[go: up one dir, main page]

DE69714225T2 - Wärmeempfindliche Zusammensetzung zur Herstellung eines lithographischen Druckformvorläufers - Google Patents

Wärmeempfindliche Zusammensetzung zur Herstellung eines lithographischen Druckformvorläufers

Info

Publication number
DE69714225T2
DE69714225T2 DE69714225T DE69714225T DE69714225T2 DE 69714225 T2 DE69714225 T2 DE 69714225T2 DE 69714225 T DE69714225 T DE 69714225T DE 69714225 T DE69714225 T DE 69714225T DE 69714225 T2 DE69714225 T2 DE 69714225T2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
composition
compound
radiation
solubility
compounds
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE69714225T
Other languages
English (en)
Other versions
DE69714225D1 (de
Inventor
Richard David Hoare
Alan Stanley Victor Monk
Gareth Rhodri Parsons
David Stephen Riley
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kodak Graphics Holding Inc
Original Assignee
Kodak Graphics Holding Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=27268256&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=DE69714225(T2) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Priority claimed from GBGB9608394.4A external-priority patent/GB9608394D0/en
Priority claimed from GBGB9614693.1A external-priority patent/GB9614693D0/en
Priority claimed from PCT/GB1996/001973 external-priority patent/WO1997007986A2/en
Priority claimed from GBGB9700884.1A external-priority patent/GB9700884D0/en
Application filed by Kodak Graphics Holding Inc filed Critical Kodak Graphics Holding Inc
Application granted granted Critical
Publication of DE69714225D1 publication Critical patent/DE69714225D1/de
Publication of DE69714225T2 publication Critical patent/DE69714225T2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41MPRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/26Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
    • B41M5/36Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using a polymeric layer, which may be particulate and which is deformed or structurally changed with modification of its' properties, e.g. of its' optical hydrophobic-hydrophilic, solubility or permeability properties
    • B41M5/368Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using a polymeric layer, which may be particulate and which is deformed or structurally changed with modification of its' properties, e.g. of its' optical hydrophobic-hydrophilic, solubility or permeability properties involving the creation of a soluble/insoluble or hydrophilic/hydrophobic permeability pattern; Peel development
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00Forme preparation
    • B41C1/10Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00Forme preparation
    • B41C1/10Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • B41C1/1016Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials characterised by structural details, e.g. protective layers, backcoat layers or several imaging layers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/02Positive working, i.e. the exposed (imaged) areas are removed
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/06Developable by an alkaline solution
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/14Multiple imaging layers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/22Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. dyes, UV-absorbers, plasticisers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/24Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. acrylics, vinyl polymers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/26Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions not involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • B41C2210/262Phenolic condensation polymers, e.g. novolacs, resols
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/145Infrared
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/146Laser beam
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/165Thermal imaging composition

Landscapes

  • Optics & Photonics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
  • Liquid Developers In Electrophotography (AREA)
  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
  • Developing Agents For Electrophotography (AREA)
  • Heat Sensitive Colour Forming Recording (AREA)
  • Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)

