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Die
Erfindung betrifft radioaktive medizinische Vorrichtungen. Spezieller
betrifft die Erfindung radioaktive medizinische Vorrichtungen, die
in der Strahlentherapie für
erkranktes Gewebe verwendet werden können.
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Strahlentherapie
wird in großem
Umfang verwendet, um erkranktes Gewebe, wie Krebs und insbesondere
maligne Tumoren, zu behandeln. Das Ziel der Strahlentherapie ist
es, das erkrankte oder maligne Gewebe zu zerstören, ohne einen übermäßigen Schaden
an benachbartem gesundem Gewebe zu verursachen. Eine Form der Strahlentherapie
beinhaltet das Richten eines oder mehrerer Strahlungsstrahlen von
einem Punkt außerhalb
des Gewebes eines Patienten auf den Bereich, in dem der Tumor, die
malignen Zellen oder das erkrankte Gewebe liegen. Leider muss der
Strahlungsstrahl durch gesundes Gewebe treten, um das erkrankte
Zielgewebe zu erreichen.
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Eine
weitere Art Strahlungstherapie beinhaltet die Zufuhr einer radioaktiven
Quelle direkt an die Stelle mit erkranktem Gewebe. Diese Verfahren
umfassen zum Beispiel die Verwendung eines Katheters, die chirurgische
Implantation eines oder mehrerer radioaktiver Seeds oder die Injektion
eines oder mehrerer Seeds in den Patienten in enger Nachbarschaft
zu dem erkrankten Gewebe.
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Radioaktive
Quellen des Standes der Technik weisen typisch ein radioaktives
Element auf, das an einem Substrat fixiert ist, und das radioaktive
Substrat ist mit einer biokompatiblen Versiegelungsschicht bedeckt,
um ein Auslaugen des radioaktiven Elements in dem Patienten zu verhindern.
Zum Beispiel offenbart das U.S. Patent Nr. 5,938,604 eine Nadel,
die ein elektroplattiertes radioaktives Metall (Tc99m) umfasst,
welches mit zusätzlichen
Plattierungsschichten bedeckt ist, um die anschließende Entfernung
des radioaktiven Materials zu verhindern. Ähnlich lehrt das U.S. Patent
Nr. 5,405,309 das Elektroplattieren einer Palladium- 103/Palladium-Mischung
auf ein Pellet aus elektrisch leitendem Material und weiter das
Elektroplattieren des Pellets mit einem biokompatiblen Behälter oder
einer biokompatiblen Schale, wie Titan. Eine hauptsächliche
Beschränkung
der Lehren dieser Patente besteht darin, dass die äußeren Plattierungsschichten
eine signifikante Strahlungsmenge absorbieren, die aus der radioaktiven
inneren Plattierungsschicht emittiert wird, was erfordert, dass
hohe Radioaktivitätsmengen
auf der Innenschicht abgeschieden werden müssen, um die Strahlungsabschwächung durch
die äußere Plattierungsschicht
zu kompensieren. Die Abscheidung höherer Radioaktivitätsmengen
auf der inneren Plattierungsschicht ist teuer. Weiter werden die
Substrate zuerst mit einem radioaktiven Element elektroplattiert
und dann wiederum mit einem biokompatiblen Behälter oder einer biokompatiblen
Schale elektroplattiert oder versiegelt. Diese Verfahren sind kompliziert
und teuer und führen die
Möglichkeit
einer Erhöhung
des Risikos für
die Arbeiter während
des zweiten Elektroplattierungsschrittes ein.
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Das
U.S. Patent Nr. 4,323,055 an Kubiatowicz offenbart die Chemisorption
von I-125 auf einer
Silberschicht und diese beschichteten Seeds werden dann mit einem
Titan-Behälter
versiegelt, um wirksam die Wanderung von I-125 aus dem Seed zu steuern.
Jedoch hat die Verwendung einer äußeren Titan-Schale
eine wesentliche Abschwächung
durch die äußeren Schutzschicht
zur Folge. Das U.S. Patent Nr. 4,323,055 offenbart radioaktive Seeds
zur Verwendung in der Strahlentherapie von erkranktem Gewebe. Das
Seed umfasst einen dicht verschlossenen Behälter mit einer therapeutischen
Menge an radioaktivem Iod, das auf einem Trägerkörper verteilt ist. Der Trägerkörper ist
in einem Hohlraum eines rohrförmigen
Titan-Behälters
angeordnet, der an beiden Enden dicht verschlossen ist. Radioaktives
Iod wird an einem Silbersubstrat angebracht, indem man zuerst das
Silber chloriert oder bromiert, um eine Schicht aus unlöslichem
Silberchlorid oder Silberbromid zu bilden, und dann die Chlorid-
oder Bromid-Ionen
durch einfachen Ionenaustausch ersetzt. Leider muss die einverleibte
Radioaktivitätsmenge
erhöht
werden, um die 14%-ige Abschwächung
des Strahlungsfeldes durch den Titan-Behälter zu kompensieren. Die Einverleibung
von erhöhten
Radioaktivitätsmengen,
um die Abschwächung
durch den Behälter
zu kompensieren, ist teuer. Das U.S. Patent Nr. 3,351,049 betrifft
ebenfalls radioaktive Seeds, die einen zentralen Körper umfassen,
der mit einem Radioisotop beschichtet und in einem Behälter eingeschlossen
ist. In einer Ausführungsform
ist der Behälter
aus einem Metall mit niedriger Ordnungszahl gebaut, wie Edelstahllegierung
oder Titan. Jedoch ist, wie in dem Patent offenbart, die Abschwächung bei
Edelstahl etwa 15% pro Tausendstel eines Inchs, während die
Abschwächung
bei Titan etwa 5% pro Tausendstel eines Inchs ist, und zusätzliches
Radioisotop muss hinzugefügt
werden, um Absorptionsverluste in den Behälterwänden zu kompensieren. Es wird
angemerkt, dass I-125-Seeds eine metallische Umhüllung erfordern, um das Auslaugen
von I-125 aus dem Substrat zu verhindern, was wiederum signifikant
die Strahlungsmenge abschwächt,
die aus dem Seed emittiert wird. Ein analoger Ansatz ist im U.S.
Patent Nr. 3,811,426 offenbart, welcher umfasst, dass man Pu-238
auf einem Draht abscheidet. Die Radioisotop-Schicht wird mit einer Überzugsschicht
wie Platin bedeckt. Sowohl die radioaktive Schicht als auch die Überzugsschicht
werden durch elektrolytische Verfahren, wie Sputter-Abscheidung,
aufgebracht. Wiederum schwächt
die Überzugsschicht
die Strahlung ab, die von der radioaktiven Schicht des Drahts emittiert
wird. Auch verursachen die zwei Elektroplattierungsverfahren, dass
der radioaktive Draht schwieriger und teurer herzustellen ist als
radioaktive Drähte,
die einen einzigen Elektroplattierungsschritt und einen leichten
und preiswerten Beschichtungsschritt umfassen. Weiter zeigen Drähte, die
elektroplattiert oder elektrogesputtert sind, wenig oder keine Flexibilität.
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Das
U.S. Patent Nr. 5,713,828 offenbart eine Brachytherapie-Vorrichtung,
die aus einem hohlen, rohrförmigen
Substrat gebildet ist, auf dem eine radioaktive Quelle angeordnet
ist. Das radioaktive Seed ist in einer Versiegelungsschicht eingeschlossen,
die eine organische Beschichtung wie Polypropylen, Polyethylenterephthalat,
Nylon, Polyurethan oder ein biokompatibles Metall oder eine biokompatible
Metallverbindung umfasst. Die offenbarte Brachytherapie-Vorrichtung muss
Abmessungen aufweisen, die es ermöglichen, dass ein Trägermaterial,
wie ein chirurgischer Faden, durch das hohle Rohr der Vorrichtung
hindurchgefädelt
wird. Demgemäß ist die
Brachytherapie-Vorrichtung bezüglich
ihres minimalen Durchmessers beschränkt. Weiter ist es in der Technik
wohlbekannt, dass radioaktive Elemente, wie Iod, wegen ihrer Flüchtigkeit
nicht leicht auf Substraten zurückgehalten
werden. Das oben erwähnte
Patent zieht in Betracht, Substrate mit Iod-125 gemäß dem Chemisorptions-Verfahren
zu beschichten, das im U.S. Patent Nr. 4,323,055 (Kubiatoicz) offenbart
ist, jedoch kann ein mit I-125 beschichtetes Substrat, das in einer
einzigen Versiegelungsschicht eingeschlossen ist, wie in der
US 5,713,828 offenbart,
das Auslaugen von signifikanten Mengen an radioaktivem I-125 in
einen Patienten ermöglichen.
Da es wohlbekannt ist, dass Iod bei Menschen in der Schilddrüse akkumuliert,
könnte die
geringste Menge an I-125, die aus der offenbarten Brachytherapie-Vorrichtung
ausleckt, ernsthaft die Gesundheit eines Patienten bedrohen. Ein ähnliches
Verfahren ist im U.S. Patent Nr. 5,163,896 offenbart, welches umfasst,
dass man einen Wolframstab oder ein Wolframpellet mit einem radioaktiv
absorbierenden Bindermaterial beschichtet, an dem ein radioaktives
Material adsorbiert wird. Der radioaktive Stab wird in einem Überzugsmaterial
eingekapselt, welches das Pellet versiegelt. Das Pellet kann in
einem Behälter
eingekapselt sein, der aus einem von Titan verschiedenen Material
hergestellt ist, vorausgesetzt, dass das Behältermaterial die Bestrahlung
aus dem Seed nicht wesentlich hemmt, und vorausgesetzt, dass das
Material gegen eine Korrosion durch Körperflüssigkeiten beständig ist.
