DE4434302A1 - Mechanische Teile und Verfahren zur Erzeugung eines Films auf denselben - Google Patents
Mechanische Teile und Verfahren zur Erzeugung eines Films auf denselbenInfo
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf die mechanischen Teile ei
ner elektrischen Vorrichtung, beispielsweise auf den Wir
kungsmechanismus eines Rückschlagventils (gegen Vakuum),
die mechanisch miteinander verbunden sind und sich relativ
zueinander drehen oder im Gleitkontakt miteinander stehen,
sowie auf ein Verfahren zur Erzeugung eines Keramikfilms
auf einer Kontaktfläche der mechanischen Teile.
Der Wirkungsmechanismus eines Rückschlagventils (gegen Va
kuum) besteht beispielsweise aus verschiedenen Teilen, wie
Hebeln, Klauen, Stiften, Rollen (Walzen) und Stäben. In
den verbindenden Abschnitten kommen die jeweiligen Teile
in Kontakt miteinander, sie drehen sich relativ zueinander
oder sie stehen im Gleitkontakt miteinander. Deshalb wird
ein Schmiermittel auf diese Abschnitte aufgebracht oder
aufgegossen, um die Abriebsbeständigkeit
(Verschleißbeständigkeit) der Teile zu verbessern. Dieses
Verfahren erfordert jedoch Wartungsarbeiten, beispiels
weise eine Schmierung. Es wurde daher bereits eine Methode
vorgeschlagen, bei der ein solcher Abschnitt mit einem
Film (einem Keramikfilm) aus einem Material mit einer aus
gezeichneten Abriebsbeständigkeit (Verschleiß
beständigkeit), z. B. aus TiC, TiN oder TiCN, beschichtet
ist, so daß die Betriebs-Zuverlässigkeit für einen langen
Zeitraum gewährleistet werden kann, ohne daß Wartungsar
beiten erforderlich sind (vgl. z. B. die ungeprüfte japa
nische Patentpublikation (Kokai) Nr. Hei.3-8232). Ein
solcher Film (Keramikfilm) ist jedoch geringfügig
schlechter in bezug auf die Korrosionsbeständigkeit. Wenn
mechanische Teile, die wie vorstehend beschrieben be
handelt worden sind, beispielsweise einem Salzsprühtest
unterzogen wurden, so wurde gefunden, daß nach dem Ablauf
von mehreren Stunden auf der gesamten Oberfläche sich
Rostflecken gebildet hatten. Es wird angenommen, daß die
ses Phänomen hervorgerufen wird durch winzige Löcher und
Risse, die in dem Film vorhanden sind.
Um das Auftreten dieses Phänomens zu verhindern, wurde ein
Verfahren vorgeschlagen, bei dem eine Grundierungsschicht
(Unterlagenschicht) gebildet wird durch Plattierung eines
Beschichtungsabschnitts der mechanischen Teile mit Nickel
oder Chrom und der obengenannte Film auf die Grundierungs
schicht aufgebracht wird (vgl. z. B. die ungeprüfte japani
sche Patentpublikation (Kokai) Nr. Hei.4-73833).
Bei mechanischen Teilen, die wie vorstehend beschrieben
hergestellt werden, wird jedoch die Grundierungsschicht
(Unterlagenschicht) aus einer konventionellen Nickel- oder
chrom-Plattierungsschicht gebildet. Im Falle einer Nickel
plattierung beträgt beispielsweise die Härte nur etwa Hv
200. Dies ist insofern ein Problem, als als Folge einer
Langzeit-Verwendung in der Unterlagenschicht Risse entste
hen in einem Abschnitt einer Kontaktfläche, in dem der
Oberflächendruck hoch ist. Bei der Langzeit-Verwendung
kann durch diese Risse in der Grundierungsschicht
(Unterlagenschicht) Wasser in den Abschnitt eindringen,
wodurch die Bildung von Rost verursacht wird.