Description

  • Diese Erfindung betrifft wärmeempfindliche Zusammensetzungen für Vorläufer von positiv arbeitenden Lithographie-Druckformen.
  • Das Fachgebiet des lithographischen Druckens basiert auf der Unmischbarkeit von Öl und Wasser, wobei die ölige Substanz oder Farbe vorzugsweise durch die Bildfläche zurückgehalten wird und das Wasser oder das Feuchtmittel vorzugsweise durch die Nichtbildfläche zurückgehalten wird. Wenn eine geeignet hergestellte Oberfläche mit Wasser befeuchtet und dann eine Farbe aufgetragen wird, hält der Hintergrund oder die Nichtbildfläche das Wasser zurück, während der Bildbereich die Farbe annimmt und das Wasser abstößt. Die Farbe auf dem Bildbereich wird dann auf die Oberfläche eines Materials übertragen, auf dem das Bild reproduziert werden soll, wie Papier, Stoff und dgl. Üblicherweise wird Farbe auf ein Zwischenmaterial übertragen, das das Drucktuch genannt wird, das wiederum die Farbe auf die Oberfläche des Materials überträgt, auf dem das Bild reproduziert wird.
  • Ein allgemein verwendeter Typ des Vorläufers einer Lithographie-Druckform weist eine lichtempfindliche Beschichtung, aufgetragen auf einen Aluminiumgrundträger auf. Vorläufer einer negativ arbeitenden Lithographie-Druckform weisen eine strahlungsempfindliche Beschichtung auf, die beim bildweisen Aussetzen an Licht in den belichteten Bereichen härtet. Bei der Entwicklung werden die nicht belichteten Bereiche der beschichteten Zusammensetzung entfernt, wobei das Bild verbleibt. Andererseits weisen die Vorläufer einer positiv arbeitenden Lithographie-Druckform eine beschichtete Zusammensetzung auf, die nach bildweisem Aussetzen an Licht einer geeigneten Wellenlänge in den belichteten Bereichen in einem Entwickler löslicher werden als in den nicht belichteten Bereichen. Diese durch Licht bewirkte Löslichkeitsdifferenz wird Photolöslichmachen genannt. Eine große Zahl der im Handel erhältlichen Vorläufer einer positiv arbeitenden Druckform, die mit Chinondiaziden zusammen mit einem Phenolharz beschichtet sind, arbeiten mit Photolöslichmachen, um ein Bild herzustellen. In beiden Fällen ist die Bildfläche auf der Druckform selbst farbannehmend oder oleophil und die Nichtbildfläche oder der Hintergrund wasserannehmend oder hydrophil.
  • Die Unterscheidung zwischen Bild- und Nichtbildbereichen wird beim Belichtungsverfahren getroffen, bei dem ein Film auf den Druckformvorläufer mit einem Vakuum gelegt wird, um guten Kontakt sicherzustellen. Der Druckformvorläufer wird dann einer Lichtquelle ausgesetzt, von der ein Teil aus UV-Strahlung besteht. Zum Beispiel, wenn ein Vorläufer einer positiv arbeitenden Druckform verwendet wird, ist der Bereich des Films, der dem Bild auf dem Druckformvorläufer entspricht, trüb, so dass kein Licht den Druckformvorläufer trifft, während der Bereich auf dem Film, der dem Nichtbildbereich entspricht, klar ist und den Durchgang von Licht zur Beschichtung ermöglicht, die dann löslicher wird und entfernt wird.
  • Neuere Entwicklungen auf dem Fachgebiet von Vorläufern einer Lithographie- Druckform stellten strahlungsempfindliche Zusammensetzungen bereit, die zur Herstellung von direkt mit Laser ansprechbaren Druckformvorläufern geeignet sind. Die digitale bilderzeugende Information kann zum Versehen des Druckformvorläufers mit einem Bild verwendet werden, ohne dass die Verwendung eines Bildmasters, wie eines photographischen Durchsichtsbildes, erforderlich ist.
  • Ein Beispiel eines positiv arbeitenden direkt mit Laser ansprechbaren Druckformvorläufer ist in US 4,708,925, herausgegeben am 24. November 1987, beschrieben. Dieses Patent beschreibt einen Vorläufer einer Lithographie-Druckform, in der die bild erzeugende Schicht ein Phenolharz und ein strahlungsempfindliches Oniumsalz umfaßt. Wie in dem Patent beschrieben bewirkt die Wechselwirkung des Phenolharzes und des Oniumsalzes eine alkaliunlösliche Zusammensetzung, deren Alkalilöslichkeit durch photolytische Zersetzung des Oniumsalzes wiederhergestellt wird. Der Druckformvorläufer kann als Vorläufer einer positiv arbeitenden Druckform oder als Vorläufer einer negativ arbeitenden Druckform unter Verwendung zusätzlicher Verfahrensschritte zwischen Belichtung und Entwicklung, wie im einzelnen im britischen Patent Nr. 2,082,339 dargestellt, verwendet werden. Die in US 4,708,925 beschriebenen Druckformvorläufer sind an sich empfindlich gegen UV-Strahlung und können zusätzlich gegenüber sichtbarer und Infrarotstrahlung sensibilisiert werden.
  • Ein weiteres Beispiel eines durch Laser ansprechbaren Druckformvorläufers, der als direkt positiv arbeitendes System verwendet werden kann, ist in US 5,372,907, herausgegeben am 13. Dezember 1994 und US 5,491,046, herausgegeben am 13. Februar 1996, beschrieben. Diese zwei Patente beschreiben eine durch Strahlung bewirkte Zersetzung einer latenten Brönsted-Säure zur Erhöhung der Löslichkeit der Harzmatrix bei bildweiser Belichtung. Wie bei dem in US 4,708,925 beschriebenen Druckformvorläufer können diese Systeme zusätzlich als negativ arbeitendes System mit zusätzlichen Verfahrensschritten nach Abbildung und Vorentwicklung verwendet werden. Bei dem negativ arbeitenden Verfahren werden die Zersetzungsnebenprodukte anschließend zur Katalyse einer Vernetzungsreaktion zwischen Harzen zum Unlöslichmachen der abgebildeten Bereiche vor der Entwicklung verwendet. Wie in US 4,708,925 sind diese Druckformvorläufer an sich empfindlich gegen UV-Strahlung durch die verwendeten säureerzeugenden Materialien.
  • Den vorstehend beschriebenen Druckformvorläufern des Stands der Technik, die als Vorläufer einer direkt bebilderten positiv arbeitenden Druckform verwendet werden können, fehlen ein oder mehrere erwünschte Merkmale. Keiner der beschriebenen Druckformvorläufer kann in umfassendem Maße gehandhabt werden, ohne dass die Beleuchtungsbedingungen im Arbeitsbereich in Betracht gezogen werden. Um die Druckformvorläufer für unbeschränkte Zeiträume zu handhaben, sind spezielle DunkeIkammerbeleuchtungsbedingungen erforderlich, die unerwünschtes Aussetzen an UV-Strahlung verhindern. Die Druckformvorläufer können nur für beschränkte Zeiträume unter Weißlichtarbeitsbedingungen, abhängig vom Leistungsspektrum der Weißlichtquelle, verwendet werden. Es wäre erwünscht, digitale Abbildungshardware und Druckformvorläufer in der unbeschränkten Weißlicht-Druckraumumgebung zu verwenden, um den Arbeitsablauf zu rationalisieren, und UV-Empfindlichkeit wäre in diesen Bereichen ein Nachteil. Zusätzlich würde eine Weißlichthandhabung eine verbesserte Arbeitsumgebung in den herkömmlichen Vordruckbereichen bereitstellen, die gegenwärtig einschränkenden Dunkelkammerbeleuchtungsbedingungen unterliegen.
  • Außerdem weisen beide Druckformvorläufersysteme Beschränkungen bezüglich ihrer Bestandteile auf, die zu Schwierigkeiten bei der Optimierung der Platteneigenschaften zur Bereitstellung optimaler Eigenschaften über einen weiten Bereich der erforderlichen Parameter lithographischer Druckplatteneigenschaften, einschließlich Entwicklerlöslichkeit, Tintenaufnahmefähigkeit, Lauflänge, Haftung, führen.
  • In den in US 4,708,925 beschriebenen Systemen kann das Vorhandensein von funktionellen Gruppen, die das Phenolharz in Gegenwart der Oniumsalze nach Bestrahlung vernetzen, nicht ermöglicht werden, weder als Modifikation des alkalilöslichen Salzes noch als zusätzliche Bestandteile in den Zusammensetzungen, da das zu vermindertem Löslichmachen bei Belichtung führen würde.
  • Ein entscheidendes Erfordernis der in US 5,491,046 beschriebenen Zusammensetzungen ist das Vorhandensein sowohl eines Resolharzes als auch eines Novolakharzes, um die Verwendung des Systems in einem negativ arbeitenden Modus zu ermöglichen. Das ist der bevorzugte Modus für dieses System, wie durch die negativ arbeitenden Patentbeispiele und das erste kommerzialisierte Produkt, das von dem geschützten Verfahren abgeleitet ist, Kodak's Performer Produkt, gezeigt wird. Diese Optimierung für negativ arbeitendes Potential beschränkt die Optimierung für den positiv arbeitenden Modus, der diese Anforderung nicht aufweist.
  • Ein weiter Bereich von durch Wärme löslich gemachten Zusammensetzungen, die als thermographische Aufzeichnungsmaterialien geeignet sind, wurde früher in GB 1245924, herausgegeben am 15. September 1971, offenbart, wobei die Löslichkeit eines beliebigen Bereichs der bebilderbaren Schicht in einem gegebenen Lösungsmittel durch Erhitzen der Schicht durch indirektes Aussetzen an sichtbares Licht mit hoher Intensität und/oder Infrarotstrahlung für kurze Dauer erhöht werden kann, die durchgelassen oder von den Hintergrundbereichen eines graphischen Originals reflektiert werden, das sich in Kontakt mit dem Aufzeichnungsmaterial befindet. Die beschriebenen Systeme variieren und funktionieren durch viele verschiedene Mechanismen und verwenden unterschiedliche Entwicklungsmaterialien, die von Wasser bis zu chlorierten organischen Lösungsmitteln reichen. Eingeschlossen in den Bereich der offenbarten Zusammensetzungen, die wässrig entwickelbar sind, sind jene, die ein Phenolharz des Novolaktyps umfassen. Das Patent läßt erwarten, dass beschichtete Filme, die solche Harze umfassen, erhöhte Löslichkeit bei Erhitzen zeigen. Die Zusammensetzungen können wärmeabsorbierende Verbindungen, wie Ruß oder Milori-Blau (CI Pigment Blue 27), enthalten. Diese Materialien färben zusätzlich die Bilder für ihre Verwendung als Aufzeichnungsmedium.
  • Der Grad der Löslichkeitsdifferenz in den in GB 1245924 beschriebenen Zusammensetzungen ist jedoch sehr gering, verglichen mit der von im Handel erhältlichen Vorläuferzusammensetzungen von positiv arbeitenden Lithographie-Druckformen. Standardvorläufer von Lithographie-Druckformen sind in der Lage, ausgezeichnete Toleranz gegenüber starken Entwicklerlösungen, gute Robustheit gegenüber Abweichungen bei der Verwendung durch den Kunden zu zeigen und können optimiert werden, um lange Entwicklerlösungsverwendung und eine hohe Zahl an gedruckten Abdrücken bereitzustellen. Der sehr schlechte Entwicklerspielraum, der durch die Zusammensetzungen von GB 1245924 gezeigt wird, macht sie für kommerziell akzeptable Vorläufer von Lithographie-Druckformen nicht annehmbar.
  • Wir haben eine wärmeempfindliche Zusammensetzung gefunden, die zur Verwendung bei einem wärmeempimdlichen positiv arbeitenden Druckformvorläufer für Wärmemodus-Bebilderung geeignet ist, die nicht die Nachteile der Zusammensetzungen des Stands der Technik, wie vorstehend beschrieben, zeigt.
  • Die Zusammensetzung der vorliegenden Erfindung ist insofern wärmeempfindlich, als lokalisiertes Erwärmen der Zusammensetzung, vorzugsweise durch geeignete Strahlung, eine Erhöhung der Löslichkeit der belichteten Bereiche in dem wässrigen Entwickler bewirkt.
  • Daher wird gemäß der vorliegenden Erfindung eine oleophile wärmeempfindliche Zusammensetzung bereitgestellt, die eine in wässrigem alkalischen Entwickler lösliche polymere Substanz, nachstehend das "aktive Polymer" genannt, und eine Verbindung, welche die Löslichkeit der polymeren Substanz in wässrigem alkalischen Entwickler verringert, nachstehend die "Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen" genannt, umfaßt, dadurch gekennzeichnet, dass die Löslichkeit der Zusammensetzung in wässrigem alkalischen Entwickler bei Erwärmen erhöht und die Löslichkeit der Zusammensetzung in wässrigem alkalischen Entwickler durch einfallende UV-Strahlung nicht erhöht wird.
  • Die Zusammensetzung kann als Beschichtung auf einem Träger mit hydrophiler Oberfläche verwendet werden, wodurch ein Vorläufer einer Lithographie-Druckform gebildet wird.
  • Um die Empfindlichkeit bei den erfindungsgemäßen wärmeempfindlichen Zusammensetzungen zu erhöhen, ist es von Vorteil, einen zusätzlichen Bestandteil, genauer eine strahlungsabsorbierende Verbindung, einzuschließen, die einfallende Strahlung absorbieren und in Wärme umwandeln kann, nachstehend eine "strahlungsabsorbierende Verbindung" genannt.
  • In der Beschreibung bedeutet, wenn angegeben wird, dass die Löslichkeit der Zusammensetzung in wässrigem alkalischen Entwickler bei Erwärmen erhöht wird, dass sie wesentlich, d. h. um eine Menge, die in einem lithographischen Druckverfahren geeignet ist, erhöht wird. Die Angabe, dass die Löslichkeit der Zusammensetzung in wässrigem alkalischen Entwickler durch einfallende UV-Strahlung nicht erhöht wird, bedeutet, dass sie nicht wesentlich erhöht wird, das heißt, um eine Menge, die bedeuten würde, dass "UV-sichere" Beleuchtungsbedingungen zu verwenden sein würden. Daher ist eine unwesentliche Erhöhung der Löslichkeit durch UV-Strahlung im Rahmen der vorliegenden Erfindung akzeptabel.
  • Der Vorläufer einer Lithographie-Druckform ist vorzugsweise ein Vorläufer für eine lithographische Druckplatte und wird nachstehend als solcher bezeichnet.
  • Somit kann eine Zusammensetzung der Erfindung in bevorzugten Ausführungsformen nach Wärmemodusabbilden und Entwickeln eine positiv arbeitende Lithographie- Druckplatte liefern. Die Löslichkeit in wässrigem alkalischen Entwickler der beschichteten Zusammensetzung wird in Bezug auf die Löslichkeit des aktiven Polymers allein in starkem Maße verringert. Bei anschließendem Aussetzen an geeignete Strahlung werden die erhitzten Bereiche der Zusammensetzung in dem wässrigen alkalischen Entwickler löslicher gemacht. Daher besteht bei bildweiser Belichtung eine Änderung in der Löslichkeitsdifferenz der unbelichteten Zusammensetzung und der belichteten Zusammensetzung. So wird in den belichteten Bereichen die Zusammensetzung gelöst, wobei die darunterliegende hydrophile Oberfläche der Platte freigelegt wird.
  • Die beschichteten Platten, die die Zusammensetzungen der Erfindung verwenden, können indirekt durch Aussetzen für kurze Dauer an Strahlung hoher Intensität, die durchgelassen oder von den Hintergrundbereichen eines graphischen Originals reflektiert wird, das sich in Kontakt mit dem Aufzeichnungsmaterial befindet, mit Wärme beblildert werden. Alternativ können Platten unter Verwendung eines erwärmten Körpers bildweise erwärmt werden. Zum Beispiel können die Platten, entweder die Rückseite oder vorzugsweise die wärmeempfindliche Zusammensetzung, mit einem Wärmeschreiber in Kontakt gebracht werden. Alternativ können Platten direkt mit einem Laser belichtet werden, um die Beschichtung bildweise zu erwärmen. Am stärksten bevorzugt emittiert der Laser Strahlung von etwa 600 nm.
  • Während die Anmelder sich nicht auf irgendeine theoretische Erklärung, wie ihre Erfindung abläuft, beschränken wollen, wird angenommen, dass ein thermisch spaltbarer Komplex zwischen dem aktiven Polymer und der Verbindung zu reversiblem Unlöslichmachen gebildet wird. Von diesem Komplex wird angenommen, dass er reversibel gebildet und durch Anwenden von Wärme auf den Komplex gespalten werden kann, wobei die Löslichkeit der Zusammensetzung in wässrigem alkalischen Entwickler wiederhergestellt wird. Es wird angenommen, dass polymere Substanzen, die zur Verwendung bei der gegenwärtigen Erfindung geeignet sind, elektronenreiche funktionelle Gruppen im nicht komplexierten Zustand umfassen und dass geeignete Verbindungen, die die Löslichkeit der polymeren Substanz in wässrigem Entwickler verringern, elektronenarm sind. Es wird nicht angenommen, dass eine Zersetzung von Bestandteilen innerhalb der Zusammensetzung erforderlich ist oder dass irgendeine wesentliche Zersetzung in irgendeinem der bis heute untersuchten Beispiele auftrat.
  • Beispiele der funktionellen Gruppen der zur Anwendung in dieser Erfindung geeigneten aktiven Polymere schließen funktionelle Hydroxyl-, Carbonsäure-, Amino-, Amid- und Maleinimidgruppen ein. Ein weiter Bereich von polymeren Substanzen ist zur Verwendung bei der vorliegenden Erfindung geeignet, von denen Beispiele Phenolharze; Copolymere von 4-Hydroxystyrol mit zum Beispiel 3-Methyl-4-hydroxystyrol oder 4- Methoxystyrol; Copolymere von (Meth)acrylsäure, zum Beispiel mit Styrol; Copolymere von Maleinimid, zum Beispiel mit Styrol; hydroxy- oder carboxyfunktionalisierte Cellulosen, Copolymere von Maleinsäureanhydrid, zum Beispiel mit Styrol; teilweise hydrolysierte Polymere von Maleinsäureanhydrid einschließen.
  • Am stärksten bevorzugt ist das aktive Polymer ein Phenolharz. In dieser Erfindung besonders geeignete Phenolharze sind die Kondensationsprodukte aus der Wechselwirkung zwischen Phenol, C-alkyl-substituierten Phenolen (wie Cresolen und p-tert-Butylphenol), Diphenolen (wie Bisphenol-A) und Aldehyden (wie Formaldehyd). Abhängig vom Herstellungsweg für die Kondensation kann ein Bereich von phenolischen Substanzen mit unterschiedlichen Strukturen und Eigenschaften gebildet werden. Insbesondere bei dieser Erfindung geeignet sind Novolakharze, Resolharze und Novolak/Resol-Harzgemische. Beispiele geeigneter Novolakharze weisen die folgende allgemeine Struktur auf.
  • Eine große Zahl von Verbindungen, die die Löslichkeit von geeigneten polymeren Substanzen in wässrigen alkalischen Medien verringern, wurden zur Verwendung als Verbindungen zum reversiblen Unlöslichmachen ermittelt.
  • Eine geeignete Gruppe von Verbindungen zum reversiblen Unlöslichmachen sind stickstoffhaltige Verbindungen, in denen mindestens ein Stickstoffatom entweder quaternisiert, in einen Heterocyclenring eingebunden oder quaternisiert und in einen Heterocyclenring eingebunden ist.
  • Beispiele geeigneter quaternisierter stickstoffhaltiger Verbindungen sind Triarylmethanfarbstoffe, wie Crystal Violet (CI basisches Violett 3) und Ethyl Violet und Tetraalkylammoniumverbindungen, wie Cetrimide.
  • Stärker bevorzugt ist die Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen einer stickstoffhaltigen heterocyclischen Verbindung.
  • Beispiele geeigneter stickstoffhaltiger heterocyclischer Verbindungen sind Chinolin und Triazole, wie 1,2,4-Triazol.
  • Am stärksten bevorzugt ist die Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen eine quaternisierte heterocyclische Verbindung.
  • Beispiele geeigneter quaternisierter heterocyclischer Verbindungen sind Imidazolinverbindungen, wie Monazoline C, Monazoline O, Monazoline CY und Monazoline T, die alle von Mona Industries hergestellt werden, Chinoliniumverbindungen, wie 1-Ethyl- 2-methylchinoliniumiodid und 1-Ethyl-4-methylchinoliniumiodid, und Benzthiazoliumverbindungen, wie 3-Ethyl-2-methylbenzothiazoliumiodid, und Pyridiniumverbindungen, wie Cetylpyridiniumbromid, Ethylviologendibromid und Fluorpyridiniumtetrafluorborat.
  • Geeigneterweise sind die Chinolinium- oder Benzothiazoliumverbindungen kationische Cyaninfarbstoffe, wie Farbstoff A, Quinoldine Blue und 3-Ethyl-2-[3-(3- ethyl-2(3H)-benzthiazoyliden)-2-methyl-1-propenyl]benzothiazoliumiodid. Farbstoff A
  • Eine weitere geeignete Gruppe von Verbindungen zum reversiblen Unlöslichmachen sind Verbindungen, die eine carbonylfunktionelle Gruppe enthalten.
  • Beispiele geeigneter Carbonyl enthaltender Verbindungen sind α-Naphthoflavon, β-Naphthoflavon, 2,3-Diphenyl-1-indenon, Flavon, Flavanon, Xanthon, Benzophenon, N- (4-Brombutyl)phthalimid und Phenanthrenchinon.
  • Die Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen kann eine Verbindung der allgemeinen Formel
  • Q&sub1;-S(O)n-Q&sub2;
  • sein, in der Q&sub1; eine gegebenenfalls substituierte Phenylgruppe oder einen Alkylrest darstellt, n für 0, 1 oder 2 steht und Q&sub2; ein Halogenatom oder einen Alkoxyrest darstellt. Vorzugsweise stellt Q&sub1; einen C&sub1;&submin;&sub4;-Alkylphenylrest, zum Beispiel eine Tolylgruppe, oder einen C&sub1;&submin;&sub4;-Alkylrest dar. Vorzugsweise steht n für 1 oder insbesondere 2. Vorzugsweise stellt Q&sub2; ein Chloratom oder einen C&sub1;&submin;&sub4;-Alkoxyrest, insbesondere eine Ethoxygruppe, dar.
  • Eine andere geeignete Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen ist Acridine Orange Base (CI Solvent Orange 15).
  • Andere geeignete Verbindungen zum reversiblen Unlöslichmachen sind Ferroceniumverbindungen, wie Ferroceniumhexafluorphosphat.
  • Zusätzlich zu dem aktiven Polymer, das mit der Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen auf die hier definierte Weise wechselwirkt, kann die Zusammensetzung eine polymere Substanz enthalten, die nicht so wechselwirkt. In einer solchen Zusammensetzung mit einem Gemisch von polymeren Substanzen sollte festgestellt werden, dass das aktive Polymer in einer geringeren Menge, auf das Gewicht bezogen, als die zusätzliche(n) polymere(n) Substanz(en) vorhanden sein kann. Geeigneterweise ist das aktive Polymer in einer Menge von mindestens 10%, vorzugsweise mindestens 25%, stärker bevorzugt mindestens 50% vorhanden, bezogen auf das Gesamtgewicht der Polymersubstanzen, die in der Zusammensetzung vorhanden sind. Am stärksten bevorzugt ist jedoch das aktive Polymer unter Ausschluß irgendeiner polymeren Substanz, die nicht so wechselwirkt, vorhanden.
  • Der Hauptteil der Zusammensetzung wird vorzugsweise durch (eine) polymere Substanz(en), einschließlich des aktiven Polymers und, falls vorhanden, einer zusätzlichen polymeren Substanz, die nicht so wechselwirkt, gebildet. Vorzugsweise wird ein kleinerer Anteil der Zusammensetzung durch die Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen gebildet.
  • Ein Hauptanteil, wie hier definiert, beträgt geeigneterweise mindestens 50%, vorzugsweise mindestens 65%, am stärksten bevorzugt mindestens 80%, des Gesamtgewichts der Zusammensetzung.
  • Ein kleinerer Anteil, wie hier definiert, beträgt geeigneterweise weniger als 50%, vorzugsweise bis zu 20%, am stärksten bevorzugt bis zu 15%, des Gesamtgewichts der Zusammensetzung.
  • Geeigneterweise bildet die Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen mindestens 1%, vorzugsweise mindestens 2%, vorzugsweise bis zu 25%, stärker bevorzugt bis zu 15% des Gesamtgewichts der Zusammensetzung.
  • So kann ein bevorzugter Gewichtsbereich für die Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen als 2-15% des Gesamtgewichts der Zusammensetzung ausgedrückt werden.
  • Es kann mehr als eine polymere Substanz vorhanden sein, die mit der Verbindung wechselwirkt. Der hier gemachte Verweis auf den Anteil (einer) solchen Substanz(en) betrifft ihren Gesamtgehalt. Ebenso kann mehr als eine polymere Substanz vorhanden sein, die nicht so wechselwirkt. Der hier gemachte Verweis auf den Anteil (einer) solchen Substanz(en) betrifft ihren Gesamtgehalt. Ebenso kann mehr als eine Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen vorhanden sein. Der hier gemachte Verweis auf den Anteil (einer) solchen Verbindung(en) betrifft ihren Gesamtgehalt.