Dieses Verfahren ist im Allgemeinen bei der Verwendung von flüchtigen
radioaktiven Elementen wie I-125 nicht anwendbar, welche über längere Zeiträume aus
dem Bindermaterial ausgelaugt würden.
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Das
U.S. Patent Nr. 5,342,283 (Good) betrifft radioaktive Implantate
und ein Verfahren zur Herstellung von radioaktiven Implantaten.
Das Patent lehrt die Einverleibung eines radioaktiven Elements in
ein Seed, ein Band oder einen Draht und das anschließende Beschichten
der radioaktiven Schicht mit anderen Überzugsschichten, die eine
Metall-Diffusionsbarriere (zum Beispiel Titan, Tantal, Gold, Platin,
Wolframcarbid) und eine biokompatible Schutzschicht umfassen, einschließlich Metall
(zum Beispiel Titan) oder Diamant oder diamantartigen Kohlenstoffs.
Die Diffusionsbarriere und der Schutzüberzug werden durch Sputtern,
Laserablation, Ionenplattierung oder Kathodenbogen-Plasmaabscheidung
auf dem radioaktiv beschichteten Substrat abgeschieden. Die Diffusionsbarriere
und der Schutzüberzug
können
signifikante Strahlungsmengen absorbieren, die von der inneren radioaktiven
Plattierungsschicht emittiert werden, und deshalb müssen hohe
Radioaktivitätsmengen
abgeschieden werden, bevor sie mit den Diffusions- und äußeren Plattierungsschichten
beschichtet werden, was kostspielig ist. Demgemäß sind diese Implantate schwieriger
und teurer herzustellen als Implantate, die einen einzigen Elektroplattierungsschritt
und einen leichten und preiswerten Beschichtungsschritt für ihre Herstellung
erfordern.
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Die
kanadische Patentanmeldung
CA
2,010,038 betrifft die Herstellung und Verwendung von Yb-168- oder
Yb-169-Seeds und -Drähten
mittels Neutronenbeschusses. Diese radioaktiven Substrate können einen äußeren Überzug aus
Titan, Aluminium, PTFE-beschichtetem Aluminium oder anderem Kunststoff
umfassen. Es gibt keine Offenbarung von Seeds, die andere Isotope
umfassen.
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Es
gibt einen Bedarf an radioaktiven, elektroplattierten Substraten
mit hoher Aktivität
und im Wesentlichen gleichförmiger
Radioaktivität
in der Technik, welche sowohl leicht als auch preiswert herzustellen
sind. Weiter gibt es einen Bedarf an radioaktiven elektroplattierten
Substraten, die mit Materialschichten überzogen und versiegelt sind,
welche das Auslaugen des radioaktiven Elements aus dem Substrat
verringern, jedoch die Abschwächung
der Strahlung so minimieren, dass die Materialschichten nicht wesentlich
die Strahlung absorbieren, die aus dem Substrat emittiert wird.
Es gibt auch einen Bedarf an radioaktiven Substraten mit Überzugs-
oder Versiegelungsschichten, die dem radioaktiven Substrat kein übermäßiges Volumen
verleihen oder die Zugfestigkeitseigenschaften wie Biegbarkeit oder
Dehnbarkeit des Substrats verändern.
Es ist ein Ziel der vorliegenden Erfindung, die Nachteile des Standes
der Technik zu überwinden.
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Das
vorstehende Ziel wird durch eine Kombination der Merkmale der Hauptansprüche erreicht.
Die Unteransprüche
offenbaren weitere vorteilhafte Ausführungsformen der Erfindung.
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Die
vorliegende Erfindung betrifft radioaktive medizinische Vorrichtungen.
Spezieller betrifft die Erfindung radioaktive medizinische Vorrichtungen,
die für
die Strahlentherapie von erkranktem Gewebe nützlich sind.
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Gemäß der vorliegenden
Erfindung wird eine radioaktive medizinische Vorrichtung bereitgestellt,
die ein radioaktives elektroplattiertes (galvanisiertes) Substrat
umfasst, das mit mindestens einer Polymerschicht überzogen
ist und in einer Ummantelungsschicht versiegelt ist.
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Die
vorliegende Erfindung betrifft auch eine radioaktive medizinische
Vorrichtung, wie vorstehend beschrieben, bei der das Substrat vollständig aus
Metall oder teilweise aus Metall gebildet ist. Bei dem Substrat kann
es sich um Silber handeln und es kann die Form eines Drahtes aufweisen.
Die radioaktive medizinische Vorrichtung kann ein Stent, Draht oder
ein Seed sein.
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Die
vorliegende Erfindung betrifft auch wie oben beschriebene radioaktive
medizinische Vorrichtungen, die mit einem radioaktiven Element elektroplattiert
sind, das ausgewählt
sein kann aus der Gruppe bestehend aus P-32, S-35, Cl-36, Sc-47,
Cu-67, Y-90, Mo-99, Pd-103, Sn-117m, I-123, I-124, I-125, I-129,
I-131, Ce-144, Ho-166, Re-186, Re-188, W-188, Ir-192 und Au-199.
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Die
vorliegende Erfindung betrifft auch die oben beschriebenen radioaktiven
medizinischen Vorrichtungen mit 1 bis etwa 10 Polymerschichten.
Das Polymer kann ausgewählt
sein aus der Gruppe bestehend aus Polyurethan, Polypropylen, Polysulfon,
Polyphenylsulfon, Polyethersulfon, Polyimid, Viton, Nylon, Polyester/Polyolefinen,
Keramiken, PVP, Cellulose.
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Die
vorliegende Erfindung betrifft auch ein Verfahren zur Herstellung
einer radioaktiven medizinischen Vorrichtung, die mit mindestens
einer Polymerschicht beschichtet und in einer Ummantelungsschicht
versiegelt ist, welches die Schritte umfasst:
- a)
Elektroplattieren (Galvanisieren) eines Substrats mit einem radioaktiven
Element, um ein radioaktives elektroplattiertes Substrat zu bilden;
- b) Beschichten des radioaktiv elektroplattierten Substrats mit
mindestens einer Polymerschicht, um ein radioaktives elektroplattiertes
Substrat zu bilden, das mit mindestens einer Polymerschicht beschichtet
ist, und;
- c) Versiegeln des radioaktiven elektroplattierten Substrats,
das mit mindestens einer Polymerschicht beschichtet ist, in einer
Ummantelungsschicht.
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Die
vorliegende Erfindung betrifft auch die Verwendung der wie oben
definierten radioaktiven medizinischen Vorrichtung für die Zufuhr
von Strahlung an erkranktes Gewebe. Weiter kann die radioaktive
medizinische Vorrichtung für
die Brachytherapie oder Restenose verwendet werden.
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Diese
Zusammenfassung beschreibt nicht notwendigerweise alle notwendigen
Merkmale der Erfindung, sondern die Erfindung kann auch in einer
Unterkombination der beschriebenen Merkmale bestehen.
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Diese
und andere Merkmale der Erfindung werden aus der folgenden Beschreibung
offenkundiger, in denen auf die beigefügten Zeichnungen Bezug genommen
wird, worin:
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1 einen Aspekt einer Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung zeigt, der ein radioaktives elektroplattiertes
Substrat umfasst, das mit einer Polymerschicht beschichtet und in
einer Ummantelungsschicht versiegelt ist. 1(A) zeigt
eine perspektivische Ansicht des beschichteten Substrats. 1(B) zeigt einen Längsschnitt eines beschichteten
Substrats.
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2 zeigt verschiedene Aspekte von Ausführungsformen
der vorliegenden Erfindung.
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2A zeigt
ein Substrat, das eine radioaktive Schicht umfasst und mit einer
einzigen Polymerschicht beschichtet und in einer Ummantelungsschicht
versiegelt ist (nicht Teil der Erfindung). 2B zeigt
ein Substrat, das eine radioaktive Schicht umfasst und mit mehreren
identischen Polymerschichten beschichtet und in einer Ummantelungsschicht
versiegelt ist. 2C zeigt ein Substrat, das eine
radioaktive Schicht umfasst und mit mehreren Polymerschichten beschichtet
und in einer Ummantelungsschicht versiegelt ist. Die mehreren Polymerschichten
weisen verschiedene Dicken auf. 2D zeigt
ein Substrat, das eine radioaktive Schicht umfasst und mit mehreren
Polymerschichten beschichtet und in einer Ummantelungsschicht versiegelt
ist. Jede Schicht der mehreren Polymerschichten weist eine unterschiedliche
Zusammensetzung und Dicke auf.
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3 zeigt
eine graphische Darstellung des Ionenpotentials gegen die Ionenkonzentration
in einer Elektroplattierungslösung.
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4 zeigt
radioaktives Iod, das aus einer Ausführungsform der vorliegenden
Erfindung ausgelaugt wird, welche ein radioaktives, elektroplattiertes
Substrat umfasst und mit mindestens einer Polymerschicht beschichtet
und in einer Ummantelungsschicht versiegelt ist.
