DE69018471T2 - Selbsttragender dünnschichtsensor, verfahren zu seiner herstellung und anwendung in der gasdetektion und gaschromatographie. - Google Patents
Selbsttragender dünnschichtsensor, verfahren zu seiner herstellung und anwendung in der gasdetektion und gaschromatographie.Info
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 20
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 17
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title abstract 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 title description 7
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 title description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims abstract description 8
- 238000001311 chemical methods and process Methods 0.000 claims abstract description 7
- 230000003068 static effect Effects 0.000 claims abstract description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 121
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 49
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 20
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 18
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 18
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 17
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 16
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 16
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 16
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 14
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 12
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 8
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 7
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 5
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 5
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 5
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 4
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 claims description 3
- 239000003863 metallic catalyst Substances 0.000 claims description 3
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 claims description 3
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 claims description 3
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 claims description 3
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 claims description 2
- 239000012777 electrically insulating material Substances 0.000 claims description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 17
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 11
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 9
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 8
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 7
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 6
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 4
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 4
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 230000004044 response Effects 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 2
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 2
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 2
- CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N Perchloroethylene Chemical group ClC(Cl)=C(Cl)Cl CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 1
- 238000007707 calorimetry Methods 0.000 description 1
- 238000007084 catalytic combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- -1 iridum Substances 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- 239000012286 potassium permanganate Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
- G01N27/02—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance
- G01N27/04—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance
- G01N27/12—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance of a solid body in dependence upon absorption of a fluid; of a solid body in dependence upon reaction with a fluid, for detecting components in the fluid
-
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
- G01N27/02—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance
- G01N27/04—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance
- G01N27/14—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance of an electrically-heated body in dependence upon change of temperature
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
- G01N27/02—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance
- G01N27/04—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance
- G01N27/14—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance of an electrically-heated body in dependence upon change of temperature
- G01N27/16—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance of an electrically-heated body in dependence upon change of temperature caused by burning or catalytic oxidation of surrounding material to be tested, e.g. of gas
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N30/00—Investigating or analysing materials by separation into components using adsorption, absorption or similar phenomena or using ion-exchange, e.g. chromatography or field flow fractionation
- G01N30/02—Column chromatography
- G01N30/62—Detectors specially adapted therefor
- G01N30/64—Electrical detectors
- G01N30/66—Thermal conductivity detectors
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03D—DEMODULATION OR TRANSFERENCE OF MODULATION FROM ONE CARRIER TO ANOTHER
- H03D3/00—Demodulation of angle-, frequency- or phase- modulated oscillations
- H03D3/001—Details of arrangements applicable to more than one type of frequency demodulator
- H03D3/002—Modifications of demodulators to reduce interference by undesired signals
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Immunology (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Pathology (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Fluid Adsorption Or Reactions (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
Description
- Die vorliegende Erfindung betrifft einen Fadenssensor zur Bestimmung einer statischen oder dynamischen Eigenschaft eines umgebenden gasförmigen Mediums, wie z.B. Luft, ein Verfahren zu seiner Herstellung, und Verwendungen dieses Sensors, hauptsächlich bei der Feststellung oxidierbarer Gase, jedoch auch bei der Gaschromatographie (Feststellung ionisierbarer Gase) oder auch beim Messen von Flüssigkeitsmengen.
- Ein solcher Fadensensor kann als Sensor definiert werden, der ein resistives Elememt im Inneren eines Fadens enthält, der dazu bestimmt ist, Wärme mit der Umgebung auszutauschen, sowie eine Zwischenflächenzone, die ausgelegt ist, mit dem Medium nach einem beeinflussenden physikalisch-chemischen Prozess (im Sinn der breitesten Bezeichung: Verbrennungskatalyse, Adsorption, Ionisierung, einfacher Wärmeaustausch) in Abhängigkeit von der zu bestimmenden Eigenschaft des Mediums (Konzentration, Menge ...) auf eine elektrische Eigenschaft dieser Zwischenflächenzone (Temperatur oder Widerstand; Spannung, Intensität ...) zu reagieren. Diese Zwischenflächenzone kann ebenso der äußere Teil des resistiven Elementes sein, wie eine durch Leitung erhitzte Katalysatorschicht oder eine bestimmte Elektrode.
- Bestimmte dieser Sensoren basieren auch auf einer Messung der ausgetauschten Wärme (Feststellung von verbrennbarem Gas, Mengenmesser ...), und man kann sie als kalorimetrische Sensoren bezeichnen. Ferner kann man sagen, daß verschiedene Fadensensoren alle auf das Messen einer Konzentration gerichtet sind, indem sie auf verschiedenen Phänomenen beruhen (Messen der ausgetauschten Wärme im Fall z.B. der Feststellung von brennbarem oder oxidierbarem Gas, Messen der durch eine Elektrode eingefangenen Ionenmengen z.B. bei der Gaschromatogrpahie...). Die Fadensensoren schließen somit sehr unterschiedliche Sensoren ein, und zwar ebenso bezüglich des physikalisch-chemischen Phänomens, auf dem sie beruhen, als auch bezüglich der Art der zu messenden Größe.
- Wenn sich die Beschreibung daher hauptsächlich auf die Feststellung eines oxidierbaren Gases in einem gasförmigen Medium, wie Luft, auf dem Gebiet z.B. der Explosimetrie, richtet, handelt es sich um eine bevorzugte Ausführungsform, die die Erfindung nicht einschränkt.
- Die Feststellung eines oxidierbaren Gases in der Luft wird durch einen Faden, im allgemeinen aus Platin, sichergestellt, der mittels JOULE-Effekt, d.h. mittels Durchgang eines elektrischen Stroms, erhitzt wird. Das in der umgebenden Luft enthaltene oxidierbare Gas oxidiert durch Katalyse bei Kontakt des Fadens, wo ein zusätzliches Erhitzen des letzteren erfolgt. Die daraus resultierende Temperaturänderung bewirkt eine Änderung des Widerstands des Fadens, deren direkte oder indirekte Messung die Messung der Konzentratjon dieses oxidierbaren Gases in der Luft erlaubt. Diese Fadendetektoren sind in ziemlich komplizierter Weise hergestellt, die eine teilweise manuelle Fabrikation umfaßt. Sie leiden daher an mangelnder Peproduzierbarkeit und einem hohen Verkaufspreis. Ihr schwacher elektrischer Widerstand und ihr geringes Verhältnis von Oberfläche zu Volumen erfordern ein Arbeiten bei hoher Temperatur (etwa 1000ºC).