  • Die wässrige Entwicklerzusammensetzung ist abhängig von der Natur der polymeren Substanz. Gewöhnliche Bestandteile wässriger lithographischer Entwickler sind grenzflächenaktive Mittel, Komplexbildner, wie Salze von Ethylendiamintetraessigsäure, organische Lösungsmittel, wie Benzylalkohol. Die alkalischen Bestandteile können anorganische Metasilicate, organische Metasilicate, Hydroxide oder Hydrogencarbonate beinhalten.
  • Vorzugsweise ist der wässrige Entwickler ein alkalischer Entwickler, der anorganische oder organische Metasilicate enthält, wenn die polymere Substanz ein Phenolharz ist.
  • Sechs einfache Tests, Tests 1 bis 6, können durchgeführt werden, um zu bestimmen, ob die Zusammensetzung, die das aktive Polymer und die Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen enthält und ein geeigneter wässriger Entwickler im Einklang mit der vorliegenden Erfindung ist, zur Verwendung als Beschichtung eines Vorläufers einer Lithographie-Druckform geeignet ist.
  • Test 1 Die das aktive Polymer in Abwesenheit der Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen umfassende Zusammensetzung wird auf einen hydrophilen Träger aufgetragen und getrocknet. Dann wird die Oberfläche eingefärbt. Wenn eine gleichmäßig gefärbte Beschichtung erhalten wird, dann ist die Zusammensetzung oleophil, wenn sie als Schicht abgelegt wird.
  • Test 2 Der mit der Zusammensetzung, die das aktive Polymer in Abwesenheit der Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen umfaßt, beschichtete hydrophile Träger wird in einem geeigneten wässrigen alkalischen Entwickler für geeignete Zeit, die durch Versuch und Irrtum bestimmt werden kann, aber typischerweise zwischen 30 und 60 Sekunden beträgt, bei Raumtemperatur entwickelt und dann gespült, getrocknet und eingefärbt. Wenn keine Tintenoberfläche erhalten wird, dann hat sich die Zusammensetzung im Entwickler gelöst.
  • Test 3 Die Zusammensetzung, die das aktive Polymer und die Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen umfaßt, wird auf einen hydrophilen Träger aufgetragen, getrocknet und eingefärbt. Wenn eine gleichmäßig gefärbte Beschichtung erhalten wird, dann ist die Zusammensetzung oleophil, wenn sie als Schicht abgelegt wird.
  • Test 4 Der mit der Zusammensetzung, die das aktive Polymer und die Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen umfaßt, beschichtete hydrophile Träger wird in einem geeigneten wässrigen alkalischen Entwickler für geeignete Zeit, die durch Versuch und Irrtum bestimmt werden kann, aber typischerweise zwischen 30 und 60 Sekunden beträgt, bei Raumtemperatur entwickelt und dann gespült, getrocknet und eingefärbt. Wenn eine gleichmäßig gefärbte Beschichtung erhalten wird, dann löst sich die Zusammensetzung nicht wesentlich in der Entwicklerlösung.
  • Test 5 Der mit der Zusammensetzung, die das aktive Polymer und die Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen umfaßt, beschichtete hydrophile Träger wird in einem Ofen so erhitzt, dass die Zusammensetzung eine geeignete Temperatur für angemessene Zeit erreicht. Dann wird sie in einem geeigneten wässrigen alkalischen Entwickler für einen vernünftigen Zeitraum bei Raumtemperatur entwickelt.
  • Die Oberfläche wird dann getrocknet und eingefärbt. Wenn keine Tintenoberfläche erhalten wird, dann hat sich die erhitzte Zusammensetzung im Entwickler gelöst.
  • Die Temperatur und die Zeit hängen von den für die Zusammensetzung gewählten Bestandteilen und von ihren Anteilen ab. Einfache Versuch-und- Irrtum-Experimente können durchgeführt werden, um geeignete Bedingungen zu bestimmen. Wenn solche Experimente keine Bedingungen ergeben können, die ermöglichen, dass der Test bestanden wird, muß der Schluß der sein, dass die Zusammensetzung diesen Test nicht besteht. Vorzugsweise wird für typische Zusammensetzungen die Zusammensetzung, die das aktive Polymer und die Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen umfaßt, in einem Ofen so erhitzt, dass die Zusammensetzung eine Temperatur von 50ºC bis 160ºC für 5 bis 20 Sekunden erreicht. Dann wird sie in einem geeigneten wässrigen alkalischen Entwickler für eine geeignete Zeit, die durch Versuch und Irrtum bestimmt werden kann, aber typischerweise 30 bis 120 Sekunden beträgt, bei Raumtemperatur entwickelt.
  • Am stärksten bevorzugt wird die das aktive Polymer und die Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen umfassende Zusammensetzung in einem Ofen so erhitzt, dass die Zusammensetzung eine Temperatur von 50ºC bis 120ºC für 10 bis 15 Sekunden erreicht. Dann wird sie in einem geeigneten wässrigen Entwickler für 30 bis 90 Sekunden bei Raumtemperatur entwickelt.
  • Test 6 Der mit der Zusammensetzung, die das aktive Polymer und die Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen umfaßt, beschichtete hydrophile Träger wird für einen geeigneten Zeitraum, der durch Versuch und Irrtum bestimmt werden kann, typischerweise aber 30 Sekunden beträgt, UV-Licht ausgesetzt. Dann wird sie in einem geeigneten wässrigen alkalischen Entwickler für geeignete Zeit, die durch Versuch und Irrtum bestimmt werden kann, aber typischerweise 30 bis 60 Sekunden beträgt, bei Raumtemperatur entwickelt. Die Oberfläche wird dann getrocknet und eingefärbt. Wenn die Beschichtung eingefärbt wird, trat kein durch UV- Strahlung bedingtes Löslichmachen der Zusammensetzung auf, und so zeigt Zusammensetzung eine geeignete Beständigkeit gegenüber normalen Arbeitsbeleuchtungsbedingungen.
  • Wenn die Zusammensetzung alle sechs Tests bestehen kann, dann entspricht sie der vorliegenden Erfindung und ist zur Verwendung als Beschichtung eines Vorläufers einer Lithographie-Druckform geeignet.
  • Eine große Zahl von Verbindungen oder Kombinationen davon können als strahlungsabsorbierende Verbindungen in bevorzugten Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung verwendet werden.
  • In bevorzugten Ausführungsformen absorbiert die strahlungsabsorbierende Verbindung Infrarotstrahlung. Jedoch können andere Materialien, die Strahlung mit anderer Wellenlänge (ausschließlich UV-Wellenlängen) absorbieren, z. B. Strahlung mit 488 nm aus einer Ar-Ion-Laserquelle, verwendet werden, wobei die Strahlung in Wärme umgewandelt wird.
  • Die strahlungsabsorbierende Verbindung ist geeigneterweise Kohlenstoff, wie Ruß oder Graphit. Sie kann ein im Handel erhältliches Pigment, wie Heliogen Green, erhältlich von BASF, oder Nigrosine Base NG1, erhältlich von NH Laboratories Inc., oder Milori Blue (C. I. Pigment Blue 27), erhältlich von Aldrich, sein.
  • Im Einsatz wird eine mit einer Zusammensetzung der Erfindung beschichtete Platte vorzugsweise bildweise direkt mit einem Laser belichtet. Am stärksten bevorzugt emittiert der Laser Strahlung von über 600 nm, und die strahlungsabsorbierende Verbindung ist geeigneterweise ein infrarot-absorbierender Farbstoff.
  • Vorzugsweise ist die infrarot-absorbierende Verbindung eine, deren Absorptionsspektrum signifikant bei der Wellenlängenleistung des bei dem Verfahren der vorliegenden Erfindung zu verwendenden Lasers liegt. Geeigneterweise kann sie ein organisches Pigment oder Farbstoff, wie Phthalocyaninpigment, sein. Oder sie kann ein Farbstoff oder Pigment der Squarylium-, Merocyanin-, Cyanin-, Indolizin-, Pyrylium- oder Metall- Dithiolin-Klasse sein.
  • Beispiele solcher Verbindungen sind:
  • und Farbstoff B
  • und Farbstoff C, KF654 B PINA, erhältlich von Riedel de Haan UK, Middlesex, England, von dem angenommen wird, dass er die Struktur aufweist:
  • Geeigneterweise bildet die strahlungsabsorbierende Verbindung mindestens 1%, vorzugsweise mindestens 2%, vorzugsweise bis zu 25%, stärker bevorzugt bis zu 15%, des Gesamtgewichts der Zusammensetzung. So kann ein bevorzugter Gewichtsbereich für die strahlungsabsorbierende Verbindung als 2-15% des Gesamtgewichts der Zusammensetzung ausgedrückt werden. Ähnlich kann mehr als eine strahlungsabsorbierende Verbindung vorhanden sein. Die Bezugnahmen hier auf den Anteil (einer) solchen Verbindung(en) betreffen ihren Gesamtgehalt.
  • In einer bevorzugten Ausführungsform kann eine zusätzliche Schicht, die eine strahlungsabsorbierende Verbindung umfaßt, verwendet werden. Dieser Mehrschichtaufbau kann Wege zu hoher Empfindlichkeit bereitstellen, da größere Mengen an Absorptionsmittel verwendet werden können, ohne dass die Funktion der bildgebenden Schicht beeinträchtigt wird. Prinzipiell kann jedes strahlungsabsorbierende Material, das ausreichend stark im gewünschten Wellenlängenbereich absorbiert, eingeschlossen oder zu einer gleichmäßigen Beschichtung verarbeitet werden. Farbstoffe, Metalle und Pigmente (einschließlich Metalloxiden) können in Form von aufgedampften Schichten verwendet werden, wobei die Verfahren zur Erzeugung und Verwendung solcher Filme auf dem Fachgebiet allgemein bekannt sind, zum Beispiel EP 0 652 483. Die bevorzugten Bestandteile sind die, die als gleichmäßige Beschichtung hydrophil sind oder behandelt werden können, um eine hydrophile Oberfläche bereitzustellen, zum Beispiel unter Verwendung einer hydrophilen Schicht.
  • Verbindungen, die die Löslichkeit der polymeren Substanz in dem wässrigen Entwickler vermindern und auch strahlungsabsorbierende Verbindungen sind, die für eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung geeignet sind, sind vorzugsweise Cyaninfarbstoffe und am stärksten bevorzugt Chinoliniumcyaninfarbstoffe, die bei über 600 nm absorbieren.
  • Beispiele solcher Verbindungen sind: 2-[3-Chlor-5-(1-ethyl-2(1H)-chinolinyliden)-1,3-pentadienyl]-1-ethylchinoliniumbromid 1-Ethyl-2-[5-(1-ethyl-2(1H)-chinolinyliden)-1,3-pentadienyl]chinoliniumiodid 4-[3-Chlor-5-(1-ethyl-4(1H)-chinolinyliden)-1,3-pentadienyl]ethylchinoliniumiodid Farbstoff D, 1-Ethyl-4-[5-(1-ethyl-4(1H)-chinolinyliden)-1,3-pentadienyl]chinoliniumiodid
  • Geeigneterweise bildet die Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen, die auch eine strahlungsabsorbierende Verbindung ist, mindestens 1%, vorzugsweise mindestens 2%, vorzugsweise bis zu 25%, stärker bevorzugt bis zu 15%, des Gesamtgewichts der Zusammensetzung. So kann ein bevorzugter Gewichtsbereich für die Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen, die auch eine strahlungsabsorbierende Verbindung ist, als 2-15% des Gesamtgewichts der Zusammensetzung ausgedrückt werden.
  • Der Grundstoff, der als Träger für eine Zusammensetzung der Erfindung verwendet werden kann, ist vorzugsweise eine Aluminiumplatte, die den üblichen anodischen, Aufrauhungs- und nachanodischen Behandlungen, die auf dem lithographischen Fachgebiet allgemein bekannt sind, unterzogen wurde, um das Aufbringen einer strahlungsempfindlichen Zusammensetzung darauf zu ermöglichen und zu ermöglichen, dass die Oberfläche des Trägers als Druckhintergrund dient.
  • Ein anderer Grundstoff, der verwendet werden kann, ist ein Kunststoffgrundmaterial oder ein behandeltes Papiergrundmaterial, wie in der photographischen Industrie verwendet. Ein besonders geeignetes Kunststoffgrundmaterial ist Polyethylenterephthalat, das behandelt wurde, um seine Oberfläche hydrophil zu machen. Ebenfalls kann ein sogenanntes harzbeschichtetes Papier, das durch Coronaentladung behandelt wurde, verwendet werden.
  • Beispiele von Lasern, die verwendet werden können, um Druckplatten, die Zusammensetzungen der vorliegenden Erfindung tragen, zu bebildern, schließen Halbleiterdiodeniaser, die zwischen 600 nm und 1100 nm emittieren, ein. Ein Beispiel ist der Nd YAG-Laser, der bei 1064 nm emittiert, aber jeder Laser mit ausreichender Abbildungsleistung (dessen Strahlung durch die Zusammensetzung absorbiert wird), kann verwendet werden.
  • Die erfindungsgemäßen Zusammensetzungen können andere Bestandteile, wie stabilisierende Zusätze, inerte Farbmittel, zusätzliche inerte polymere Bindemittel, die in vielen lithographischen Plattenzusammensetzungen vorhanden sind, enthalten.
  • Vorzugsweise umfassen die wärmeempindlichen Zusammensetzungen der vorliegenden Erfindung keine UV-empfindlichen Bestandteile. Jedoch können UV-empfindliche Bestandteile, die nicht durch das Vorhandensein anderer Bestandteile UV-aktiviert werden, wie inerte UV-absorbierende Farbstoffe und eine UV-absorbierende oberste Schicht, vorhanden sein.
  • Jedes Merkmal jedes Gesichtspunkts der vorliegenden Erfindung oder jeder hier beschriebenen Ausführungsform kann mit jedem Merkmal jedes anderen Gesichtspunkts jeder hier beschriebenen Erfindung oder Ausführungsform kombiniert werden.
  • Die folgenden Beispiele dienen insbesondere zur Veranschaulichung vorstehend beschriebener verschiedener Gesichtspunkte der vorliegenden Erfindung.
  • Auf die folgenden Produkte wird nachstehend bezug genommen:
  • Harz A: LB6564 - ein Phenol/Cresol-Novolakharz, vertrieben von Bakelite.
  • Harz B: R17620 - ein Phenol/Formaldehyd-Resolharz, vertrieben von BP Chemicals Ltd., Sully, Wales.
  • Harz C: SMD995 - ein Alkylphenol/Formaldehyd-Resolharz, vertrieben von Schnectady Midland Ltd., Wolverhampton, England.
  • Harz D: Maruka Lyncur M(S-2) - ein Poly(hydroxystyrol)-Harz, vertrieben von Maruzen Petrochemical Co., Ltd., Tokyo, Japan.
  • Harz E: Ronacoat 300 - ein auf Dimethylmaleinimid basierendes Polymer, vertrieben von Rohner Ltd., Pratteln, Schweiz.
  • Harz F: Gantrez An119 - ein Methylvinylether-Comaleinsäureanhydrid-Copolymer, vertrieben von Gaf Chemicals Co., Guildford, England.
  • Harz G: SMA 2625 P - ein Styrol-Maleinsäureanhydrid-Halbester, vertrieben von Elf Atochem UK Ltd., Newbury, England.
  • Harz H: Celluloseacetatpropionat (Mol.gew. 75000, enthält 2,5% Acetat und 45% bis 49% Propionat), vertrieben von Eastman Fine Chemicals, Rochester, USA.
  • Testverfahren des Belichtens
  • Das zu bebildernde beschichtete Substrat wurde zu einem Kreis mit 105 mm Durchmesser geschnitten und auf eine Scheibe gegeben, die mit konstanter Geschwindigkeit zwischen 100 und 2500 Umdrehungen pro Minute rotiert werden konnte. Benachbart zur zu rotierenden Scheibe hielt ein Translationstisch die Quelle des Laserstrahls, so dass der Laserstrahl senkrecht auf das beschichtete Substrat auftraf, während der Translationstisch den Laserstrahl radial in linearer Weise in Bezug auf die rotierende Scheibe bewegte.
  • Der verwendete Laser war eine 200 mW Laserdiode mit einem Einzelmodus mit 830 nm Wellenlänge, die auf 10 Mikron Auflösung focussiert wurde. Die Laserstromquelle war eine stabilisierte konstante Stromquelle.
  • Das belichtete Bild war in Form einer Spirale, wobei das Bild in der Mitte der Spirale langsame Laserscangeschwindigkeit und lange Belichtungszeit darstellte und die Außenkante der Spirale schnelle Scangeschwindigkeit und kurze Belichtungszeit darstellte. Abbildungsenergien wurden von der Messung des Durchmessers, bei dem ein Bild gebildet wurde, abgeleitet.
  • Die minimale Energie, die mit diesem Belichtungssystem übermittelt werden kann, beträgt 150 mJ/cm² bei 2500 UpM.
  • Vergleichsbeispiele C1 bis C5 und Beispiele 1 bis 9
  • Beschichtungsformulierungen für alle Beispiele wurden als Lösungen in 1-Methoxypropan-2-ol hergestellt, mit Ausnahme der Beispiele 4, 5 und 8, die als Lösungen in 1-Methoxypropan-2-ol/DMF 40 : 60 (V : V) hergestellt wurden, und Beispiel 7 als Lösung in 1-Methoxypropan-2-ol/DMF 35 : 65 (V : V). Das verwendete Substrat war ein 0,3 mm Blech aus Aluminium, das elektroaufgeraut und anodisiert und mit einer wässrigen Lösung eines anorganischen Phosphats nachbehandelt worden war. Die Beschichtungslösungen wurden auf das Substrat mit einem drahtumwickelten Stab (wire wound bar) aufgetragen. Die Lösungskonzentrationen wurden gewählt, um die bestimmten Trockenfilmzusammensetzungen mit einem Beschichtungsgewicht von 1.3 g pro Quadratmeter nach 3- minütigem gründlichem Trocknen bei 100ºC in einem Ofen bereitzustellen.
  • Benzothiazolium A ist 3-Ethyl-2-[3-ethyl-2(3H)-benzothiazolyliden)-2-methyl-1-propenyl]benzothiazoliumbromid.
  • Benzothiazolium B ist 3-Ethyl-2-methylbenzothiazoliumiodid.
  • Die Platten wurden durch 30-sekündiges Eintauchen in eine wässrige Entwicklerlösung unter Verwendung einer geeigneten wässrigen Entwicklerlösung, wie nachstehend beschrieben, auf Entwickelbarkeit untersucht.
  • Entwickler A:- 14%iges Natriummetasilicat-Pentahydrat in Wasser.
  • Entwickler B:- 7%iges Natriummetasilicat-Pentahydrat in Wasser.
  • Folgende Tabelle führt die Ergebnisse des einfachen Entwickelbarkeitstestes für die Zusammensetzungen auf.
  • Entwickler B
  • Vergleichsbeispiel
  • 1 bis 5 Baschichtung vollständig entfernt,
  • Beispiel
  • 1 bis 9 keine wesentliche Entfernung der Beschichtung
  • Die in den Vergleichsbeispielen beschriebenen Zusammensetzungen zeigen keine Beständigkeit gegen Angriff durch Entwickler. Die in den Beispielen 1 bis 9 beschriebenen Zusammensetzungen veranschaulichen die Wirkung der Verringerung der Löslichkeit des Polymers im Entwickler durch die Verwendung von in der vorliegenden Erfindung beschriebenen Verbindungen.
  • Weitere Proben der Platten wurden dann unter Verwendung der vorstehend beschriebenen 830 nm Laservorrichtung bebildert. Die belichteten Scheiben wurden dann durch 30-sekündiges Eintauchen in eine wässrige Entwicklerlösung unter Verwendung einer geeigneten wässrigen Entwicklerlösung, wie vorstehend beschrieben, entwickelt. Die Plattenempindlichkeiten wurden dann bestimmt.
  • Die Ergebnisse sind in der folgenden Tabelle aufgeführt.
  • Eine gemäß Beispiel 1 hergestellte Druckplatte wurde ebenfalls auf einer im Handel erhältlichen Belichtungseinheit, Trendsetter, erhältlich von Creo Products, Vancouver, Kanada, bebildert. Die Platte druckte mindestens 10000 gute Abdrücke auf einer Druckmaschine für Lithographie.
  • Beispiel 10
  • Eine Lösung, die 8,15 g 1-Methoxypropan-2-ol, 2,40 g einer 40%igen G/G Lösung von Harz A in 1-Methoxypropan-2-ol, 0,12 g Farbstoff A und 0,24 g einer Rußdispersion mit 50% (G/G) in Wasser enthielt, wurde hergestellt und, wie in den Beispielen 1 bis 9 beschrieben, aufgetragen.
  • Beispiel 10
  • Bestandteil Gewichtsteile
  • Harz A 80
  • Farbstoff A 10
  • Ruß 10
  • Die erhaltene Platte wurde unter Verwendung einer 200 mW Laserdiode bei einer Wellenlänge von 830 nm unter Verwendung der vorstehend beschriebenen Abbildungsvorrichtung bebildert. Die Platte wurde dann unter Verwendung von Entwickler B für 30 Sekunden entwickelt. Die zum Erhalt eines geeigneten Bildes erforderliche Abbildungsenergiedichte betrug ≤ 150 mJ/cm².
  • Eine gemäß Beispiel 10 hergestellte Druckplatte wurde ebenfalls auf einer im Handel erhältlichen Belichtungseinheit, Trendsetter, erhältlich von Creo Products, Vancouver, Kanada, bebildert. Die Platte druckte auf einer lithographischen Druckpresse mindestens 10000 gute Abdrücke.
  • Beispiel 11
  • Der Plattenvorläufer mit der in der folgenden Tabelle beschriebenen Zusammensetzung wurde wie für Beispiel 4 beschrieben hergestellt.
  • Beispiel 11
  • Bestandteil Gewichtsteile
  • Harz A 90
  • Farbstoff D 10
  • Die erhaltene Platte wurde unter Verwendung einer 200 mW Laserdiode bei einer Wellenlänge von 830 nm unter Verwendung der vorstehend beschriebenen Abbildungsvorrichtung bebildert. Die Platte wurde dann unter Verwendung von Entwickler B für 30 Sekunden entwickelt. Die zum Erhalt eines geeigneten Bildes erforderliche Abbildungsenergiedichte betrug ≤ 150 mJ/cm².
  • Eine gemäß Beispiel 11 hergestellte Druckplatte wurde ebenfalls auf einer im Handel erhältlichen Belichtungseinheit, Trendsetter, erhältlich von Creo Products, Vancouver, Kanada, bebildert. Die Platte druckte auf einer Druckmaschine für Lithographie mindestens 10000 gute Abdrücke.
  • Beispiele 12-18
  • Beschichtungsformulierungen wurden wie vorstehend beschrieben als Lösungen in 1-Methoxypropan-2-ol hergestellt, mit der Ausnahme von Beispiel 16, die als Lösung in 1-Methoxypropan-2-ol/DMF 80 : 20 (V : V) hergestellt wurde.
  • Die Formulierungen wurden wie in den Beispielen 1-9 beschrieben aufgetragen, um Trockenfilmzusammensetzungen wie in der folgenden Tabelle beschrieben bereitzustellen.
  • Proben der Platten wurden dann unter Verwendung der vorstehend beschriebenen 830 nm-Laservorrichtung bebildert. Die belichteten Scheiben wurden dann unter Eintauchen in eine geeignete wässrige Entwicklerlösung, wie vorstehend und nachstehend beschrieben, für einen geeigneten Zeitraum entwickelt. Die Plattenempfindlichkeiten wurden dann bestimmt. Die Ergebnisse sind in der folgenden Tabelle aufgeführt.
  • Entwickler C: 15% β-Naphthylethoxylat, 5% Benzylalkohol, 2% Nitrilotriessigsäure- Trinatriumsalz, 78% Wasser.
  • Entwickler D: 3% β-Naphthylethoxylat, 1% Benzylalkohol, 2% Nitrilotriessigsäure- Trinatriumsalz, 94% Wasser.
  • Entwickler E: 1,5% β-Naphthylethoxylat, 0,5% Benzylalkohol, 1% Nitrilotriessigsäure- Trinatriumsalz, 97% Wasser.
  • Beispiele 19-30
  • Beschichtungsformulierungen wurden wie vorstehend beschrieben als Lösungen in 1-Methoxypropan-2-ol hergestellt, mit der Ausnahme von Beispiel 26, das als Lösung in 1-Methoxypropan-2-ol/DMF 50 : 50 (V/V) hergestellt wurde.
  • Die Formulierungen wurden, wie in den Beispielen 1-9 beschrieben, aufgetragen, um Trockenfilmzusammensetzungen wie in der folgenden Tabelle beschrieben bereitzustellen.
  • Proben der Platten wurden dann unter Verwendung der vorstehend beschriebenen 830 nm-Laservorrichtung bebildert. Die belichteten Scheiben wurden dann unter Eintauchen in eine geeignete wässrige Entwicklerlösung für einen geeigneten Zeitraum entwickelt. Die Plattenempfindlichkeiten wurden dann bestimmt. Die Ergebnisse sind in der folgenden Tabelle aufgeführt.
  • Beispiel 31
  • Die Beschichtungsformulierung wurde wie vorstehend beschrieben als Lösung in 1-Methoxypropan-2-ol hergestellt. Die Formulierung wurde wie in den Beispielen 1-9 beschrieben aufgetragen, um eine Trockenfilmzusammensetzung, wie in der folgenden Tabelle beschrieben, bereitzustellen.
  • Beispiel 31
  • Bestandteil Gewichtsteile
  • Harz A 90
  • Farbstoff C 4
  • Crystal Violet 6
  • Proben der Platte wurden der Wärme von einem Weiler Lötkolben EC 2100 M bei 311ºC ausgesetzt. Die Geschwindigkeit der Bewegung des Lötkolbens über die Plattenoberfläche ist in der nachstehenden Tabelle beschrieben. Die der Wärme ausgesetzten Plattenproben wurden dann durch 60-sekündiges Eintauchen in Entwickler A entwickelt. Die Ergebnisse sind in der nachstehenden Tabelle aufgeführt.
  • In der Beschreibung beziehen wir uns an verschiedenen Stellen auf UV-Licht. Dem Fachmann ist der typische Wellenlängenbereich von UV-Licht bekannt. Um jedoch jeden Zweifel zu vermeiden, UV-Licht weist typischerweise einen Wellenlängenbereich von 190 nm bis 400 nm auf.
  • Alle in dieser Beschreibung offenbarten Merkmale (einschließlich irgendwelcher beigefügter Patentansprüche, Zusammenfassung und Zeichnungen) und/oder alle Schritte irgendeiner offenbarten Verfahrensweise oder eines Verfahrens können in jeder Kombination kombiniert werden, mit Ausnahme von Kombinationen, bei denen zumindest einige solcher Merkmale und/oder Schritte sich gegenseitig ausschließen.

