DE682470C - Verfahren zur Herstellung gegeneinander isolierter Flaechenstuecke eines leitenden Stoffes durch Aufdampfen auf eine isolierende Flaeche bei Mosaikelektroden - Google Patents
Verfahren zur Herstellung gegeneinander isolierter Flaechenstuecke eines leitenden Stoffes durch Aufdampfen auf eine isolierende Flaeche bei MosaikelektrodenInfo
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- Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Description
DEUTSCHES REICH
AUSGEGEBEN AM
27. FEBRUAR 1940
27. FEBRUAR 1940
REICHSPATENTAMT
PATENTSCHRIFT)
Λ! 662470
KLASSE 21 g GRUPPE
F 80861 VIII el21g
Fernseh Akt.-Ges. in Berlin-Zehlendorf *)
Patentiert im Deutschen Reiche vom 12. März 1936 ab
Patenterteilung bekanntgemacht am 28. September 1939
ist in Anspruch genommen
Es ist bekannt, zur Herstellung von Photozellenmosaiks
Silber durch ein feinmaschiges Gitter auf eine isolierende Oberfläche, Glimmer, aufzudampfen. Das auf diese Weise
aufgebrachte Silber bildet ein Muster, das dem Gitter entspricht. Das Silber wird oxydiert,
dann wird Caesiumdampf in die Röhre eingelassen, der sich auf dem Silber niederschlägt,
und darauf wird das Caesium aktiviert. Die so hergestellten Photozellenmosaiks haben jedoch die Nachteile, daß eine ■
monomolekulare Schicht von Alkalimetall auf der Glknmeroberfläche zwischen^ den Photoelementen
leicht eine Leitung verursacht, daß bei Verwendung in einer Bildzerlegeröhre
leicht Interferenzmuster entstehen, wie sie bei der Durchsicht durch zwei Gitter auftreten,
und daß die Zwischenräume zwischen den einzelnen Teilchen und die Teilchen selbst
verhältnismäßig groß sind, da es praktisch nicht möglich ist, ein Gitter mit genügend
feinen Maschen herzustellen, um die gewünschte Teilchenzahl zu erhalten.
Es ist ferner bekannt, zur Herstellung einer Mosaikelektrode Silber in zusammenhängender
Schicht auf eine isolierende Unterlage aufzubringen und alsdann zu erhitzen, so daß es in zahllose kleine Kügelchen zerfällt.
Dabei besteht aber der Nachteil, daß das Silber in der Regel zunächst aufgedampft werden
muß, während die Erhitzung an Luft geschieht, so daß die Platte zweimal ins Vakuum eingebaut werden muß.
Bei dem im folgenden beschriebenen "Verfahren wird der leitende Stoff ebenfalls auf
eine isolierende Fläche aufgedampft. Gemäß der Erfindung wird aber die isolierende
Fläche derart mit überhängenden oder unterschnittenen Stellen versehen und der leitende
Stoff von einer punktförmigen Stelle aus mit gradliniger Ausbreitung auf die Isolierfläche
verdampft, daß die von den überhängenden Teilen beschatteten Stellen der isolierenden
Unterlage frei von aufgedampftem, leitendem Stoff bleiben. Um das Mosaik photoempfind--Hch
zu machen, wird dann z. B. ein Alkalimetall auf die leitenden Flächenteilchen kondensiert.
Das leitende Material ist zweckmäßig Silber. Es ist vorteilhaft, die Silberfläche
zu oxydieren, bevor der photoelektrische Stoff aufgebracht wird.
Des weiteren wird nach der Erfindung eine besonders gute Empfindlichkeit dadurch erhalten,
daß die Oxydation durch Sauerstoff-
*) Von dem Patentsucher ist als der Erfinder angegeben worden:
Russell H. Varian in Fort Wayne, Indiana, V. St. A,
ionen vor sich geht, die die Oberfläche durch Diffusion erreichen; es werden also die Ionen
nicht mit hoher Geschwindigkeit auf die Silberschicht geleitet.
Bisher war es bei der Herstellung von photoelektrischen Kathoden allgemein üblich,
das Alkalimetall z. B." durch eine Glimmerentladung innerhalb der Röhre zu sensibilisieren
und während des Sensibilisationsprozesses die Emission der Kathode zu überwachen.
Bei einer Photokathode mit einer großen Anzahl voneinander getrennter emittierender
Teilchen stellt die Überwachung und Messung der Emission einiger oder aller ns Teilchen eine Erschwerung des Verfahrens
dar. Erfindungsgemäß liegt die Fläche des Photozellenmosaiks in der gleichen Ebene
wie eine sie umgebende glatte Oberfläche, auf der eine zusammenhängende photoelektrische
zo Schicht aufgebracht wird. Es ist relativ leicht, die Emission dieser zusammenhängenden
Oberfläche zu überwachen, und es wurde gefunden, daß die Emission dieser zusammenhängenden
Fläche ein Maximum hat, wenn die Emission der photoelektrischen Teilchen ebenfalls den maximalen Wert erreicht. Dies
ist ein einfaches Mittel zur Feststellung der Sensibilität der Photozellenelemente.