- Andere Detektoren oxidierbarer Gase bestehen teilweise aus Katalysatorperlen; sie sind von einem metallischen Detektor (z.B. aus Platin) gebildet, der durch ein katalysatordotieres Aluminiumoxid eingehüllt ist und das Aussehen einer kleinen Perle hat. Die Alterung dieser Detektoren ist weniger schnell, weil die mit ihnen im Zusammenhang stehende Verbrennungstemperatur niedriger ist. Dennoch leiden diese Perlen an einer starken Abnahme ihrer Sensibilität, einer geringeren Stabilität und einer längeren Ansprechzeit als die Fäden.
- Ein dritter Typ eines Detektors für oxidierbare Gase besteht aus Metalloxidhalbleitern, die mit einem Katalysator dotiert sind. Diese Detektoren sind aus einem metallischen Heizfaden gebildet, der eine Isoliermanschette, z.B. aus Aluminiumoxid, erhitzt, auf der eine Schicht Halbleitermaterial abgeschieden ist, deren Widerstandsänderungen man mißt. Diese Detektoren sind gegenüber jedem auf der Halbleiteroberfläche adsorbierbaren Gas empfindlich. Aber sie haben eine ziemlich lange Ansprechzeit und einen starken Elektrizitätsverbrauch; außerdem ist der Einfluß von Feuchtigkeit bei ihnen nicht kompensiert.
- Eine kurze und allgemeine Darstellung von Fadensensoren oder Sensoren in Form von Katalysatorperlen wird im Vorwort des Dokumentes WO-90/12313 gegeben (das nur gemäß Artikel 54(3) EPC bezüglich seiner Informationen heranzuziehen ist).
- Ein weiterer Typ einer Detektoreinrichtung ist im Dokument DE-A- 3 743 398 beschrieben: Diese Detektoreinrichtung umfaßt ein Halbleitersubstrat, in welchem eine Öffnung vorgesehen ist; das Substrat ist durch zwei Schenkel, die von einer Passivierungsschicht bedeckt sind, in die Öffnung verlängert. Die Schenkel tragen an ihren Enden ein temperaturempfindliches Halbleiterelement geringer Ausdehnung in Kontakt mit einer Schicht von Katalysatormaterial. Es handelt sich nicht um einen Fadendetektor.
- Im Dokument GB-A-2 158 586 ist eine Einrichtung zur Feststellung der katalytischen Verbrennung von Methan beschrieben. Ein Heizwiderstand in dünner oder dicker Schicht ist auf einem Substrat abgeschieden, das auf seiner anderen Seite ein temperaturempfindliches Element trägt. Auf dem Heizwiderstand und möglicherweise auf dem Substrat ist eine Katalysatorschicht abgeschieden. Durch Leitung im Inneren des ebenen Substates kann es dort zu Wärmeverlusten kommen.
- Das Dokument EP-A-0 377 792, das für AT, CH, DE, FR, GB, IT und NL nach Artikel 54(3) EPC heranzuziehen ist, beschreibt einen Sensor zur Feststellung eines Gases, der eine ein Fenster aufweisende Trägerplatte, eine Isolierschicht, die die Trägerplatte bedeckt und über dem Fenster eine freie Membran bildet, umfaßt. Auf dieser Isolierschicht sind Widerstände in dünner Schicht, eine Schutzschicht und eine Katalysatorschicht aufgebracht, die die Zone bedeckt, die ausgelegt ist, durch die Widerstände erhitzt zu werden. Dort gibt es Gefahren eines Wärmeverlustes durch Leitung quer zu den Widerständen.
- Die Erfindung will die genannten Nachteile beseitigen, indem sie die Reproduzierbarkeit verbessert und die Wärmeverluste des Fadens durch Leitüng, insbesondere quer zum Faden, verringert, wobei gleichzeitig die Herstellungskosten gesenkt werden.
- Ganz allgemein schlägt sie zu diesem Zweck einen Fadensensor zur Bestimmung einer statischen oder dynamischen Eigenschaft eines umgebenden Mediums vor, umfassend ein resistives Element, das dazu bestimmt ist, mittels JOULE-Effekt in diesem Medium erhitzt zu werden, und eine Zwischenflächenzone, die ausgelegt ist, mit dem Medium nach einem beeinflussenden physikalisch-chemischen Prozess in Abhängigkeit von der zu bestimmenden Eigenschaft auf eine elektrische Eigenschaft dieser Zwischenflächenzone zu reagieren, wobei der Sensor ein Trägerblatt aufweist, das von mindestens einer Aussparung und mindestens einem dieses resistive Element einschließenden Faden durchquert wird, der aus einer oder mehreren dünnen Schichten besteht und einen zentralen Abschnitt aufweist, der sich frei in der Aussparung erstreckt und mindestens zwei Endabschnitte aufweist, durch welche der zentrale Abschnitt mit dem Trägerblatt verbunden ist, wodurch der Faden selbsttragend ist.
- Mit anderen Worten schlägt die Erfindung einen Faden vor, der durch mikroelektronische Technologien hergestellt und so konstruiert ist, daß er "selbsttragend" ist, d.h. daß die einzigen Verbindungselemente mit dem Träger dünne Schichten sind: somit besteht der Faden aus einer oder mehreren dünnen "durcheinanderliegenden" Schichten, was die Wärmeverluste durch Leitung erheblich verringert.
- Erfindungsgemäß konnte festgestellt werden, daß man durch diese Technologie der dünnen Schichten einen Faden herstellen kann, der eine mechanische Beständigkeit und eine Widerstandsfähigkeit gegen Wärmeschocks aufweist, die ausreichen, damit er selbsttragend ist.
- Tatsächlich hat die Anmelderin in überraschender Weise festgestellt, daß der Faden trotz seiner Feinheit, die ihm den gewünschten elektrischen Widerstand verleiht, ausreichend empfindlich ist, die physikalisch-chemische Reaktion zu Beginn der Messung zuzulassen, und ausreichend beständig ist, sich bei Kontakt mit dem umgebenden Medium nicht vorzeitig abzunutzen.