Claims (13)

1. Oleophile, wärmeempfindliche Zusammensetzung, umfassend eine in einem wässrigen alkalischen Entwickler lösliche polymere Substanz und eine Verbindung, welche die Löslichkeit der polymeren Substanz in wässrigem alkalischen Entwickler verringert, dadurch gekennzeichnet, dass die Löslichkeit der Zusammensetzung in wässrigem alkalischen Entwickler bei Erwärmen erhöht und die Löslichkeit der Zusammensetzung in wässrigem alkalischen Entwickler durch einfallende UV- Strahlung nicht erhöht wird.
2. Zusammensetzung nach Anspruch 1, wobei die in wässrigem alkalischen Entwickler lösliche polymere Substanz ein Phenolharz ist.
3. Zusammensetzung nach Anspruch 1 oder 2, wobei die Verbindung, welche die Löslichkeit der polymeren Substanz in wässrigem alkalischen Entwickler verringert, ausgewählt ist aus einer Imidazolinverbindung, einer Chinoliniumverbindung, einer Benzothiazoliumverbindung und einer Pyridiniumverbindung.
4. Zusammensetzung nach Anspruch 1 oder 2, wobei die Verbindung, welche die Löslichkeit der polymeren Substanz in wässrigem alkalischen Entwickler verringert, ein Cyaninfarbstoff ist.
5. Zusammensetzung nach den Ansprüchen 3 und 4, wobei die Chinoliniumverbindung ein Cyaninfarbstoff ist.
6. Zusammensetzung nach irgendeinem vorstehenden Anspruch, wobei die Zusammensetzung eine strahlungsabsorbierende Verbindung umfasst, die einfallende Strahlung absorbieren und in Wärme umwandeln kann.
7. Zusammensetzung nach Anspruch 6, wobei die strahlungsabsorbierende Verbindung Ruß ist.
8. Zusammensetzung nach Anspruch 6, wobei die strahlungsabsorbierende Verbindung ein Pigment ist.
9. Zusammensetzung nach Anspruch 8, wobei das Pigment ein organisches Pigment ist.
10. Zusammensetzung nach Anspruch 9, wobei das Pigment ein Phthalocyaninpigment ist.
11. Zusammensetzung nach Anspruch 6, wobei die strahlungsabsorbierende Verbindung ein Farbstoff ist, ausgewählt aus der Squarylium-, Merocyanin-, Indolizin-, Pyrylium- oder Metall-Dithiolin-Klasse.
12. Zusammensetzung nach Anspruch 6, wobei die Verbindung, welche die Löslichkeit der polymeren Substanz in wässrigem alkalischen Entwickler verringert, auch eine strahlungsabsorbierende Verbindung ist, die einfallende Strahlung absorbieren und in Wärme umwandeln kann, wobei die Verbindung ein Cyaninfarbstoff ist, der eine Chinoliniumeinheit umfasst.
13. Zusammensetzung nach einem der Ansprüche 6 bis 12, wobei die strahlungsabsorbierende Verbindung oberhalb 600 nm absorbiert.
DE69714225T 1996-04-23 1997-04-22 Wärmeempfindliche Zusammensetzung zur Herstellung eines lithographischen Druckformvorläufers Expired - Fee Related DE69714225T2 (de)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GBGB9608394.4A GB9608394D0 (en) 1996-04-23 1996-04-23 Lithgraphic plates
GBGB9614693.1A GB9614693D0 (en) 1996-07-12 1996-07-12 Lithographic plates
PCT/GB1996/001973 WO1997007986A2 (en) 1995-08-15 1996-08-13 Water-less lithographic plates
GBGB9700884.1A GB9700884D0 (en) 1997-01-17 1997-01-17 Lithographic plates

