DE4203345A1 - Hochleistungsstrahler - Google Patents
HochleistungsstrahlerInfo
- Publication number
- DE4203345A1 DE4203345A1 DE19924203345 DE4203345A DE4203345A1 DE 4203345 A1 DE4203345 A1 DE 4203345A1 DE 19924203345 DE19924203345 DE 19924203345 DE 4203345 A DE4203345 A DE 4203345A DE 4203345 A1 DE4203345 A1 DE 4203345A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- protective layer
- electrode
- electrodes
- discharge
- discharge space
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims abstract description 17
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 17
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 claims description 14
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 abstract description 6
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 5
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 5
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 abstract description 5
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 10
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 8
- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 229910052756 noble gas Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 5
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N krypton atom Chemical compound [Kr] DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N Deuterium Chemical compound [2H] YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 229910052805 deuterium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- RLQWHDODQVOVKU-UHFFFAOYSA-N tetrapotassium;silicate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[K+].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] RLQWHDODQVOVKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J19/12—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electromagnetic waves
- B01J19/122—Incoherent waves
- B01J19/123—Ultraviolet light
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J61/00—Gas-discharge or vapour-discharge lamps
- H01J61/02—Details
- H01J61/04—Electrodes; Screens; Shields
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J65/00—Lamps without any electrode inside the vessel; Lamps with at least one main electrode outside the vessel
- H01J65/04—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels
- H01J65/042—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels by an external electromagnetic field
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J65/00—Lamps without any electrode inside the vessel; Lamps with at least one main electrode outside the vessel
- H01J65/04—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels
- H01J65/042—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels by an external electromagnetic field
- H01J65/046—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels by an external electromagnetic field the field being produced by using capacitive means around the vessel
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Vessels And Coating Films For Discharge Lamps (AREA)
Description
Die Erfindung bezieht sich auf einen Hochleistungsstrahler,
insbesondere für ultraviolettes Licht, mit einem Entladungs
raum, der mit einem Füllgas gefüllt ist, das unter Entladungs
bedingungen Strahlung aussendet, wobei die Wand des Entla
dungsraums zumindest teilweise durch ein erstes Dielektrikum
gebildet ist, welches auf seiner dem Entladungsraum abgewand
ten Oberfläche mit metallischen gitter- oder netzförmigen Außenelektroden
versehen ist, welche Außenelektroden mit einer
UV-transparenten Schutzschicht überzogen sind und/oder in ei
ner solchen eingebettet sind, und mit einer zweiten Elektrode,
die entweder selbst an den Entladungsraum angrenzt oder ein
zweites Dielektrikum aufweist, das an den Entladungsraum an
grenzt, und mit einer an die ersten und zweiten Elektroden an
geschlossenen Wechselstromquelle zur Speisung der Entladung.
Die Erfindung nimmt dabei Bezug auf einen Stand der Technik,
wie er sich etwa aus der älteren europäischen Anmeldung
9 11 08 604.9 vom 27. Mai 1991 der Anmelderin ergibt.
Der industrielle Einsatz photochemischer Verfahren hängt stark
von der der Verfügbarkeit geeigneter UV-Quellen ab. Die klas
sischen UV-Strahler liefern niedrige bis mittlere UV-Intensitäten
bei einigen diskreten Wellenlängen, wie z. B. die
Quecksilber-Niederdrucklampen bei 185 nm und insbesondere bei
254 nm. Wirklich hohe UV-Leistungen erhält man nur aus
Hochdrucklampen (Xe, Hg), die dann aber ihre Strahlung über
einen größeren Wellenlängenbereich verteilen. Die neuen
Excimer-Laser haben einige neue Wellenlängen für
photochemische Grundlagenexperimente bereitgestellt, sind
z.Zt. aus Kostengründen für einen industriellen Prozeß wohl
nur in Ausnahmefällen geeignet.
In der eingangs genannten EP-Patentanmeldung oder auch in dem
Konferenzdruck "Neue UV- und VUV Excimerstrahler" von U.