Ziel der vorliegenden Erfindung ist es, mechanische Teile
zur Verfügung zu stellen, bei denen selbst dann, wenn sie
in einer solchen Kontaktfläche mit einem hohen Oberflä
chendruck verwendet werden, die Grundierungsschicht (Un
terlagenschicht) frei von Rißbildung ist und daher eine
Rostbildung nicht auftritt, so daß die mechanischen Teile
für einen langen Zeitraum zuverlässig arbeiten; Ziel der
Erfindung ist es außerdem, ein Verfahren zur Erzeugung ei
nes Keramikfilms auf einer Kontaktfläche dieser mechani
schen Teile zu schaffen.
Erfindungsgemäß wird dieses Ziel erreicht durch mechani
sche Teile, die mechanisch miteinander verbunden sind und
sich relativ zueinander drehen oder im Gleitkontakt mit
einander stehen, wobei eine Grundierungsschicht (Unterla
genschicht), die durch stromlose Nickelplattierung gebil
det wird, auf einer Kontaktfläche mindestens eines der
Teile erzeugt wird, und ein Keramikfilm auf die Grun
dierungsschicht (Unterlagenschicht) aufgebracht wird.
Als Grundierungsschicht (Unterlagenschicht) wird vorzugs
weise eine Schicht verwendet, die durch stromlose Ni-P-
Plattierung oder stromlose Ni-B-Plattierung gebildet wird.
In diesem Falle kann die Grundierungsschicht (Unterlagen
schicht) einer Wärmebehandlung bei 600°C oder darunter,
vorzugsweise bei 400°C oder darunter, unterzogen werden.
Bei dem Verfahren zur Erzeugung eines Keramikfilms auf ei
ner Kontaktfläche dieser mechanischen Teile wird zuerst
eine Grundierungsschicht (Unterlagenschicht) auf der Kon
taktfläche der mechanischen Teile durch stromlose Ni-P-
Plattierung oder stromlose Ni-B-Plattierung gebildet und
dann wird ein Keramikfilm auf der Grundierungsschicht
(Unterlagenschicht) erzeugt durch physikalische Dampfab
scheidung oder chemische Plasma-Dampfabscheidung unter
Wärmebehandlungsbedingungen von 600°C oder darunter, vor
zugsweise von etwa 400°C oder darunter.
Bei der erfindungsgemäßen Konfiguration wird eine Grundie
rungsschicht (Unterlagenschicht), die durch stromlose Ni-
P-Plattierung oder stromlose Ni-B-Plattierung gebildet
wird, zuerst auf einer Kontaktfläche mindestens eines der
mechanischen Teile erzeugt und auf die Grundierungsschicht
(Unterlagenschicht) wird ein Keramikfilm aufgebracht. Ein
durch konventionelle Nickelplattierung erzeugter Film hat
eine Härte von etwa Hv 200. Im Gegensatz dazu hat ein
durch stromlose Nickelplattierung erzeugter Film eine we
sentlich höhere Härte. So beträgt beispielsweise die Härte
eines im Falle einer Ni-P-Plattierung erhaltenen Films
etwa Hv 400 bis 500 und diejenige eines im Falle einer Ni-
B-Plattierung erhaltenen Films beträgt etwa Hv 700. Infol
gedessen wird durch diese stromlose Nickelplattierung die
Härte einer Kontaktfläche der mechanischen Teile so ver
bessert, daß selbst dann, wenn die mechanischen Teile in
einer Kontaktfläche, auf die ein hoher Oberflächendruck
einwirkt, über einen langen Zeitraum hinweg verwendet wer
den, die mechanischen Teile ausreichend haltbar sind. Wenn
ein Keramikfilm auf der so erzeugten Grundierungsschicht
(Unterlagenschicht) durch physikalische Dampfabscheidung
oder durch chemische Plasma-Dampfabscheidung unter Wärme
behandlungsbedingungen von 600°C oder darunter gebildet
wird, kann außerdem die Härte der Oberfläche der Kontakt
fläche auf etwa Hv 900 bis 1200 erhöht werden. Als Folge
davon weisen die erfindungsgemäßen mechanischen Teile eine
ausgezeichnete Abriebsbeständigkeit (Verschleißfestigkeit)
und Beständigkeit gegen Rostbildung auf.