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE69714225D1 DE69714225D1 (de) 2002-08-29
DE69714225T2 true DE69714225T2 (de) 2003-03-27

Family

ID=27268256

Family Applications (4)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE69714225T Expired - Fee Related DE69714225T2 (de) 1996-04-23 1997-04-22 Wärmeempfindliche Zusammensetzung zur Herstellung eines lithographischen Druckformvorläufers
DE29724584U Expired - Lifetime DE29724584U1 (de) 1996-04-23 1997-04-22 Wärmeempfindliche Zusammensetzung und damit hergestellter Vorläufer einer Lithographie-Druckform
DE69700397T Revoked DE69700397T2 (de) 1996-04-23 1997-04-22 Vorläufer einer lithographischen druckform und ihre verwendung bei der bebilderung durch wärme
DE0825927T Pending DE825927T1 (de) 1996-04-23 1997-04-22 Warmeempfindliche zusammensetzung und verfahren zur herstellung einer lithographischen druckform damit

Family Applications After (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE29724584U Expired - Lifetime DE29724584U1 (de) 1996-04-23 1997-04-22 Wärmeempfindliche Zusammensetzung und damit hergestellter Vorläufer einer Lithographie-Druckform
DE69700397T Revoked DE69700397T2 (de) 1996-04-23 1997-04-22 Vorläufer einer lithographischen druckform und ihre verwendung bei der bebilderung durch wärme
DE0825927T Pending DE825927T1 (de) 1996-04-23 1997-04-22 Warmeempfindliche zusammensetzung und verfahren zur herstellung einer lithographischen druckform damit

Country Status (16)

Country Link
US (2) US6280899B1 (de)
EP (2) EP0887182B1 (de)
JP (1) JP3147908B2 (de)
CN (1) CN1078132C (de)
AT (2) ATE183136T1 (de)
AU (1) AU707872B2 (de)
BR (1) BR9702181A (de)
CA (1) CA2225567C (de)
CZ (1) CZ292739B6 (de)
DE (4) DE69714225T2 (de)
ES (2) ES2181120T3 (de)
IL (1) IL122318A (de)
NO (1) NO976002L (de)
PL (1) PL324248A1 (de)
RU (1) RU2153986C2 (de)
WO (1) WO1997039894A1 (de)

