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DE4108614C2 - Verfahren zur Herstellung von Trichlorsilan aus Siliciumtetrachlorid - Google Patents

Verfahren zur Herstellung von Trichlorsilan aus Siliciumtetrachlorid

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DE4108614C2
DE4108614C2 DE19914108614 DE4108614A DE4108614C2 DE 4108614 C2 DE4108614 C2 DE 4108614C2 DE 19914108614 DE19914108614 DE 19914108614 DE 4108614 A DE4108614 A DE 4108614A DE 4108614 C2 DE4108614 C2 DE 4108614C2
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DE
Germany
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silicon
metal
trichlorosilane
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microporous
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DE19914108614
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Holger Walter
Petra Kuehn
Wolfgang Horlbeck
Fritz Vogt
Klaus-Peter Wendlandt
Johannes Brumme
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Evonik Operations GmbH
Original Assignee
Degussa GmbH
Degussa Huels AG
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/08Compounds containing halogen
    • C01B33/107Halogenated silanes
    • C01B33/1071Tetrachloride, trichlorosilane or silicochloroform, dichlorosilane, monochlorosilane or mixtures thereof

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Trichlorsilan aus Siliciumtetrachlorid durch Umsetzung mit Wasserstoff ohne Einsatz von Silicium und ohne Anwendung von Druck. Trichlorsilan wird fuer die Gewinnung reinsten Siliciums eingesetzt.
Siliciumtetrachlorid entsteht sowohl bei der Hydrochlorierung von Siliciummetall als auch bei der Herstellung von halbleiterreinem Silicium durch thermische Zersetzung von Trichlorsilan.
Obwohl eine Verwertung des Siliciumtetrachlorides zu Ethylsilicaten, synthetischem Quarzglas, pyrogener Kieselsaeure, keramischen Materialien und anderen Stoffen bekannt ist, wurde versucht, Siliciumtetrachlorid zur Gewinnung von halbleiterreinem Silicium nach der Umwandlung in Trichlorsilan einzusetzen.
Es sind Verfahren beschrieben, bei denen im Temperaturbereich von 300 bis 700°C Gemische aus Siliciumtetrachlorid und Wasserstoff in Gegenwart von Katalysatoren ueber Siliciummetall geleitet und dabei Anteile des Silicium­ tetrachlorides bei Atmosphaeren- oder erhoehtem Druck in Trichlorsilan umgewandelt werden. Die Menge an gebildeten Trichlorsilan wird durch das chemische Gleichgewicht bestimmt, das im gesamten Bereich auf der Seite des Siliciumtetrachlorid liegt und Gehalte bis etwa 20% Trichlorsilan zulaesst. Generell ist zu beachten, dass zugesetztes Siliciummetall als Reaktionskomponente und/oder Katalysator einen Eintrag von Verunreinigungen, wie z. B. Phosphor, Bor, Kohlenstoff und Eisen bedingt.
Ebenfalls bekannt sind Umwandlungsverfahren, die ohne Einsatz von Siliciummetall arbeiten. Gemaess DE 22 09 267 erfolgt die Herstellung von Trichlorsilan aus Siliciumtetrachlorid und Wasserstoff, indem man bei 600 bis 1200°C im Reaktions­ gleichgewicht mit Trichlorsilan und Chlorwasserstoff befindliche Siliciumtetrachlorid/Wasserstoff-Gemische mit einer molaren Zusammensetzung von 1 zu 1 bis 1 zu 50 entnimmt, das Gemisch ploetzlich auf unter 300°C abschreckt und dann ggf. nach Kondensation des Rohproduktes und Abtrennung nicht umgesetzten Wasserstoffes die Chlorsilane fraktioniert. In JP 62270413 reagiert Siliciumtetrachlorid mit Wasserstoff in Gegenwart eines speziellen Katalysators. Als Katalysator wird ein Metall der 8. Nebengruppe auf aktiven Kohlenstoff eingesetzt. WO 85/04389 beschreibt eine Hochdruckplasma- Hydrierung von Siliciumtetrachlorid. Wasserstoff und Siliciumtetrachlorid reagieren in Gegenwart von Hochdruck­ plasma und Borkatalysator zu Trichlorsilan und Dichlorsilan. Nachteilig bei allen diesen Verfahren ist, dass die molaren Konzentrationen von Trichlorsilan im Reaktionsgemisch etwa 20% betragen und dass ein hoher Energieaufwand neben einer aufwendigen Technologie notwendig ist.