- Gemäß bevorzugter Ausführungsformen der Erfindung
- - weist der Faden mindestens in einem zentralen Abschnitt eine Schicht aus einem metallischen Katalysatormaterial auf, deren Außenfläche die Zwischenflächenzone darstellt,
- - liegt der Faden mindestens in seinem zentralen Abschnitt in Form eines Stapels von mindestens drei dünnen Schichten vor, von denen eine Schicht aus leitendem Material sich bis zu den äußeren Fadenenden erstreckt, eine Schicht aus Katalysatormaterial die Zwischenflächenzone bildet und eine Zwischenschicht aus elektrisch isolierendem Material besteht;
- - ist das resistive Element des Fadens eine Schicht aus einem Edelmetall, insbesondere Platin, Gold, Palladium, oder einer Kombination von Edelmetallen,
- - hat der Faden eine gewundene Formgebung, z.B. in Form einer "Mauerzinne",
- - ist der zentrale Abschnitt des Fadens durch eine Anzahl von mehr als zwei Endabschnitten mit dem Substrat verbunden,
- - ist das Substrat aus der Gruppe von Materialien ausgewählt, die aus Glas, Silicium, Tonerde (Aluminiumoxid), Kieselerde (Siliciumdioxid), Quarz und Polymeren besteht,
- - ist die Zwischenflächenzone eine dünne Schicht, die auf mindestens einer der Substratoberflächen nahe der Aussparung abgeschieden ist.
- Die Erfindung schlägt ferner ein Verfahren zur Herstellung eines Fadens unter Anwendung mikroelektronischer Techniken vor, das zur Herstellung des genannten Sensors geeignet und dadurch gekennzeichnet ist, daß es die folgenden Schritte umfaßt:
- - Abscheiden auf der jeweiligen Vorderseite und Rückseite eines blattförmigen Substrates einerseits einer vorderen Maske in einer oder mehreren dünnen Schichten, die ein vorderes Fenster aufweist, dessen Form der Form des herzustellenden Fadens entspricht und einen durch die Endabschnitte verlängerten zentralen Abschnitt aufweist, und andererseits einer rückseitigen Maske in einer oder mehreren dünnen Schichten, die ein rückseitiges Fenster aufweist, das mit Bezug zum zentralen Abschnitt unter Ausschluß der Enden angeordnet, aber größer als dieser zentrale Abschnitt ist,
- - Eintiefen eines Einschnittes in das Substrat durch Angriff der Vorderseite desselben durch die vordere Maske hindurch,
- - Abscheiden einer oder mehrerer dünner Schichten am Boden des Einschnittes, die dazu bestimmt sind, einen Faden zu bilden, und von denen mindestens eine aus elektrisch leitendem Material besteht, und
- - Entfernen des Substrates auf seiner gesamten Dicke durch Angriff durch die rückseitige Maske hindurch.
- Gemäß bevorzugten Ausführungsformen
- - scheidet man auf der Vorderseite und in der Eintiefung vor dem Angriff des Substrates zum Entfernen auf seiner gesamten Dicke durch die rückseitige Maske eine Schutzschicht auf der Vorderseite und in der Eintiefung ab und entfernt diese Schutzschicht nach dem Angriff auf das Substrat,
- - ist die Schutzschicht der Vorderseite ein Polymerharz,
- - trägt die vordere Maske eine Zwischenschicht, die von einer Harzschicht bedeckt ist, wobei die Abscheidung der einen oder mehreren dünnen Schichten nach Entfernung der Harzschicht erhalten wird durch Abscheiden einer oder mehrerer dünner Schichten in der Eintiefung und um diese herum, worauf die eine oder mehrere dünnen Schichten, die außen um die Eintiefung abgeschieden sind, durch Angriff auf die Zwischenschicht entfernt werden.
- Die aus der vorliegenden Erfindung entstehenden wesentlichen Vorteile, verglichen mit allen oben genannten Detektorelementen, bestehen in einem sehr geringen Elektrizitätsverbrauch und einer sehr geringen Ansprechzeit.
- Aufgrund einer automatisierbaren und kollektiven Herstellung kann der Sensor in reproduzierbarer Weise und in großer Stückzahl bei geringen Kosten hergestellt werden.
- Sein in Abhängigkeit von seiner geometrischen Form einstellbarer Widerstand erlaubt eine niedrigere Betriebstemperatur als bei herkömmlichen Fadensensoren, was eine gute Auflösung der Messung und eine weniger schnelle Alterung mit sich bringt. Aufgrund seiner originellen Gestalung und dank seiner daraus resultierenden sehr geringen Masse ist er wenig schockempfindlich.
- Aufgrund seiner sehr geringen Wärmeträgheit kann man auch Messungen bei unterschiedlichen Temperaturen und in sehr kurzen Zeitintervallen durchführen.
- Die Erfindung bezieht sich ferner auf die Verwendung eines solchen Sensors, hauptsächlich zur Feststellung von oxidierbarem Gas, wie Methan oder CO, jedoch auch zur Gaschromatographie (Feststellung ionisierbarer Gase) oder zum Messen von Gasmengen durch Kalorimetrie.
- Die für die Erfindung charakteristischen Aufgaben gehen aus der Beschreibung der Zeichnungen hervor, in welchen:
- - Fig. 1 eine perspektivische Ansicht eines erfindungsgemäßen Sensors ist,
- - Fig. 2 eine Teilansicht eines Längsschnittes eines anderen Sensors im Sinn seiner Dicke ist,
- - Fig. 3 eine Variante von Fig. 1 ist und
- - die Figuren 4 bis 9 Schnittansichten des Sensors von Fig. 1 in verschiedenen Stadien seiner Herstellung aus einem Substrat nach dem Verfahren der Erfindung sind.
- Die Sensor C von Fig. 1 trägt ein isolierendes Trägerblatt 1 aus Glas oder einem anderen isolierenden Material (z.B. Halbleiter), das von einer Aussparung 2 durchquert ist. In einer Variante kann dieses Trägerblatt aus einem isolierenden oder nicht isolierenden Material bestehen, das von einer Isolierschicht bedeckt ist.
- Durch die Aussparung hindurch ist ein Faden 3 angeordnet, der aus einer dünnen Schicht eines elektrisch leitenden Materials gebildet ist und dessen äußere Oberfläche oder Haut eine Zwischenflächenzone mit dem umgebenden Medium darstellt.
- Der Faden 3 weist einen zentralen Abschnitt 3A und elektrisch leitende Enden 4 auf, durch welche der zentrale Abschnitt 3A mit dem Trägerblatt verbunden ist. Diese Enden sind durch leitende Steckstellen 5 abgeschlossen, an die, z.B. durch Löten, elektrische Fäden 6 anschlossen sein können, die den Sensor mit dem Rest der ihn umfassenden elektrischen Schaltung verbinden.