Eine aufgerauhte Oberfläche mit überhängenden Zacken kann auf die verschiedenste
Art und Weise hergestellt werden. Man kann ein verhältnismäßig weiches Material, wie
z. B. Glimmer, entweder tief einritzen oder irgendwie aufrauhen, um eine solche Oberfläche
herzustellen, oder man kann auf einer verhältnismäßig glatten Isolierfläche fein verteiltes,
isolierendes Pulver aufbringen, welches so feinkörnig ist, daß es anhaftende Wirkung besitzt. Fein verteiltes und gepulvertes
Quarz oder andere widerstandsfähige, harte Materialien, die sich nicht mit
dem Caesium verbinden, eignen sich gut zur Herstellung von rauhen Oberflächen mit überhängenden Zacken. Das zu verdampfende
Silber- oder Alkalimetall wird vorzugsweise von einer punktförmigen Quelle auf eine
solche ausgezackte Oberfläche kondensiert.
Die Fig. 1 bis 4 erläutern verschiedene Vorgänge bei der erfindungsgemäßen Her-'
50 stellung der Kathode.
Fig. ι stellt eine Ansicht einer Photokathode
dar;
Fig. 2 und 3 erläutern die Anfertigung eines Photozellenmosaiks für eine Bildzerlegeröhre;
Fig. 4 zeigt einen Querschnitt durch eine photoelektrische Kathode in größerem Maßstab.
In Fig. ι wird eine Glimmerscheibe 1 mit
einer Schablone abgedeckt, die hier nicht dargestellt ist und eine quadratische Öffnung besitzt.
Ouarzpulver wird mit einer Spritzpistole auf die Oberfläche geblasen, bis ein quadratischer Ausschnitt der Platte mit
Pulver bedeckt ist, wie es durch die Linie 2 in Fig. ι angedeutet ist. Dann wird, wie
Fig. 2 zeigt, diese Glimmerscheibe auf einer leitenden Kathodenplatte4 von etwas größerem
Durchmesser als die Glimmerscheibe durch die Klemmen 5 an den Kanten befestigt. Die
Kathodenplatte mit der Glimmerscheibe, auf der sich das Quarzpulver befindet, ist an
Stützen 6 in Verbindung mit einer Klammer 7 an den Ouetschfußo. befestigt. Eine Zuleitung
10 führt durch den Fuß hindurch und steht in Verbindung mit einer der beiden Stützen.
Es ist zweckmäßig, diesen Fuß möglichst am Ende eines Vorbehandlungskolbens 11 vorzusehen.
An dem gegenüberliegenden Ende dieses Kolbens wird ein Ansatz 12, in dem 8<>
ein Stab 15 eingeschmolzen ist, der eine Silberkammer 14 trägt, ausgebildet. Die
Kammer' ist hohl und hat eine Blende 16, die nach der Kathode zu gerichtet ist. In dieser
Kammer befindet sich an der Stelle 17 eine 8g
kleine Menge von reinem Silber. Der Kolben wird ausgepumpt und die Silberkammer auf
eine genügend hohe Temperatur gebracht, um das Silber verdampfen zu lassen. Eine Wirbelstromspule
19, die den Kolben von außen umgibt, dient zur Heizung. Das zu verdampfende
Metall iritt in das Innere des Kolbens und wird auf der gepulverten Fläche 2 und auf
der glatten Glimmerfläche niedergeschlagen. Falls es notwendig ist, wird ein Spannungsabfall
· zwischen der Silberkammer und der Kathode erzeugt, um die Metallatome auf ihrem Weg durch die Kammer zu beschleunigen.
Da die Silberatome sich von der Öffnung 16 nach der Kathode zu in gerader Richtung
ausbreiten, treffen sie auf die Kathodenfläche fast senkrecht auf. Natürlich wird nach dem
Rande zu der Auftreffwinkel etwas von 90° abweichen. Das ist aber unbedeutend, solange
die Abweichung gering ist.
Wie Fig. 4 zeigt, wird das Silber nur auf jenen Stellen der pulvrigen Schicht kondensiert
werden, auf denen die ankommenden Silberstrahlen nahezu senkrecht auftreffen.
Es entstehen dann zahlreiche kleine, vonein- no ander isolierte leitende Silberflächen.
• Es ist klar, daß auf jeden Teil der Glimmerfläche,
der nicht mit Isolationspulver bedeckt ist, das Silber sich in einer zusammenhängenden,
leitenden Schicht niederschlagen wird, die die Mosaikschicht umgibt. Da die
Klemmen 5 auf den leitenden Teil der Kathode angebracht sind, wird die zusammenhängende
Silberschicht mit ihnen leitend verbunden. Die Leitung 10 steht so direkt mit der zusammenhängenden
Silberschicht in Verbindung.