Families Citing this family (229)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB9516723D0 (en) 1995-08-15 1995-10-18 Horsell Plc Water-less lithographic plates
JP3814961B2 (ja) 1996-08-06 2006-08-30 三菱化学株式会社 ポジ型感光性印刷版
US5858626A (en) 1996-09-30 1999-01-12 Kodak Polychrome Graphics Method of forming a positive image through infrared exposure utilizing diazonaphthoquinone imaging composition
GB9622657D0 (en) 1996-10-31 1997-01-08 Horsell Graphic Ind Ltd Direct positive lithographic plate
US6060222A (en) 1996-11-19 2000-05-09 Kodak Polcyhrome Graphics Llc 1Postitve-working imaging composition and element and method of forming positive image with a laser
DE69833046T2 (de) 1997-03-11 2006-08-03 Agfa-Gevaert Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte
US6090532A (en) * 1997-03-21 2000-07-18 Kodak Polychrome Graphics Llc Positive-working infrared radiation sensitive composition and printing plate and imaging method
US6083662A (en) * 1997-05-30 2000-07-04 Kodak Polychrome Graphics Llc Methods of imaging and printing with a positive-working infrared radiation sensitive printing plate
EP0953166B1 (de) * 1997-07-05 2001-08-16 Kodak Polychrome Graphics LLC Bilderzeugungsverfahren
GB9714526D0 (en) * 1997-07-11 1997-09-17 Horsell Graphic Ind Ltd Pattern Formation
DE69827882T2 (de) * 1997-08-13 2005-11-03 Mitsubishi Chemical Corp. Positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung, lichtempfindliche Druckplatte und Verfahren zur Herstellung eines positiven Bildes
GB9722861D0 (en) * 1997-10-29 1997-12-24 Horsell Graphic Ind Ltd Improvements in relation to the manufacture of lithographic printing forms
JP2003533707A (ja) 1997-08-14 2003-11-11 コダック ポリクロム グラフィックス カンパニーリミテッド マスク及び電子パーツの製造方法
US6060217A (en) * 1997-09-02 2000-05-09 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal lithographic printing plates
EP0901902A3 (de) * 1997-09-12 1999-03-24 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung für Infrarot Bebilderung
EP0908305B2 (de) 1997-10-08 2006-07-19 Agfa-Gevaert Verfahren zur Herstellung einer positiv arbeitenden Druckplatte aus wärmeempflindlichem Bildaufzeichnungsmaterial
EP0908306B3 (de) 1997-10-08 2009-08-05 Agfa-Gevaert Verfahren zur Herstellung einer positiv arbeitenden Druckplatte aus wärmempfindlichem Bildaufzeichnungsmaterial
EP1449655A1 (de) 1997-10-17 2004-08-25 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positiv arbeitendes photoempfindliches Aufzeichnungsmaterial für Infrarotlaser und positiv arbeitende Zusammensetzung für Infrarotlaser
DE69810242T2 (de) * 1997-10-28 2003-10-30 Mitsubishi Chemical Corp., Tokio/Tokyo Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch, positiv arbeitende lichtempfindliche Flachdruckplatte und Verfahren zur Bebilderung der Druckplatte
GB9722862D0 (en) 1997-10-29 1997-12-24 Horsell Graphic Ind Ltd Pattern formation
DE69835969T2 (de) * 1997-11-07 2007-06-14 Toray Industries, Inc. Direkt beschreibbare Flachdruckvorstufe und Verfahren zur Herstellung von Flachdruckplatten
JP3810538B2 (ja) 1997-11-28 2006-08-16 富士写真フイルム株式会社 ポジ型画像形成材料
US6399279B1 (en) 1998-01-16 2002-06-04 Mitsubishi Chemical Corporation Method for forming a positive image
US5922512A (en) * 1998-01-29 1999-07-13 Kodak Polychrome Graphics Llc Processless direct write printing plate having heat sensitive polymer and methods of imaging and printing
DE69925053T2 (de) 1998-02-04 2006-03-02 Mitsubishi Chemical Corp. Positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung, lichtempfindliche Druckplatte und Verfahren zur Herstellung eines positiven Bildes
DE19910363B4 (de) * 1998-03-10 2007-08-30 Mitsubishi Paper Mills Ltd. Positives, lichtempfindliches bebilderbares Element
GB2335282B (en) 1998-03-13 2002-05-08 Horsell Graphic Ind Ltd Improvements in relation to pattern-forming methods
GB2335283B (en) 1998-03-13 2002-05-08 Horsell Graphic Ind Ltd Improvements in relation to pattern-forming methods
US6444393B2 (en) * 1998-03-26 2002-09-03 Fuji Photo Film Co., Ltd. Anionic infrared-ray absorbing agent, photosensitive composition and planographic printing plate precursor using same
US6447977B2 (en) * 1998-04-15 2002-09-10 Agfa-Gevaert Heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates
IT1299220B1 (it) 1998-05-12 2000-02-29 Lastra Spa Composizione sensibile sia a radiazioni ir che a radiazioni uv e lastra litografica
GB9811813D0 (en) * 1998-06-03 1998-07-29 Horsell Graphic Ind Ltd Polymeric compounds
US6358669B1 (en) 1998-06-23 2002-03-19 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal digital lithographic printing plate
US6352811B1 (en) 1998-06-23 2002-03-05 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal digital lithographic printing plate
US6534238B1 (en) * 1998-06-23 2003-03-18 Kodak Polychrome Graphics, Llc Thermal digital lithographic printing plate
DE19834746A1 (de) 1998-08-01 2000-02-03 Agfa Gevaert Ag Strahlungsempfindliches Gemisch mit IR-absorbierenden, betainischen oder betainisch-anionischen Cyaninfarbstoffen und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
DE19834745A1 (de) 1998-08-01 2000-02-03 Agfa Gevaert Ag Strahlungsempfindliches Gemisch mit IR-absorbierenden, anionischen Cyaninfarbstoffen und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
US6190831B1 (en) * 1998-09-29 2001-02-20 Kodak Polychrome Graphics Llc Processless direct write printing plate having heat sensitive positively-charged polymers and methods of imaging and printing
JP3635203B2 (ja) * 1998-10-06 2005-04-06 富士写真フイルム株式会社 平版印刷版用原版
GB2342460A (en) * 1998-10-07 2000-04-12 Horsell Graphic Ind Ltd Method of making an electronic part
GB2342459B (en) * 1998-10-07 2003-01-15 Horsell Graphic Ind Ltd Improvements in relation to electronic parts
ATE236791T1 (de) * 1998-11-16 2003-04-15 Mitsubishi Chem Corp Positiv-arbeitende photo-empfindliche lithographische druckplatte und verfahren zu ihrer herstellung
US6344306B1 (en) 1999-03-16 2002-02-05 Toray Industries, Inc. Directly imageable waterless planographic printing plate precursor, and directly imageable waterless planographic printing plate
US6124425A (en) 1999-03-18 2000-09-26 American Dye Source, Inc. Thermally reactive near infrared absorption polymer coatings, method of preparing and methods of use
JP2000275828A (ja) * 1999-03-25 2000-10-06 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版
US6602645B1 (en) 1999-05-21 2003-08-05 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive composition and planographic printing plate base using same
US6255033B1 (en) 1999-07-30 2001-07-03 Creo, Ltd. Positive acting photoresist compositions and imageable element
EP1072405B1 (de) * 1999-07-30 2003-06-04 Lastra S.P.A. Infrarotstrahlungs- und wärme-empfindliche Zusammensetzung, und lithographische Druckplatte, die mit dieser Zusammensetzung beschichtet ist
EP1072404B1 (de) * 1999-07-30 2003-05-21 Lastra S.P.A. Infrarotstrahlungs- und wärme-empfindliche Zusammensetzung, und lithographische Druckplatte, die mit dieser Zusammensetzung beschichtet ist
CA2314520A1 (en) 1999-07-30 2001-01-30 Domenico Tiefenthaler Composition sensitive to ir radiation and to heat and lithographic plate coated therewith
ATE240833T1 (de) 1999-07-30 2003-06-15 Lastra Spa Infrarotstrahlungs- und wärme-empfindliche zusammensetzung, und lithographische druckplatte, die mit dieser zusammensetzung beschichtet ist
US6251559B1 (en) 1999-08-03 2001-06-26 Kodak Polychrome Graphics Llc Heat treatment method for obtaining imagable coatings and imagable coatings
US6706466B1 (en) 1999-08-03 2004-03-16 Kodak Polychrome Graphics Llc Articles having imagable coatings
US6461794B1 (en) 1999-08-11 2002-10-08 Kodak Polychrome Graphics Llc Lithographic printing forms
US6550989B1 (en) 1999-10-15 2003-04-22 Kodak Polychrome Graphics Llc Apparatus and methods for development of resist patterns
DE60008184T2 (de) 1999-10-19 2004-11-18 Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara Fotoempfindliche Zusammensetzung und Flachdruckplatte, die diese Zusammensetzung verwendet
US6232031B1 (en) 1999-11-08 2001-05-15 Ano-Coil Corporation Positive-working, infrared-sensitive lithographic printing plate and method of imaging
US6300038B1 (en) 1999-11-19 2001-10-09 Kodak Polychrome Graphics Llc Articles having imagable coatings
US6391524B2 (en) 1999-11-19 2002-05-21 Kodak Polychrome Graphics Llc Article having imagable coatings
US6294311B1 (en) * 1999-12-22 2001-09-25 Kodak Polychrome Graphics Llc Lithographic printing plate having high chemical resistance
US6558787B1 (en) 1999-12-27 2003-05-06 Kodak Polychrome Graphics Llc Relation to manufacture of masks and electronic parts
US6787291B2 (en) 2000-04-06 2004-09-07 Toray Industries, Inc. Directly imageable planographic printing plate and production method thereof
JP2001305722A (ja) * 2000-04-18 2001-11-02 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
US6506533B1 (en) 2000-06-07 2003-01-14 Kodak Polychrome Graphics Llc Polymers and their use in imagable products and image-forming methods
US6458511B1 (en) 2000-06-07 2002-10-01 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermally imageable positive-working lithographic printing plate precursor and method for imaging
ATE421558T1 (de) 2000-07-06 2009-02-15 Cabot Corp Modifizierte pigmente, deren dispersionen und zusammensetzungen die diese enthalten
AU2001281317A1 (en) 2000-08-04 2002-02-18 Kodak Polychrome Graphics Co. Ltd. Lithographic printing form and method of preparation and use thereof
US6649324B1 (en) * 2000-08-14 2003-11-18 Kodak Polychrome Graphics Llc Aqueous developer for lithographic printing plates
US6555291B1 (en) 2000-08-14 2003-04-29 Kodak Polychrome Graphics, Llc Thermal digital lithographic printing plate
US6558872B1 (en) 2000-09-09 2003-05-06 Kodak Polychrome Graphics Llc Relation to the manufacture of masks and electronic parts
US6451502B1 (en) 2000-10-10 2002-09-17 Kodak Polychrome Graphics Llc manufacture of electronic parts
US6864040B2 (en) 2001-04-11 2005-03-08 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal initiator system using leuco dyes and polyhalogene compounds
WO2002034517A1 (en) 2000-10-26 2002-05-02 Kodak Polychrome Graphics Company, Ltd. Compositions comprising a pigment
US6596460B2 (en) 2000-12-29 2003-07-22 Kodak Polychrome Graphics Llc Polyvinyl acetals having azido groups and use thereof in radiation-sensitive compositions
US6548215B2 (en) 2001-02-09 2003-04-15 Kodak Polychrome Graphics Llc Method for the production of a printing plate using the dual-feed technology
US6613494B2 (en) 2001-03-13 2003-09-02 Kodak Polychrome Graphics Llc Imageable element having a protective overlayer
US6899994B2 (en) 2001-04-04 2005-05-31 Kodak Polychrome Graphics Llc On-press developable IR sensitive printing plates using binder resins having polyethylene oxide segments
US7592128B2 (en) 2001-04-04 2009-09-22 Eastman Kodak Company On-press developable negative-working imageable elements
US7049046B2 (en) * 2004-03-30 2006-05-23 Eastman Kodak Company Infrared absorbing compounds and their use in imageable elements
US6777164B2 (en) 2001-04-06 2004-08-17 Kodak Polychrome Graphics Llc Lithographic printing forms
EP1256444B1 (de) 2001-04-09 2004-06-30 Agfa-Gevaert Positivarbeitende lithographische Druckplattenvorläufer
US6739260B2 (en) 2001-05-17 2004-05-25 Agfa-Gevaert Method for the preparation of a negative working printing plate
DE60110214T2 (de) * 2001-05-17 2006-03-09 Agfa-Gevaert Herstellungsverfahren zu einer negativ arbeitenden Druckplatte
BR0102218B1 (pt) 2001-05-31 2012-10-16 produto sensìvel à radiação, e processo de impressão ou revelação de imagem utilizando o referido produto.
US6706454B2 (en) 2001-07-05 2004-03-16 Kodak Polychrome Graphics Llc Method for the production of a printing plate using particle growing acceleration by an additive polymer
JP3917422B2 (ja) 2001-07-26 2007-05-23 富士フイルム株式会社 画像形成材料
US7056639B2 (en) 2001-08-21 2006-06-06 Eastman Kodak Company Imageable composition containing an infrared absorber with counter anion derived from a non-volatile acid
US6593055B2 (en) 2001-09-05 2003-07-15 Kodak Polychrome Graphics Llc Multi-layer thermally imageable element
US7294447B2 (en) 2001-09-24 2007-11-13 Agfa Graphics Nv Positive-working lithographic printing plate precursor
EP1295717B1 (de) 2001-09-24 2007-07-25 Agfa Graphics N.V. Wärmeempfindlicher positiv arbeitender Flachdruckplattenvorläufer
KR100406460B1 (ko) * 2001-09-29 2003-11-19 한국과학기술연구원 커플링된 스티릴시아닌 색소 및 그의 제조 방법
US6723490B2 (en) 2001-11-15 2004-04-20 Kodak Polychrome Graphics Llc Minimization of ablation in thermally imageable elements
US6699636B2 (en) 2001-12-12 2004-03-02 Kodak Polychrome Graphics Llc Imaging element comprising a thermally activated crosslinking agent
US6960423B2 (en) 2001-12-26 2005-11-01 Creo Inc. Preparation of gravure and intaglio printing elements using direct thermally imageable media
US6723489B2 (en) 2002-01-30 2004-04-20 Kodak Polychrome Graphics Llp Printing form precursors
US6830862B2 (en) 2002-02-28 2004-12-14 Kodak Polychrome Graphics, Llc Multi-layer imageable element with a crosslinked top layer
US20050003296A1 (en) * 2002-03-15 2005-01-06 Memetea Livia T. Development enhancement of radiation-sensitive elements
US6732653B2 (en) 2002-04-26 2004-05-11 Kodak Polychrome Graphics Llc Method to remove unwanted, unexposed, positive-working, radiation-sensitive layer
US6843176B2 (en) * 2002-04-26 2005-01-18 Kodak Polychrome Graphics, Llc Method to remove unwanted, unexposed, radiation-sensitive layer in a lithographic printing plate
EP1396338B1 (de) 2002-09-04 2006-07-19 Agfa-Gevaert Wärmeempfindlicher Flachdruckplattenvorläufer
US20040067435A1 (en) 2002-09-17 2004-04-08 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming material
EP1558447B1 (de) 2002-10-04 2007-08-15 Agfa Graphics N.V. Verfahren zur herstellung eines lithographischen druckplattenvorläufers
JP4338641B2 (ja) 2002-10-04 2009-10-07 アグフア・グラフイクス・ナームローゼ・フエンノートシヤツプ リトグラフ印刷版前駆物質の製法
US7195859B2 (en) 2002-10-04 2007-03-27 Agfa-Gevaert Method of making a lithographic printing plate precursor
US6858359B2 (en) 2002-10-04 2005-02-22 Kodak Polychrome Graphics, Llp Thermally sensitive, multilayer imageable element
US7198877B2 (en) 2002-10-15 2007-04-03 Agfa-Gevaert Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
DE60321371D1 (de) 2002-10-15 2008-07-10 Agfa Graphics Nv Polymer für wärmeempfindlichen vorläufer einer lithographischen druckplatte
US7458320B2 (en) 2002-10-15 2008-12-02 Agfa Graphics, N.V. Polymer for heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US6794107B2 (en) 2002-10-28 2004-09-21 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal generation of a mask for flexography
CN1332809C (zh) * 2002-12-26 2007-08-22 富士胶片株式会社 平版印刷版前体
EP1433594B1 (de) 2002-12-27 2008-04-09 FUJIFILM Corporation Wärmeempfindlicher lithographischer Druckplattenvorläufer
JP4163964B2 (ja) 2003-01-07 2008-10-08 岡本化学工業株式会社 画像形成組成物およびそれを用いた感光性平版印刷版
US7160667B2 (en) 2003-01-24 2007-01-09 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming material
US6790590B2 (en) * 2003-01-27 2004-09-14 Kodak Polychrome Graphics, Llp Infrared absorbing compounds and their use in imageable elements
US6953652B2 (en) 2003-01-27 2005-10-11 Agfa-Gevaert Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US7087359B2 (en) 2003-01-27 2006-08-08 Agfa-Gevaert Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
KR100967562B1 (ko) * 2003-02-11 2010-07-05 아그파 그래픽스 엔브이 감열 리소그래피 인쇄판 전구체
US7229744B2 (en) * 2003-03-21 2007-06-12 Eastman Kodak Company Method for preparing lithographic printing plates
US6908726B2 (en) * 2003-04-07 2005-06-21 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermally imageable elements imageable at several wavelengths
US20040214108A1 (en) * 2003-04-25 2004-10-28 Ray Kevin B. Ionic liquids as dissolution inhibitors in imageable elements
JP4703104B2 (ja) * 2003-06-06 2011-06-15 株式会社東芝 通信端末装置
DE602004015778D1 (de) * 2003-06-30 2008-09-25 Think Labs Kk Positive lichtempfindliche zusammensetzung
JP4732419B2 (ja) * 2003-07-03 2011-07-27 株式会社シンク・ラボラトリー ポジ型感光性組成物
JP4732420B2 (ja) * 2003-07-03 2011-07-27 株式会社シンク・ラボラトリー 製版方法
JP4657276B2 (ja) * 2003-07-03 2011-03-23 株式会社シンク・ラボラトリー ポジ型感光性組成物
US7371454B2 (en) * 2003-12-15 2008-05-13 Eastman Kodak Company Imageable element comprising sulfated polymers
WO2005005146A1 (en) 2003-07-08 2005-01-20 Kodak Polychrome Graphics Llc Imageable element comprising sulfated polymers
US6942957B2 (en) * 2003-07-17 2005-09-13 Kodak Polychrome Graphics Llc Ionic liquids as developability enhancing agents in multilayer imageable elements
US6992688B2 (en) * 2004-01-28 2006-01-31 Eastman Kodak Company Method for developing multilayer imageable elements
US6844141B1 (en) 2003-07-23 2005-01-18 Kodak Polychrome Graphics Llc Method for developing multilayer imageable elements
JP2005047181A (ja) * 2003-07-30 2005-02-24 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版の製版方法、平版印刷方法および平版印刷原版
US7226724B2 (en) 2003-11-10 2007-06-05 Think Laboratory Co., Ltd. Positive-type photosensitive composition
BR0318606A (pt) 2003-12-04 2006-10-24 Ibf Ind Brasileira De Filmes L Conjunto de formação de imagem térmica de funcionamento positivo, método para a sua fabricação e placa de impressão litográfica
US7297465B2 (en) 2003-12-18 2007-11-20 Agfa Graphics Nv Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
WO2005058605A1 (en) 2003-12-18 2005-06-30 Agfa-Gevaert Positive-working lithographic printing plate precursor
US7205084B2 (en) 2003-12-18 2007-04-17 Agfa-Gevaert Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US7467587B2 (en) 2004-04-21 2008-12-23 Agfa Graphics, N.V. Method for accurate exposure of small dots on a heat-sensitive positive-working lithographic printing plate material
US7348126B2 (en) 2004-04-27 2008-03-25 Agfa Graphics N.V. Negative working, heat-sensitive lithographic printing plate precursor
EP1604818B1 (de) 2004-06-11 2007-04-25 Agfa Graphics N.V. Negativ arbeitende wärmeempfindlicher lithographischer Druckplattenvorläufer
US20070154835A1 (en) * 2004-05-27 2007-07-05 Think Laboratory Co., Ltd. Positive photosensitive composition
DE102004029501A1 (de) 2004-06-18 2006-01-12 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Modifizierte Polymere und ihre Verwendung bei der Herstellung von Lithographie-Druckplattenvorläufern
US7279263B2 (en) * 2004-06-24 2007-10-09 Kodak Graphic Communications Canada Company Dual-wavelength positive-working radiation-sensitive elements
US7425405B2 (en) 2004-07-08 2008-09-16 Agfa Graphics, N.V. Method for making a lithographic printing plate
US7195861B2 (en) 2004-07-08 2007-03-27 Agfa-Gevaert Method for making a negative working, heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US7354696B2 (en) 2004-07-08 2008-04-08 Agfa Graphics Nv Method for making a lithographic printing plate
JP4152928B2 (ja) * 2004-08-02 2008-09-17 株式会社シンク・ラボラトリー ポジ型感光性組成物
JP4242815B2 (ja) * 2004-08-27 2009-03-25 株式会社シンク・ラボラトリー ポジ型感光性組成物
US7198883B2 (en) 2004-09-24 2007-04-03 Agfa-Gevaert Processless lithographic printing plate
DE602004008285T2 (de) 2004-09-24 2008-05-08 Agfa Graphics N.V. Verarbeitungsfreie Flachdruckplatte
JP2006154477A (ja) * 2004-11-30 2006-06-15 Think Laboratory Co Ltd ポジ型感光性組成物
JP4474296B2 (ja) 2005-02-09 2010-06-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
EP1705003B1 (de) 2005-03-21 2007-10-24 Agfa Graphics N.V. Entwicklungsfreie Flachdruckplatten
JP2006293162A (ja) 2005-04-13 2006-10-26 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
KR100693357B1 (ko) * 2005-04-19 2007-03-12 가부시키가이샤 씽크. 라보라토리 포지티브형 감광성 조성물
US7473515B2 (en) 2005-06-03 2009-01-06 American Dye Source, Inc. Thermally reactive near-infrared absorbing acetal copolymers, methods of preparation and methods of use
US7678533B2 (en) 2005-06-30 2010-03-16 Agfa Graphics, N.V. Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US20070292802A1 (en) * 2005-07-12 2007-12-20 Think Laboratiory Co., Ltd. Positive Photosenstive Composition
US8313885B2 (en) 2005-11-10 2012-11-20 Agfa Graphics Nv Lithographic printing plate precursor comprising bi-functional compounds
US7338745B2 (en) * 2006-01-23 2008-03-04 Eastman Kodak Company Multilayer imageable element with improved chemical resistance
WO2007099053A1 (en) 2006-02-28 2007-09-07 Agfa Graphics Nv Method for making a lithographic printing plate
DE602006004839D1 (de) 2006-02-28 2009-03-05 Agfa Graphics Nv Positiv arbeitende Lithografiedruckformen
DE602006006969D1 (de) 2006-03-17 2009-07-09 Agfa Graphics Nv Negativ arbeitender, hitzeempfindlicher Lithographiedruckformvorläufer
ATE448080T1 (de) 2006-05-24 2009-11-15 Agfa Graphics Nv Verfahren zur herstellung einer lithografiedruckform
EP1859935B1 (de) 2006-05-24 2009-11-25 Agfa Graphics N.V. Negativ arbeitender hitzeempfindlicher Lithographiedruckformvorläufer
GB2439734A (en) 2006-06-30 2008-01-09 Peter Andrew Reath Bennett Coating for a lithographic precursor and use thereof
WO2008066522A1 (en) * 2006-11-28 2008-06-05 Eastman Kodak Company Multilayer imageable elements having good solvent resistance
JPWO2008126722A1 (ja) * 2007-04-05 2010-07-22 株式会社シンク・ラボラトリー ポジ型感光性組成物
ES2366743T3 (es) 2007-04-27 2011-10-25 Agfa Graphics N.V. Precursor de placa de impresión litográfica.
EP2002987B1 (de) 2007-06-13 2014-04-23 Agfa Graphics N.V. Verfahren zur Behandlung einer Lithografiedruckplatte
US7582407B2 (en) * 2007-07-09 2009-09-01 Eastman Kodak Company Imageable elements with low pH developer solubility
ATE509764T1 (de) 2007-08-14 2011-06-15 Agfa Graphics Nv Verfahren zur herstellung einer lithographiedruckform
WO2009030279A1 (en) 2007-09-07 2009-03-12 Agfa Graphics Nv A heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US7989146B2 (en) 2007-10-09 2011-08-02 Eastman Kodak Company Component fabrication using thermal resist materials
EP2062728B1 (de) 2007-11-13 2011-08-31 Agfa Graphics N.V. Verfahren zur Herstellung einer Lithographiedruckform
JP2009132974A (ja) 2007-11-30 2009-06-18 Fujifilm Corp 微細構造体
EP2065211B1 (de) 2007-11-30 2010-05-26 Agfa Graphics N.V. Verfahren zur Behandlung einer Lithografiedruckplatte
EP2095948B1 (de) 2008-02-28 2010-09-15 Agfa Graphics N.V. Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte
EP2098376B1 (de) 2008-03-04 2013-09-18 Agfa Graphics N.V. Verfahren zur Herstellung eines Lithographiedruckplattenträgers
EP2106924B1 (de) 2008-03-31 2011-06-29 Agfa Graphics N.V. Verfahren zur Behandlung einer lithografischen Druckplatte
ATE552111T1 (de) 2008-09-02 2012-04-15 Agfa Graphics Nv Wärmeempfindlicher, positiv arbeitender lithographiedruckformvorläufer
EP2194429A1 (de) 2008-12-02 2010-06-09 Eastman Kodak Company Gummierzusammensetzungen mit Nanoteilchen zur Verbesserung der Kratzempfindlichkeit in Bild- und Nicht-Bild-Bereichen von lithografischen Druckplatten
EP2213690B1 (de) 2009-01-30 2015-11-11 Agfa Graphics N.V. Neues alkalisches lösliches harz
US20100227269A1 (en) 2009-03-04 2010-09-09 Simpson Christopher D Imageable elements with colorants
EP2263874B1 (de) 2009-06-18 2012-04-18 Agfa Graphics N.V. Lithographiedruckplattenvorläufer
EP2284005B1 (de) 2009-08-10 2012-05-02 Eastman Kodak Company Lithografische Druckplattenvorläufer mit Betahydroxy-Alkylamid-Vernetzern
US8383319B2 (en) 2009-08-25 2013-02-26 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursors and stacks
EP2293144B1 (de) 2009-09-04 2012-11-07 Eastman Kodak Company Verfahren zum Trocknen von Lithographiedruckplatten nach einer Einstufenverarbeitung
US8298750B2 (en) 2009-09-08 2012-10-30 Eastman Kodak Company Positive-working radiation-sensitive imageable elements
EP2316645B1 (de) 2009-10-27 2012-05-02 AGFA Graphics NV Neuartige Cyaninfarbstoffe und lithografische Druckerplattenvorläufer mit den Farbstoffen
US8936899B2 (en) 2012-09-04 2015-01-20 Eastman Kodak Company Positive-working lithographic printing plate precursors and use
RU2487882C1 (ru) 2009-10-29 2013-07-20 Майлан Груп Галлотанниновые соединения в композициях для покрытия литографических печатных форм
EP2329951B1 (de) 2009-12-04 2012-06-20 AGFA Graphics NV Lithographiedruckplattenvorläufer
ES2395993T3 (es) 2010-03-19 2013-02-18 Agfa Graphics N.V. Precursor de plancha de impresión litográfica
US20110236832A1 (en) * 2010-03-26 2011-09-29 Celin Savariar-Hauck Lithographic processing solutions and methods of use
US8939080B2 (en) 2010-11-18 2015-01-27 Eastman Kodak Company Methods of processing using silicate-free developer compositions
US20120129093A1 (en) 2010-11-18 2012-05-24 Moshe Levanon Silicate-free developer compositions
US20130298792A1 (en) 2011-01-25 2013-11-14 Agfa Graphics Nv Lithographic printing plate precursor
ES2427137T3 (es) 2011-02-18 2013-10-29 Agfa Graphics N.V. Precursor de plancha de impresión litográfica
US8632940B2 (en) 2011-04-19 2014-01-21 Eastman Kodak Company Aluminum substrates and lithographic printing plate precursors
US8722308B2 (en) 2011-08-31 2014-05-13 Eastman Kodak Company Aluminum substrates and lithographic printing plate precursors
ES2556055T3 (es) 2011-09-08 2016-01-12 Agfa Graphics Nv Método de fabricación de una plancha de impresión litográfica
US9096759B2 (en) * 2011-12-21 2015-08-04 E I Du Pont De Nemours And Company Printing form and process for preparing the printing form with curable composition having solvent-free epoxy resin
US20130255515A1 (en) 2012-03-27 2013-10-03 Celin Savariar-Hauck Positive-working lithographic printing plate precursors
CN104487261B (zh) 2012-07-27 2016-08-24 富士胶片株式会社 平版印刷版用支撑体及其制造方法、以及平版印刷版原版
WO2014106554A1 (en) 2013-01-01 2014-07-10 Agfa Graphics Nv (ethylene, vinyl acetal) copolymers and their use in lithographic printing plate precursors
EP2775351B1 (de) 2013-03-07 2017-02-22 Agfa Graphics NV Vorrichtung und Verfahren zur Verarbeitung einer Lithografiedruckplatte
CN105283807B (zh) 2013-06-18 2019-09-27 爱克发有限公司 制备具有图案化背层的平版印刷版前体的方法
ES2601846T3 (es) 2013-11-07 2017-02-16 Agfa Graphics Nv Precursor termosensible negativo de plancha de impresión litográfica
EP2933278B1 (de) 2014-04-17 2018-08-22 Agfa Nv (Ethylen-,Vinylacetal-)Copolymere und ihre Verwendung in Lithographiedruckplattenvorläufern
EP2944657B1 (de) 2014-05-15 2017-01-11 Agfa Graphics Nv (Ethylen-,Vinylacetal-)Copolymere und deren Verwendung in Lithographiedruckplattenvorläufern
CN104035279B (zh) * 2014-05-23 2017-07-18 浙江康尔达新材料股份有限公司 阳图红外敏感组合物及其可成像元件
EP2955198B8 (de) 2014-06-13 2018-01-03 Agfa Nv Ethylenvinylacetal-Copolymere und deren Verwendung in lithographischen Druckplattenvorläufer
EP2963496B1 (de) 2014-06-30 2017-04-05 Agfa Graphics NV Lithografiedruckplattenvorläufer mit (Ethylen-, Vinylacetal-) Copolymeren
EP3032334B1 (de) 2014-12-08 2017-10-18 Agfa Graphics Nv System zur Reduzierung von Ablationsrückständen
EP3130465B1 (de) 2015-08-12 2020-05-13 Agfa Nv Wärmeempfindlicher lithografiedruckplattenvorläufer
US9588429B1 (en) 2015-09-03 2017-03-07 Eastman Kodak Company Lithographic developer composition and method of use
EP3170662B1 (de) 2015-11-20 2019-08-14 Agfa Nv Flachdruckplattenvorläufer
EP3429849B1 (de) * 2016-03-16 2021-08-18 Agfa Nv Verfahren zur verarbeitung einer lithografiedruckplatte
EP3239184A1 (de) 2016-04-25 2017-11-01 Agfa Graphics NV Thermoplastische polymerpartikel und ein lithografiedruckplattenvorläufer
EP3441223B1 (de) 2017-08-07 2024-02-21 Eco3 Bv Lithographiedruckplattenvorläufer
WO2019039074A1 (ja) 2017-08-25 2019-02-28 富士フイルム株式会社 ネガ型平版印刷版原版、及び、平版印刷版の製版方法
EP3474073B1 (de) 2017-10-17 2022-12-07 Agfa Offset Bv Methode zur herstellung einer druckplatte
EP3637188A1 (de) 2018-10-08 2020-04-15 Agfa Nv Sprudelnder entwicklervorläufer zur verarbeitung eines lithografischen druckplattenvorläufers
EP3650938A1 (de) 2018-11-09 2020-05-13 Agfa Nv Lithographiedruckplattenvorläufer
EP3715140A1 (de) 2019-03-29 2020-09-30 Agfa Nv Verfahren zum drucken
EP3778253A1 (de) 2019-08-13 2021-02-17 Agfa Nv Verfahren zur verarbeitung einer lithografiedruckplatte
EP3922462B1 (de) 2020-06-08 2023-03-01 Agfa Offset Bv Lithografischer photopolymerer druckplattenvorläufer mit verbesserter tageslichtstabilität
EP4263224A1 (de) 2020-12-16 2023-10-25 Eco3 Bv Make-ready-verfahren für eine lithographische druckmaschine
EP4382306A1 (de) 2022-12-08 2024-06-12 Eco3 Bv Make-ready-verfahren für eine lithographische druckmaschine