- Der Faden 3 weist vorzugsweise eine gewundene Formgebung parallel zu dem Trägerblatt, hier in Form von Mauerzinnen, auf, was ihm für einen gegebenen Abschnitt und eine zwischen den Steckstellen 5 gegebene Entfernung eine ausgedehnte Außenfläche verleiht und die Bruchgefahr durch Dilatation vermeidet. Selbstverständlich sind auch andere geometrische Formgebungen möglich. Hierzu kann präzisiert werden, daß der Faden in dünner Schicht nicht insgesamt geradlinig zu sein braucht, sondern parallel zum Trägerblatt abgewinkelt sein kann. Ferner kann der Faden die Form eines feinen Blattes parallel zum Trägerblatt haben, und zwar selbstverständlich mit Abmessungen unter denen der Aussparung.
- Die dünne Schicht 3 kann aus jeder Substanz bestehen, die physikalisch-chemischen Phänomenen, auf denen die Messungen basieren, Raum gibt. So kann diese dünne Schicht aus einem Material ausgebildet sein, das aufgrund seiner elektrischen Eigenschaften gewählt ist, die durch die zu charakterisierende Umgebung modifiziert werden.
- Zum Messen von oxidierbarem Gas kann es sich insbesondere um ein Katalysatormaterial, wie Platin, Nickel, Osmium, Gold, Iridum, Metallkombinationen, oxidierbare Metalle, Halbleiter, Sulfide ..., handeln.
- Das Material kann auch in Abhängigkeit von seinen absorbierenden oder adsorbierenden Eigenschaften gewählt werden, woraus eine Modifikation seiner elektrischen Eigenschaften resultiert.
- Fig. 2 (in der gleiche Elemente wie in Fig. 1 die gleichen, jedoch mit einem Strich (') versehenen Bezugszeichen haben) veranschaulicht einen anderen Sensor C', dessen Faden 3' nicht mehr aus einer einzigen dünnen Schicht sondern aus einem Stapel dünner Schichten aus leitendem, isolierendem oder Katalysatormaterial besteht. Die Folge dieser Schichten ist so beschaffen, daß
- - jede Schicht aus Katalysatormaterial über oder unter dem Stapel gelegen ist,
- - jede elektrisch leitende Schicht elektrisch an die Steckstellen 5 angeschlossen ist und
- - eine isolierende Schicht zwischen diesen Schichten aus leitendem oder Katalystormaterial vorgesehen ist.
- Genauer gesagt, veranschaulicht diese Fig. 2 drei aufeinanderfolgende Schichten 7, 8 und 9, jeweils aus leitendem, isolierendem und Katalysatormaterial. Eine nicht dargestellte Variante des Stapels der Schichten ist vom Typ 9-8-7-8-9.
- Fig. 3 (in der gleiche Elemente wie in Fig. 1 die gleichen, jedoch mit einem Doppelstrich (") versehenen Bezugszeichen haben) veranschaulicht eine andere Variante C" von Fig. 1, in welcher zusätzliche Endabschnitte 10 quer zu dem zentralen Abschnitt des Fadens 3" angeordnet sind. Diese zusätzlichen Abschnitte sind durch die Steckstellen 10A abgeschlossen. Wenn der Faden eine dünne Schicht ist, wie in Fig. 1, können sie elektrischen Zwischenmessungen dienen oder verschiedene Montagen zulassen, die es ermöglichen, die Anzahl der verschiedenen, für eine gegebene Anzahl von Anwendungen herzustellenden und zu lagernden Sensoren zu verringern. Im Fall eines mehrschichtigen Fadens, wie in Fig. 2, können diese Abschnitte 10 die elektrischen Verbindungen zu der Katalysatorschicht darstellen, die auf andere Weise von der leitenden Schicht isoliert sind.
- Man erkennt, daß bei jedem der obigen Beispiele die Gesamtheit des Fadens vollständig im Rauminhalt (der Dicke) des Substrates gelegen ist.
- Die Figuren 4 bis, 9 zeigen in einer Ebene des durch A-A markierten Schnittes von Fig. 1 verschiedene Stadien des Herstellungsverfahrens von Sensor 1 in einem Beispiel, das ein Substrat aus Glas vorsieht:
- Eine erste Phase besteht aus der Herstellung des Substrates 1 durch
- - Reinigen des Substrates 1 mit z.B. Salpetersäure oder Sulfochromsäure und anschließendes Spülen mit entionisiertem Wasser,
- - staubfreies Trocknen.
- In einer zweiten Phase stellt man die Masken auf jeder der Vorderseiten 1A und Rückseiten 1B des Substrates mit den folgenden Schritten her (vgl. Fig. 4):
- - eine dünne Chromschicht 11 von 1000 bis 2000 Å wird auf der Rückseite abgeschieden; auf der anderen Seite (Vorderseite) werden eine Chromschicht 12 von einigen Å bis 1000 Å und dann eine Goldschicht 13 von etwa 1000 Å abgeschieden. Die Schritte können gegeneinander versetzt werden, sind jedoch vorzugsweise gleichzeitig;
- - eine Schicht aus lichtempfindlichem Harz 14, 15 wird auf jeder Substratseite abgeschieden,
- - isolierende Masken 14A und 15A werden gegenüber einerseits dem Substrat und andererseits den genannten Schichten positioniert, man isoliert die Schichten 14 und 15 durch die Masken 14A und 15A hindurch und entwickelt die so isolierten Zonen; so erhält man die Harzmasken 16 und 17. Die beiden letztgenannten Schritte sind an sich herkömmlich;
- - man graviert die Metallschichten durch die Masken 16 und 17 hindurch,
- . Gravur der Chromschicht 11 auf der Rückseite,
- . Gravur der Chromschicht 12 auf der Vorderseite,
- = und man spült erneut mit entionisiertem Wasser. So erhält man die Struktur von Fig. 5.
- Man wird erkennen, daß die so erhaltene rückseitige Maske (Schichten 11 und 14) ein Fenster 16A aufweist, das mit Bezug zum zentralen Abschnitt (zwischen den Enden 4 und 5 von Fig. 1) des Fensters 17A der vorderen Maske (Schichten 12, 13, und 15) unter Ausschluß dieser Enden gelegen ist; dieses Fenster 16A ist jedoch größer (hier auf jeder Seite größer) als der zentrale Abschnitt.
- In einer dritten Phase bewerkstelligt man die Eintiefung der Einschnitte 18 und 19 durch chemischen Angriff des Glases mit Fluorwasserstoffsäure durch die Masken hindurch, die aus den übereinandergelegten Schichten aus Chrom 12, Gold 13 und Harz 15 bestehen und auf die Vorderseite 1A des Blattes 1 graviert sind. Dieser chemische Angriff ist isotrop (im Sinn der Dicke und seitlich). Er führt zu einer Übergravur,die die Schichten 12 und 13 über den geneigten Kanten 20 des Einschnittes freigibt, wodurch die Überplombung 21 gebildet wird. Während es in Gravurverfahren dieses Typs üblich ist, die Bedingungen zwecks Vermeidung einer Übergravur zu modifizieren, strebt man hier eben diese Übergravur an und bedient sich ihrer. Die so entstehende Überplombung 21 erlaubt tatsächlich eine bessere Entfernung der Schichten 12 und 13 am Herstellungsende.