Aufgabe der Erfindung ist das Auffinden eines Verfahrens, welches in einer Reaktionsstufe ohne Einsatz von Silicium unter Vermeidung energieintensiver Prozesse und ohne Anwendung von Druck die Umwandlung von Siliciumtetrachlorid in Trichlorsilan durch Umsetzung mit Wasserstoff gestattet.
Erfindungsgemaess werden beim Ueberleiten von Wasserstoff/- Siliciumtetrachlorid-Gemischen sowohl ueber metallfreie als auch ueber metallhaltige, siliciumreiche, microporoese Festkoerper mit Schicht-, Kanal oder Hohlraumstruktur in Abhaengigkeit von der Temperatur im einmaligen Durchgang bis zu 23 Mol-% Trichlorsilan im Kondensat erhalten.
Das Wasserstoff/Siliciumtetrachlorid-Gemisch wird in einem Mol-Verhaeltnis von 1 zu 2 bis 15 zu 1 ueber die erfindungs­ gemaessen, microporoesen Festkoerper, die eine Porenweite von 0,3 nm bis 1,5 nm, vorzugsweise von 0,4 nm bis 0,8 nm, aufweisen, bei einer Reaktionstemperatur zwischen 400 und 800°C, bevorzugt zwischen 600 und 750°C geleitet, das entstehende Chlorsilangemisch in einer Kuehlanlage bei bevorzugt -50°C verfluessigt, destillativ in die Komponenten getrennt, und Siliciumtetrachlorid in den Kreislauf zurueckgefuehrt.
Die erfindungsgemaessen, siliciumreichen, microporoesen Fest­ koerper mit Schicht, Kanal-, oder Hohlraumstruktur sind vorzugsweise kristalline Alumosilicate, Schichtsilicate, Pillared Clays, Silicate, Zeolithe, wie z. B. aluminiumfreies Zeolith, Silicophosphate oder Silicoalumophosphate, wobei ein molares SiO2/Al2O3-Verhaeltnis ueber 60 bevorzugt wird. Der Festkoerper kann Metalle der 8. Nebengruppe, deren Kombi­ nationen sowie Kombinationen mit Metallen der 1., 3., 4. und 6. Nebengruppe mit einem Metallgehalt von 0,1 bis 20 Gew.-% enthalten.
Vorteile des Verfahrens bestehen in der relativ niedrigen Reaktionstemperatur, im Arbeiten ohne Druck, sowie im Vermeiden des Einsatzes von Siliciummetall und von Kataly­ satoren bei Anwendung von metallfreiem Festkoerper und damit einer groesseren Reinheit des erhaltenen Trichlorsilans.
Ausführungsbeispiele Beispiel 1
Ein ueber Molsieb getrockneter und gereinigter Wasserstoff­ strom wurde mit 9 l/h durch einen mit Reinst-Silicium­ tetrachlorid beschickten Saettiger bei Temperaturen von 15 bis 35°C geleitet und anschliessend von unten kontinuierlich durch einen vertikalen Quarzrohrreaktor eines Durchmessers von 30 mm und einer Laenge von 250 mm, in dem sich 14 g eines metallfreien, aluminiumfreien Zeolithes der Korngroesse 1,5 mm bis 2 mm mit einer Schuetthoehe von 50 mm auf eine Quarzfritte befanden, dosiert. Der Reaktor wurde in einem Rohrofen elektrisch auf eine Reaktionstemperatur von 750°C beheizt. In einer, nachgeschalteten Kondensationsvorrichtung wurde das erhaltene Chlorsilangemisch bei -50°C verfluessigt und anschliessend destilliert. Wiedergewonnenes Siliciumtetra­ chlorid wurde in den Prozess zurueckgefuehrt. Die Reaktion wurde gaschromatografisch verfolgt. Tabelle 1 enthaelt die Umsetzungsgrade von Siliciumtetrachlorid zu Trichlorsilan bei 750°C in Abhaengigkeit vom molaren Wasserstoff/Silicium­ tetrachlorid-Verhaeltnis.
Wasserstoff/Siliciumtetrachlorid Mol-Verhältnis
Umsetzungsgrad Mol-% Trichlorsilan
2 : 1 3,4
6 : 1 6,3
8 : 1 12,2
12 : 1 16,6
Beispiel 2
Ein Wasserstoffstrom wurde mit 9 l/h durch einen auf 20°C temperierten Saettiger geleitet, so dass sich ein konstantes Wasserstoff/Siliciumtetrachlorid-Verhaeltnis von 8 zu 1 einstellte. Verwendet wurde der in Beispiel 1 beschriebene Quarzrohrreaktor. Als Festkoerper wurde eine durch Dealuminierung eines NaY-Zeolithes hergestellte ultrastabilisierte und extrahierte Probe mit einem molaren SiO2/Al2O3-Verhaeltnis von 80, auf die durch Impraegnieren mit 0,1 N Ni(NO3)2- und Cu(NO3)2-Loesungen, anschliessendem Trocknen und Gluehen waehrend zwei Stunden bei 500°C, jeweils 0,5 Gew.-% dieser Metalle aufgebracht wurden nach Aktivierung im Wasserstoffstrom eingesetzt. Es wurden analog Beispiel 1 gleichfalls 14 g einer Kornfraktion von 1,5 bis 2 mm verwendet. In Abhaengigkeit von der Reaktionstemperatur, beginnend bei 400°C wurden die in Tabelle 2 aufgefuehrten molaren Umsetzungsgrade des Siliciumtetrachlorids zum Trichlorsilan erhalten.
Temperatur°C
Umsetzungsgrad Mol.-% Trichlorsilan
400 0,8
500 2,4
600 9,5
700 18,0
750 22,6

Claims (8)

1. Verfahren zur Herstellung von Trichlorsilan aus Siliciumtetrachlorid durch Umsetzung mit Wasserstoff, ohne Einsatz von Silicium, wobei man ein aus Wasserstoff und Siliciumtetrachlorid bestehendes Gemisch in einem Mol-Verhaeltnis von 1 zu 2 bis 15 zu 1 ueber metallfreie oder metallhaltige, siliciumreiche, mikroporoese Festkoerper mit Schicht-, Kanal-, oder Hohlraumstruktur bei einer Reaktionstemperatur zwischen 400 und 800°C leitet.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die microporoesen Festkoerper eine Porenweite zwischen 0,3 nm und 1,5 nm aufweisen.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die microporoesen Festkoerper eine Porenweite zwischen 0,4 nm und 0,8 nm aufweisen.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die siliciumreichen, microporoesen Festkoerper kristalline Alumosilicate, Schichtsilicate, Pillared Clays, Silicate, Zeolithe, Silicophosphate oder Silicoalumophosphate sind.
5. Verfahren nach Anspruch 1 und 4, dadurch gekennzeichnet, dass die siliciumreichen, microporoesen Festkoerper ein molares SiO2/Al2O3-Verhaeltnis ueber 60 aufweisen.
6. Verfahren nach Anspruch 1 und 4, dadurch gekennzeichnet, dass die metallfreien, siliciumreichen, microporoesen Festkoerper aluminiumfreie Zeolithe sind.
7. Verfahren nach Anspruch 1 und 4, dadurch gekennzeichnet, dass der metallhaltige siliciumreiche, microporoese Festkoerper Metalle der 8. Nebengruppe, deren Kombinationen sowie Kambinationen mit Metallen der 1., 3., 4. und 6. Nebengruppe mit einem Metallgehalt von 0,1 bis 20 Gew.-% enthaelt.
8. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Reaktionstemperatur 600 bis 750°C betraegt.
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DE102010000980A1 (de) * 2010-01-18 2011-07-21 Evonik Degussa GmbH, 45128 Katalytische Systeme zur kontinuierlichen Umsetzung von Siliciumtetrachlorid zu Trichlorsilan

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WO1985004389A1 (en) * 1984-03-28 1985-10-10 Solavolt International Process for the hydrogenation of silicon tetrachloride

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