DE60034901T2

DE60034901T2 - Abdeckfilm für einen Trockenfilmresist

Info

Publication number: DE60034901T2
Application number: DE60034901T
Authority: DE
Inventors: Takeshi Sakata-gun Sugie; Takatoshi Sakata-gun Miki
Original assignee: Mitsubishi Polyester Film Corp
Current assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Priority date: 1999-03-10
Filing date: 2000-03-08
Publication date: 2008-02-07
Anticipated expiration: 2020-03-09
Also published as: DE60034901D1; JP2000255015A; EP1035444A2; US6468716B1; KR20010006765A; KR100682383B1; EP1035444A3; EP1035444B1

Description

HINTERGRUND DER ERFINDUNG
Die vorliegende Erfindung betrifft einen Abdeckfilm für Trockenfilmresiste. Insbesondere betrifft die vorliegende Erfindung einen Abdeckfilm für Trockenfilmresiste mit hervorragenden Ablösbarkeits- und Oberflächeneigenschaften.
Vor kurzem hat die Miniaturisierung von elektronischen Bauteilen den Bedarf an höherer Dichte gedruckter Leiterplatten gesteigert, und es wurde dringend notwendig, die auf der isolierten Substratoberfläche gebildeten Leitermuster feiner zu gestalten.
Der zur Herstellung von gedruckten Leiterplatten verwendete Trockenfilmresist weist eine dreischichtige Struktur von Trägerfilm/Photoresist/Abdeckfilm auf, und Polyethylenfilm wurde als Abdeckfilm für solche Trockenfilmresiste verwendet. Indes hindert die Dickeverteilung und die Neigung des Polyethylenfilms, Fischaugen zu bilden, die Verwirklichung einer höheren Dichte der gedruckten Leiterplatten.
Der Trockenfilmresist wird durch Beschichten einer Photoresistschicht auf einem Trägerfilm und, nach dem Trocknen der gebildeten Photoresistschicht, der Laminierung eines Abdeckfilms darauf hergestellt. Der Photoresist ist flexibel, wenn der Abdeckfilm laminiert wird. Aus diesem Grund wird eine Unebenheit, die auf der Oberfläche des Abdeckfilms aufgrund von Fischaugen gebildet ist, auf die Photoresistschicht übertragen, so dass eine ähnliche Unebenheit auf deren Oberfläche gebildet wird. Dies führt dazu, dass eine unsaubere Verklebung der Photoresistschicht auf dem isolierten Substrat verursacht wird, wodurch ein defektes Leitermuster entsteht.
Der Polyethylenfilm wird durch Schmelzextrusion geformt, jedoch ist es aufgrund der hohen Schmelzviskosität kaum möglich, die Schmelze durch einen Hochleistungsfilter zu filtrieren, wenn diese extrudiert wird, so dass die Gegenwart von Fischaugen oder ähnlichem in dem geformten Sheet unvermeidbar ist. Weiterhin ist das Füllverfahren (inflation method), welches im Allgemeinen verwendet wird, um die Polyethylenfilme zu bilden, ungeeignet, eine einheitliche Filmdicke bereit zustellen, und ist auch anfällig für das Problem der Durchbiegung (deflection) der Filmdicke.
Aus diesem Grund wurde es zunehmend schwierig, der Anforderung an eine höhere Dicke der gedruckten Leiterplatten unter Verwendung von Polyethylen für den Abdeckfilm gerecht zu werden.
Die Japanische Patentoffenlegungsschrift (KOKAI) Nr. 6-297565 schlägt die Verwendung eines Polyesterfilms für Trockenfilmresiste anstelle eines Polyethylenfilms vor.
In dem Polyesterfilm gemäß der JP-A-6-297565 wird indes ein Ablösemittel zur Verleihung der gewünschten Ablösbarkeit auf den Film beschichtet, um die gleiche Flexibilität wie der Polyethylenfilm zur Verleihung von Ablösbarkeit bereitzustellen, und eine Copolymerkomponente, wie beispielsweise eine langkettige, aliphatische Dicarbonsäure und/oder ein Polyolefin werden beigemischt, um Flexibilität bereitzustellen. Da dieser Film hinsichtlich der durch die Beschichtung bereitgestellten Ablösbarkeit unzureichend ist, muss er dem Grundfilm Flexibilität verleihen. Da indes ein spezielles Material für den Grundfilm verwendet wird, wirft der oben genannte Polyesterfilm Schwierigkeiten in Bezug auf die Regenerierung des Films auf und verursacht hohe Produktionskosten.