- Die Harzmasken 14 und 15 werden z.B. in Aceton und dann in Salpetersäure entfernt. Dann spült man mit entionisiertem Wasser und trocknet staubfrei, wodurch man die Struktur von Fig. 6 erhält.
- In einem vierten Schritt arbeitet man den am Boden des Einschnittes 18 enthaltenen Faden 3 am Boden des Einschnittes 18 aus, indem man eine feine Schicht aus Chrom 23 (etwa 100 A) auf der Vorderseite 1A des Substrates abscheidet, worauf auf dieser gesamten dünnen Schicht 23 eine Schicht aus Platin 24 (vgl. Fig. 7) abgeschieden wird. So erhält man in dem Einschnitt dünne Schichten 23A und 24A, die von den Abschnitten 23B und 24B aus Gold und Platin, die auf dem Rest der Vorderseite abgeschieden sind, dissoziiert sind. Die Gesamtdicke der Schichten 23 und 24 muß somit kleiner (oder zumindest etwas kleiner) als die Tiefe des Einschnittes 18 sein. Im Fall des Sensors C' von Fig. 2 kann man ebenfalls sagen, daß die Gesamtdicke der abgeschiedenen Schichten kleiner als die Tiefe des Einschnittes ist. Es ist entscheidend, daß die Schichten in dem Einschnitt 18 nicht mit der Überplombung 21 in Kontakt kommen.
- Dann entfernt man die überschüssigen seitlichen Abschnitte 24A und 23A der Schichten aus Platin und Chrom durch chemischen Angriff der Goldschicht 13 (mindestens 3-stündiges Eintauchen des Substrates in ein Reaktionsmittel der Goldgravur, was die überflüssige Platinschicht mechanisch entfernt, und Abheben der letzten überschüssigen Spuren von Platin in einem Ultraschallbehälter). Dieser Vorgang wird durch die durch Übergravur erhaltene Überplombung 21 wesentlich erleichtert.
- Nach Spülen mit entionisiertem Wasser und Trocknen wird eine neue Schicht 25 aus lichtempfindlichem Harz von etwa 3 um auf der Rückseite aufgebracht und dann durch die gleiche Maske wie in Fig. 4 einer Isolierung unterzogen; nach Entwickeln erhält man eine rückseitige Maske, die mit der auf dieser Seite verbliebenen Maske aus Chrom 11 übereinstimmt. In der Praxis härtet man die Maske dann bei 140ºC (während 30 min) nach.
- In einer letzten Phase tieft man dann das Substrat durch Angriff durch die rückseitige Maske auf seiner gesamten Dicke aus, und zwar gemäß den folgenden Schritten:
- - Abscheiden einer Schutzschicht 26 auf der Vorderseite 1A, die mit der Chromschicht 12 bedeckt ist. Diese Schutzschicht füllt die Eintiefung 18, und, indem sie dort haftet, bedeckt sie den Faden am Boden der Eintiefung. Diese Schutzschicht kann aus jedem gegen Fluorwasserstoffsäure beständigen Material bestehen und kann mit Hilfe eines handelsüblichen Lösungsmittels leicht in Lösung verwendet werden. Vorzugsweise verwendet man ein Polymerharz von Typ APIEZON-W von ZIVY;
- - chemischer Angriff unter Ultraschall des den Faden tragenden Glases 1 durch die Maske 25 hindurch, die auf der Rückseite 1B abgeschieden ist und aus der gravierten Chromschicht 11 und und der gravierten Schicht aus lichtempfindlichen Harz besteht.
- Nach Entfernung des Glases und der Schutzschicht 26 mit Hilfe eines geeigneten handelsüblichen Lösungsmittels, wie z.B. Perchlorethylen, verbleibt der Faden 3 in überraschender Weise "selbsttragend" in dem Blatt aus Glas (vgl. Fig. 9). Letzteres wird von jeglichem Vorliegen einerseits des Harzes oder Polymers mit Hilfe eines geeigneten chemischen Reaktionsmittels (im allgemeinen rauchende Salpetersäure) und andererseits auf jeder Seite des Glasblattes verbliebenen Chromschichten 11 und 12 mit Hilfe des Reaktionsmittels der chemischen Chromgravur befreit.
- Die Neigung der Kanten der Eintiefung 2 von Fig. 9 entstehen durch die isotrope Natur des Fluorwasserstoffangriffs. Im Fall eines Substrates und einer zu einem anisotropen Angriff führenden Säure erhält man senkrechte Kanten, wie dies in den Figuren 7 und 8 dargestellt ist.
- Beispielsweise sind die verwendeten Reaktionsmittel der chemischen Gravur wie folgt:
- Chrom: 1) Cr-ETCH von SOPRELEC (EVRY)
- 2) 50 g/l KMnO&sub4; + 50 mg/l KOH + entionisiertes Wasser (1 1),
- Gold: 25 g/l I&sub2; + 60 g/l KI + 1 l entionisiertes Wasser
- Glas: HF, von 40 % auf 20 % verdünnt (gemäß der gewünschten Geschwindigkeit der Gravur).
- Beispiele von Dicken für Glasblätter von 150 um Dicke sind:
- . Chrom N. 11: 500 bis 1000 Å
- . Chrom N.s 12 und 23: 50 bis 500 Å
- . Gold N. 13: 1500 bis 2500 Å
- . Platin: 0,5 bis 9 um
- . APZIEZON W: mindestens 100 um
- . lichtempfindliches Harz 1350-H von SHIPPLEY: 1 bis 3 um,
- . Länge der Eintiefung: 2 mm.
- Die Bedeutung der Schichten aus Chrom liegt einerseits in der verbesserten Abscheidung des Goldes, die man sonst nicht direkt auf dem Glas bewerkstelligen könnte, und andererseits in der guten Haftung der Maske, die aus den Schichten des lichtempfindlichen Harzes und den Chromschichten besteht, während der Fluorwasserstoffangriffe auf das Glas.
- Eine Variante des Verfahrens besteht gemäß den Figuren 5bis und 6bis in der Durchführung eines Verdickungsvorganges der Goldschicht. Diese Variante ermöglicht so die Abscheidung einer stärkeren Platindicke.