Die Erfindung wird nachstehend unter Bezugnahme auf die
beiliegenden Zeichnungen näher erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 eine Seitenansicht des Wirkungsmechanismus eines
Rückschlagventils (gegen Vakuum), das ein
Anwendungsbeispiel der vorliegenden Erfindung
darstellt;
Fig. 2 eine vergrößerte Ansicht der Hauptabschnitte der
Fig. 1; und
Fig. 3 eine vergrößerte Ansicht der Hauptabschnitte der
mechanischen Teile, auf welche die vorliegende
Erfindung angewendet wird.
Nachstehend wird die vorliegende Erfindung anhand einer
Ausführungsform, bei der die vorliegende Erfindung auf den
Wirkungsmechanismus eines Rückschlagventils (gegen Vakuum)
angewendet wird, näher beschrieben.
Die Fig. 1 ist eine Seitenansicht, die den Wirkungsme
chanismus eines Rückschlagventils (gegen Vakuum) zeigt. In
der Fig. 1 steht ein Vakuumventil 1 über einen isolieren
den Stab 12, einen Hebel 10 und eine Kontaktfeder 9 mit
einer Welle einer Rolle 8 in Verbindung. Die Rolle 8 ist
an einem Sperrhebel 7 rotierbar befestigt und eine Rolle
13 ist an dem vorderen Ende des Sperrhebels 7 drehbar be
festigt. In dem dargestellten geschlossenen Zustand des
Rückschlagventils steht die Rolle 13 mit einer Klaue 14 in
Eingriff.
Die Fig. 2 zeigt in einer vergrößerten Darstellung die
Hauptabschnitte des Wirkungsmechanismus, der in einem Zu
stand vorliegt, in dem ein Stab 5 durch Erregung eines
Schließ-Elektromagneten bewegt wird, um die Rolle 8 nach
oben zu stoßen. Dieser Stoßvorgang bewirkt, daß eine Öff
nungs/Schließ-Welle 6 im Uhrzeigersinne gedreht wird, so
daß ein beweglicher Kontakt in dem Vakuumventil durch die
Kontaktfeder 9, den Hebel 10 und den isolierenden Stab 12
nach unten gestoßen wird, wodurch ein geschlossener Durch
gang zwischen dem beweglichen Kontakt und einem statio
nären Kontakt entsteht. Gleichzeitig steht die Klaue 14
wieder mit der Rolle 13 in Eingriff, um den offenen Zu
stand des Rückschlagventils aufrechtzuerhalten.
Wie vorstehend beschrieben, umfaßt der Wirkungsmechanismus
des Rückschlagventils mechanische Teile, die sich relativ
zueinander drehen oder im Gleitkontakt miteinander stehen.
Insbesondere die Rolle 13 und die Klaue 14 stehen in Ein
griff miteinander, um den offenen oder geschlossenen Zu
stand des Rückschlagventils aufrechtzuerhalten, und die
Kraft der Kontaktfeder wirkt auf diese Teile ein, was dazu
führt, daß diese Teile einer hohen Belastung unterliegen.
Wenn die vorliegende Erfindung auf diese Abschnitte an
gewendet wird, auf die eine hohe Belastung einwirkt, kann
eine hohe Betriebs-Zuverlässigkeit des Wirkungsmechanismus
über einen langen Zeitraum hinweg erzielt werden.