Als Ergebnis intensiver Bemühungen der vorliegenden Erfinder, das oben genannte Problem zu lösen, wurde gefunden, dass ein Film, welcher einen Grundfilm und eine wachshaltige Abdeckschicht umfasst und einen speziellen Wassertropfenkontaktwinkel aufweist, als Abdeckfilm für Trockenfilmresiste geeignet ist.
Die vorliegende Erfindung wurde auf der Grundlage der oben genannten Erkenntnisse erreicht.
ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, einen Abdeckfilm für Trockenfilmresiste mit hervorragenden Ablösbarkeits- und Oberflächeneigenschaften bereitzustellen.
Um die oben erwähnte Aufgabe zu lösen, wird in einem ersten Aspekt der vorliegenden Erfindung ein wie in Anspruch 1 definierter Abdeckfilm für einen Trockenfilmresist bereitgestellt.
In einem zweiten Aspekt der vorliegenden Erfindung wird ein wie in Anspruch 8 definiertes Verfahren zur Herstellung eines solchen Abdeckfilms für einen Trockenfilmresist bereitgestellt.
DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER ERFINDUNG
Die vorliegende Erfindung wird unten detailliert beschrieben werden.
In dem Abdeckfilm für Trockenfilmresiste gemäß der vorliegenden Erfindung ist das Harz, welches den Grundfilm ausmacht, vorzugsweise ein Polyester. Die in der vorliegenden Erfindung verwendete Bezeichnung „Polyester" kennzeichnet hochkristalline, lineare, gesättigte Polyester, welche aus aromatischen, zweiwertigen Säuren oder deren esterbildenden Derivaten und Glykolen synthetisiert werden.
Die als eine Komponente der Polyester in der vorliegenden Erfindung verwendbaren Dicarbonsäuren umfassen aromatische Dicarbonsäuren, wie beispielsweise Terephthalsäure, Isophthalsäure, Orthophthalsäure, Naphthalendicarbonsäure, Paraphenylendicarbonsäure und deren Derivate, alizyklische Dicarbonsäuren, wie beispielsweise 1,4-Cyclohexandicarbonsäure und deren Derivate, aliphatische Dicarbonsäuren, wie beispielsweise Bernsteinsäure, Adipinsäure, Korksäure, Sebacinsäure, Dodecandionsäure und deren Derivate, und polyfunktionale Säuren, wie beispielsweise Trimellithsäure, Pyromellithsäure und deren Derivate. Die als andere Komponente der Polyester verwendbaren Diole umfassen Ethylenglykol, 1,3-Propylenglykol, 1,4-Butandiol, 1,6-Hexandiol, Neopentylglykol, Diethylenglykol, Triethylenglykol, Polyethylenglykol, Polytetramethylenglykol, 1,4-Cyclohexandimethanol und deren Derivate.
Der zur Verwendung in der vorliegenden Erfindung bevorzugte Polyester ist Polyethylenterephthalat.
Die Trübung des Abdeckfilms für Trockenfilmresiste gemäß der vorliegenden Erfindung beträgt nicht mehr als 7 %, vorzugsweise nicht mehr als 4 %. Wenn die Trübung 7 % übersteigt, dann wird es tendenziell schwierig, Defekte, wie beispielsweise eine Beschichtungslücke, in der Beschichtung des Photoresists nachzuweisen.
Die Dicke des Abdeckfilms für Trockenfilmresiste gemäß der vorliegenden Erfindung liegt vorzugsweise bei nicht mehr als 25 μm, bevorzugter bei nicht mehr als 20 μm, noch bevorzugter bei nicht mehr als 16 μm. Wenn die Dicke des Abdeckfilms bei mehr als 25 μm liegt, dann kann die Oberfläche des Photoresists beschädigt werden, wenn der Abdeckfilm abgelöst wird, da der Film zu unbiegsam ist. Die untere Grenze der Dicke des Abdeckfilms liegt gewöhnlich bei 3,5 μm.
Um der Oberfläche des erhaltenen Films der vorliegenden Erfindung die gewünschte Rauigkeit zu verleihen, ist es bevorzugt, feine Teilchen zu dem Film oder der Abdeckschicht hinzuzufügen. Die Teilchen verschiedener Materialien, wie beispielsweise Siliziumdioxid, Aluminiumoxid, Kaolin, Calciumcarbonat, Bariumsalze und andere, können für diesen Zweck verwendet werden.