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5 zeigt
repräsentative
Beispiele für
Röntgenfilme,
die für
eine Gafchromic-Film-Densitometrie
einer radioaktiven medizinischen Vorrichtung der vorliegenden Erfindung
verwendet werden. 4A zeigt die Radioaktivität, die entlang
einer Seite der radioaktiven medizinischen Vorrichtung der vorliegenden
Erfindung nach einer 5-minütigen
Filmbestrahlungszeit verteilt ist. 5B zeigt
die Radioaktivität,
die entlang der Seite verteilt ist, die der in 5B abgebildeten
gegenüber
liegt, während
der gleichen 5-minütigen
Bestrahlungszeit. 5C zeigt die Radioaktivität, die entlang
einer Seite der radioaktiven medizinischen Vorrichtung der vorliegenden
Erfindung nach einer zehnminütigen
Filmbestrahlungszeit verteilt ist. 5D zeigt
die Radioaktivität,
die entlang der Seite verteilt ist, die der abgebildeten in 5B gegenüber liegt, während derselben zehnminütigen Bestrahlungszeit.
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6 zeigt
eine radioaktive Abtastung einer radioaktiven medizinischen Vorrichtung
der vorliegenden Erfindung.
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Die
vorliegende Erfindung betrifft radioaktive medizinische Vorrichtungen.
Spezieller betrifft die Erfindung radioaktive medizinische Vorrichtungen,
die zur Radiotherapie von erkranktem Gewebe nützlich sind.
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Gemäß der vorliegenden
Erfindung wird eine radioaktive medizinische Vorrichtung bereitgestellt,
die ein radioaktives elektroplattiertes Substrat umfasst, das mit
einer Polymerschicht beschichtet ist, und dieses mit Polymer beschichtete
Substrat wird dann in einer äußeren Ummantelungsschicht
eingeschlossen. Mit Bezugnahme auf 1,
die einen Aspekt einer Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung darstellt, umfasst das radioaktive elektroplattierte
Substrat ein Substrat (10) und eine radioaktive Schicht
(20), die darauf durch ein Elektroplattierungsverfahren
abgeschieden ist. Das radioaktive elektroplattierte Substrat ist
mit einer Polymerbeschichtung (30) beschichtet und in einer äußeren Ummantelungsschicht
(40) eingeschlossen.
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Das
radioaktive elektroplattierte Substrat der radioaktiven medizinischen
Vorrichtung der vorliegenden Erfindung kann jedes Substrat umfassen,
das mit einem gewünschten
radioaktiven Element elektroplattiert werden kann. Das Substrat
kann ein massives Metallobjekt umfassen, das aus einem einzigen
Metall hergestellt ist, oder das Substrat kann einen Metallgegenstand
umfassen, der aus einer Mehrzahl von Metallen hergestellt ist. Alternativ
kann das Substrat Metall- und
Nichtmetall-Teile umfassen, zum Beispiel, aber ohne dass man beschränkt sein
will, kann das Substrat einen Nichtmetall-Teil umfassen, der mit
einem Metall oder einer Mehrzahl von Metallen beschichtet oder darin
eingekapselt ist. Das Substrat der radioaktiven medizinischen Vorrichtung
der vorliegenden Erfindung kann von irgendeiner Form oder variabler
Abmessung sein. Zum Beispiel, aber ohne dass man beschränkt sein
will, kann das Substrat ein Band, einen Draht, eine Scheibe, ein Seed,
ein Rohr oder eine Kombination derselben umfassen. Beispiele für metallisches
Substrat, das mit einem interessierenden radioaktiven Isotop durch
Elektroplattierung beschichtet werden kann, umfassen, ohne jedoch
darauf beschränkt
zu sein, Silber, Bronze, Edelstahl, Nitinol (Nickel-Titan-Legierung), Zirconium,
Aluminium, Messing, Zink, Titan, Platin, Tantal, Rhodium und Palladium.
Die Aktivitätsmenge,
die auf das Substrat geladen wird, kann durch die Verfahrensreaktionszeit
und die spezifische Aktivität
des Isotops variiert werden.
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Das
radioaktive Element, das auf das Substrat elektroplattiert wird,
kann irgendein radioaktives Element oder eine Kombination von radioaktiven
Elementen umfassen, das bzw. die elektroplattiert werden kann. Beispiele
für radioaktive
Elemente, die elektroplattiert werden können, umfassen, ohne jedoch
darauf beschränkt
zu sein, P-32, S-35, Cl-36, Sc-47, Cu-67, Y-90, Mo-99, Pd-103, Sn-117m, I-123, I-124,
I-125, I-129, I-131, Ce-144, Ho-166, Re-186, Re-188, W-188, Ir-192
und Au-199.
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Das
Elektroplattierungsverfahren zur Fixierung von Radioisotopen auf
einem nichtradioaktiven Substrat ist so ausgelegt, dass eine gleichförmige Bedeckung
des Substrats erzielt wird, was ein vorhersagbares Strahlungsfeld
bei einem gegebenen Abstand von der Vorrichtung zur Folge hat. Das
Elektroplattierungsverfahren verwendet eine wässrige Lösung eines Salzes, das mit
dem auf das Substrat zu plattierenden Isotop kompatibel ist. Allgemeine
Verfahren, welche die Elektroplattierung betreffen, sind in der
Technik wohlbekannt (z.B. ASM Handbook, Surface Engineering, Bd.
5, 1990, ASM International). Zum Beispiel, aber nicht als beschränkend anzusehen,
kann NaI oder KI mit I-125 oder verwandten Isotopen oder PdCl2 mit Pd-103 verwendet werden. Das zu beschichtende
metallische Substrat kann als Anode oder Kathode verwendet werden,
wie erforderlich, abhängig
von der Ladung des zu plattierenden Isotops. Zum Beispiel, was nicht
als Beschränkung anzusehen
ist, kann für
die Plattierung von I-125 ein Silberdraht als Anode verwendet werden,
zusammen mit einem Platindraht, der als Kathode verwendet wird.
Bei dieser Elektrodenkombination dient Platin als inerter Leiter,
indem es nicht an der Redox- Chemie
teilnimmt, außer
als Leiter von Elektronen, damit eine andere chemische Reaktion
stattfindet. Andere Metalle können
als Anode oder Kathoden verwendet werden, wie es für den Fachmann
offensichtlich ist, zum Beispiel, aber ohne Beschränkung, Palladium,
Rhodium, Ruthenium, Osmium, Platin, Iridium (z.B. Raub Ch. J. 1990,
ASM Handbook, S. 251–254)
oder Silber (Blair A., 1990 ASM Handbook, S. 245–246).
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Nach
der Elektroplattierung wird das radioaktive Substrat zuerst mit
mindestens einer Polymerschicht beschichtet. Das Polymer kann jedes
in der Technik bekannte Polymer umfassen. Zum Beispiel, aber ohne dass
man beschränkt
sein will, kann das Polymer Polyurethan, Polypropylen, Polysulfon,
Polyphenylsulfon, Polyethersulfon, Polyimid, Viton, Nylon, Polyester/Polyolefine,
Keramiken, PVP, Celluloseester, Polyglycolid, Polymilchsäure, Nylon
6/6, Polyethylenglycol, Polyvinylidenfluorid, Epoxy oder eine Kombination
derselben umfassen. Bevorzugt besteht die Polymerschicht aus Polyurethan,
zum Beispiel, aber ohne darauf beschränkt zu sein, Polyurethan EG-65D.
Bei Ausführungsformen
der vorliegenden Erfindung, in denen das radioaktive elektroplattierte
Substrat zuerst mit einer Mehrzahl von Polymerschichten beschichtet
wird und zweitens in einer Ummantelungsschicht eingeschlossen wird,
können
die Polymerschichten, welche die erste Polymerbeschichtung umfassen,
bezüglich
der Zusammensetzung und physikalischen Eigenschaften ähnlich oder
unähnlich
sein, vorausgesetzt, dass jede Polymerschicht mit der vorangehenden
oder anschließenden
Polymerschicht kompatibel ist. Weiter können die eine oder mehreren
Polymerschichten andere Chemikalien oder Zusätze umfassen, wie, ohne Beschränkung, Stabilisatoren,
Epoxy und Polyvinylidenfluorid.
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Jede
Schicht der ersten Polymerbeschichtung kann unter Verwendung jedes
Verfahrens, dass dem Fachmann offenkundig ist, auf das elektroplattierte
Substrat der vorliegenden Erfindung aufgetragen werden. Zum Beispiel
kann jede Polymerschicht als Flüssigkeit,
zum Beispiel, aber ohne Beschränkung,
durch Eintauchen des radioaktiven elektroplattierten Substrats in
eine Lösung,
die Polymer und ein geeignetes Lösungsmittel
umfasst, auf das radioaktive elektroplattierte Substrat aufgetragen
werden. Das Polymer kann auch auf das radioaktive Substrat aufgesprüht oder
aufgestrichen werden. Zwischen Polymerschichten kann man das Polymer
teilweise oder vollständig
trocknen lassen, wie erforderlich. Das Polymer oder die Polymer-Lösung kann
erwärmt
werden, um eine homogene Lösung
zu erzeugen oder die Viskosität
der Polymer-Lösung zu
verringern, wie es in der Technik bekannt ist. Auch ist es durch
Variieren des Verhältnisses
der Polymermasse zur Lösungsmittelmasse
möglich,
Polymerlösungen
mit verschiedenen Massenbruchteilen an Polymer und Lösungsmittel
und demgemäß verschiedenen
Viskositäten
herzustellen. Ohne dass man durch eine Theorie gebunden sein will,
kann durch Variieren der Viskosität der Polymer-Lösung die
Dicke der Beschichtung jeder Polymerschicht der radioaktiven medizinischen
Vorrichtung gesteuert werden. Zum Beispiel kann unter identischen
Bedingungen eine Polymer-Lösung,
die ein relativ hohes Massenverhältnis
von Polymer zu Lösungsmittel
umfasst, für
eine dickere Polymerbeschichtung beim Eintauchen oder Besprühen sorgen
als eine Polymerlösung,
die ein relativ niedriges Massenverhältnis von Polymer zu Lösungsmittel
umfasst. Jedoch kann, ohne dass man beschränkt sein will, die Dicke jeder
Polymerschicht durch die Art und die Menge des Polymers oder der
Polymere in Lösung,
die Menge und Eigenschaften des Lösungsmittels, falls anwesend,
die Temperatur des Polymers, die Natur des Eintauchens, Besprühens oder
eines anderen Beschichtungsverfahrens oder Kombinationen derselben
beeinflusst werden. Da jede Polymerschicht der radioaktiven medizinischen Vorrichtung
der vorliegenden Erfindung als Flüssigkeit aufgetragen werden
kann, versteht der Fachmann, dass in Ausführungsformen, die auf eine
Beschichtung mit einer Mehrzahl von Polymerschichten gerichtet sind,
die einzelnen Polymerüberzügen oder
-schichten voneinander ununterscheidbar sein können, insbesondere in Ausführungsformen,
in denen das radioaktive elektroplattierte Substrat mit mehreren
identischen Polymerschichten beschichtet ist. Wenn mehr als eine
Schicht aufgetragen wird, kann das Lösungsmittel die vorangehende
Polymerschicht lösen
oder solvatisieren, so dass eine homogene kontinuierliche Polymerbeschichtung erhalten
werden kann.