Kogelschatz und B. Eliasson, verteilt an der 10. Vortragsta
gung der Gesellschaft Deutscher Chemiker, Fachgruppe Photoche
mie, in Würzburg (BRD) 18.-20. November 1987, wird ein neuer
Excimerstrahler beschrieben. Dieser neue Strahlertyp basiert
auf der Grundlage, daß man Excimerstrahlung auch in stillen
elektrischen Entladungen erzeugen kann, einem Entladungstyp,
der in der Ozonerzeugung großtechnisch eingesetzt wird. In
den nur kurzzeitig (< 1 Mikrosekunde) vorhandenen Stromfila
menten dieser Entladung werden durch Elektronenstoß Edelgasa
tome angeregt, die zu angeregten Molekülkomplexen (Excimeren)
weiterreagieren. Diese Excimere leben nur einige 100 Nanose
kunden und geben beim Zerfall ihre Bindungsenergie in Form von
UV-Strahlung ab.
Der Aufbau eines derartigen Excimerstrahlers entspricht bis
hin zur Stromversorgung weitgehend dem eines klassischen Ozon
erzeugers, mit dem wesentlichen Unterschied, daß mindestens
eine der den Entladungsraum begrenzenden Elektroden und/oder
Dielektrikumsschichten für die erzeugte Strahlung durchlässig
ist. Diese Elektroden müssen neben der hohen UV-Transmission
u. a. noch folgende Eigenschaften aufweisen: gute Leitfähigkeit
des elektrischen Stromes, geringe Kosten, gute Biegsamkeit zur
Herstellung eines möglichst innigen Kontaktes mit dem Dielek
trikum und lange Lebensdauer. Die lange Lebensdauer erfordert
insbesondere eine geringe chemische Reaktivität mit der Umge
bung des Strahlers. Will man den Strahler als Lichtquelle in
chemischen Reaktoren einsetzen, so ist für viele Anwendungen
sogar chemische Inertheit gegenüber manchen Substanzen unbe
dingt erforderlich.
Eine weitere unerwünschte Reaktion ist die zum Teil heftige
Korrosion und Erosion der Außenelektroden und dadurch verur
sachte Verschmutzung des Strahlers, der auf diese Weise einen
großen Teil der UV-Leistung verliert, da die Schmutzschicht
für UV-Licht nahezu undurchlässig ist.
Um die beschriebenen Mängel zu beseitigen, wird in der ein
gangs genannten Patentanmeldung vorgeschlagen, zumindest die
Außenelektroden mit einer Schutzschicht zu versehen oder sie
in eine solche einzubetten. Als Beschichtungs- bzw. Einbet
tungsmaterial eignen sich dabei insbesonders Dielektrikums
stoffe, die einen guten Kontakt zum Dielektrikum des Strahlers
herstellen und gleichzeitig einfach aufzubringen sind. Werden
dabei noch Materialien verwendet, die UV-härtend sind, können
diese durch den Strahler selbst extrem schnell härten. Charak
teristisch für den Gegenstand der älteren Anmeldung ist die
Verwendung organischer Einbettungsmaterialien.
Ausgehend vom Bekannten liegt der Erfindung die Aufgabe zu
grunde, die Außenelektrode zuverlässig gegen Korrosion und
Erosion zu schützen.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß die
Schutzschicht als wesentlichen Bestandteil anorganische Oxide,
insbesondere Oxide des Siliziums, enthält.
Vorzugsweise kommt dabei als Schutzschichtmaterial Wasserglas,
und zwar sowohl Natrium- als auch Kalium-Wasserglas in Frage.
Derartige Schutz schichten sind im hier interessierenden Wel
lenlängenbereich (100 bis 600 nm) transparent, wobei die
Transparenz bei Wellenlängen unter 200 nm abnimmt.
Die Schutzschicht verhindert Korrosion und Erosion an den Außenelektroden.
Darüber hinaus wird auch die Erzeugung von
Gleitentladungen längs der Peripherie des Strahlers weitgehend
unterdrückt, da die Schutzschicht auch als Isolierung wirkt.
Besondere Ausgestaltungen der Erfindung und die damit erziel
baren weiteren Vorteile werden nachstehend unter Bezugnahme
auf die Zeichnungen näher erläutert.