Die Fig. 3 zeigt eine Ausführungsform, bei der die vorlie
gende Erfindung auf diese mechanischen Teile angewendet
wird. Eine Grundierungsschicht (Unterlagenschicht) 21,
wird auf einem mechanischem Teil 20, beispielsweise einer
Rolle oder einer Klaue, durch stromlose Ni-B-Plattierung
oder stromlose Ni-P-Plattierung erzeugt. Ein Keramikfilm
22 aus beispielsweise TiC, TiN oder TiCN wird auf der
Grundierungsschicht (Unterlagenschicht) gebildet. Wenn die
Unterlagenschicht der mechanischen Teile durch stromlose
Ni-B-Plattierung erzeugt wurde, betrug die Härte der
Unterlagenschicht etwa Hv 700. Wenn die Unterlagenschicht
einer Wärmebehandlung bei 600°C, vorzugsweise bei etwa
400°C, unterzogen wurde, stieg die Härte auf etwa Hv 900.
Wenn die Unterlagenschicht durch stromlose Ni-P-Plattie
rung erzeugt wurde, betrug die Härte der Unterlagenschicht
etwa Hv 400 bis 500. Wenn die Unterlagenschicht einer
Wärmebehandlung unterzogen wurde, stieg die Härte auf etwa
Hv 600 bis 700. Der Grund dafür, warum die Härte durch die
Wärmebehandlung anstieg, ist, wie angenommen wird, der,
daß B oder P, das sich in Ni löst, wenn die Plattierung
beendet ist, sich mit Ni kombiniert unter Bildung einer
Verbindung durch die Wärmebehandlung. Wenn die Temperatur
auf 600°C oder höher erhöht wird, wächst die Verbindung,
so daß die Härte wieder abnimmt. Es ist daher bevorzugt,
die Temperatur der Wärmebehandlung auf 600°C oder darun
ter, insbesondere in der Nähe von 400°C, einzustellen.
Außerdem ist die physikalische Dampfabscheidung (PVD) oder
die chemische Plasma-Dampfabscheidung (P-CVD) am besten
geeignet für die Erzeugung eines Keramikfilms aus bei
spielsweise TiC, TiN oder TiCN. Dies ist darauf zurückzu
führen, daß die Abscheidung bei einer Temperatur von 600°C
oder darunter durchgeführt werden kann und daß deshalb die
Wärmebehandlung der Unterlagenschicht bei der Bildung des
Keramikfilms so durchgeführt wird, daß die Härte der Un
terlagenschicht erhöht wird.
Vorstehend wurde ein Beispiel beschrieben, bei dem die
vorliegende Erfindung auf den Wirkungsmechanismus eines
Rückschlagventils (gegen Vakuum) angewendet wurde. Die Er
findung ist selbstverständlich jedoch nicht auf solche me
chanischen Teile beschränkt und sie ist auch auf mechani
sche Teile anwendbar, bei denen Probleme auftreten, die
mit den vorstehend erörterten vergleichbar sind.
Während ein Film der durch konventionelle Nickelplattie
rung erzeugt worden ist, eine Härte von etwa Hv 200 hat,
weist eine erfindungsgemäß durch stromlose Ni-P-Plattie
rung oder stromlose Ni-B-Plattierung erzeugte Unterlagen
schicht eine wesentlich höhere Härte auf. So beträgt bei
spielsweise die Härte eines Films, der im Falle einer Ni-
P-Plattierung erhalten wird, etwa Hv 400 bis 500 und die
jenige eines Films, der im Falle einer Ni-B-Plattierung
erhalten wird, beträgt etwa Hv 700. Wenn die auf diese
Weise erzeugten Unterlagenschichten einer Wärmebehandlung
bei 600°C oder darunter, vorzugsweise bei etwa 400°C, un
terworfen werden, steigt beispielsweise die Härte auf etwa
Hv 600 bis 700 oder 900 an und daher weisen die mecha
nischen Teile eine zufriedenstellende Haltbarkeit auf,
selbst wenn sie in einer Kontaktfläche, die einem hohen
Oberflächendruck ausgesetzt ist, über einen langen Zeit
raum hinweg verwendet werden. Als Folge davon werden me
chanische Teile erhalten, bei denen die Grundierungs
schichten (Unterlagenschichten) frei von einer Rißbildung
sind, und dadurch wird verhindert, daß eine Rostbildung in
den entsprechenden Abschnitten auftritt.