Family Cites Families (134)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3046121A (en) 1949-07-23 1962-07-24 Azoplate Corp Process for the manufacture of printing plates and light-sensitive material suttablefor use therein
NL80569C (de) 1949-07-23
US3046119A (en) 1950-08-01 1962-07-24 Azoplate Corp Light sensitive material for printing and process for making printing plates
BE506677A (de) 1950-10-31
NL78025C (de) 1951-02-02
US2767092A (en) 1951-12-06 1956-10-16 Azoplate Corp Light sensitive material for lithographic printing
GB742557A (en) 1952-10-01 1955-12-30 Kalle & Co Ag Light-sensitive material for photomechanical reproduction and process for the production of images
GB772517A (en) 1954-02-06 1957-04-17 Kalle & Co Ag Improvements in or relating to photo-mechanical reproduction
BE540225A (de) 1954-08-20
US2907665A (en) 1956-12-17 1959-10-06 Cons Electrodynamics Corp Vitreous enamel
NL129161C (de) 1959-01-14
NL130471C (de) 1959-08-05
US3105465A (en) 1960-05-31 1963-10-01 Oliver O Peters Hot water heater
NL6608712A (de) * 1966-06-23 1966-11-25
US3635709A (en) 1966-12-15 1972-01-18 Polychrome Corp Light-sensitive lithographic plate
GB1170495A (en) 1967-03-31 1969-11-12 Agfa Gevaert Nv Radiation-Sensitive Recording Material
GB1231789A (de) * 1967-09-05 1971-05-12
GB1245924A (en) 1967-09-27 1971-09-15 Agfa Gevaert Improvements relating to thermo-recording
GB1260662A (en) * 1968-03-27 1972-01-19 Agfa Gevaert Improvements relating to the sub-titling of processed photographic materials
US3837860A (en) 1969-06-16 1974-09-24 L Roos PHOTOSENSITIVE MATERIALS COMPRISING POLYMERS HAVING RECURRING PENDENT o-QUINONE DIAZIDE GROUPS
US3647443A (en) 1969-09-12 1972-03-07 Eastman Kodak Co Light-sensitive quinone diazide polymers and polymer compositions
JPS5024641B2 (de) 1972-10-17 1975-08-18
US3891439A (en) 1972-11-02 1975-06-24 Polychrome Corp Aqueous developing composition for lithographic diazo printing plates
JPS5536518B2 (de) 1972-11-21 1980-09-20
US3859099A (en) 1972-12-22 1975-01-07 Eastman Kodak Co Positive plate incorporating diazoquinone
CA1085212A (en) 1975-05-27 1980-09-09 Ronald H. Engebrecht Use of volatile carboxylic acids in improved photoresists containing quinone diazides
DE2529054C2 (de) 1975-06-30 1982-04-29 Ibm Deutschland Gmbh, 7000 Stuttgart Verfahren zur Herstellung eines zur Vorlage negativen Resistbildes
DE2543820C2 (de) * 1975-10-01 1984-10-31 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zur Herstellung von Flachdruckformen mittels Laserstrahlen
DE2607207C2 (de) 1976-02-23 1983-07-14 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zur Herstellung von Flachdruckformen mit Laserstrahlen
US4486529A (en) 1976-06-10 1984-12-04 American Hoechst Corporation Dialo printing plate made from laser
GB1603920A (en) 1978-05-31 1981-12-02 Vickers Ltd Lithographic printing plates
JPS5560944A (en) 1978-10-31 1980-05-08 Fuji Photo Film Co Ltd Image forming method
US4308368A (en) 1979-03-16 1981-12-29 Daicel Chemical Industries Ltd. Photosensitive compositions with reaction product of novolak co-condensate with o-quinone diazide
JPS561044A (en) 1979-06-16 1981-01-08 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Photosensitive composition
JPS561045A (en) 1979-06-16 1981-01-08 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Photosensitive composition
JPS569740A (en) 1979-07-05 1981-01-31 Fuji Photo Film Co Ltd Image forming method
US4316952A (en) * 1980-05-12 1982-02-23 Minnesota Mining And Manufacturing Company Energy sensitive element having crosslinkable polyester
GB2082339B (en) * 1980-08-05 1985-06-12 Horsell Graphic Ind Ltd Lithographic printing plates and method for processing
US4529682A (en) 1981-06-22 1985-07-16 Philip A. Hunt Chemical Corporation Positive photoresist composition with cresol-formaldehyde novolak resins
JPS58203433A (ja) 1982-05-21 1983-11-26 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPS58224351A (ja) 1982-06-23 1983-12-26 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性印刷版
US4609615A (en) 1983-03-31 1986-09-02 Oki Electric Industry Co., Ltd. Process for forming pattern with negative resist using quinone diazide compound
DE3325023A1 (de) 1983-07-11 1985-01-24 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zur herstellung negativer kopien mittels eines materials auf basis von 1,2-chinondiaziden
US4708925A (en) * 1984-12-11 1987-11-24 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photosolubilizable compositions containing novolac phenolic resin
US4693958A (en) 1985-01-28 1987-09-15 Lehigh University Lithographic plates and production process therefor
DE3541534A1 (de) 1985-11-25 1987-05-27 Hoechst Ag Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch
ZA872295B (de) 1986-03-13 1987-09-22
US4684599A (en) 1986-07-14 1987-08-04 Eastman Kodak Company Photoresist compositions containing quinone sensitizer
US4743528A (en) * 1986-11-21 1988-05-10 Eastman Kodak Company Enhanced imaging composition containing an azinium activator
GB8700599D0 (en) * 1987-01-12 1987-02-18 Vickers Plc Printing plate precursors
DE3716848A1 (de) 1987-05-20 1988-12-01 Hoechst Ag Verfahren zur bebilderung lichtempfindlichen materials
US4845143A (en) 1987-08-21 1989-07-04 Oki Electric Industry Co., Ltd. Pattern-forming material
US4973572A (en) * 1987-12-21 1990-11-27 Eastman Kodak Company Infrared absorbing cyanine dyes for dye-donor element used in laser-induced thermal dye transfer
JPH01201654A (ja) 1988-02-06 1989-08-14 Nippon Oil Co Ltd ポジ型フォトレジスト材料
US4962147A (en) 1988-05-26 1990-10-09 Hoechst Celanese Corporation Process for the suspension polymerization of 4-acetoxystyrene and hydrolysis to 4-hydroxystyrene polymers
DE3820001A1 (de) 1988-06-11 1989-12-14 Basf Ag Optisches aufzeichnungsmedium
JPH0820734B2 (ja) * 1988-08-11 1996-03-04 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物及びそれを用いた光重合性組成物
US4877718A (en) 1988-09-26 1989-10-31 Rennsselaer Polytechnic Institute Positive-working photosensitive polyimide operated by photo induced molecular weight changes
JP2547626B2 (ja) 1988-10-07 1996-10-23 富士写真フイルム株式会社 モノマーの製造方法
EP0366590B2 (de) 1988-10-28 2001-03-21 International Business Machines Corporation Positiv arbeitende hochempfindliche Photolack-Zusammensetzung
US5202221A (en) 1988-11-11 1993-04-13 Fuji Photo Film Co., Ltd. Light-sensitive composition
JP2571115B2 (ja) 1989-01-17 1997-01-16 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物の増感方法及び増感された感光性組成物
JP2871710B2 (ja) 1989-03-17 1999-03-17 株式会社きもと 画像形成方法
JPH02251962A (ja) 1989-03-27 1990-10-09 Matsushita Electric Ind Co Ltd 微細パターン形成材料およびパターン形成方法
US5200298A (en) 1989-05-10 1993-04-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method of forming images
EP0410606B1 (de) 1989-07-12 1996-11-13 Fuji Photo Film Co., Ltd. Polysiloxane und positiv arbeitende Resistmasse
DE69032464T2 (de) 1989-10-19 1998-11-12 Fujitsu Ltd Verfahren zur Herstellung von Photolackmustern
GB9004337D0 (en) 1990-02-27 1990-04-25 Minnesota Mining & Mfg Preparation and use of dyes
DE4013575C2 (de) 1990-04-27 1994-08-11 Basf Ag Verfahren zur Herstellung negativer Reliefkopien
EP0455228B1 (de) 1990-05-02 1998-08-12 Mitsubishi Chemical Corporation Photolackzusammensetzung
JP2729850B2 (ja) 1990-05-15 1998-03-18 富士写真フイルム株式会社 画像形成層
JP2639853B2 (ja) 1990-05-18 1997-08-13 富士写真フイルム株式会社 新規キノンジアジド化合物及びそれを含有する感光性組成物
JP2645384B2 (ja) 1990-05-21 1997-08-25 日本ペイント株式会社 ポジ型感光性樹脂組成物
US5145763A (en) 1990-06-29 1992-09-08 Ocg Microelectronic Materials, Inc. Positive photoresist composition
JP3244288B2 (ja) * 1990-07-23 2002-01-07 昭和電工株式会社 近赤外光消色型記録材料
US5085972A (en) 1990-11-26 1992-02-04 Minnesota Mining And Manufacturing Company Alkoxyalkyl ester solubility inhibitors for phenolic resins
JPH04359906A (ja) 1991-06-07 1992-12-14 Shin Etsu Chem Co Ltd ポリ(パラ−t−ブトキシカルボニルオキシスチレン)及びその製造方法
CA2066895A1 (en) 1991-06-17 1992-12-18 Thomas P. Klun Aqueous developable imaging systems
US5258257A (en) 1991-09-23 1993-11-02 Shipley Company Inc. Radiation sensitive compositions comprising polymer having acid labile groups
US5437952A (en) 1992-03-06 1995-08-01 Konica Corporation Lithographic photosensitive printing plate comprising a photoconductor and a naphtho-quinone diazide sulfonic acid ester of a phenol resin
US5368977A (en) 1992-03-23 1994-11-29 Nippon Oil Co. Ltd. Positive type photosensitive quinone diazide phenolic resin composition
US5372917A (en) 1992-06-30 1994-12-13 Kanzaki Paper Manufacturing Co., Ltd. Recording material
US5268245A (en) 1992-07-09 1993-12-07 Polaroid Corporation Process for forming a filter on a solid state imager
US5351617A (en) 1992-07-20 1994-10-04 Presstek, Inc. Method for laser-discharge imaging a printing plate
CA2091286A1 (en) 1992-07-20 1994-01-21 John Grunwald Direct imaging process for forming resist pattern on a surface, and use thereof in fabricating printed boards
US5286612A (en) 1992-10-23 1994-02-15 Polaroid Corporation Process for generation of free superacid and for imaging, and imaging medium for use therein
EP0608983B1 (de) 1993-01-25 1997-11-12 AT&T Corp. Ein Verfahren zum gesteuerten Entschützen von Polymeren und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung welches diese zum Teil entschützten Polymere für Photoresiste benutzt
US5372915A (en) * 1993-05-19 1994-12-13 Eastman Kodak Company Method of making a lithographic printing plate containing a resole resin and a novolac resin in the radiation sensitive layer
EP0631189B1 (de) * 1993-06-24 1999-02-17 Agfa-Gevaert N.V. Verbesserung der Lagerungsstabilität eines Diazo-Aufzeichnungselementes zur Herstellung einer Druckplatte
DE4426820A1 (de) 1993-07-29 1995-02-02 Fuji Photo Film Co Ltd Bilderzeugungsmaterial und Bilderzeugungsverfahren
GB9322705D0 (en) * 1993-11-04 1993-12-22 Minnesota Mining & Mfg Lithographic printing plates
DE69512113T2 (de) * 1994-03-14 2000-05-25 Kodak Polychrome Graphics Llc, Norwalk Strahlungsempfindliche Zusammensetzung, enthaltend ein Resolharz, ein Novolakharz, einen Infrarotabsorber und ein Triazin, und seine Verwendung in lithographischen Druckplatten
JP3317574B2 (ja) 1994-03-15 2002-08-26 富士写真フイルム株式会社 ネガ型画像記録材料
JP3461377B2 (ja) 1994-04-18 2003-10-27 富士写真フイルム株式会社 画像記録材料
US5441850A (en) 1994-04-25 1995-08-15 Polaroid Corporation Imaging medium and process for producing an image
DE69525883T2 (de) * 1994-07-04 2002-10-31 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positiv-photoresistzusammensetzung
US5858604A (en) 1994-07-11 1999-01-12 Konica Corporation Presensitized lithographic printing plate and method for preparing lithographic printing plate
US5466557A (en) * 1994-08-29 1995-11-14 Eastman Kodak Company Radiation-sensitive composition containing a resole resin, a novolac resin, a latent bronsted acid, an infrared absorber and terephthalaldehyde and use thereof in lithographic printing plates
EP0706899A1 (de) 1994-10-13 1996-04-17 Agfa-Gevaert N.V. Wärmeempfindliches Aufzeichnungselement
US5491046A (en) * 1995-02-10 1996-02-13 Eastman Kodak Company Method of imaging a lithographic printing plate
US5658708A (en) 1995-02-17 1997-08-19 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image recording material
JPH0962005A (ja) * 1995-06-14 1997-03-07 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型感光性組成物
GB9516723D0 (en) * 1995-08-15 1995-10-18 Horsell Plc Water-less lithographic plates
GB9516694D0 (en) 1995-08-15 1995-10-18 Horsell Plc Water-less lithographic plates
US5641608A (en) 1995-10-23 1997-06-24 Macdermid, Incorporated Direct imaging process for forming resist pattern on a surface and use thereof in fabricating printing plates
JPH09120157A (ja) * 1995-10-25 1997-05-06 Fuji Photo Film Co Ltd 湿し水不要感光性平版印刷版
US6132935A (en) 1995-12-19 2000-10-17 Fuji Photo Film Co., Ltd. Negative-working image recording material
US5814431A (en) * 1996-01-10 1998-09-29 Mitsubishi Chemical Corporation Photosensitive composition and lithographic printing plate
JP3589365B2 (ja) 1996-02-02 2004-11-17 富士写真フイルム株式会社 ポジ画像形成組成物
EP0803771A1 (de) 1996-04-23 1997-10-29 Agfa-Gevaert N.V. Verfahren zur Herstellung einer Flachdruckplatte unter Verwendung eines Bildaufzeichnungsmaterials mit einer wärmeempfindlichen Maske
EP0819980B1 (de) 1996-07-19 2000-05-31 Agfa-Gevaert N.V. IR-Strahlungsempfindliches Bildaufzeichnungselement und Verfahren zur Herstellung von lithographischen Druckplatten mit diesem Element
JP3814961B2 (ja) 1996-08-06 2006-08-30 三菱化学株式会社 ポジ型感光性印刷版
US5705309A (en) 1996-09-24 1998-01-06 Eastman Kodak Company Photosensitive composition and element containing polyazide and an infrared absorber in a photocrosslinkable binder
US5759742A (en) 1996-09-25 1998-06-02 Eastman Kodak Company Photosensitive element having integral thermally bleachable mask and method of use
US5858626A (en) * 1996-09-30 1999-01-12 Kodak Polychrome Graphics Method of forming a positive image through infrared exposure utilizing diazonaphthoquinone imaging composition
US5705308A (en) 1996-09-30 1998-01-06 Eastman Kodak Company Infrared-sensitive, negative-working diazonaphthoquinone imaging composition and element
US6117610A (en) * 1997-08-08 2000-09-12 Kodak Polychrome Graphics Llc Infrared-sensitive diazonaphthoquinone imaging composition and element containing non-basic IR absorbing material and methods of use
US5705322A (en) 1996-09-30 1998-01-06 Eastman Kodak Company Method of providing an image using a negative-working infrared photosensitive element
EP0839647B2 (de) 1996-10-29 2014-01-22 Agfa Graphics N.V. Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte mit verbesserten Druckfarbe-Aufnahme
US6060222A (en) * 1996-11-19 2000-05-09 Kodak Polcyhrome Graphics Llc 1Postitve-working imaging composition and element and method of forming positive image with a laser
DE69804876T2 (de) 1997-01-24 2002-11-14 Fuji Photo Film Co., Ltd. Flachdruckplatte
DE69806986T2 (de) 1997-03-11 2003-05-08 Agfa-Gevaert, Mortsel Verfahren zur Herstellung von positiv arbeitenden lithographischen Druckplatten
US6090532A (en) * 1997-03-21 2000-07-18 Kodak Polychrome Graphics Llc Positive-working infrared radiation sensitive composition and printing plate and imaging method
DE19712323A1 (de) 1997-03-24 1998-10-01 Agfa Gevaert Ag Strahlungsempfindliches Gemisch und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial für Offsetdruckplatten
US6083662A (en) * 1997-05-30 2000-07-04 Kodak Polychrome Graphics Llc Methods of imaging and printing with a positive-working infrared radiation sensitive printing plate
JP3779444B2 (ja) 1997-07-28 2006-05-31 富士写真フイルム株式会社 赤外線レーザ用ポジ型感光性組成物
US6060217A (en) * 1997-09-02 2000-05-09 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal lithographic printing plates
US6060218A (en) * 1997-10-08 2000-05-09 Agfa-Gevaert, N.V. Method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive image element
EP0908306B3 (de) 1997-10-08 2009-08-05 Agfa-Gevaert Verfahren zur Herstellung einer positiv arbeitenden Druckplatte aus wärmempfindlichem Bildaufzeichnungsmaterial
DE69810242T2 (de) * 1997-10-28 2003-10-30 Mitsubishi Chemical Corp., Tokio/Tokyo Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch, positiv arbeitende lichtempfindliche Flachdruckplatte und Verfahren zur Bebilderung der Druckplatte
DE69925053T2 (de) * 1998-02-04 2006-03-02 Mitsubishi Chemical Corp. Positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung, lichtempfindliche Druckplatte und Verfahren zur Herstellung eines positiven Bildes
US6251559B1 (en) * 1999-08-03 2001-06-26 Kodak Polychrome Graphics Llc Heat treatment method for obtaining imagable coatings and imagable coatings
US6300038B1 (en) * 1999-11-19 2001-10-09 Kodak Polychrome Graphics Llc Articles having imagable coatings
US6294311B1 (en) * 1999-12-22 2001-09-25 Kodak Polychrome Graphics Llc Lithographic printing plate having high chemical resistance

