe der ersten Wärmebehandlung bei einer Temperatur zwischen 70 und 13o° C und für eine Zeitdauer von io bis 5o Minuten und die zweite Stufe dieser Wärmebehandlung bei einer Temperatur zwischen ioo und 13o° C und für eine Zeitdauer von 3o bis 6o Minuten erfolgt. 3. Verfahren nach Anspruch i oder a, dadurch gekennzeichnet, daß für die Deckelektrode ein Metall (Metallegierung) verwendet wird, das eine Beimengung von Thallium oder einem sonstigen, die Sperreigenschaften erhöhenden Zusatzstoff enthält.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE812806T | 1949-07-31 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE812806C true DE812806C (de) | 1951-09-06 |
Family
ID=7384503
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1949812806D Expired DE812806C (de) | 1949-07-31 | 1949-07-31 | Verfahren zur Herstellung von Selengleichrichtern |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE812806C (de) |
NL (2) | NL84391C (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1079744B (de) * | 1953-02-10 | 1960-04-14 | Siemens Ag | Verfahren zur Herstellung von Selen-Trockengleichrichtern |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6632379B2 (en) * | 2001-06-07 | 2003-10-14 | National Institute For Materials Science | Oxynitride phosphor activated by a rare earth element, and sialon type phosphor |
-
0
- NL NL707015074A patent/NL155047B/xx unknown
- NL NL84391D patent/NL84391C/xx active
-
1949
- 1949-07-31 DE DE1949812806D patent/DE812806C/de not_active Expired
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1079744B (de) * | 1953-02-10 | 1960-04-14 | Siemens Ag | Verfahren zur Herstellung von Selen-Trockengleichrichtern |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL84391C (de) | 1900-01-01 |
NL155047B (nl) |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2754801A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur erzeugung eines - insbesondere blattartigen - materials aus nicht oxydierbarem stahl | |
DE812806C (de) | Verfahren zur Herstellung von Selengleichrichtern | |
DE971615C (de) | Verfahren zur Herstellung von Selen-Trockengleichrichtern | |
DE812805C (de) | Verfahren zur Herstellung von Selen-Trockengleichrichtern | |
DE1186950C2 (de) | Verfahren zum entfernen von unerwuenschten metallen aus einem einen pn-uebergang aufweisenden silicium-halbleiterkoerper | |
DE1614358C3 (de) | Verfahren zum Herstellen einer Ätzmaske für die Ätzbehandlung von Halbleiterkörpern | |
DE2040870B2 (de) | Kontinuierliches draht widerstandsgluehverfahren | |
Köster et al. | Über die ausgeprägte Streckgrenze von vielkristallinen Kupferlegierungen | |
DE1283636B (de) | Verfahren zur Herstellung einer Platindiffusionsschicht auf bzw. in Eisenoberflaechen | |
DE833228C (de) | Verfahren zur Herstellung eines Selengleichrichters | |
DE961733C (de) | Verfahren zum Herstellen elektrisch unsymmetrisch leitender Elemente mit einem Halbleiter wie Selen | |
DE970900C (de) | Verfahren zur Herstellung unipolarer Leiter mit Selen oder Selenverbindungen als Halbleiter | |
DE519162C (de) | Elektrisches Ventil mit zwischen Elektroden angeordneter fester Ventilschicht | |
DE1079744B (de) | Verfahren zur Herstellung von Selen-Trockengleichrichtern | |
DE900162C (de) | Phosphatierverfahren | |
DE826175C (de) | Verfahren zur Herstellung von Trockengleichrichtern, insbesondere Selengleichrichtern | |
DE910558C (de) | Verfahren zur Herstellung von Hochohm-Widerstaenden | |
DE544135C (de) | Verfahren zur thermischen Verguetung von Aluminiumlegierungen | |
DE1130931B (de) | Verfahren zur Herstellung eines Selengleichrichters | |
AT111961B (de) | Verfahren zum Niederschlagen von Hafnium und Zirkonium auf einem glühenden Körper. | |
DE2511132C2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines elektrischen Leiters | |
DE924121C (de) | Verfahren zur Herstellung galvanoplastischer Nachbildungen | |
DE476099C (de) | Niederschlagen von duktilem Hafnium und Zirkonium auf einen gluehenden Koerper | |
DEP0009741DA (de) | Verfahren zur Herstellung von Selen-Trockengleichrichtern | |
DE1229192B (de) | Verfahren zur Herstellung von Selengleichrichtern |