Die Oberflächenrauigkeit der Abdeckschicht liegt vorzugsweise bei 0,005 bis 0,2 μm, bevorzugter bei 0,02 bis 0,1 μm. Wenn die Oberflächenrauigkeit unterhalb von 0,005 μm liegt, dann verschlechtern sich tendenziell die Aufwickeleigenschaften des erhaltenen Films, und wenn die Oberflächenrauigkeit 0,2 μm übersteigt, dann tendieren Lufteinschlüsse (air traps) dazu, sich zwischen dem Abdeckfilm und dem Photoresist zu bilden, so dass ein Erhärten des Resists durch Reaktion zwischen Sauerstoff und dem Resist verursacht wird.
In dem Abdeckfilm für Trockenfilmresiste gemäß der vorliegenden Erfindung wird ein Wachs in die für die Bildung der Abdeckschicht verwendete Beschichtungslösung gemischt. Als ein solches Wachs können natürliche Wachse, wie beispielsweise pflanzliche Wachse, tierische Wachse, Erdwachse (Mineralwachse) und Petroleumwachse, und synthetische Wachse, wie beispielsweise synthetische Kohlenwasserstoffe, modifizierte Wachse und hydrierte Wachse, verwendet werden. Von diesen Wachsen werden vorzugsweise Polyolefinwachse verwendet. Beispielsweise werden Verbindungen mit einer Polyolefinverbindung als Basisskelett, umfassend ein Polymer oder Copolymer eines ungesättigten Kohlenwasserstoffs, wie beispielsweise Ethylen, Propylen, 1-Buten, 4-Methyl-1-penten oder dergleichen, als eine Lösung oder eine Dispersion verwendet. Speziellere Beispiele derartiger Verbindungen umfassen Polyethylen, Polypropylen, Poly-1-buten, Poly-4-methyl-1-penten, Ethylen-Propylen-Copolymer, Ethylen-1-Buten-Copolymer, Propylen-1-Buten-Copolymer und dergleichen.
In der vorliegenden Erfindung ist es bevorzugt, Polyolefine mit einem Säurewert von 10 bis 50 mit einer aktiven Wasserstoffgruppe am Ende oder Polyethylenoxid oder Polypropylenoxid zu verwenden. Der „Säurewert", auf welchen hierin Bezug genommen wird, bedeutet die Anzahl an mg Kaliumhydroxid, welche dazu benötigt werden, die freien Fettsäuren zu neutralisieren, welche in 1 g der Probe enthalten sind. Dies ist ein Wert, welcher proportional zu der Menge an in dem Wachs enthaltenen freien Fettsäuren ist. Wenn eine Polyolefinverbindung mit einem Säurewert von weniger als 10 verwendet wird, dann tendiert die Stärke des Abdeckfilms der Abdeckschicht dazu, sich zu verringern, und ein Teil der Abdeckschicht kann nach Ablösen des Abdeckfilms auf die Resistschicht übertragen werden, obwohl die Ablösbarkeit des Abdeckfilms von dem Photoresist zufriedenstellend ist. Dies kann zu einer Verminderung der Verklebung führen, wenn die Resistschicht auf das isolierte Substrat laminiert wird. Im Falle der Verwendung einer Polyolefinverbindung mit einem Säurewert von über 50 kann die Ablösbarkeit von dem Photoresist beeinträchtigt werden, obwohl keine Übertragung der Abdeckschicht auf die Resistschicht stattfindet.
Speziell wird eine Verbindung mit einer Polyolefinverbindung als deren Basisskelett, umfassend beispielsweise ein Ethylen- oder Propylenpolymer und/oder -copolymer und mit einer aktiven Wasserstoffgruppe, wie beispielsweise Carbonsäuregruppe, Hydroxylgruppe oder Aminogruppe an deren Ende, in der Form einer Lösung oder Dispersion verwendet. Insbesondere werden vorzugsweise Polyethylenoxidwachs, Polypropylenoxidwachs, Ethylenoxid-Propylen-Copolymerwachs und dergleichen verwendet.
Das Wachs (eine Polyolefinverbindung, wie oben erwähnt) wird in einer Menge von gewöhnlich 1 bis 100 Gewichtsteilen, vorzugsweise 20 bis 100 Gewichtsteilen, auf der Grundlage von 100 Gewichtsteilen zur Bildung der Abdeckschicht verwendeter Beschichtungslösung beigemischt. Wenn die Menge des beigemischten Wachses (eine Polyolefinverbindung) unterhalb von 20 Gewichtsteilen liegt, dann tendiert die Ablösbarkeit des Abdeckfilms von dem Photoresist dazu, sich zu verringern.
Um das Wachs auf den Film mit einem gutem Erscheinungsbild aufzutragen und die Verklebung zwischen der Abdeckschicht und dem Film zu verbessern, wird ein Vernetzungsmittel in die Beschichtungslösung beigemischt. Als ein solches Vernetzungsmittel können beispielsweise melaminartige, amidartige und acrylamidartige Verbindungen, Epoxyverbindungen, Polyisocyanate, geblockte Polyisocyanate und Carbodiimidverbindungen verwendet werden.
Das Vernetzungsmittel wird in einer Menge von 1 bis 50 Gewichtsteilen, vorzugs weise 5 bis 30 Gewichtsteilen, auf der Grundlage von 100 Gewichtsteilen Beschichtungslösung beigemischt. Wenn die Menge an beigemischtem Vernetzungsmittel 30 Gewichtsteile übersteigt, dann verschlechtert sich tendenziell die Ablösbarkeit des Abdeckfilms von dem Photoresist, und wenn die Menge an Vernetzungsmittel unterhalb von 1 Gewichtsteil liegt, dann verringert sich tendenziell die Stärke des Beschichtungsfilms der Abdeckschicht.
In der beschriebenen Beschichtungslösung kann ein Gleitmittel, ein Antistatikmittel, ein Entschäumungsmittel, Teilchen und anderes innerhalb der Grenzen, dass die Wirkung der vorliegenden Erfindung nicht beeinträchtigt wird, enthalten sein, um deren Beschichtungsleistung zu verbessern.
Es ist möglich, verschiedene Arten von Beschichtungsmaschinen, einschließlich Umkehrwalzenbeschichter, Gravurbeschichter, Stabbeschichter, Luftdoktorbeschichter und andere, wie beispielsweise in Y. Harasaki: Coating System, Maki Shoten, 1979 beschrieben, und andere Arten von Beschichtungsausrüstung als Beschichtungsmittel zu verwenden.
In der vorliegenden Erfindung kann die Abdeckschicht durch ein Inline-Beschichtungssystem, in welchem das Beschichten in dem Filmbildungsverfahren durchgeführt wird, durch ein Offline-Beschichtungssystem, in welchem das Beschichten nach der Bildung des Films durchgeführt wird, oder durch andere Systeme bereitgestellt werden, jedoch ist das Inline-Beschichtungssystem bevorzugt.
Die Inline-Beschichtung ist ein Verfahren, in welchem das Beschichten in dem Polyesterfilmbildungsverfahren durchgeführt wird, spezieller ist es ein Verfahren, in welchem das Beschichten auf einer beliebigen, geeigneten Stufe in dem Verfahren von der Schmelzextrusion des Polyesters bis zu der Aufnahme des Films nach biaxialem Recken und Thermofixieren durchgeführt wird. Gewöhnlich wird das Beschichten auf einem sich im Wesentlichen in einem amorphen Zustand befindenden, nicht-gereckten Sheet, welches durch schnelles Kühlen des geschmolzenen Extrudates erhalten wird, oder einem monoaxial gereckten Film, welcher durch monoaxiales Recken des genannten Sheets in der Längsrichtung (der Maschinenrichtung) erhalten wird, oder einem biaxial gereckten Film vor dem Thermofixieren durchgeführt. Besonders bevorzugt ist das Durchführen des Beschichtens auf einem monoaxial gereckten Film, und danach wird der Film weiter in der Querrichtung gereckt. Dieses Verfahren ist hinsichtlich der Produktionskosten vorteilhaft, da das Filmbilden und das Trocknen der Abdeckschicht gleichzeitig erreicht werden kann. Auch ist leicht ein dünnes Filmbeschichten zu bewerkstelligen, da das Recken nach dem Beschichten durchgeführt wird, und überdies kleben die Abdeckschicht und der Polyesterfilm sicher aneinander, da die Wärmebehandlung nach dem Beschichten bei einer hohen Temperatur durchgeführt wird, was durch die anderen Verfahren nicht bewerkstelligt werden kann.
Der Wassertropfenkontaktwinkel der Oberfläche der Abdeckschicht des Abdeckfilms gemäß der vorliegenden Erfindung liegt nicht unterhalb von 80°, vorzugsweise nicht unterhalb von 90°. Wenn der Kontaktwinkel unterhalb von 80° liegt, dann verschlechtert sich die Ablösbarkeit des Abdeckfilms, was die Oberfläche des Photoresists anfällig für Fehlerbildung macht, wenn der Abdeckfilm abgelöst wird.
Wie oben beschrieben liefert die vorliegende Erfindung einen Abdeckfilm für Trockenfilmresiste mit hervorragenden Ablösbarkeits- und Oberflächeneigenschaften, und dessen industrieller Wert ist groß.
BEISPIELE
Die vorliegende Erfindung wird durch die folgenden Beispiele weiter verdeutlicht werden, jedoch ist zu verstehen, dass die Erfindung nicht durch diese Beispiele beschränkt wird.
Die Eigenschaften des Films gemäß der vorliegenden Erfindung wurden auf die folgende Weise evaluiert. Als erstes wurde auf einem biaxial gereckten Polyesterfilm (Trägerfilm) eine Photoresistschicht aufgetragen und, nachdem diese getrocknet war, wurde das Laminat unter Walzdruck auf der beschichteten Seite des Abdeckfilms für den Trockenfilmresist gemäß der vorliegenden Erfindung angebracht, um einen dreischichtig strukturierten Trägerfilm/Photoresist/Abdeckfilm-Trockenfilmresist zu erhalten, und dieser wurde den Evaluierungen in den folgenden Punkten unterworfen.
(1) Wassertropfenkontaktwinkel
Der Kontaktwinkel, welcher durch die Oberfläche der Abdeckschicht des Probenfilms mit einem Tropfen destilliertem Wasser darauf eingestellt wurde, wurde mit einem Kontaktwinkel-Messgerät, Modell CA-DT-A (hergestellt von Kyowa Kaimen Kagaku KK), unter den Bedingungen von 23 °C und 50 % Luftfeuchtigkeit gemessen. Der Kontaktwinkel wurde an zwei Punkten (linker und rechter Punkt) von jeder der drei Proben gemessen, und der Durchschnitt der sechs Messungen wurde als der Kontaktwinkel gezeigt. Der Wassertropfen hatte einen Durchmesser von 2 mm, und der angezeigte Wert des Messgerätes wurde eine Minute nach dem Auftropfen des Wassers ausgelesen.
(2) Trübung
Die Trübung des Films wurde gemäß der JIS-7105 unter Verwendung eines integrierenden sphärischen Turbidimeters NHD-20D, hergestellt von Nippon Denshoku Kogyo KK, gemessen.
(3) Oberflächenrauigkeit (Ra)
Die durchschnittliche Mittellinienrauigkeit Ra (μm) wurde als Oberflächenrauigkeit gezeigt. Sie wurde auf die folgende Weise unter Verwendung eines Oberflächenrauigkeits-Messgerätes (SE-3F), hergestellt von Kosaka Kenkyusho Ltd., gemessen. Ein Teilstück mit einer Standardlänge L (2,5 mm) wurde aus einer Schnittkurve des Probenfilms herausgezogen und, wenn die Rauigkeitskurve (y) als y = f(x) in den x- und y-Koordinaten mit der Mittellinie des herausgezogenen Teilstücks, dargestellt durch die x-Achse, und der Richtung der longitudinalen Vergrößerung, dargestellt durch die y-Achse, ausgedrückt wird, dann wurde der Wert, welcher sich aus der folgenden Gleichung ergibt, als die Oberflächenrauigkeit in μm ausgedrückt. Die durchschnittliche Mittellinienrauigkeit wurde mit 10 Schnittkurven aus der Oberfläche des Probenfilm gemessen, und der Durchschnitt der Werte der durchschnittlichen Mittellinienrauigkeit des herausgezogenen Teilstücks, bestimmt aus den 10 Schnittkurven, wurde gezeigt. Die Messung wurde unter den folgenden Bedingungen gemacht: Tastspitzen-Radius = 2 μm; Beladung = 30 mg; Cut-off = 0,08 mm.
(4) Evaluierung der Ablösbarkeit
Der Probenfilm wurde zu einem 15 mm breiten Stück zugeschnitten und der Abdeckfilm durch ein Spannungstestgerät abgelöst, wobei die Ablösbarkeit, die Resistoberflächenbedingung und anderes untersucht wurden, und diese wurden gemäß dem folgenden Kriterium evaluiert.

⌾:: Klebkraft war geringer als 15 g/cm, und die Ablösung konnte sehr glatt ohne Beschädigung der Oberfläche des Resists durchgeführt werden.
O:: Die Klebkraft betrug 15 bis 100 g/cm, und die Oberfläche des Resists wurde nicht beschädigt.
Δ:: Die Klebkraft betrug mehr als 100 g/cm. Obwohl die Ablösung schrecklich war, war sie nicht so schlecht, dass die Oberfläche des Resists beschädigt wurde.
x:: Die Ablösung war nicht glatt, und die Oberfläche des Resists wurde beschädigt.

(5) Verklebung der Resistschicht auf dem isolierten Substrat

⌾:

Wenn die Resistschicht auf dem isolierten Substrat laminiert wird, dann kleben beide hervorragend aneinander und die Resistschicht blättert nicht ab.

O:

Wenn die Resistschicht auf dem isolierten Substrat laminiert wird, dann kleben beide gut aneinander und die Resistschicht blättert nicht leicht ab.

Δ:

Wenn die Resistschicht auf dem isolierten Substrat laminiert wird, dann blättert die Resistschicht nur an einigen Stellen ab.

x:

Wenn die Resistschicht auf dem isolierten Substrat laminiert wird, dann kleben beide nicht gut aneinander und die Resistschicht blättert leicht ab.

(6) Stabilität des Trockenfilmresists nach Laminierung des Abdeckfilms
Der Abdeckfilm für einen Trockenfilmresist gemäß der vorliegenden Erfindung wurde auf der Photoresistschicht laminiert und aufgerollt. Die Rolle wurde an einem kalten und dunklen Ort für ungefähr 2 Monate stehen gelassen, und dann wurden die folgenden Punkte untersucht und evaluiert.
A. Aushärten der Resistschicht

⌾:

Die Resistschicht härtet überhaupt nicht aus.

O:

Es härtet nur ein Teil der Oberfläche der Resistschicht aus, jedoch ergibt sich kein Einfluss auf die Leistung des Trockenfilmresists.

Δ:

Nur ein Teil der Oberfläche der Resistschicht härtet aus.

x:

Die Oberfläche der Resistschicht härtet vollständig aus.

B. Aufwickeleigenschaften des Trockenfilmresists

⌾:

Es findet kein Aussteifen oder Ineinanderschieben (Telescoping) der Re sistschicht beim Aufrollen statt, und die Rolle ist vollständig frei von Knitter.

O:

Es findet im Wesentlichen kein Aussteifen oder Ineinanderschieben der Resistschicht beim Aufrollen statt, und die Rolle ist fast frei von Knitter.

Δ:

Es findet teilweises Aussteifen der Resistschicht beim Aufrollen statt, und die Rolle weist teilweise Knitter auf.

x:

Es findet Aussteifen der Resistschicht beim Aufrollen statt, und die Rolle weist Knitter auf.

(7) Allgemeine Evaluierung
Aus den Ergebnissen der Evaluierung der oben genannten Punkte wurde die Leistung der Probenfilme als ein Abdeckfilm für Trockenfilmresiste gemäß dem 5-Punkt-Bewertungssystem evaluiert. Der allgemeine Evaluierungspunkt „5" wird dem hervorragendsten Film als ein Abdeckfilm für einen Trockenfilmresist vergeben. Der allgemeine Evaluierungspunkt „1" bezeichnet den schlechtesten Film. Die Filme mit dem allgemeinen Evaluierungspunkt „2" oder mehr sind zur Verwendung als ein Abdeckfilm für den Trockenfilmresist annehmbar.
Beispiel 1
Ein Polyester mit einer inneren Viskosität von 0,65, enthaltend 1.000 ppm amorphes Siliziumdioxid mit einer durchschnittlichen Teilchengröße von 2 μm, wurde bei 295 °C geschmolzen, als ein Sheet auf einer kalten Gusstrommel extrudiert und verfestigt, um ein nicht-orientiertes Sheet zu bilden. Dieses Sheet wurde 3,6-mal in der Maschinenrichtung bei 90 °C gereckt, dann mit einer Beschichtungslösung beschichtet, welche wie unten spezifiziert eine Polyolefinverbindung und ein Vernetzungsmittel umfasst, zum Vorwärmen und viermaligen Querrecken bei 90 °C durch einen Spannrahmen (Tenter) gezogen, und bei 230 °C über 10 Sekunden wärmebehandelt, um einen 16 μm dicken Polyesterfilm zu erhalten. Dieser Film wurde auf eine Photoresistschicht laminiert, um einen Trockenfilmresist mit einer dreischichtigen Trägerfilm/Photoresist/Abdeckfilm-Struktur zu erhalten, und dieser wurde auf die gleiche Weise wie oben beschrieben evaluiert. Ein 16 μm dicker Polyethylenterephthalatfilm wurde als Trägerfilm verwendet.
Zusammensetzung der Beschichtungslösung

Polyolefinverbindung:	Polyethylenoxid-Emulsion mit einem Säurewert von 30 ... 80 Gewichtsteile
Vernetzungsmittel:	Alkylolmelamin ... 20 Gewichtsteile

Wie aus den in der Tabelle 1 gezeigten Ergebnissen zu sehen, wiesen die getesteten Proben des Abdeckfilms für einen Trockenfilmresist gemäß der vorliegenden Erfindung eine hervorragende Ablösbarkeit auf, zeigten eine gute Verklebung der Resistschicht auf dem isolierten Substrat und ergaben gute Ergebnisse bei der Evaluierung im Hinblick auf jeden der untersuchten Punkte.
Vergleichsbeispiel 1
Das gleiche Verfahren, wie in Beispiel 1 definiert, wurde mit der Ausnahme durchgeführt, dass keine Beschichtungslösung aufgetragen wurde, um einen Film zu erhalten. Indes betrug der Wassertropfenkontaktwinkel der Oberfläche des Abdeckfilms nur 65° und die Klebkraft zwischen dem Photoresist und dem Abdeckfilm war groß, so dass der Abdeckfilm nicht leicht von der Photoresistschicht abgelöst werden konnte.
Vergleichsbeispiel 2
Ein Film wurde unter den gleichen Bedingungen wie in Beispiel 1 gebildet, mit der Ausnahme, dass die Zusammensetzung der Beschichtungslösung 100 Gewichtsteile des Vernetzungsmittels enthielt.
Der Wassertropfenkontaktwinkel der Oberfläche der Abdeckschicht des erhaltenen Films betrug 66°, und die Klebkraft zwischen dem Photoresist und dem Abdeckfilm war groß, so dass der Abdeckfilm nicht leicht von der Photoresistschicht abgelöst werden konnte.
Vergleichsbeispiel 3
Ein Film wurde unter den gleichen Bedingungen wie in Beispiel 1 gebildet, mit der Ausnahme, dass die Zusammensetzung der Beschichtungslösung 100 Gewichtsteile Polyethylenoxid mit einem Säurewert von 80 enthielt.
Der Wassertropfenkontaktwinkel der Oberfläche der Abdeckschicht des erhaltenen Films betrug 72°, und die Klebkraft zwischen dem Photoresist und dem Abdeckfilm war groß, so dass der Abdeckfilm nicht leicht von der Photoresistschicht abgelöst werden konnte.
Beispiele 2 bis 5
Filme wurden unter den gleichen Bedingungen gebildet, wie in dem Beispiel 1 verwendet, mit der Ausnahme, dass die Polyolefinverbindung durch die unten spezifizierten Wachse ersetzt wurde:
Wachse

Polyethylenoxid mit einem Säurewert von 15 (Beispiel 2)
Polyethylenoxid mit einem Säurewert von 45 (Beispiel 3)
Polyethylenoxid mit einem Säurewert von 5 (Beispiel 4)
Polyethylenoxid mit einem Säurewert von 55 (Beispiel 5)

Beispiele 6 und 7
Filme wurden unter den gleichen Bedingungen gebildet, wie in dem Beispiel 1 verwendet, mit der Ausnahme, dass die Menge an dem Abdeckfilm zugesetztem, amorphen Siliziumdioxid wie unten spezifiziert geändert wurde:
Menge an zugesetztem, amorphem Siliziumdioxid

5.000 ppm (Beispiel 6)
100 ppm (Beispiel 7)
10.000 ppm (Beispiel 8)
20 ppm (Beispiel 9)

Die erhaltenen Ergebnisse sind in der Tabelle 1 zusammengefasst. Tabelle 1

	Beispiel 1	Beispiel 2	Beispiel 3	Beispiel 4
Wassertropfenkontaktwinkel	95	97	88	98
Trübung	4	4	4	4
Oberflächenrauigkeit × 10³	50	50	50	50
Ablösbarkeit	⌾	⌾	O	⌾
Verklebung	⌾	O	⌾	Δ
Erhärten des Resists	⌾	⌾	⌾	⌾
Aufwickeleigenschaften	⌾	⌾	⌾	⌾
Allgemeine Evaluierung	5	5	5	3

Tabelle 1 (Fortsetzung)

	Beispiel 5	Beispiel 6	Beispiel 7	Beispiel 8
Wassertropfenkontaktwinkel	85	96	92	96
Trübung	4	7	3	9
Oberflächenrauigkeit × 10³	50	200	5	250
Ablösbarkeit	Δ	⌾	⌾	⌾
Verklebung	⌾	⌾	⌾	⌾
Erhärten des Resists	⌾	O	⌾	Δ
Aufwickeleigenschaften	⌾	⌾	O	⌾
Allgemeine Evaluierung	3	5	5	3

Tabelle 1 (Fortsetzung)

	Beispiel 9	Vergleichsbeispiel 1	Vergleichsbeispiel 2	Vergleichsbeispiel 3
Wassertropfenkontaktwinkel	92	65	66	72
Trübung	2	3	4	4
Oberflächenrauigkeit × 10³	3	50	50	50
Ablösbarkeit	⌾	x	x	x
Verklebung	⌾	⌾	⌾	⌾
Erhärten des Resists	⌾	⌾	⌾	⌾
Aufwickeleigenschaften	Δ	⌾	⌾	⌾
Allgemeine Evaluierung	3	1	1	1

Claims

Abdeckfilm für einen Trockenfilmresist, umfassend einen Grundfilm und mindestens eine wachshaltige Abdeckschicht auf mindestens einer Seite des Grundfilms, wobei die Abdeckschicht durch Verwendung einer Beschichtungslösung, umfassend 1 bis 50 Gewichtsteile eines Vernetzungsmittels, auf der Basis von 100 Gewichtsteilen der Beschichtungslösung, erhältlich ist, wobei der Wassertropfenkontaktwinkel der Oberfläche der Abdeckschicht nicht unterhalb von 80° liegt.
Abdeckfilm für einen Trockenfilmresist nach Anspruch 1, worin das in der Abdeckschicht enthaltene Wachs eine Polyolefin-basierte Verbindung darstellt.
Abdeckfilm für einen Trockenfilmresist nach Anspruch 1, worin das in der Abdeckschicht enthaltene Wachs Polyethylenoxid mit einem Säurewert von 10 bis 50 ist.
Abdeckfilm für einen Trockenfilmresist nach Anspruch 1, welcher eine Trübung von nicht mehr als 7 % aufweist.
Abdeckfilm für einen Trockenfilmresist nach Anspruch 1, welcher eine Dicke von 4 bis 25 μm aufweist.
Abdeckfilm für einen Trockenfilmresist nach Anspruch 1, worin die Oberflächenrauigkeit der Abdeckschicht 0,005 bis 0,2 μm beträgt.
Abdeckfilm für einen Trockenfilmresist nach Anspruch 1, worin der Grundfilm eine Polyesterfolie darstellt.
Verfahren zur Herstellung des in Anspruch 1 definierten Abdeckfilms für einen Trockenfilmresist, worin der Grundfilm mit mindestens einer wachshaltigen Schicht auf mindestens einer Seite des Grundfilms unter Verwendung einer Beschichtungslösung, umfassend 1 bis 50 Gewichtsteile eines Vernetzungsmittels, auf der Basis von 100 Gewichtsteilen der Beschichtungslösung, beschichtet wird.