Also Published As

Publication number Publication date
CA2225567A1 (en) 1997-10-30
JPH11506550A (ja) 1999-06-08
NO976002L (no) 1998-02-17
ATE183136T1 (de) 1999-08-15
BR9702181A (pt) 1999-12-28
CZ292739B6 (cs) 2003-12-17
CN1078132C (zh) 2002-01-23
DE29724584U1 (de) 2002-04-18
DE69700397D1 (de) 1999-09-16
JP3147908B2 (ja) 2001-03-19
AU707872B2 (en) 1999-07-22
EP0825927B1 (de) 1999-08-11
ES2114521T1 (es) 1998-06-01
ES2181120T3 (es) 2003-02-16
US6485890B2 (en) 2002-11-26
RU2153986C2 (ru) 2000-08-10
EP0825927A1 (de) 1998-03-04
IL122318A (en) 2001-01-28
ATE220991T1 (de) 2002-08-15
DE825927T1 (de) 1998-07-16
PL324248A1 (en) 1998-05-11
US6280899B1 (en) 2001-08-28
CA2225567C (en) 2003-01-21
US20020045124A1 (en) 2002-04-18
WO1997039894A1 (en) 1997-10-30
IL122318A0 (en) 1998-04-05
DE69700397T2 (de) 2000-04-13
NO976002D0 (no) 1997-12-19
AU2396697A (en) 1997-11-12
CN1196701A (zh) 1998-10-21
EP0887182A1 (de) 1998-12-30
DE69714225D1 (de) 2002-08-29
CZ400897A3 (cs) 1998-04-15
EP0887182B1 (de) 2002-07-24
ES2114521T3 (es) 2000-01-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69714225T2 (de) Wärmeempfindliche Zusammensetzung zur Herstellung eines lithographischen Druckformvorläufers
DE69818421T2 (de) Verfahren zur herstellung lithographischen druckplatten
DE69806583T2 (de) Positiv arbeitende infrarotstrahlungsempfindliche zusammensetzung, druckplatte und bildherstellungsverfahren
DE69731513T2 (de) Verfahren zur Herstellung einer positiv arbeitenden lithographischen Druckplatte
DE69800847T2 (de) Wärmempfindliches Aufzeichnungselement zur Herstellung von positiv arbeitenden Flachdruckformen
DE69822186T2 (de) Herstellung von mustern
DE10239505B4 (de) Wärmeempfindlicher positiv arbeitender Lithographie-Druckplattenvorläufer mit hoher Chemikalienbeständigkeit
DE69810242T2 (de) Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch, positiv arbeitende lichtempfindliche Flachdruckplatte und Verfahren zur Bebilderung der Druckplatte
DE69935934T2 (de) Positiv arbeitendes thermisches bilderzeugendes Element und positiv arbeitender lithographischer Druckplattenvorläufer
DE602004007007T2 (de) Thermisch reaktive, nah-infrarot absorbierende Polymere und ihre Verwendung in wärmeempfindlichen lithographischen Druckplatten
DE60018809T2 (de) Thermisch bebilderbares element und lithographische druckplatte
DE69810804T2 (de) Herstellung von lithographischen druckformen
DE60108131T2 (de) Thermische digitale lithographiedruckplatte
DE60208124T2 (de) Ein mehrschichtiges thermisch bebilderbares Element
DE60028505T2 (de) Gegenstand mit beschichtungen, in denen ein bild aufgezeichnet werden kann
DE69616723T2 (de) Negativarbeitendes Bildaufzeichnungsmaterial
DE69806986T2 (de) Verfahren zur Herstellung von positiv arbeitenden lithographischen Druckplatten
DE10337506A1 (de) Wärmeempfindlicher positiv arbeitender Lithographie-Druckplattenvorläufer
US20090017399A1 (en) Imageable elements with low ph developer solubility
DE102004029501A1 (de) Modifizierte Polymere und ihre Verwendung bei der Herstellung von Lithographie-Druckplattenvorläufern
DE69804750T2 (de) Rückstandsfreies Aufzeichnungselement ohne Materialabtrag für die Herstellung von Flachdruckplatten mit unterschiedlicher Farbdichte zwischen Bild und Nicht-Bild
DE19910363B4 (de) Positives, lichtempfindliches bebilderbares Element
DE10347682B4 (de) Verfahren zur Herstellung zweischichtiger wärmeempfindlicher bebilderbarer Elemente
DE60127684T2 (de) Lithographische druckform, herstellungsverfahren und verwendung davon
DE69711148T3 (de) Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte mit verbesserten Druckfarbe-Aufnahme

Legal Events

Date Code Title Description
8363 Opposition against the patent
8339 Ceased/non-payment of the annual fee