- Die zweite und dritte Phase des Verfahrens sind wie folgt modifiziert:
- Am Ende der Metallgravuren durch die Masken 16 und 17
- - bewirkt man eine Beizung der Harzschichten 14 und 15 mit Aceton und Salpetersäure,
- - und dann erfolgt ein erneutes Spülen mit entionisiertem Wasser.
- Man wird erkennen, daß die so erhaltene rückseitige Maske (Schicht 11) ein Fenster 16A trägt, das bezüglich dem zentralen Abschnittes (zwischen den Enden 4 von Fig. 1) des Fensters 17A der vorderen Maske (Schichten 12, 13) unter Ausschluß der Enden gelegen ist, daß aber dieses Fenster 16A größer (hier auf jeder Seite größer) als der zentrale Abschnitt ist.
- Dann erfolgt ein Verdickungsvorgang der Goldschicht 13 (Fig. 5bis) durch elektrolytisches Abscheiden von Gold (Schicht 13bis), gefolgt von einem Spülen mit entionisiertem Wasser.
- Die Dicke des elektrolytischen Goldes wird durch die Tiefe der Einschnitte bestimmt, die man im folgenden Schritt zu gravieren wünscht, nämlich etwa 1 um für eine Einschnittiefe von 10 bis 15 um. Auf der Rückseite wird eine gleichmäßige Schutzschicht 11bis aus lichtempfindlichem Harz abgeschieden.
- In der dritten Phase erfolgt die Eintiefung des Einschnittes 18 durch chemischen Angriff des Glases mit Fluorwasserstoffsäure durch die aus übereinandergelegten Schichten von Chrom 12, Gold 13 und 13bis bestehende Maske, die auf die Vorderseite 1A des Blattes 1 graviert ist. Dieser chemiche Angriff ist isotrop (im Sinn der Dicke und seitlich); dadurch entsteht eine Übergravur, die die Schichten 12, 13 und 13b über den geneigten Kanten 20 des Einschnittes freilegt, die so eine Überplombung 21 bilden. Während es in Gravurverfahren dieses Typs üblich ist, die Bedingungen zur Vermeidung der Übergravur zu modifizierten, sucht man hier eben diese Übergravur und bedient sich ihrer. Tatsächlich erlaubt die dadurch entstehende Überplomung 21 eine bessere Entfernung der Schichten 12 und 13 am Ende der Herstellung.
- Die Harzmaske 11bis wird z.B. in Aceton und dann in Salpetersäure entfernt. Dann erfolgen ein Spülen mit entionisiertem Wasser und eine staubfreie Trocknung; man erhält die Struktur von Fig. 6.
- Die abschießenden Phasen des Verfahrens bleiben identisch.
- Außer Glas kann man andere Substrate verwenden, nämlich Silicium, Tonerde (Aluminiumoxid), Kieselerde (Siliciumdioxid) und insbesondere Quarz, das ein gutes Temperaturverhalten und eine selektive Beständigkeit gegen chemische Angriffe zeigt.
- Ebenso ist es möglich, doppelseitig metallisierte Substrate, z.B. Gold auf Chrom, zu verwenden, wodurch man die Anfangsschritte der Metallabscheidungen vermeiden kann.
- So wurden Versuche mit Quarz einer Dicke zwischen 125 und 175 um durchgeführt, das doppelseitig mit Gold auf Chrom metallisiert war, indem man die gleichen Reaktionsmittel der chemischen Gravur verwendete.
- Ein derartiger Sensor bietet verschiedene Verwendungsmöglichkeiten.
- Erstens kann er so durch Integration eines bekannten beschriebenen Schaltkreises der Feststellung von oxidierbarem Gas dienen.
- Er kann auch zu Messungen durch Chromatographie verwendet werden; der Faden 3 dient der örtlichen Erhitzung und Ionisierung des gasförmigen Mediums, und eine oder mehrere Ionenaufnahme- Elektroden (Zwischenflächenzone) bestehen aus einer oder mehreren dünnen leitenden Schichten, die auf dem Substrat um die Aussparung 2 abgeschieden sind; es kann sich um Chromschichten 11 und 12 handeln, die man zu diesem Zweck stehen läßt.
- Selbstverständlich ist die vorliegende Erfindung nur durch ein nicht einschränkendes Beispiel erläutert worden, und zahlreiche Varianten können vom Fachmann vorgeschlagen werden, ohne vom Umfang der Erfindung abzuweichen. So können mehrere Fäden in der gleichen Aussparung gebildet und mehrere Aussparungen können gleichzeitig in dem gleichen Substrat gebildet werden (kollektive Herstellung).
Claims (22)
1. Fadensensor zur Bestimmung einer statischen oder dynamischen
Eigenschaft eines umgebenden Mediums, umfassend ein resistives
Element das dazu bestimmt ist, mittels JOULE-Effekt in
diesem Medium erhitzt zu werden, und eine Zwischenflächenzone,
die ausgelegt ist, mit dem Medium nach einem beeinflussenden
physikalisch-chemischen Prozess in Abhängigkeit von der zu
bestimmenden Eigenschaft auf eine elektrische Eigenschaft
dieser Zwischenflächenzone zu reagieren, dadurch gekennzeichnet,
daß er ein Trägerblatt (1, 1', 1") aufweist, das von mindestens
einer Aussparung (2, 2', 2") und mindestens einem dieses
resistive Element einschließenden Faden (3, 3', 3") durchquert
wird, der aus einer oder mehreren dünnen Schichten (3, 7, 8, 9,
24A) besteht und einen zentralen Abschnitt aufweist, der sich
frei in der Aussparung erstreckt, und mindestens zwei Endabschnitte (4,
4', 4", 10) aufweist durch welche der zentrale Abschnitt
mit der Trägerblatt verbunden ist, wodurch der Faden
selbsttragend ist.
2. Sensor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der
Faden (3, 3") aus einer Schicht von metallischem
Katalysatormaterial gebildet ist, dessen Außenfläche die Zwischenflächenzone
darstellt.
3. Sensor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der
Faden zumindest in einem zentralen Abschnitt aus einem Stapel von
mindestens drei dünnen Schichten (7, 8, 9) gebildet ist, von
denen eine Schicht (7) aus leitendem Material sich bis zu den äußeren
Fadenenden erstreckt eine Schicht (9) aus Katalysatormaterial
die Zwischenflächenzone bildet, und eine Zwischenschicht (8) aus
elektrisch isolierendem Material besteht.
4. Sensor nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch
gekennzeichnet, daß das resistive Element eine Schicht aus einem
Edelmetall, insbesondere Platin, Gold, Palladium, oder einer
Kombination von Edelmetallen ist.
5. Sensor nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch
gekennzeichnet, daß der Faden eine gewundene Formgebung hat.
6. Sensor nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch
gekennzeichnet, daß der zentrale Abschnitt des Fadens durch eine
Anzahl von mehr als zwei Endabschnitten (4", 10) mit dem
Substrat verbunden ist.
7. Sensor nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch
gekennzeichnet, daß das Substrat aus der Gruppe von Materialien
ausgewählt ist, die aus Glas, Silicium, Tonerde
(Aluminiumoxid), Kieselerde (Siliciumdioxid), Quarz und Polymeren
besteht.
8. Verwendung eines Sensors nach einem der Ansprüche 1 bis 7
zur Feststellung von oxidierbarem Gas.
9. Verwendung eines Sensors nach Anspruch 8, dadurch
gekennzeichnet, daß das oxidierbare Gas Methan oder Kohlenmonoxid
ist.
10. Verwendung eines Sensors nach einem der Ansprüche 1 bis 7
zum Messen des Ausstoßes von Flüssigkeiten.
11. Sensor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die
Zwischenflächenzone eine dünne Schicht ist, die auf mindestens
eine der Substratoberflächen nahe der Aussparung abgeschieden
ist.
12. Verwendung eines Sensors nach Anspruch 11 zum Feststellen
und Messen von ionisierbarem Gas durch
Ionisationschromatographie.
13. Verfahren zur Herstellung eines Fadensensors zum Bestimmen
einer statischen oder dynamischen Eigenschaft eines umgebenden
Mediums, umfassend ein resistives Element, das dazu bestimmt
ist, mittels JOULE-Effekt in diesem Medium erhitzt zu
werden, und eine Zwischenflächenzone, die ausgelegt ist, mit dem
Medium nach einem beeinflussenden physikalisch-chemischen
Prozess in Abhängigkeit von der zu bestimmenden Eigenschaft auf
eine elektrische Eigenschaft dieser Zwischenflächenzone zu
reagieren, das zur Herstellung eines Sensors nach einem der
Ansprüche 1 bis 12 geeignet ist, dadurch gekennzeichnet, daß es
die folgenden Schritte beinhaltet:
- Abscheiden auf der Oberfläche der jeweiligen Vorderseite
(1A) und Rückseite (1B) eines blättförmigen Substrates
(1) einerseits einer vorderen Maske in einer oder mehreren
dünnen Schichten (12, 13, 15), die ein vorderes Fenster (17A)
aufweist, dessen Form der Form des herzustellenden Fadens (3)
entspricht und einen durch die Endabschnitte verlängerten
zentralen Abschnitt aufweist, und andererseits einer
rückseitigen Maske in einer oder mehreren dünnen Schichten (11, 14),
die ein rückseitiges Fenster (16A) aufweist, das mit Bezug zum
zentralen Abschnitt des Fensters unter Ausschluß der Enden
angeordnet, aber größer als dieser zentrale Abschnitt ist,
- Eintiefen eines Einschnittes (18) in das Substrat durch
Angriff der Vorderseite desselben durch die vordere Maske
hindurch,
- Abscheiden einer oder mehrerer dünner Schichten (24A) am
Boden des Einschnittes, die dazu bestimmt sind, einen Faden zu
bilden, und von denen mindestens eine aus elektrisch leitendem
Material besteht, und
- Entfernen des Substrates auf seiner gesamten Dicke durch
Angriff durch eine Maske (11, 25) hindurch, die die gleiche
Form wie die vordere Maske hat.
14. Verfahren zur Herstellung eines Fadensensors zum Bestimmen
einer statischen oder dynamischen Eigenschaft eines umgebenden
Mediums, umfassend ein resistives Element, das dazu bestimmt
ist, mittels JOULE-Effekt in diesem Medium erhitzt zu
werden, und eine Zwischenflächenzone, die ausgelegt ist, mit dem
Medium nach einem beeinflussenden physikalisch-chemischen
Prozess in Abhängigkeit von der zu bestimmenden Eigenschaft auf
eine elektrische Eigenschaft dieser Zwischenflächenzone zu
reagieren, das zur Herstellung eines Sensors nach einem der
Ansprüche 1 bis 12 geeignet ist, dadurch gekennzeichnet, daß es
die folgenden Schritte beinhaltet:
- Abscheiden auf der Oberfläche der jeweiligen Vorderseite
(1A) und Rückseite (1B) eines blattförmigen Substrates
(1) einerseits einer vorderen Maske in einer oder mehreren
dünnen Schichten (12, 13) und eines Elektrolytniederschlages
(13bis), die ein vorderes Fenster (17A) aufweisen, dessen Form
der Form des herzustellenden Fadens (3) entspricht, und einen
durch die Endabschnitte verlängerten zentralen Abschnitt
aufweisen, und andererseits einer rückseitigen Maske in einer oder
mehreren dünnen Schichten (11, 11bis), die ein rückseitiges
Fenster (16A) aufweist, das mit Bezug zum zentralen Abschnitt
des Fensters unter Ausschluß der Enden angeordnet, aber größer
als dieser zentrale Abschnitt ist,
- Eintiefen eines Einschnittes (18) in das Substrat durch
Angriff der Vorderseite desselben durch die vordere Maske
hindurch,
- Abscheiden einer oder mehrerer dünner Schichten (24A) am
Boden des Einschnittes, die dazu bestimmt sind, den Faden
darzustellen, und von denen mindestens eine aus elektrisch
leitendem Material besteht, und
- Entfernen des Substrates auf seiner gesamten Dicke durch
Angriff durch eine Maske (11, 25) hindurch, die die gleiche
Form wie die vordere Maske hat.
15. Verfahren zur Herstellung eines Fadensensors zum Bestimmen
einer statischen oder dynamischen Eigenschaft eines umgebenden
Mediums, umfassend ein resistives Element, das dazu bestimmt
ist, mittels JOULE-Effekt in diesem Medium erhitzt zu
werden, und eine Zwischenflächenzone, die ausgelegt ist, mit dem
Medium nach einem beeinflussenden physikalisch-chemischen
Prozess in Abhängigkeit von der zu bestimmenden Eigenschaft auf
eine elektrische Eigenschaft dieser Zwischenflächenzone zu
reagieren, das zur Herstellung eines Sensors nach einem der
Ansprüche 1 bis 12 geeignet ist, dadurch gekennzeichnet, daß man
ein metallisiertes Substrat verwendet, das ein vorderes Fenster
(17A)
aufweist, dessen Form derjenigen des herzustellenden Fadens (3)
entspricht und das einen durch die Endabschnitte verlängerten
zentralen Abschnitt aufweist, und andererseits ein rückseitiges
Fenster (16A) aufweist, das in Bezug zum zentralen Abschnitt
des Fensters unter Ausschluß der Enden angeordnet, jedoch größer
als dieser zentrale Abschnitt ist,
- man eine Eintiefung (18) durch Angriff der vorderen Seite
des Substrates durch die vordere Maske hindruch in das Substrat
einschneidet,
- man am Boden der Eintiefung eine oder mehrere dünne
Schichten (24A) abscheidet, die den Faden darstellen sollen und von
denen mindestens eines aus elektrisch leitendem Material
besteht, und
- man das Substrat auf seiner gesamten Dicke durch Angriff
durch eine Maske (11, 25) hindurch entfernt, die die gleiche
Form wie die rückseitige Maske hat.
16. Verfahren nach einem der Ansprüche 13 bis 15, dadurch
gekennzeichnet, daß es vor dem Angriff des Substrates zu dessen
Entfernung auf seiner gesamten Dicke durch die rückseitige
Maske hindurch das Abscheiden einer Schutzschicht (26)
auf der Vorderseite und in dem Einschnitt aufweist, worauf
diese Schutzschicht nach dem Angriff des Substrates entfernt wird.
17. Verfahren nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, daß die
Schutzschicht der Vorderseite aus einem Polymerharz besteht.
18. Verfahren nach einem der Ansprüche 13 bis 17, dadurch
gekennzeichnet daß die vordere Maske eine Zwischenschicht (13)
aufweist, die von einer Harzschicht (15) bedeckt ist, wobei die
Abscheidung einer oder mehrerer dünner Schichten des Fadens
nach Entfernen der Harzschicht (15) durch Abscheiden einer oder
mehrerer dünner Schichten (24) in dem Einschnitt (24A) und um
diesen herum (24B) erhalten wird, worauf eine oder mehrere
dünne Schichten (24B), die um den Einschnitt abgeschieden wurden,
durch Angriff der Zwischenschicht entfernt werden.
19. Verfahren nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, daß
dann, wenn das Substrat aus Glas besteht, die vordere Maske
eine Schicht aus Gold (13) aufweist, die eine auf der
Vorderseite (1A) abgeschiedene Schicht aus Chrom (12) bedeckt, und
man mindestens eine Schicht aus Platin am Boden des vorderen
Einschnittes (18) abscheidet.
20. Verfahren nach einem der Ansprüche 13 bis 19, dadurch
gekennzeichnet, daß man in den vorderen Einschnitt mindestens
eine Schicht aus metallischem Katalysatormaterial abscheidet.
21. Verfahren nach einem der Ansprüche 13 bis 20, dadurch
gekennzeichnet, daß man am Boden des Einschnittes mindestens drei
dünne Schichten (7, 8, 9) abscheidet, von denen eine Schicht
aus Leitermaterial, eine Schicht aus isolierendem Material und
eine Schicht aus Katalysatormaterial besteht.
22. Verfahren nach einem der Ansprüche 13 bis 21, dadurch
gekennzeichnet, daß das Substrat aus der Gruppe von Materialien
ausgewählt ist, die aus Glas, Silicium, Tonerde
(Aluminiumoxid), Kieselerde (Siliciumoxid), Quarz und Polymeren besteht.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR8910837A FR2650891B1 (fr) | 1989-08-11 | 1989-08-11 | Capteur a filament en couche mince autoporte, son procede de fabrication et ses applications dans la detection de gaz et en chromatographie gazeuse |
PCT/FR1990/000608 WO1991002242A1 (fr) | 1989-08-11 | 1990-08-10 | Capteur a filament en couche mince autoporte, son procede de fabrication et ses applications dans la detection de gaz et en chromatographie gazeuse |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE69018471D1 DE69018471D1 (de) | 1995-05-11 |
DE69018471T2 true DE69018471T2 (de) | 1995-10-05 |
Family
ID=9384674
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE199090912874T Pending DE486596T1 (de) | 1989-08-11 | 1990-08-10 | Selbsttragender duennschichtsensor, verfahren zu seiner herstellung und anwendung in der gasdetektion und gaschromatographie. |
DE69018471T Expired - Fee Related DE69018471T2 (de) | 1989-08-11 | 1990-08-10 | Selbsttragender dünnschichtsensor, verfahren zu seiner herstellung und anwendung in der gasdetektion und gaschromatographie. |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE199090912874T Pending DE486596T1 (de) | 1989-08-11 | 1990-08-10 | Selbsttragender duennschichtsensor, verfahren zu seiner herstellung und anwendung in der gasdetektion und gaschromatographie. |
Country Status (13)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US5549870A (de) |
EP (1) | EP0486596B1 (de) |
JP (1) | JPH04507461A (de) |
CN (1) | CN1019331B (de) |
AT (1) | ATE120858T1 (de) |
AU (1) | AU647749B2 (de) |
CA (1) | CA2060183A1 (de) |
CZ (1) | CZ393190A3 (de) |
DE (2) | DE486596T1 (de) |
FR (1) | FR2650891B1 (de) |
PL (1) | PL163992B1 (de) |
WO (1) | WO1991002242A1 (de) |
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---|---|---|---|---|
DE102023208844A1 (de) | 2023-09-12 | 2025-03-13 | Robert Bosch Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Sensorvorrichtung zur Bestimmung einer Wasserstoffkonzentration im Umfeld der Sensorvorrichtung |
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-
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- 1989-08-11 FR FR8910837A patent/FR2650891B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
1990
- 1990-08-01 ZA ZA906062A patent/ZA906062B/xx unknown
- 1990-08-09 CZ CS903931A patent/CZ393190A3/cs unknown
- 1990-08-10 EP EP90912874A patent/EP0486596B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1990-08-10 CA CA002060183A patent/CA2060183A1/en not_active Abandoned
- 1990-08-10 JP JP2512020A patent/JPH04507461A/ja active Pending
- 1990-08-10 DE DE199090912874T patent/DE486596T1/de active Pending
- 1990-08-10 DE DE69018471T patent/DE69018471T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-08-10 PL PL90286431A patent/PL163992B1/pl unknown
- 1990-08-10 AT AT90912874T patent/ATE120858T1/de not_active IP Right Cessation
- 1990-08-10 AU AU62786/90A patent/AU647749B2/en not_active Ceased
- 1990-08-10 WO PCT/FR1990/000608 patent/WO1991002242A1/fr active IP Right Grant
-
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- 1994-11-28 US US08/345,548 patent/US5549870A/en not_active Expired - Fee Related
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JPH04507461A (ja) | 1992-12-24 |
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PL286431A1 (en) | 1991-02-25 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |