DE609659C - Verfahren zum Herstellung hoher Kolloidreliefs fuer Hochdruckzwecke - Google Patents
Verfahren zum Herstellung hoher Kolloidreliefs fuer HochdruckzweckeInfo
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- DE609659C DE609659C DEI46504D DEI0046504D DE609659C DE 609659 C DE609659 C DE 609659C DE I46504 D DEI46504 D DE I46504D DE I0046504 D DEI0046504 D DE I0046504D DE 609659 C DE609659 C DE 609659C
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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Description
- Verfahren zum Herstellen hoher Kolloidreliefs für Hochdruckzwecke Zur photomechanischen Herstellung hoher Kolloidreliefs, die direkt oder indirekt, z. B. durch Abprägung, für Hochdruckzwecke Verwendung finden sollen, sind erfahrungsgemäß sehr lange Belichtungszeiten erforderlich, da das wirksame ultraviolette und blaue Licht fast vollständig von den obersten Schichten des sensibilisierten Kolloids adsorbiert wird und in die tieferen Schichten des sensibilisierten Kolloids nur Spuren des wirksamen Lichtes eindringen. Außerdem macht sich bei der Verwendung der für die Erzeugung hoher Reliefs erforderlichen dicken Kolloidschichten die Lichtstreuung in der lichtempfindlichen Schicht störend bemerkbar, die die Wiedergabe von unmittelbar nebeneinanderstehenden Schwarz- und Weißwerten mit gestochener Schärfe stark beeinträchtigt.
- Es ist bekannt, bei Stein- und Offsetdruck den Bildträger der Druckform aus zwei Schichten herzustellen, um eine gute Abstufung von den- höchsten Lichtern über die Halb- und Mitteltöne bis zu den Tiefen zu erhalten, wobei beide Schichten nach der jeweiligen Belichtung einzeln entwickelt werden. Nach dem Verfahren der. vorliegenden Erfindung handelt es sich um die Herstellung hoher Auswaschreliefs für den Hochdruck, die man dadurch erzeugt, daß man das Relief aus mehreren verhältnismäßig dünnen, lichtempfindlichen Schichten aufbaut, indem man diese Schichten nacheinander auf den Schichtträger aufbringt, sie nacheinander registerhältig unter dem Negativ belichtet und das Auswaschen des fertig belichteten endgaltigen Reliefs erst nach Erreichung der erforderlichen Schichthöhe vornimmt. Auf diese Weise hat bei jeder kurzen Einzelbelichtung das Licht immer nur eine ganz geringe Schicht des sensibilisierten Kolloids zu durchdringen. Bei der Belichtung der dünnen Schichten kann ein merklicher Diffusionslichthof nicht entstehen, so daß die Wiedergabeschärfe erheblich verbessert wird. Außerdem geht in den dünnen Schichten fast kein wirksames Licht durch Absorption in bereits gehärtetem Kolloid ungenützt verloren, so daß die Summe der Einzelbelichtungen wesentlich geringer ist' als die Zeit der Dürchbelichtung einer einzigen lichtempfindlichen Schicht von der Dicke der aufeinandergelegten dünneren Schichten.
- Das Verfahren wird z. B. in der Weise ausgeübt, daß auf einer vorläufigen oder endgültigen Unterlage zunächst eine relativ dünne Chromatkolloidschicht unter einem Negativ oder Positiv belichtet wird, und zwar so kurz, wie es zur Härtung der dünnen Schicht gerade genügt.
- Die sensibilisierende Substanz kann nun aus der belichteten Schicht ausgewaschen werden. Es kann aber auch auf die nicht ausgewaschene belichtete Schicht eine sensibilisierte Folie des gleichen oder eines anderen geeigneten Chromatkolloids aufgebracht werden, beispielsweise dadurch, daß .die belichtete Schicht mit einer Bichroinat-Dextrin-Lösung bestrichen und hiernach die Folie aufgequetscht wird. Nunmehr wird das gleiche Negativ genau registerecht nochmals darauf kopiert, so daß jetzt zwei Schichten eines belichteten Chromatkolloids im Passer übereinanderliegen. Dieses Verfahren wiederholt man so oft, bis die gewünschte Schichtdicke erreicht ist, und nimmt hiernach das Auswaschen oder Quellen des Reliefs zur Fertigstellung vor.
- Natürlich kann jede neu zu belichtende dünne Kolloidscbicht auch auf die vorher belichteten Schichten in gelöstem Zustande zusammen mit dem Sensibilisierungsmittel aufgegossen werden. Da jede einzelne Scl-icht nur etwa 2o #t dick ist, kann sie sehr schnell getrocknet werden. Bequemer und schneller ist aber das beschriebene Verfahren, bei dem die einzelnen Schichten aus vorher -fertigen, lichtempfindlich gemachten Folien bestehen, die in sehr zweckmäßiger Weise auch mit Hilfe eines geeigneten Trockenklebemittels durch Aufeinanderpressen unter Erwärmung miteinander verbunden werden können.
- Das Klebemittel kann in bekannter Weise selbst lichtempfindlich sein, wodurch das Haften der Schichten beim Auswaschen und Quellen wesentlich verbessert wird. Um die Folien bei der Sensibilisierung, die gegebenenfalls erst kurze Zeit vor der Verarbeitung erfolgt, bequem handhaben zu können, können sie in Form von Abziehschichten auf einem Schichtträger angebracht sein, von dem sie nach dem Sensibilisieren abgezogen werden. Als Sensibilisierungsmittel kommen außer Chromaten in bekannter Weise z. B. Eisensalze, organisch gerbende Stoffe, wie Antrachinondisulfosäure, Eosin usw., ir nage.
Claims (1)
- PATENTANSPRUCH: Verfahren zum Herstellen hoher Kolloidreliefs für Hochdruckzwecke, dadurch gekennzeichnet, daß die Reliefs aus mehreren lichtempfindlichen Schichten, jede von nicht größerer Dicke als 2011, aufgebaut werden, die auf den Schichtträger nacheinander in Form von Lösungen aufgebracht oder in Form von Folien übereinandergeklebt und einzeln registerhaltend unter dem Negativ @ belichtet werden, worauf das Auswaschen .oder Quellen erst nach Erreichen der erforderlichen Schichthöhe erfolgt.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEI46504D DE609659C (de) | 1933-02-01 | 1933-02-02 | Verfahren zum Herstellung hoher Kolloidreliefs fuer Hochdruckzwecke |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEI0046504 | 1933-02-01 | ||
DEI46504D DE609659C (de) | 1933-02-01 | 1933-02-02 | Verfahren zum Herstellung hoher Kolloidreliefs fuer Hochdruckzwecke |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE609659C true DE609659C (de) | 1935-02-19 |
Family
ID=25981734
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DEI46504D Expired DE609659C (de) | 1933-02-01 | 1933-02-02 | Verfahren zum Herstellung hoher Kolloidreliefs fuer Hochdruckzwecke |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE609659C (de) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1095665B (de) * | 1959-01-12 | 1960-12-22 | Hans Hoerner | Verfahren zur fotomechanischen Herstellung von Hochdruckformen aus mehreren Kunststoffschichten |
US3851581A (en) * | 1969-03-07 | 1974-12-03 | Saint Gobain | Manufacture of electrically heated windows |
DE2413723A1 (de) * | 1974-03-21 | 1975-09-25 | Nat Printing Plate Co | Verfahren zur herstellung einer druckplatte |
FR2375629A1 (fr) * | 1976-12-27 | 1978-07-21 | Ibm | Plaque de charge a couches multiples en ceramique et en verre photosensible |
EP0281770A1 (de) * | 1987-02-14 | 1988-09-14 | BASF Aktiengesellschaft | Verfahren zum Beschichten von Formzylindern oder Formzylinder-Hülsen mit einer durchgehenden lichtempfindlichen Aufzeichnungsschicht |
-
1933
- 1933-02-02 DE DEI46504D patent/DE609659C/de not_active Expired
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1095665B (de) * | 1959-01-12 | 1960-12-22 | Hans Hoerner | Verfahren zur fotomechanischen Herstellung von Hochdruckformen aus mehreren Kunststoffschichten |
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