Wenn ein Keramikfilm auf der Grundierungsschicht (Unter
lagenschicht) durch physikalische Dampfabscheidung oder
durch chemische Plasma-Dampfabscheidung unter Wärme
behandlungsbedingungen von 600°C oder darunter, vorzugs
weise von etwa 400°C oder darunter, erzeugt wird, kann
insbesondere die Wärmebehandlung der Unterlagenschicht
gleichzeitig mit der Bildung des Films durchgeführt wer
den, wodurch der Wirkungsgrad verbessert wird.
Claims (9)
1. Mechanische Teile, die mechanisch miteinander verbun
den sind und sich relativ zueinander drehen oder im Gleit
kontakt miteinander stehen, dadurch gekennzeichnet, daß
auf eine Kontaktfläche mindestens eines der genannten
mechanischen Teile durch stromlose Nickelplattierung eine
Grundierungsschicht (Unterlagenschicht) aufgebracht ist
und daß auf diese Grundierungsschicht (Unterlagenschicht)
ein Keramikfilm aufgebracht ist.
2. Mechanische Teile nach Anspruch 1, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Unterlagenschicht durch stromlose Ni-P-
Plattierung erzeugt worden ist.
3. Mechanische Teile nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Unterlagenschicht durch stromlose Ni-B-
Plattierung erzeugt worden ist.
4. Mechanische Teile nach mindestens einem der Ansprüche
1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Unterlagenschicht
einer Wärmebehandlung bei 600°C oder darunter, vorzugs
weise bei etwa 400°C, unterzogen worden ist.
5. Verfahren zur Erzeugung eines Films auf mechanischen
Teilen, die mechanisch miteinander verbunden sind und sich
relativ zueinander drehen oder im Gleitkontakt miteinander
stehen, dadurch gekennzeichnet, daß es die folgenden Stu
fen umfaßt:
die Bildung einer Unterlagenschicht auf einer Kontaktflä che der mechanischen Teile durch stromlose Nickelplattie rung; und
die Bildung eines Keramikfilms auf der genannten Unterla genschicht durch Dampfabscheidung bei 600°C oder darunter, vorzugsweise bei etwa 400°C.
die Bildung einer Unterlagenschicht auf einer Kontaktflä che der mechanischen Teile durch stromlose Nickelplattie rung; und
die Bildung eines Keramikfilms auf der genannten Unterla genschicht durch Dampfabscheidung bei 600°C oder darunter, vorzugsweise bei etwa 400°C.
6. Verfahren zur Erzeugung eines Films auf mechanischen
Teilen nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das
stromlose Nickelplattierungsverfahren zur Bildung der Un
terlagenschicht ein stromloses Ni-P-Plattierungsverfahren
ist.
7. Verfahren zur Erzeugung eines Films auf mechanischen
Teilen nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das
stromlose Nickelplattierungsverfahren zur Bildung der Un
terlagenschicht ein stromloses Ni-B-Plattierungsverfahren
ist.
8. Verfahren zur Erzeugung eines Films auf mechanischen
Teilen nach mindestens einem der Ansprüche 5 bis 7, da
durch gekennzeichnet, daß das Dampfabscheidungsverfahren
zur Bildung der Keramikschicht ein physikalisches Dampfab
scheidungsverfahren ist.
9. Verfahren zur Erzeugung eines Films auf mechanischen
Teilen nach mindestens einem der Ansprüche 5 bis 7, da
durch gekennzeichnet, daß das Dampfabscheidungsverfahren
zur Bildung der Keramikschicht ein chemisches Plasma-
Dampfabscheidungsverfahren ist.
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