Es wurden Versuche ausgeführt, um den Unterschied zwischen Silberbelägen festzustellen,
die auf glatter Fläche und solchen, die auf pulvriger Fläche hergestellt wurden.
Man fand, daß unter gleichen Bedingungen und bei gleicher Schichtdicke die glatte
Silberfläche einen Widerstand von 3 Ohm für eine bestimmte Länge hatte, während die
Silberschicht, die auf einer Pulverschicht ίο haftete, für die gleiche Länge einen Widerstand
hatte, der größer als S X io8 Ohm war;
d. h. also, daß die einzelnen Elemente der photoelektrischen Kathode vollkommen voneinander
getrennt sind und keinen Stromfluß zulassen.
Die Größe und der Abstand der leitenden Elemente voneinander kann dadurch verändert
werden, daß man Größe, Gestalt und Art der Unterlage variiert. Werden kleine Pulverkörner auf eine feste, relativ glatte
Oberfläche aufgebracht, so werden die Photoelemente sehr klein und liegen dicht aneinander.
Werden die Pulverkörner jedoch sehr groß gemacht und liegen lose auf, so werden dieTeilchen und der Abstand zwischen
ihnen relativ groß sein. Es ist daher möglich, ein Photozellenmosaik herzustellen, bei dem
die einzelnen Elemente praktisch jede gewünschte Ausdehnung haben können.
Die Mosaiks, die nach dem obengenannten Verfahren hergestellt werden, halten sich in
ihrer Durchschnittsgröße noch unterhalb der Größe der kleinsten Photoelemente, die für
eine Abtastfläche wünschenswert sind. Die so hergestellten Photoelemente ordnen sich
nicht in einer Reihe an und bilden keine Muster. Es läßt sich nicht beweisen, daß die
Elemente eine einheitliche Durchschnittsgröße haben. Es wurde jedoch beim Gebrauch einer
+0 Kathode in einer Fernsehbildzerlegeröhre durch den Detailreichtum am Empfangsbild
festgestellt, daß die einzelnen Elemente nicht zusammenlaufen und Strombahnen oder zusammenhängende
Massen ergeben, die durch ihre Größe eine Verwaschung des Bildes hervorrufen würden.
Die nach dem angegebenen Verfahren in dem Hilfskolben 11 hergestellte Photozellenkathode
wird von dem Kolben selbst getrennt, wie die punktierte Linie 20 in Fig. 2 zeigt.
Die Silberkathode wird in eine Fernsehzerlegeröhre 21 (Fig. 3), eingebaut und der
Kolben mit dem Kathodenteil über einen Glasring 22 zusammengeschmolzen. Der andere
Teil der Zerlegeröhre enthält eine Anodenanordnung 24.
Eine weitere Vorbehandlung der Kathode innerhalb der Röhre zeigt Fig. 3. Die Röhrenhülle
21 ist mit einer Pumpe durch einen Abstellhahn 25 verbunden. Das Verbindungsstüclc20
führt zu einem Kolben27, der Alkalimetall, ζ. B. Caesium 29, enthält und durch
eine Gasflamme 30 oder ähnliches erhitzt wird. Die Röhre wird gründlich ausgeheizt
und ausgepumpt und Sauerstoff durch den Hahn 25 in. das Innere gelassen. In der Nähe
der Kathode wird in der Sauerstoffatmosphäre eine elektrodenlose Ringentladung mit
Hilfe einer Wirbelstromspule 19 erzeugt. Diese Ringentladung wird so lange unterhalten,
wie Sauers'toffionen aus der Entladungszone in die Silberfläche diffundieren.
Diese Sauerstoffionen oxydieren das Silber. Es ist selbstverständlich, daß das Silber
auch direkt durch Erhitzen oder durch Hochfrequenz, die der Kathodenplatte, die sich
hinter der Glimmerscheibe befindet, zugeleitet wird, oxydiert werden kann. Es wurde jedoch
festgestellt, daß in jedem Fall die elektrodenlose Entladung die beste Oberfläche
gibt.
Der Kolben 27 wird dann geheizt, um Caesiumdampf in den Kolben 21 einzuführen.
Das Caesium verbindet sich mit dem Silberoxyd und bildet auf den Einzelteilchen und
auf der zusammenhängenden Silberfläche eine photoelektrische Fläche.
Es ist nicht notwendig, daß der Caesiumdampf, der auf die Oberfläche gerichtet ist,
von einer punktförmigen Quelle ausgeht, da derselbe sich mit dem Silberoxyd verbindet,
ohne besonders gerichtet zu sein, und sich nicht zwischen -den Metallteilchen noch an
den Wänden niederschlägt.
Während der Aufbringung des Caesiums oder während einer späteren Aktivierung
kann die Empfindlichkeit durch Belichten der Kathode stetig überwacht werden. Die direkte
Verbindung 10 mit der zusammenhängenden Kathodenfläche kann für die Messung der
Emission benutzt werden, wobei die Anode zum Auffangen der Elektronen dient. Wenn
der Punkt der maximalen Empfindlichkeit erreicht ist, wird das Auspumprohr 26 abgeschmolzen
und die fertige Röhre von der Pumpanordnung abgenommen. Die unter diesen Bedingungen hergestellte Röhre kann
als Fernsehbildzerlegeröhre benutzt werden.
Claims (8)
- Patentansprüche: uoi. Verfahren zur Herstellung gegeneinander isolierter Flächenstücke eines leitenden Stoffes durch Aufdampfen auf eine isolierende Fläche bei Mosaikelektroden, dadurch gekennzeichnet, daß die isolierende Fläche derart mit überhängenden oder unterschnittenen Isolierteilchen versehen wird und der leitende Stoff auf die so· behandelte Isolierfläche von einer iao punktförmigen Stelle aus mit geradliniger Ausbreitung derart aufgedampft wird,daß die von den überhängenden Teilen beschatteten Stellen der isolierenden Unterlage frei von aufgedampftem leitendem Stoff bleiben.
- 2. Verfahren nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß auf eine Isolierträgerfläche eine Schicht von eng aneinanderliegenden isolierenden Teilchen aufgebracht wird, auf deren Oberseite ίο dann das leitende Material aufgedampft wird.
- 3. Verfahren nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß die isolierenden Teilchen aus unregelmäßig geformten Körnern bestehen, deren Größe entsprechend der geforderten Größe der leitenden Flächenteilchen gewählt ist.
- 4. Verfahren nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß zwecks Überwachung der photoelektrischen Empfindlichkeit während der Formierung beim Aufdampfen des leitenden Materials ein Teil desselben in Form einer zusammenhängenden Fläche in der Umgebung der gegeneinander isolierten kleinen Flächenstücke bzw. der Mosaikelektrode niedergeschlagen wird.
- 5. Verfahren zur Herstellung eines Photozellenmosaiks für Bildzerlegeröhren nach Anspruch. 1, dadurch gekennzeichnet, daß auf eine Isolierträgerschicht Silber aufgedampft und durch eine elektrodenlose Ringentladung oxydiert wird, worauf ein photoempfindliches Material auf das Silberoxyd niedergeschlagen wird.
- 6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Silber durch diffundierenden Sauerstoff oxydiert wird.
- 7. Photozellenmosaikkathode, hergestellt nach dem Verfahren des Anspruchs i, dadurch gekennzeichnet, daß die Kathode auf einer leitenden Schicht eine homogene isolierende Schicht, darauf eine Schicht fein gemahlener Isolierkörner, auf der Oberseite der Körner eine unterteilte Silberschicht und auf dem Silber eine photoempfindliche Schicht enthält.
- 8. Photozellenmosaikkathode nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht der Isolierkörner nur einen Teil der homogenen isolierenden Schicht bedeckt.Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
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Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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BE472808A (de) * | 1942-10-02 | |||
US2476590A (en) * | 1943-07-03 | 1949-07-19 | Westinghouse Electric Corp | Cathode coating |
US2671857A (en) * | 1944-02-11 | 1954-03-09 | John M Cage | Micro-microwave generator |
US2548514A (en) * | 1945-08-23 | 1951-04-10 | Bramley Jenny | Process of producing secondaryelectron-emitting surfaces |
US2716203A (en) * | 1947-06-23 | 1955-08-23 | William J Sen | Electronic image storage tube and system |
US2620287A (en) * | 1949-07-01 | 1952-12-02 | Bramley Jenny | Secondary-electron-emitting surface |
US2926325A (en) * | 1954-11-04 | 1960-02-23 | Servomechanisms Inc | Film resistor element |
US2860221A (en) * | 1955-11-25 | 1958-11-11 | Gen Mills Inc | Method of producing a humidity sensor by shadow casting and resultant product |
US2906648A (en) * | 1955-11-25 | 1959-09-29 | Gen Mills Inc | Masking method of producing a humidity sensor |
US2908595A (en) * | 1955-11-25 | 1959-10-13 | Gen Mills Inc | Coating and grinding method of making a humidity sensor |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE849570C (de) * | 1949-04-22 | 1952-09-15 | Fernseh Gmbh | Verfahren zur Herstellung sehr feinmaschiger Netzfolien |
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US2075377A (en) | 1937-03-30 |
FR803418A (fr) | 1936-09-30 |
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GB471359A (en) | 1937-09-02 |
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