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2A zeigt
ein Substrat (10), das eine radioaktive Schicht (20)
umfasst, die durch ein Elektroplattierungsverfahren darauf abgeschieden
ist und mit einer einzigen Polymerschicht (30) beschichtet
und in einer Ummantelungsschicht (40) eingeschlossen ist.
Die 2B–D
zeigen ein Substrat (10), das eine radioaktive Schicht
(20) umfasst, die durch ein Elektroplattierungsverfahren
darauf abgeschieden ist und mit mindestens einer Polymerschicht
(30) beschichtet und in einer Ummantelungsschicht (40)
eingeschlossen ist. In dem Aspekt der Ausführungsform, die in 2B gezeigt
ist, ist jede Schicht der Polymerbeschichtung identisch. In 2C umfasst
jede Schicht der Polymerbeschichtung das gleiche Polymer, aber die
Dicke jeder Schicht der Polymerbeschichtung ist verschieden. In
dem Aspekt der Ausführungsform,
der in 2D gezeigt ist, ist jede Polymerschicht
sowohl bezüglich
Zusammensetzung als auch Dicke verschieden.
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Es
ist vorzuziehen, dass der Überzug
aus der Polymerschicht die Eigenschaften des Substrats nicht signifikant ändert. Zum
Beispiel, ohne dass man beschränkt
sein will, sollte ein biegbares Substrat nach der Elektroplattierung
und Beschichtung mit einer Polymerschicht biegbar verbleiben. Weiter
ist es vorzuziehen, dass die Beschichtung des radioaktiven elektroplattierten
Substrats mit dem Polymer leicht durchzuführen und relativ preiswert
ist.
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Die
Polymerschicht schützt
das radioaktive elektroplattierte Substrat und wirkt als Barriere,
um das Auslaugen des radioaktiven Elements aus dem radioaktiven
elektroplattierten Substrat zu verringern oder wesentlich zu verringern.
Weiter ist die Polymerschicht bezüglich der emittierten Strahlung
transparent und die Abschwächung
der Strahlung durch diese Schicht ist vernachlässigbar. Es ist nicht erforderlich,
dass die Polymerschicht das Auslaugen des radioaktiven Elements
aus der elektroplattierten Schicht vollständig blockiert oder stoppt,
aber es ist vorzuziehen, dass die Polymerschicht das Auslaugen des
radioaktiven Elements aus dem radioaktiven elektroplattierten Substrat
auf ein geeignetes Maß verringert.
Wenn zum Beispiel ein Substrat mit radioaktivem Iod elektroplattiert
ist, dann ist nach der Beschichtung mit einem Polymer ein geeignetes Maß des Auslaugens
unterhalb etwa 120 μCi
mit trockenen Tupfern (Durchschnitt von 6 Tupfern).
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Das
mit einer Polymerschicht beschichtete radioaktive elektroplattierte
Substrat wird auch in eine Ummantelungsschicht eingeschlossen. Mit
dem Ausdruck "Ummantelungsschicht" ist ein biokompatibles
Material gemeint, welches das radioaktive, elektroplattierte und
mit Polymer beschichtete Substrat einkapselt. Typisch wird das elektroplattierte
mit Polymer beschichtete Substrat in die Ummantelungsschicht eingeführt und
die Ummantelungsschicht wird verschlossen, um wenig oder kein Auslaugen
des Isotops aus dem beschichteten Substrat sicherzustellen. Die
Ummantelungsschicht ist eine Polymer-Zusammensetzung, die von jener der Polymerschicht
verschieden ist. Zum Beispiel kann die Ummantelungsschicht, ohne
jedoch darauf beschränkt
zu sein, Nylon, Nylon-12, Polyurethan, thermoplastisches Polyurethan,
Polyethylen hoher Dichte, thermoplastische Elastomere, thermisches
Polefin, Polybutylenterephthalat, Polyethylen, Ethylen-Propylen-Terpolymer-Kautschuk
und jede Kombination derselben umfassen. Die Ummantelungsschicht
kann vorgeformt sein und das elektroplattierte, mit Polymer beschichtete
Substrat wird in die Ummantelungsschicht eingeführt, die dann dicht verschlossen
wird. Zum Beispiel, was nicht als beschränkend anzusehen ist, kann die
medizinische Vorrichtung ein Draht sein und die Ummantelungsschicht
kann ein Rohr sein, das solche Abmessungen aufweist, dass es über den
elektroplattierten, mit Polymer beschichteten Draht gleitet. Jedoch
wird auch in Betracht gezogen, dass die Ummantelungsschicht in flüssiger Form
auf analoge Weise wie die erste Polymerschicht aufgetragen werden
kann oder dass die Ummantelungsschicht mit einer gewünschten
Abmessung direkt um das elektroplattierte, mit Polymer beschichtete
Substrat herum extrudiert und dicht verschlossen wird. Wenn sie
in flüssiger
Form aufgetragen wird, ist die flüssige Ummantelungsslösung von
viel größerer Dickflüssigkeit
als jene, die für
die erste Polymerbeschichtung verwendet wird.
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Bevorzugt
schwächt
die Ummantelungsschicht nicht wesentlich Strahlung, die aus dem
radioaktiven elektroplattierten Substrat emittiert wird. Auch ist
es vorzuziehen, dass die Ummantelungsschicht dem elektroplattierten
Substrat kein übermäßiges Volumen
verleiht, damit die Ummantelungsschicht nicht signifikant die Eigenschaften
des Substrats ändert,
wenn sie dicht verschlossen ist. Zum Beispiel, aber ohne dass man
beschränkt
sein will, sollte ein biegbares Substrat nach der Elektroplattierung,
Polymerbeschichtung und dem Einschluss in einer Ummantelungsschicht
biegbar bleiben.
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Die
Ummantelungsschicht der radioaktiven medizinischen Vorrichtung der
vorliegenden Erfindung wirkt so, dass sie das radioaktive, elektroplattierte,
mit Polymer beschichtete Substrat schützt, und dient auch als Barriere,
um das Auslaugen des radioaktiven Elements aus dem elektroplattierten
Substrat zu verringern. Wenn dieses mit der Ummantelungsschicht
beschichtet ist, liegt die Auslaugungsmenge des radioaktiven Isotop
aus dem Substrat bei oder unter einer spezifischen Menge, wie es
für die
radioaktive medizinische Vorrichtung erforderlich ist. Zum Beispiel,
was auf keine Weise als beschränkend
angesehen werden sollte, wird es bevorzugt, dass die Ummantelungsschicht
das Auslaugen von Radioaktivität
aus der in ein Lebewesen zu implantierenden medizinischen Vorrichtung
auf etwa 5 nCi oder weniger mit Bezug auf ANSI-Standards (International
Organization for Standardization (ISO) 9978-1992 (E) "Radiation Protection-sealed
Radioactive Sources – Leakage
Test Methods", Abschnitt
5) verringert.
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Nachstehend
wird die Herstellung einer medizinischen Vorrichtung beschrieben,
die unter Verwendung eines flüchtigen
radioaktiven Isotops elektroplattiert und beschichtet wird, wie
hierin beschrieben. Jedoch versteht es sich, dass das beschriebene
Verfahren für
die Verwendung eines Substrats, Isotops und von Beschichtungszusammensetzungen,
die verwendet werden können,
um eine beschichtete, gemäß den Verfahren
der vorliegenden Erfindung hergestellte medizinische Vorrichtung
zu erzeugen, beispielhaft ist und nicht verwendet werden sollte,
um die Erfindung auf irgendeine Weise zu beschränken. In diesem Beispiel wird
das Elektroplattierungsverfahren unter Verwendung einer wässrigen
Natriumiodid-Lösung,
des Silberdrahts als Anode und eines Platindrahts als Kathode durchgeführt. Der
pH der Lösung
ist bevorzugt alkalisch, bevorzugter ein pH von etwa 10 oder mehr.
Ohne durch eine Theorie gebunden sein zu wollen, nimmt man an, dass
der Platindraht als inerter Leiter wirkt und nicht an der Redox-Chemie des Elektroplattierungsprozesses
teilnimmt, außer
als Leiter von Elektronen für
die chemischen Reaktionen. Die Halbreaktionen des Verfahrens können wie
folgt sein:
Halbreaktionen | E0 (V) |
Ag(s)
+ I–(aq) ⇔ AgI(s) +
1e– | 0,152 |
Ag(s) ⇔ Ag+ + 1e– | –0,799 |
O2 + 2H2O + 4e– ⇔ 4OH- | 0,401 |
Reaktion | E0 (V) |
4Ag(s)
+ 2H2O + 2NaI + O2 ⇔ 2AgI(s)
+ 2Ag(OH) + 2NaOH | –0,246 |
oder
Halbreaktionen | E0 (V) |
Ag(s) ⇔ Ag+ + 1e– | –0,799 |
O2 + 2H2O + 4e– ⇔ 4OH- | 0,401 |
Reaktion | E0 (V) |
4Ag(s)
+ 2H2O + 2NaI + O2 ⇔ 2AgI(s)
+ 4NaOH | –0,398 |
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Gemäß den oben
gezeigten Halbreaktionen ist das elektrische Potential für die Elektroplattierung
eines Silberdrahts mit Iod negativ, was nahelegt, dass die Elektroplattierungsreaktion
nicht spontan verläuft,
und eine Spannung wird angelegt, damit die Reaktion stattfindet.
Ohne beschränkt
zu sein und durch eine Theorie gebunden sein zu wollen, hängt die
Größe der Spannung,
die erforderlich ist, um ein Elektroplattierungsverfahren zu bewirken,
von dem im Substrat vorliegenden Metall und dem auf das Substrat
zu elektroplattierenden radioaktiven Element sowie von anderen Faktoren
ab. Auch ist es für
den Fachmann offensichtlich, dass ein Strom verwendet wird, um das
Elektroplattierungsverfahren anzutreiben. Bevorzugt wird ein Strom
von etwa 15 μA
bis etwa 20 μA über eine
Zeitspanne von etwa 2 Stunden angewandt, um den Silberdraht mit
Iod-125 zu elektroplattieren.
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Um
die Iodmenge abzuschätzen,
die auf einen Silberdraht elektroplattiert wurde, kann die Masse
jedes Drahts vor und nach dem Elektroplattieren gemessen werden.
Unter einem ersten Satz von Bedingungen wurde bemerkt, dass die
NaI-Konzentration
in der Elektroplattierungslösung
den Wirkungsgrad der Elektroplattierungsreaktion beeinflusst. Die Änderung
der NaI-Konzentration in der Elektroplattierungslösung von
1 μg/ml auf
20 μg/ml
hatte eine Farbänderung
der Plattierungen von dunkelgrau nach goldgelb zum Ergebnis und
hatte einen Einfluss auf den Wirkungsgrad der Elektroplattierungsreaktion. Ähnlich wurde
bemerkt, dass Drähte,
die nicht sorgfältig
gereinigt waren, ebenfalls den Wirkungsgrad der Elektroplattierungsreaktion
beeinflussten. Deshalb ist es vorzuziehen, dass die Substrate vor
dem Elektroplattieren gründlich
gereinigt werden. Jedoch wird angemerkt, dass eine große Variation
der NaI-Konzentration verwendet werden konnte, um Silberdrähte und
andere metallische Gegenstände
wirksam zu elektroplattieren. Der Wirkungsgrad von Plattierungen
unter verschiedenen Bedingungen ist in Tabelle 1 gezeigt: Tabelle
1: Elektroplattierungsbedingungen

- n.b.
- nicht bestimmt
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Tabelle
1 veranschaulicht, dass es eine große Schwankungsbreite der Bedingungen
gibt, welche ein wirksames Elektroplattieren ermöglichen. Zum Beispiel wurde
ein wirksames Elektroplattieren nach verschiedenen Zeitspannen und
unter verschiedenen pH-Bedingungen der Elektroplattierungslösung beobachtet.
Zusätzlich
konnte die Elektroplattierungsreaktion mit einer großen Vielfalt
von Spannungen und Strömen
durchgeführt
werden.
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Zusätzlich zu
den in Tabelle 1 beschriebenen Bedingungen wurde auch beobachtet,
dass die Änderung
des Volumens der Elektroplattierungslösung, die Änderung der Tiefe des Eintauchens
des Silberdrahts (der Anode) und des Platindrahts (der Kathode)
und die Änderung
des Abstands zwischen Anode und Kathode in der Elektroplattierungslösung ebenfalls
den Wirkungsgrad der Elektroplattierungsreaktion beeinflussen.
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Um
weiter die Iodmenge zu bewerten, die auf einen Silberdraht elektroplattiert
werden kann, wurden zahlreiche Drähte mit Iod elektroplattiert
und das Ionenpotential der NaI-Lösung
wurde vor und unmittelbar nach dem Elektroplattieren unter Verwendung
einer Iod-spezifischen Elektrode gemessen. Der Zweck dieser Experimente
war es, sicherzustellen, dass der Unterschied der Ionenkonzentrationen
vor und nach der Elektroplattierung der Iodmasse entspricht, die
auf den Draht elektroplattiert wurde. Unter Verwendung von Standard-NaI-Lösungen von
1,00 × 10–1 bis
1,00 × 10–7 M
für den
Zweck der Bestimmung der Iodkonzentration in Lösung vor und nach dem Elektroplattieren
und des Abschätzens
der Massemenge des radioaktiven Elements auf dem Draht wurde das
Ionenpotential gegen die Konzentrationen aufgetragen. 3 zeigt
eine typische Auftragung des Ionenpotentials gegen die Konzentration.
Die Iodmasse auf dem Draht, die als Unterschied des Ionenpotentials
der Elektroplattierungslösung
vor und nach dem Elektroplattieren berechnet wurde, lag innerhalb
von 12% der Iodmasse, die durch Wiegen des Drahts gemessen wurde.
So kann die Masse einer radioaktiven elektroplattierten Schicht
des Substrats durch Messen der Änderung
der Radioaktivität
der Elektroplattierungslösung
vor und nach dem Elektroplattieren bestimmt werden.
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In
einem Aspekt einer Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung wurden Silberdrähte mit einer NaI-Lösung elektroplattiert,
die Spurenmengen von Iod-125 enthielt. Der Elektroplattierungsprozess
und die Bedingungen wurden durchgeführt, wie in dem Abschnitt Beispiele
beschrieben, außer
dass Spurenkonzentrationen an I-125 bei der Elektroplattierungsreaktion
verwendet wurden. Es wurde bemerkt, dass etwa 43% der I-125-Radioaktivität in Lösung unter
den in den Beispielen hierin beschriebenen Bedingungen auf ein Substrat
elektroplattiert werden konnten. So wird in anschließenden Elektroplattierungsversuchen
eine Lösung verwendet,
die etwa 7 Ci I-125 umfasst, um etwa 3 Ci radioaktives Iod-125 auf
das Substrat zu elektroplattieren. Jedoch versteht ein Fachmann,
dass höhere
oder geringere Mengen an Radioaktivität verwendet werden können, um
höhere
oder niedrigere Mengen an Radioaktivität auf ein Substrat zu elektroplattieren,
wenn andere Bedingungen der Elektroplattierungslösung geändert werden.
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In
einer bevorzugten Ausführungsform
werden etwa 3 bis etwa 5 Ci Iod-125 (was etwa 0,173 mg Iod-125 mit
einer spezifischen Aktivität
von etwa 17,27 Ci/mg umfasst) auf einen Silberdraht mit einem Durchmesser
von etwa 0,25 mm und einer Länge
von etwa 3 cm aufgetragen. Dies stellt eine etwa 54-fache Zunahme
der Beladung mit I-125 im Vergleich zu Substraten des Standes der
Technik dar. Zum Beispiel ist die Beladung für I-125 auf einen Silberdraht
gemäß dem derzeitigen
Stand der Technik etwa 5,5 mCi pro 3 mm Länge eines Drahtes mit 0,5 mm
Durchmesser (Mediphysics/Amersham Modell 6711). Jedoch können höhere oder niedrigere
Mengen an radioaktivem Iod-125 ebenfalls auf ein Substrat elektroplattiert
werden, indem man die Bedingungen der Elektroplattierungsreaktion
variiert. Zum Beispiel können
Bedingungen, welche die Menge an abgeschiedener Radioaktivität oder die
Geschwindigkeit beeinflussen, mit der die Radioaktivität abgeschieden
wird, die Menge an radioaktiven Materialien in einer Elektroplattierungslösung, die
spezifische Aktivität
des radioaktiven Materials in einer Elektroplattierungslösung, die
Spannung der Elektroplattierungsreaktion, der Strom der Elektroplattierungsreaktion,
die Zeitspanne des Elektroplattierungsprozesses, die Eigenschaften des
Substrats, die Affinität
des radioaktiven Elements in der Elektroplattierungslösung für das Substrat
oder eine Kombination derselben einschließen, ohne jedoch darauf beschränkt zu sein.
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Das
Elektroplattierungsverfahren zum Fixieren von radioaktiven Elementen
auf einem Substrat, wie hierin beschrieben, ermöglicht eine gleichförmige Bedeckung
des Substrats mit einem radioaktiven Element und stellt ein vorhersagbares
Strahlungsfeld bei einer gegebenen Entfernung von der Vorrichtung
bereit. Jedoch werden Abwandlungen zu von Silber verschiedenen elektroplattierten
Substraten und auch zu von Drähten
verschiedenen Substraten in Betracht gezogen. Der Fachmann erkennt,
dass die Halbreaktionen, der Strom, die Spannung und die Zeit der
Elektroplattierung abhängig
von der Art von Material, das als Substrat in der Elektroplattierungsreaktion
wirkt, sowie der Natur des Materials, das auf dem Substrat abgeschieden wird,
variieren. Zum Beispiel, aber ohne dass man beschränkend will,
ermöglicht
das Elektroplattierungsverfahren, dass eine Anzahl von Drähten, medizinischen
Vorrichtungen und Quellen unter Verwendung von radioaktiven Elementen,
wie, aber ohne Beschränkung,
P-32, S-35, Cl-36, Sc-47, Cu-67, Y-90, Mo-99, Pd-103, Sn-117m, I-123,
I-124, I-125, I-129, I-131, Ce-144, Ho-166, Re-186, Re-188, W-188,
Ir-192 und Au-199, radioaktiv gemacht werden kann. Das radioaktive
Element kann auf der Grundlage der Strahlungsdosis ausgewählt werden,
die einem erkranktem Gewebe in einem Patienten zugeführt werden
muss. Zum Beispiel ist es in der Technik wohlbekannt, dass verschiedene
radioaktive Elemente mit anderen Strahlungsenergien oder anderen
Teilchen als andere Radioisotope zerfallen. Alternativ kann das
radioaktive Element auf der Grundlage der Zerfallszeit des radioaktiven
Elements ausgewählt
werden. Zum Beispiel ist in der Technik wohlbekannt, dass gewisse
radioaktive Elemente Zerfallshalbwertszeiten aufweisen, die in großem Maß variieren.
So kann es in einigen Situationen vorteilhaft sein, eine radioaktive
medizinische Vorrichtung gemäß der vorliegenden Erfindung
zu verwenden, die ein radioaktives Element umfasst, das schnell
im Lauf der Zeit zerfällt.
Umgekehrt kann es in einigen Situationen vorteilhaft sein, eine
radioaktive medizinische Vorrichtung gemäß der vorliegenden Erfindung
zu verwenden, die im Lauf der Zeit langsam zerfällt.
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Nachdem
das Substrat der radioaktiven medizinischen Vorrichtung der vorliegenden
Erfindung mit einer Schicht aus radioaktivem Material elektroplattiert
worden ist, wird das Substrat mit einer ersten Polymerschicht beschichtet.
Vor dem Beschichten des Drahts mit der ersten Polymerschicht wird
das Substrat bevorzugt gespült,
um rückständige Radioaktivität zu entfernen,
die eventuell nicht richtig auf das Substrat elektroplattiert wurde,
und getrocknet. Vorzugsweise wird das radioaktive elektroplattierte
Substrat mit 1 bis etwa 10 Polymerschichten beschichtet, abhängig von
der Dicke, der Feststoffkonzentration oder Dichte der Polymerlösung. Ein
Beispiel für
ein Polymer ist Polyurethan. Bevorzugt ist das Polymer PU-EG65D-Polyurethan.
Jede Polyurethan-Schicht wird bevorzugt härten gelassen, bevor die nächste Polyurethanschicht
auf das radioaktive elektroplattierte Substrat aufgetragen wird.
In einer bevorzugten Ausführungsform
wird das radioaktive elektroplattierte Substrat bei einer Temperatur
von etwa 40°C
mit fünf
Polymerschichten beschichtet, die etwa 6% Gew./Vol. Polyurethan
in Methylenchlorid umfassen. Die Polymerschichten können durch
jedes in der Technik bekannte Verfahren aufgetragen werden. Zum
Beispiel, aber nicht als Beschränkung
gedacht, kann das elektroplattierte Substrat in eine Polymerlösung eingetaucht
werden. Das Substrat wird vorzugsweise über Nacht an Luft trocknen
gelassen, um sicherzustellen, dass die Polymerbeschichtung richtig
gehärtet
worden ist. Unter Verwendung dieses Verfahrens erhöht die Beschichtung
eines radioaktiven elektroplattierten Drahts mit einer Länge von
3 cm und einem Durchmesser von 0,25 mm mit fünf Schichten aus Polyurethanpolymer
den Durchmesser des Drahts auf etwa 0,35 mm.
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Nachdem
die erste Polymerbeschichtung beendet ist, kann das elektroplattierte,
mit Polymer beschichtete Substrat getestet werden, um die Menge
des Auslaugens des radioaktiven Elements aus der elektroplattierten
Schicht zu bestimmen. Bei dem Test kann es sich, jedoch ohne Beschränkung, um
einen Tupfertest, einen Eintauchtest, einen Abschnüffeltest
oder eine Kombination derselben handeln (siehe Beispiel 6), jedoch
können
auch andere Tests verwendet werden, wie erforderlich. Der Lecktest
kann einen Trockenwischtest, Nasswischtest umfassen. Wenn das radioaktive
elektroplattierte Substrat I-123, I-124, I-125, I-129, I-131 oder eine Kombination
derselben umfasst, ist es vorzuziehen, dass ein Trockenwischtest
verwendet wird, um das Lecken zu messen. Jedoch kann bei anderen
radioaktiven Elementen ein Nasswischtest vorzuziehen sein. Im Fall
eines mit I-125 beschichteten Drahts, der mit der ersten Polymerbeschichtung
beschichtet ist, zeigen Lecktests an, dass etwa 70 μCi von der
beschichteten Substratoberfläche
auslecken.
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Nachdem
das radioaktive elektroplattierte Substrat mit dem ersten Polymer
beschichtet worden ist, wird die radioaktive medizinische Vorrichtung
in einer Ummantelungsschicht eingeschlossen. Die Ummantelungsschicht
verringert weiter das Auslecken des radioaktiven Isotops aus der
radioaktiven medizinischen Vorrichtung der vorliegenden Erfindung
auf weniger als 5 nCi, wie durch ANSI-Standards festgelegt. Zum Beispiel kann,
was nicht beschränkend
gemeint ist, ein radioaktives elektroplattiertes Substrat, das mit
einem ersten Polymer beschichtet ist, in eine Nylonhülse eingeführt, das
offene Ende der Hülse
mit einem Nylonpfropfen verschlossen werden und ein biomedizinischer
UV-gehärteter
Klebstoff kann verwendet werden, um das Ende des Nylonrohrs dicht
zu verschließen.
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Das
ummantelte Substrat wird unter Verwendung der in Beispiel 6 angeführten Verfahren
getestet, um sicherzustellen, dass das Auslecken des radioaktiven
Elements aus dem elektroplattierten Substrat unter einer Menge von
etwa 5 nCi liegt. Zum Beispiel kann ein Lecktest einen Abschnüffeltest
umfassen, bei dem alle potentiell flüchtigen radioaktiven Elemente,
die aus dem radioaktiven elektroplattierten Substrat, welches mit
mindestens einer Polymerschicht beschichtet ist und in einer Ummantelungsschicht
eingeschlossen ist, auslecken können,
auf einer Kohlenstoffscheibe eingefangen werden, die anschließend bezüglich Radioaktivität analysiert
wird. Bevorzugt wird dieser Test durchgeführt, wenn das radioaktive Element
des radioaktiven elektroplattierten Substrats potentiell flüchtig ist,
wie ohne Beschränkung
Iod. Ein alternativer Lecktest kann einen Eintauchtest umfassen,
in dem das elektroplattierte, mit Polymer beschichtete und ummantelte
Substrat in eine Lösung
mit einer spezifischen Temperatur über eine spezifische Zeitdauer
eingetaucht wird. Die Temperatur der Lösung kann etwa Raumtemperatur
oder mehr betragen und die Zeitspanne kann so wenig wie ein paar Sekunden
bis so viel wie etwa 24 Stunden betragen, kann aber von der Spezifität des radioaktiven
Elements abhängen,
das bezüglich
eines Auslaugens getestet wird. In einer bevorzugten Ausführungsform
ist die Lösung
Wasser. Bevorzugt wird dieser Test in Wasser über eine Zeitspanne von etwa
24 Stunden und bei 25°C durchgeführt. Nach
der Eintauchzeitspanne wird eine Aliquote der Lösung unter Verwendung von in
der Technik wohlbekannten Verfahren bezüglich Radioaktivität gemessen.
In jedem der drei beschriebenen Tests beträgt die Auslaugungsrate bei
einer implantierten medizinischen Vorrichtung bevorzugt weniger
als 5 nCi. Jedoch können
für andere
Anwendungen andere Raten gewählt
werden.
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Gemäß einer
Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung wurden fünf Silberdraht-Substrate mit
etwa 3 Curie radioaktivem I-125 elektroplattiert. Nachdem die Drahtsubstrate
mit Iod-125 elektroplattiert waren, wurden die Drahtsubstrate mit
fünf Schichten
von 6% (Gew./Vol.) Polyurethan (PU EG-65D) in Dichlormethan beschichtet.
Jeder Draht wurde bezüglich
Ausleckens von Iod-125 durch die Polyurethan-Beschichtung getestet, indem
man mindestens sechs trockene Tupfer entlang der Länge des
Drahtsubstrats rieb und die durchschnittliche Radioaktivität in allen
Tupfern bestimmte. Wie in Tabelle 2 gezeigt, verringerten fünf Polyurethanschichten
das Auslecken von radioaktivem Iod auf zwischen etwa 0,1 und etwa
64 μCi,
wenn sie unter Verwendung des oben beschriebenen trockenen Tupfertests
getestet werden. Die elektroplattierten und beschichteten Drähte sind
für einen
Einschluss in einer Ummantelungsschicht geeignet, die zum Beispiel
Nylon 6-6 umfasst. In Tabelle 2 ist zu bemerken, dass jede der radioaktiven
medizinischen Vorrichtungen der vorliegenden Erfindung weniger Auslecken
als der 5 nCi-Pegel zeigt, der von ANSI-Standards festgelegt ist,
wenn sie mit einem Trockentupfer-Auslaugungstest und einem Eintauch-Auslaugungstest getestet
wird, der durchgeführt
wird, wie es in Beispiel 6 beschrieben wird. Tabelle
2: Lecktest von elektroplattiertem Draht mit einer ersten Polymerschicht
(beschichteter Draht) oder einer ersten und zweiten (Ummantelungs-)Schicht
(versiegelter Draht).

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Unter
Bezugnahme auf 4 wurden zwei radioaktive medizinische
Vorrichtungen der vorliegenden Erfindung bezüglich des Ausleckens über eine
längere
Zeitspanne getestet. 4 zeigt das Ausllecken von Iod-125
aus einem radioaktiven elektroplattierten Substrat, das gemäß einer
Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung mit fünf
Polyurethanschichten beschichtet und in einer Ummantelungsschicht
aus Nylon-6-6 eingeschlossen war, über eine Zeitspanne von 85
Tagen ab der Zeit des Einschlusses der polymerbeschichteten radioaktiven
Quelle in einer Ummantelungsschicht an. Beide radioaktiven medizinischen
Vorrichtungen zeigen eine relativ geringe Zunahme des Ausleckens
des radioaktiven Elements, aber das radioaktive Auslecken erweist
sich als gut innerhalb annehmbarer Grenzen. Die Ergebnisse legen
nahe, dass ein erstes Polymer und eine zweite Ummantelungsschicht
das Auslecken des radioaktiven Elements, das auf der radioaktiven
elektroplattierten Schicht des Substrats der radioaktiven medizinischen
Vorrichtung der vorliegenden Erfindung vorliegt, auf einen Niveau
unterhalb etwa 5 nCi verringern.
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Die
longitudinale Gleichförmigkeit
der radioaktiven Schicht auf dem radioaktiven elektroplattierten Substrat,
das mit mindestens einer Polymerschicht beschichtet und in einer
Ummantelungsschicht eingeschlossen ist, kann durch jedes in der
Technik bekannte Verfahren bestimmt werden, zum Beispiel, aber ohne Beschränkung, durch
Gafchromic-Film-Dosimetrie, Drahtabtastung oder eine Kombination
derselben. Vorzugsweise beträgt
die Abweichung in der longitudinalen Gleichförmigkeit der radioaktiven Schicht
weniger als etwa = 25%, bevorzugt weniger als etwa = 20% und noch
bevorzugter weniger als etwa = 20%. Zusätzlich kann die longitudinale
Gleichförmigkeit
der radioaktiven Schicht, die auf dem Substrat der radioaktiven
Vorrichtung der vorliegenden Erfindung vorliegt, gegebenenfalls
nach der Beschichtung mit mindestens einer Polymerschicht, aber
vor dem Einschluss in eine Ummantelungsschicht bestimmt werden.
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Vier
radioaktive medizinische Vorrichtungen der vorliegenden Erfindung
wurden überprüft, um die
longitudinale Gleichförmigkeit
der darauf angeordneten radioaktiven Schicht zu bestimmen. Jeder
der vier elektroplattierten, beschichteten und versiegelten Drähte wurde
durch Gafchromic-Film-Dosimetrie oder Drahtabtastung getestet. Gafchromic-Dosimetrie
kann durchgeführt
werden, indem man ein "Sandwich" der versiegelten
Quelle zwischen zwei Stücken
eines geeigneten Röntgenfilms
herstellt. Die Radioaktivität,
die aus der radioaktiven medizinischen Vorrichtung der vorliegenden
Erfindung emittiert wird, wechselwirkt mit dem Röntgenfilmen. Um die Menge an
Radioaktivität
zu quantifizieren, die aus der Quelle emittiert wird, wird eine
Anzahl von verschiedenen Substraten, die verschiedene bekannte Radioaktivitätmengen
emittieren, über
eine festgesetzten Zeitspanne mit Röntgenfilm in Kontakt gebracht.
Der Film wird entwickelt und die Bereiche, die als dunkle Banden
erscheinen, werden unter Verwendung von Computer-Densitometrie quantifiziert,
wie es in der Technik bekannt ist. Ein repräsentatives Beispiel für einen
radioaktiven Film, der nach Gafchromic-Film-Dosimetrie entwickelt wurde, ist in 5 gezeigt.
Die Ergebnisse der Gafchromic-Film-Dosimetrie für vier radioaktive medizinische
Vorrichtungen der vorliegenden Erfindung sind in Tabelle 3 wiedergegeben:
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Tabelle
3: Gleichförmigkeit
der Beschichtung
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Eine
radioaktive Abtastung einer der radioaktiven medizinischen Vorrichtungen
der vorliegenden Erfindung ist in 6 gezeigt.
Zusammen legen die 5, 6 und Tabelle
3 nahe, dass die radioaktiven Schichten der radioaktiven medizinischen
Vorrichtungen der vorliegenden Erfindung über deren Länge gleichförmig und über deren Umfang gleichförmig sind.
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Die
radioaktiven medizinischen Vorrichtungen, die von der vorliegenden
Erfindung in Betracht gezogen werden, bieten zahlreiche Vorteile
gegenüber
bekannten radioaktiven medizinischen Vorrichtungen. Zum Beispiel
beschreiben die meisten der medizinischen Vorrichtungen des Standes
der Technik radioaktive Substrate oder Beschichtungsverfahren, bei
denen 300 mCi an radioaktivem Ion in oder auf einem Substrat einverleibt
werden können.
Im Gegensatz dazu ermöglicht
die vorliegende Erfindung, dass relativ große Mengen (im Bereich von 3
bis 5 Curie oder höher)
an radioaktivem Iod oder einem anderen radioaktiven Element gleichförmig auf
einen Draht oder ein anderes Substrat elektroplattiert werden. Zusätzlich demonstriert
der Gegenstand der vorliegenden Erfindung auch, dass ein radioaktives
elektroplattiertes Substrat mit einem Polymer beschichtet und in
einer Ummantelungsschicht eingeschlossen werden kann, um eine Barriere
gegen das Auslaugen des radioaktiven Elements aus dem Substrat ohne
signifikante Abschwächung
der Radioaktivität
aus dem Substrat bereitzustellen. Das Beschichten eines radioaktiven
elektroplattierten Substrats, wie hierin beschrieben, zeigt mehrere
andere Vorteile gegenüber
anderen in der Technik bekannten Beschichtungen, einschließlich der
Tatsache, dass sie preiswert ist und leichter durchgeführt werden
kann als das Auftragen anderer Beschichtungen wie Titan oder Gold.
Auch verleihen die hierin beschriebenen Beschichtungen dem Substrat
keine signifikante Starrheit und können ermöglichen, dass ein Substrat,
zum Beispiel ein Draht, biegbar und geformt bleiben, wie gewünscht.
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Die
radioaktive medizinische Vorrichtung der vorliegenden Erfindung
kann als Stent, Draht oder Seed, zum Beispiel wie in der
U.S. 4,323,055 ,
U.S. 3,51,049 ,
U.S. 5,713,828 ,
U.S. 5,163,896 ,
U.S. 5,342,283 beschrieben, für die Brachytherapie,
Restenose oder für
Anwendungen verwendet werden, wo es wünschenswert ist, einem erkrankten
Gewebe Strahlung zuzuführen.
Jedoch ist die Verwendung der radioaktiven medizinischen Vorrichtung
nicht auf diese speziellen Anwendungsbereiche beschränkt.
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Die
vorstehende Beschreibung soll auf keinerlei Weise die beanspruchte
Erfindung beschränken;
weiter könnte
die erörterte
Kombination von Merkmalen für
die erfindungsgemäße Lösung nicht
absolut notwendig sein.
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Die
vorliegende Erfindung wird weiter in den folgenden Beispielen erläutert.
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Beispiel 1: Herstellung
eines Substrats, das elektroplattiert werden soll
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Ein
Substrat, das einen Silberdraht (LS188374) von 95 mm Länge und
0,25 mm Durchmesser umfasst, wird gewaschen, indem man es unter
Verwendung einer Zahnbürste,
die mittlere Borsten enthält,
und einer geringen Menge an Reinigungsmittel (Aim Gel, das 0,23%
Gew./Gew. NaF enthält)
sanft bürstet.
Nach dem Waschen wird der Draht sanft abgewischt, in ein Becherglas
gegeben und dreimal mit destilliertem-deionisiertem Wasser gespült. Nach
diesem Waschverfahren wird der Draht auf einer sauberen flachen
Oberfläche gerade
gemacht. Eine Länge
von 66 mm auf dem Draht wird abgemessen und unter Verwendung einer
Einwegpinzette an dieser Stelle ergriffen. Während man den Draht festhält, wird
der obere Teil des Drahts (etwa 25 mm) gebogen, um einen "Umweg" in dem Draht zu
schaffen (der Umweg umfasst gewöhnlich
rechtwinklige Biegungen in dem Draht und erleichtert das Beschichten
der vorgesehenen Drahtlänge).
Eine Einwegpipette wird anschließend verwendet, um den Silberdraht abzuspülen, und
man lässt
den Silberdraht an Luft trocknen. Während der Draht mit einer Einwegpinzette
gehalten wird, wird das Ende des Drahts 1–2 mm in eine Polymerlösung eingetaucht,
die 6% (Gew./Vol.) Polyurethan enthält, damit das Ende des Drahts
nicht mit Radioaktivität
plattiert wird. Der Draht wird erneut zwei zusätzliche Male eingetaucht. Nach
dem letzten Eintauchen wird der Draht leicht mit dem Miniskus der
Polymerlösung
in Kontakt gebracht. Man lässt
den Draht anschließend mindestens
60 Minuten an Luft trocknen.
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Beispiel 2: Radioaktive
Elektroplattierung des Substrats
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Die
nachstehend beschriebene Vorschrift beinhaltet die Verwendung von
hohen Mengen an Radioisotopen und muss deshalb in einer geeigneten
Vorrichtung zum Einschließen
von Radioaktivität
durchgeführt werden.
Zusätzlich
müssen
andere Sicherheitsmaßnahmen,
welche die Verwendung von I125 betreffen,
beachtet werden.
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Eine
Elektroplattierungslösung,
die 20 ml verdünntes
NaOH und 7 Ci NaI125, pH etwa 11,0, enthält, wird in
ein Szintillationsfläschchen
mit einem kleinen Rührstab
gegeben. Das Septum eines EPA-Flaschenverschlusses wird entfernt
und unter Verwendung eines sich drehenden Werkzeuges wird das Gewinde
in der Kappe herausgeschliffen, so dass die Kappe eng auf das Fläschchen
gegeben werden kann, wobei sichergestellt wird, dass eine Gewindewindung
in Richtung des inneren Teils der Kappe verbleibt, um das Septum
zu halten. Unter Tragen eines Gummihandschuhs wird eine Länge von
25 mm eines Teflon®-Schlauchs (Außendurchmesser:
0,056'', Innendurchmesser:
0,030'') [abgeschnitten].
Unter Verwendung einer 18 G-Nadel wird ein gerades Loch etwa 2,5
mm vom Rand des EPA-Fläschchenseptums
entfernt gemacht und ein ähnliches Loch
wird für
die Einführung
des Platindrahts gemacht. Eine 21 G × 1,5''-Nadel
wird in den Teflonschlauch eingeführt und die Nadel und das Teflon
werden in das Septum 10 mm entfernt von der anderen Einstichstelle eingeführt. Der
Teflon®-Schlauch
wird so eingeführt,
dass er 17 mm aus dem Septum herausragt. Anschließend wird
ein 50 mm-Platindraht so in das Loch eingeführt, dass der 21 mm-Abschnitt
aus dem Septum herausragt. Unter Verwendung einer Pinzette wird
das lange Ende des Silberdrahts in den Teflon®-Schlauch
eingeführt
und hinein fallen gelassen. Die Fläschchenkappen-Anordnung wird
mit einem Blindfläschchen
verbunden, das mit 20 ml destilliertem/deionisiertem Wasser gefüllt ist,
und der Rand der Kappe wird mit Klebeband angeklebt, um das Fläschchen
fest an der Anordnung zu befestigen, wobei man sicherstellt, dass
der Silberdraht 28–30
mm in der Elektroplattierungslösung
hängt und
dass der Platindraht 10 mm in der Elektroplattierungslösung hängt.
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Beispiel 3: Elektroplattierungsbedingungen
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Das
Fläschchen,
das die NaI125-Elektroplattierungslösung enthält, wird
sanft gemischt und die gesamte Radioaktivität wird in einer Capintec-Dosis-Kalibriervorrichtung
[gemessen]. Diese Messung liefert eine Anzeige für die radioaktive Aktivität des Fläschchens
vor dem Plattieren. Das Fläschchen
wird auf einem Stativ festgeklammert und Krokodilklemmen werden
mit dem Silber (Ag)- und
Platin (Pt)-Draht verbunden, wobei der Ag-Draht an das positive
Ende (Kathode) angeschlossen wird. Die Elektroplattierung wird 2
Stunden unter Verwendung eines Stroms von 20 μA und einer Potentialdifferenz
zwischen 200 und 600 mV durchgeführt.
Die Potentialdifferenz wird im Lauf der Reaktion alle 15 Minuten überwacht.
Nach der Elektroplattierungsreaktion wird die Radioaktivität in dem
Fläschchen
in der Capintec-Dosis-Kalibriervorrichtung erneut gemessen. Das radioaktive
elektroplattierte Substrat wird dann 1 h hinter der Abschirmung
trocknen gelassen. Der Draht wird entfernt, indem man ihn von unten
durch den Teflon®-Schlauch zieht, um zu
verhindern, dass das Teflon® die Plattierung verkratzt.
Nach dem Elektroplattierungsverfahren wird das radioaktive elektroplattierte
Substrat in ein Testrohr eingetaucht, das Wasser enthält.
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Beispiel 4: Beschichten
des radioaktiven elektroplattierten Substrats mit einer ersten Polymerschicht
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In
ein Szintillationsfläschchen
werden 0,9 g EG65D-Tecoflex-Polyurethanperlen und Methylenchlorid derart
gegeben, dass die Gesamtmasse in jedem Szintillationsfläschchen
15,0 g beträgt
(6% Gew./Vol. Polyurethanperlen in Methylenchlorid). Die Mischung
entspricht bei jedem Szintillationsfläschchen etwa einer Höhe von 3
cm in dem Fläschchen
und einem Volumen von 15 ml. Die Lösungen werden unter sanftem
Erwärmen gerührt, bis
die Polyurethan-Lösung
homogen ist. Die Lösung
wird in fünf
10 × 75
mm-Testrohre überführt, und die
Testrohre werden dicht verschlossen. Die Rohre werden in eine Blockheizvorrichtung
bei 40°C
gegeben. Der elektroplattierte radioaktive Draht wird in das erste
Rohr mit der Polyurethan-Lösung
eingetaucht und dann mindestens 1 h getrocknet. Nach dem Trocknen
wird das Eintauchverfahren vier weitere Male wiederholt, jedes Mal
mit einem neuen Rohr, das die Polyurethan-Mischung enthält. Um das Auslaugen des radioaktiven Iods
aus dem elektroplattierten Draht in die Polyurethan-Eintauchrohre
zu quantifizieren, wird die Aktivität jedes Rohrs in einer Capintec-Dosis-Kalibriervorrichtung
gemessen.
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Beispiel 5: Einschließen des
radioaktiven elektroplattierten Substrats mit mindestens einer Polymerbeschichtung
in einer Ummantelungsschicht.
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Das
radioaktive elektroplattierte Substrat, das mit mindestens einer
Polymerschicht beschichtet ist, wird in einer Nylon 6-6 umfassenden
Nylon-Ummantelung
mit einem Außendurchmesser
von etwa 0,030'' und einem Innendurchmesser
von etwa 0,018'' eingeschlossen.
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Beispiel 6: Lecktests
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Tupfertest
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Nasstupfer-Tests
wurden ebenfalls verwendet, um zu verifizieren, dass die Leckrate
von radioaktivem Iod innerhalb akzeptabler Niveaus lag. Kurz gesagt,
wurde eine Reihe von 5 Tupfern mit Wasser befeuchtet und entlang
jeder Seite des Drahts gerieben. Das Verfahren wurde mit jedem der
vier verbleibenden Tupfer wiederholt und die Radioaktivität jedes
Tupfers wurde gegen einen Blindtupfer gemessen. Trockentupfer-Tests werden
auf identische Weise durchgeführt,
außer
dass der Tupfer nicht befeuchtet wird, bevor er entlang jeder Seite
des Drahts gerieben wird.
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Eintauchtest
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Der
radioaktive elektroplattierte Draht, der mit mindestens einer Polymerschicht
beschichtet ist und in einer Ummantelungsschicht eingeschlossen
ist, wird in ein Testrohr gegeben, das Wasser umfasst, und 24 h bei
einer Temperatur von 20–25°C (Raumtemperatur)
gehalten. Nach den 4 Stunden Inkubation wird der Draht entfernt,
und das Wasser wird bezüglich
jeglichen Auslaugens von radioaktivem Iod in einer Capintec-Dosis-Kalibriereinrichtung
gemessen.
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Abschnüffeltest
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Der
Abschnüffeltest
wird durchgeführt,
indem man sanft Luft durch einen Kohlenstoffscheiben-Filter saugt
und anschließend
die Radioaktivität
in einer geeigneten Radioaktivitätsdetektor-Vorrichtung
misst.
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Beispiel 7: Gafchromic-Film-Dosimetrie
und Abtasten des radioaktiven Substrats
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Gafchromic-Film-Dosimetrie
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Eine
Gafchromic-Film-Dosimetrie des radioaktiven elektroplattierten Drahts,
der mit fünf
Polyurethanschichten beschichtet und in einer Ummantelungsschicht
eingeschlossen ist, wird unter Verwendung von Gafchromic-Film-Analyse
durchgeführt
(Chiu-Tsao, S. T., de la Zerda, A., Lin, J. und Kim, J. H. "High Sensitivity Gafchromic
Film Dosimetry for 125I seed." Med. Phys. 21, 651–657 (1994),
was hierin durch Bezugnahme aufgenommen wird). Ein Blatt Gafchromic-Film (Gafchromic
Dosimetry Media, Typ MD-55) wird in vier Stücke zerschnitten. Ein Stück des Films
wird in eine Kunststoff-Visitenkarten-Tasche eingeführt, und
jede Tasche wird auf der Innenseite eines Lucite-Blocks mit Klebeband
befestigt. Das Drahtsubstrat wird zwischen zwei Filmstücke eingeschlossen.
Der Film wird über
eine Zeitspanne zwischen 10 und 30 Minuten belichtet, entwickelt
und unter Verwendung von Computer-Densitometrie analysiert. Die
Ergebnisse legen nahe, dass die Abscheidung von radioaktivem Iod
auf dem Draht über
dessen Länge
und Umfang gleichförmig
ist.
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Abtasten des
radioaktiven Substrats
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Die
Gleichförmigkeit
der radioaktiven Beschichtung wird durch Abtasten der Länge des
Drahts überprüft. Der
Draht wird in ein Crimprohr gegeben und ein Stück Edelstahl wird über den
Detektor des Scanners gegeben.