In der Zeichnung sind Ausführungsformen von Hochleistungs
strahlern in stark vereinfachter Form dargestellt; dabei zeigt
Fig. 1 einen UV-Zylinderstrahler bekannter Bauart;
Fig. 2 einen Ausschnitt aus dem äußeren Dielektrikumsrohr
eines UV-Strahlers mit darauf angeordneter Außenelektrode
aus mit Wasserglas beschichtetem Rund
draht;
Fig. 3 einen Ausschnitt aus dem äußeren Dielektrikumsrohr
eines UV-Strahlers mit darauf angeordneter Außenelektrode
aus Runddraht, wobei die gesamte Außenfläche
mit einem Beschichtungsmaterial aus Wasser
glas versehen ist;
Fig. 4 einen Ausschnitt aus dem äußeren Dielektrikumsrohr
eines UV-Strahlers mit darauf angeordneter Außenelektrode
aus Runddraht, der in Vertiefungen des
äußeren Dielektrikumsrohrs liegt, die ihrerseits
mit einer Beschichtung aus Wasserglas ausgefüllt
sind;
Fig. 5 einen Ausschnitt aus dem äußeren Dielektrikumsrohr
eines UV-Strahlers mit darauf angeordneter Außenelektrode
aus Runddraht mit einem glatten äußeren
Dielektrikumsrohr und einer Dickschichtvergußmasse
aus Wasserglas, in welcher die Elektroden eingebettet
sind;
Fig. 6 einen Ausschnitt aus einem UV-Strahler, der Strahlung
sowohl nach außen als auch nach innen aussendet.
Der in Fig. 1 schematisch dargestellte UV-Hochleistungsstrahler
besteht aus einem äußeren Dielektrikumsrohr 1, z. B. aus
Quarzglas, einem dazu konzentrisch angeordneten inneren Diel
elektrikumsrohr 2, dessen Innenwand mit einer Innenelektrode 3
versehen ist. Der Ringraum zwischen den beiden Rohren 1 und 2
bildet den Entladungsraum 4 des Strahlers. Das innere Rohr 2
ist gasdicht in das äußere Rohr 1 eingesetzt, das vorgängig
mit einem Gas oder Gasgemisch gefüllt wurde, das unter Einfluß
stiller elektrischer Entladungen UV oder VUV-Strahlung
aussendet.
Als äußere Elektrode 5 dient ein Metallnetz oder Metallgit
ter, das sich über den gesamten Umfang des äußeren Rohres 1
erstreckt. Sowohl die äußere Elektrode 5 als auch das äußere
Dielektrikumsrohr 1 sind für die erzeugte UV-Strahlung durch
lässig.
Die Elektroden 3 und 5 sind an die beiden Pole einer Wechsel
stromquelle 6 geführt. Die Wechselstromquelle entspricht
grundsätzlich jenen, wie sie zur Anspeisung von Ozonerzeugern
verwendet werden. Typisch liefert sie eine einstellbare Wech
selspannung in der Größenordnung von mehreren 100 Volt bis
20000 Volt bei Frequenzen im Bereich des technischen Wechsel
stroms bis hin zu einigen 1000 kHz - abhängig von der Elektro
dengeometrie, Druck im Entladungsraum 4 und Zusammensetzung
des Füllgases.
Das Füllgas ist, z. B. Quecksilber, Edelgas, Edelgas-Metall
dampf-Gemisch, Edelgas-Halogen-Gemisch, gegebenenfalls unter
Verwendung eines zusätzlichen weiteren Edelgases, vorzugsweise
Ar, He, Ne, als Puffergas.
Je nach gewünschter spektraler Zusammensetzung der Strahlung
kann dabei eine Substanz/Substanzgemisch gemäß nachfolgender
Tabelle Verwendung finden:
Füllgas | |
Strahlung | |
Helium|60-100 nm | |
Neon | 80- 90 nm |
Argon | 107-165 nm |
Argon + Fluor | 180-200 nm |
Argon + Chlor | 165-190 nm |
Argon + Krypton +Chlor | 165-190, 200-240 nm |
Xenon | 160-190 nm |
Stickstoff | 337-415 nm |
Krypton | 124, 140-160 nm |
Krypton + Fluor | 240-255 nm |
Krypton + Chlor | 200-240 nm |
Quecksilber | 185, 254, 320-370, 390-420 nm |
Selen | 196, 204, 206 nm |
Deuterium | 150-250 nm |
Xenon + Fluor | 340-360 nm, 400-550 nm |
Xenon + Chlor | 300-320 nm |
Daneben kommen eine ganze Reihe weiterer Füllgase in Frage:
- - Ein Edelgas (Ar, He, Kr, Ne, Xe) oder Hg mit einem Gas bzw. Dampf aus F2, J2, Br2, Cl2 oder eine Verbindung, die in der Entladung ein oder mehrere Atome F, J, Br oder Cl abspaltet;
- -ein Edelgas (Ar, He, Kr, Ne, Xe) oder Hg mit O₂ oder ei ner Verbindung, die in der Entladung ein oder mehrere O- Atome abspaltet;
- - ein Edelgas (Ar, He, Kr, Ne, Xe) mit Hg.
In der sich bildenden stillen elektrischen Entladung (silent
discharge) kann die Elektronenenergieverteilung durch Dicke
der Dielektrika und deren Eigenschaften Druck und/oder Tempe
ratur im Entladungsraum optimal eingestellt werden.
Bei Anliegen einer Wechselspannung zwischen den Elektroden 3,
5 bildet sich eine Vielzahl von Entladungskanälen
(Teilentladungen) im Entladungsraum 4 aus. Diese treten mit
den Atomen/Molekülen des Füllgases in Wechselwirkung, was
schlußendlich zur UV oder VUV-Strahlung führt.
Im Ausschnitt gemäß Fig. 2 sind die einzelnen Drähte 7 der
Außenelektrode mit einer Beschichtung 8 aus Wasserglas verse
hen. Diese kann im einfachsten Fall dadurch hergestellt wer
den, daß der Draht vor seiner weiteren Verarbeitung in Was
serglas getaucht wurde. Bekanntlich polymerisiert das
aufgebrachte stark alkalische Wasserglas unter atmoshärischen
oder sauren Bedingungen schnell unter Bildung von
Polykieselsäuren und bildet dabei die bekannten Eigenschaften
aus.
Im Ausschnitt nach Fig. 3 ist nicht nur der Draht, sondern die
gesamte Strahleroberfläche mit einer Beschichtung 8a aus Was
serglas versehen. Diese Anordnung reduziert für sehr kleine
Wellenlängen zwar die UV-Strahlerleistung, läßt sich aber be
sonders einfach herstellen, indem der vollständig zusammenge
baute Strahler in ein Bad aus Wasserglas getaucht wird, oder
ein Wasserglas aufgesprüht oder auch aufgestrichen wird und
anschließend aushärtet. Bei einer 308 nm-Strahlung und einer
typischen Schichtdicke von 1 bis 2 µm beträgt dabei die Trans
mission mehr als 90%.
Bei der in Fig. 4 dargestellten Anordnung liegen die einzelnen
Drähte 7 der Außenelektrode 5 in Vertiefungen des äußeren
Dielektrikumsrohres 1 und sind vollständig in der Beschichtung
8b aus Wasserglas eingebettet. Die Schicht 8b weist dann längs
der Strahleroberfläche abwechselnd unterschiedliche Dicke auf.
Da dünne Schichten die erzeugte UV-Strahlung besser durchlas
sen als dicke, ergibt sich ein entsprechendes Intensitätsmu
ster. Dies ist für Anwendungen von Vorteil, bei denen ein Ob
jekt, das mit UV bestrahlt werden soll, längs der Oberfläche
bewegt wird und wohldefinierte Belichtungspausen eintreten
sollen.
In Fig. 5 schließlich ist die Anordnung von vollständig in ei
ner Wasserglasmasse 8c eingebetter Drähte auf einem glatten
äußeren Dielektrikumsrohr 1 veranschaulicht.
Neben Zylinderstrahlern läßt sich die erfindungsgemäße Ver
setzung der Elektroden auch bei Flächenstrahlern mit Erfolg
anwenden. Auch können die Außenelektrode selbst andersartig
gestaltet sein, z. B. nicht netz- oder gitterförmig, sondern
nur aus parallelen Streifen bestehen, was sich insbesondere
bei einer Anordnung gemäß Fig. 3 anbietet.
Auch können anstelle separater oder diskreter Elektrodenanord
nungen solche verwendet werden, die durch streifen- oder git
ternetzförmige Metallisierungen auf die Außenfläche des Di
elektrikumsrohres 1 aufgebracht sind und dann mit der im Zu
sammenhang mit Fig. 3 geschilderten Weise mit einer Schutz
schicht versehen werden.
Die Erfindung wurde vorstehend anhand von Ausführungsbeispie
len erläutert, die sich auf sogenannte Außenstrahler bezie
hen. Die dabei vorgestellten Maßnahmen zum Schutz der Elek
troden gelten selbstverständlich auch für einen sogenannten
Innenstrahler. Abgesehen von der Lage der transparenten Elek
troden 5 entspricht ein solcher Innenstrahler dem in Fig. 1
dargestellten Außenstrahler.
Des weiteren sind auch Strahlerkonfigurationen möglich, bei
welchen die UV-Strahlung sowohl nach außen als auch nach in
nen abgestrahlt wird. Fig. 6 veranschaulicht einen Ausschnitt
aus einem solchen Strahler. Bei solchen Anordnungen müssen
beide Dielektrikumsrohre 1, 2 und auch die jeweiligen Elektro
den 3, 5 für die erzeugte Strahlung transparent sein. In die
sem Fall können dann sowohl die ersten Elektroden 5 als auch
die zweiten Elektroden 3 in der oben geschilderten Weise vor
chemischen und physikalischen Angriffen optimal geschützt wer
den.
Außen- und Innenstrahler werden regelmäßig mit einem flüssi
gen Kühlmittel gekühlt. Dieses wird bei Außenstrahlern durch
das innere Dielektrikumsrohr 2 geleitet, bei Innenstrahlern
umspült das Kühlmittel das äußere Dielektrikumsrohr 1. Auch
hier tragen Schutzschichten aus Wasserglas Materialien dazu
bei, den Erosionsangriff durch das Kühlmittel zu verhindern
oder zumindest zu vermindern.
Claims (6)
1. Hochleistungsstrahler, insbesondere für ultraviolettes
Licht, mit einem Entladungsraum (4), der mit einem
Füllgas gefüllt ist, das unter Entladungsbedingungen
Strahlung aussendet, wobei die Wand des Entladungsraums
(4) zumindest teilweise durch ein erstes Dielektrikum (1)
gebildet ist, welches auf seiner dem Entladungsraum (4)
abgewandten Oberfläche mit metallischen gitter- oder
netzförmigen Außenelektroden (5) versehen ist, welche
Außenelektroden (5) mit einer UV-transparenten
Schutzschicht (8, 8a...) überzogen sind und/oder in einer
solchen eingebettet sind, und mit einer zweiten Elektrode
(3), die entweder selbst an den Entladungsraum (4)
angrenzt oder ein zweites Dielektrikum (2) aufweist, das
an den Entladungsraum (4) angrenzt, und mit einer an die
ersten (5) und zweiten Elektroden (3) angeschlossenen
Wechselstromquelle (6) zur Speisung der Entladung,
dadurch gekennzeichnet, daß die Schutzschicht
(8; 8a; 8b; 8c) als wesentlichen Bestandteil anorganische
Oxide, vorzugsweise Oxide des Siliziums, enthält.
2. Hochleistungsstrahler nach Anspruch 1, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Schutzschicht (8,..) im wesentlichen
aus Wasserglas oder anderen anorganischen Oxiden besteht.
3. Hochleistungsstrahler nach Anspruch 1 oder 2, dadurch ge
kennzeichnet, daß nur das Material, aus dem die Außenelektrode
(5,3) gefertigt ist, mit der Schutzschicht (8),
versehen ist (Fig. 2).
4. Hochleistungsstrahler nach Anspruch 1 oder 2, dadurch ge
kennzeichnet, daß zumindest die Außenelektrode (5) und
zumindest die Oberfläche des ersten Dielektrikums (1) im
Bereich der Außenelektrode mit der UV-durchlässigen
Schutzschicht (8a) versehen sind (Fig. 3).
5. Hochleistungsstrahler nach Anspruch 1, 2 oder 4, dadurch
gekennzeichnet, daß die Außenfläche des ersten Dielek
trikums (1) und/oder die Innenfläche des zweiten Dielek
trikums (2) mit regelmäßigen Vertiefungen versehen ist,
in welche die Elektroden (5, 3) zumindest teilweise einge
bettet ist und die Vertiefungen mit einer Wasserglas-
Masse (8b) ausgefüllt sind, welche die Elektroden (5, 3)
vollständig bedeckt.
6. Hochleistungsstrahler nach Anspruch 1, 2 oder 4, dadurch
gekennzeichnet, daß zumindest die Außenelektrode (5) in
eine Schutzschicht (8c) aus einer UV-durchlässigen Masse
eingebettet ist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19924203345 DE4203345A1 (de) | 1992-02-06 | 1992-02-06 | Hochleistungsstrahler |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19924203345 DE4203345A1 (de) | 1992-02-06 | 1992-02-06 | Hochleistungsstrahler |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4203345A1 true DE4203345A1 (de) | 1993-08-12 |
Family
ID=6451047
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19924203345 Withdrawn DE4203345A1 (de) | 1992-02-06 | 1992-02-06 | Hochleistungsstrahler |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE4203345A1 (de) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4332866A1 (de) * | 1993-09-27 | 1995-03-30 | Fraunhofer Ges Forschung | Oberflächenbehandlung mit Barrierenentladung |
EP0678900A2 (de) * | 1994-04-18 | 1995-10-25 | General Electric Company | Elektrodenlose Lampe |
DE19507189A1 (de) * | 1995-03-02 | 1996-09-12 | Stengelin Gmbh & Co Kg | Verfahren zur Mediumaufbereitung mit einem Excimer-Strahler und Excimer-Strahler zur Durchführung eines solchen Verfahrens |
DE19708149A1 (de) * | 1997-02-28 | 1998-09-03 | Umex Ges Fuer Umweltberatung U | Vorrichtung zur UV-Bestrahlung von Flüssigkeiten und Gasen |
DE19744940A1 (de) * | 1997-02-28 | 1998-09-03 | Umex Ges Fuer Umweltberatung U | Vorrichtung zur Durchführung fotochemischer Reaktionen, vorzugsweise von Aufschlüssen im Labor |
DE19741668A1 (de) * | 1997-09-22 | 1999-04-01 | Heraeus Noblelight Gmbh | Entladungslampe |
DE19843419A1 (de) * | 1998-09-22 | 2000-03-23 | Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh | Entladungslampe mit dielektrisch behinderten Elektroden |
WO2001035445A1 (fr) * | 1999-11-10 | 2001-05-17 | Harison Toshiba Lighting Corporation | Tube fluorescent, lampe a decharge et dispositif a eclairage par l'arriere a cristaux liquides comprenant ce systeme |
EP1601003A2 (de) * | 2004-05-28 | 2005-11-30 | National Institute of Advanced Industrial Science and Technology | UV-Strahl-Generator, UV-Bestrahlungs-Vorrichtung und Vorrichtung zur Herstellung von Halbleitern |
-
1992
- 1992-02-06 DE DE19924203345 patent/DE4203345A1/de not_active Withdrawn
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4332866A1 (de) * | 1993-09-27 | 1995-03-30 | Fraunhofer Ges Forschung | Oberflächenbehandlung mit Barrierenentladung |
EP0678900A2 (de) * | 1994-04-18 | 1995-10-25 | General Electric Company | Elektrodenlose Lampe |
EP0678900A3 (de) * | 1994-04-18 | 1997-08-06 | Gen Electric | Elektrodenlose Lampe. |
DE19507189A1 (de) * | 1995-03-02 | 1996-09-12 | Stengelin Gmbh & Co Kg | Verfahren zur Mediumaufbereitung mit einem Excimer-Strahler und Excimer-Strahler zur Durchführung eines solchen Verfahrens |
DE19708149A1 (de) * | 1997-02-28 | 1998-09-03 | Umex Ges Fuer Umweltberatung U | Vorrichtung zur UV-Bestrahlung von Flüssigkeiten und Gasen |
DE19744940A1 (de) * | 1997-02-28 | 1998-09-03 | Umex Ges Fuer Umweltberatung U | Vorrichtung zur Durchführung fotochemischer Reaktionen, vorzugsweise von Aufschlüssen im Labor |
DE19741668A1 (de) * | 1997-09-22 | 1999-04-01 | Heraeus Noblelight Gmbh | Entladungslampe |
DE19741668C2 (de) * | 1997-09-22 | 2003-04-17 | Heraeus Noblelight Gmbh | Entladungslampe für Oberflächen-Gleitentladung |
DE19843419A1 (de) * | 1998-09-22 | 2000-03-23 | Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh | Entladungslampe mit dielektrisch behinderten Elektroden |
WO2001035445A1 (fr) * | 1999-11-10 | 2001-05-17 | Harison Toshiba Lighting Corporation | Tube fluorescent, lampe a decharge et dispositif a eclairage par l'arriere a cristaux liquides comprenant ce systeme |
EP1601003A2 (de) * | 2004-05-28 | 2005-11-30 | National Institute of Advanced Industrial Science and Technology | UV-Strahl-Generator, UV-Bestrahlungs-Vorrichtung und Vorrichtung zur Herstellung von Halbleitern |
EP1601003A3 (de) * | 2004-05-28 | 2006-09-06 | National Institute of Advanced Industrial Science and Technology | UV-Strahl-Generator, UV-Bestrahlungs-Vorrichtung und Vorrichtung zur Herstellung von Halbleitern |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0324953B1 (de) | Hochleistungsstrahler | |
EP0839436B1 (de) | Verfahren zum betreiben eines beleuchtungssystems und dafür geeignetes beleuchtungssystem | |
EP0509110B1 (de) | Bestrahlungseinrichtung | |
EP0389980B1 (de) | Hochleistungsstrahler | |
DE69210113T2 (de) | Hochdrucksglimmentladungslampe | |
EP0458140B1 (de) | Hochleistungsstrahler | |
CH676168A5 (de) | ||
EP1048620B1 (de) | Vorrichtung zur Desinfektion von Wasser mit einer UV-C-Gasentladungslampe | |
EP0371304B1 (de) | Hochleistungsstrahler | |
DE10242895B4 (de) | Verfahren zur Evakuierung eines thermisch isolierenden Paneels mit Plasmaanregung | |
EP0733266B1 (de) | Verfahren zum betreiben einer inkohärent emittierenden strahlungsquelle | |
EP0482230B1 (de) | Hochleistungsstrahler | |
DE69501196T3 (de) | Lichtquellen-Vorrichtung mit einer Dielektrikumbegrenzter Entladungslampe | |
CH670171A5 (de) | ||
CH675178A5 (de) | ||
EP0489184B1 (de) | Hochleistungsstrahler | |
DE4203345A1 (de) | Hochleistungsstrahler | |
DE4302465C1 (de) | Vorrichtung zum Erzeugen einer dielektrisch behinderten Entladung | |
EP1118100A1 (de) | Dimmbare entladungslampe für dielektrisch behinderte entladungen | |
DE2136102C3 (de) | Gasentladungsfeld | |
DE69811974T2 (de) | Edelgasentladungslampe | |
DE69610561T2 (de) | Verfahren zur erzeugung einer optischen strahlung und dafür geeignete entladungslampe | |
DE4235743A1 (de) | Hochleistungsstrahler | |
DE69019597T2 (de) | Niederdruckedelgasentladungslampe. | |
DE4208376A1 (de) | Hochleistungsstrahler |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |