DE4032559C2 - Drehratensensor und Verfahren zur Herstellung - Google Patents
Drehratensensor und Verfahren zur HerstellungInfo
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 5
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 claims description 12
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 claims description 9
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 9
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 6
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 3
- 210000002105 tongue Anatomy 0.000 description 11
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 8
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 7
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 7
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 5
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000003631 wet chemical etching Methods 0.000 description 3
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 2
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 239000002800 charge carrier Substances 0.000 description 1
- 229910021419 crystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000000930 thermomechanical effect Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01C—MEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS; SURVEYING; NAVIGATION; GYROSCOPIC INSTRUMENTS; PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY
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- G01C19/5719—Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces using planar vibrating masses driven in a translation vibration along an axis
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Description
Die Erfindung geht aus von einem Drehratensensor nach der Gattung
des Hauptanspruchs.
Es ist bereits bekannt, zum Beispiel zur Messung der Drehgeschwin
digkeit eines Fahrzeugs im wesentlichen um die Hochachse, zur
Regelung der Fahrdynamik oder auch zu Navigationszwecken, geringe
Drehraten im Bereich von mehreren Grad pro Sekunda mit Sensoren zu
erfassen, bei denen eine Stimmgabelstruktur, die parallel zur
Drehachse orientiert ist, zu Schwingungen in einer Ebene senkrecht
zur Drehachse angeregt wird. Bei einer Drehung um die Drehachse
wirkt die Corioliskraft auf die schwingenden Stimmgabelzinken
senkrecht zur Drehachse und senkrecht zur Anregungsrichtung, d. h.
zur Auslenkung der Zinken bei Abwesenheit einer Drehbewegung. Die
Drehrate kann über die von der Corioliskraft verursachte Auslenkung
der Zinken senkrecht zur Anregungsrichtung erfaßt und ausgewertet
werden.
In der nicht vorveröffentlichten Deutschen Patentanmeldung 40 22 495 A1 werden
verschiedene Ausgestaltungen eines Drehratensensors mit einem
Sensorelement beschrieben, das aus einem monokristallinen Silizium
wafer herausstrukturiert ist und mindestens einen Schwinger, vor
zugsweise ein Paar von Schwingern aufweist, die über einen oder
mehrere Stege mit einem festen Rahmen verbunden sind. Die Schwinger
sind in zwei aufeinander senkrecht stehenden Richtungen schwingungs
fähig. Es werden verschiedene Anregungsmöglichkeiten der Schwinger
in einer ersten Schwingungsrichtung, die in der Waferebene liegt,
beschrieben, wie zum Beispiel die elektromagnetische Anregung, die
thermomechanische Anregung und verschiedene Möglichkeiten der
elektrostatischen Anregung. Dieser Drehratensensor ist ferner mit
Mitteln zur Erfassung von Auslenkungen der Schwinger in der zweiten
Schwingungsrichtung ausgestattet.
In dem Aufsatz "Laterally Driven Polysilicon Resonant Micro
structures" von William C. Tang, Tu-Cuong H. Nguyen und Roger T.
Howe in Sensors and Actuators, 20 (1989) 25-32 sind verschiedene,
schwingungsfähige, auf Träger abgeschiedene Polysiliziumstrukturen
und Verfahren zu deren Herstellung beschrieben.
In der US 4,750,364 wird ein Drehratensensor beschrieben, bei dem
aus einem einkristallinem plattenförmigen Träger Schwinger
herausstrukturiert sind. Die Schwinger können zu Schwingungen
parallel zur Oberfläche des Trägers angeregt werden. Der
plattenförmige Träger ist dann zwischen zwei Elektrodenplatten
angeordnet, wobei durch Elektroden, die auf diesen Platten
angeordnet sind, eine Auslegung der Schwinger senkrecht zur
Oberfläche des Trägers nachgewiesen werden kann.
In der DE 25 32 042 B2 wird eine Stimmgabelstruktur beschrieben, die
so aufgehängt ist, daß sie um einen Schaft (207 der Fig. 6) drehbar
ist. Beim Auftreten von Drehbewegungen erfolgt eine Verdrehung des
Schafts 207. Die Stimmgabel kann mittels Einstellschrauben exakt zu
einer Längsachse eines Schiffes ausgerichtet werden.
Die DE 34 17 858 C2 beschreibt ebenfalls eine Stimmgabelstruktur,
die aus einem plattenförmigen Substrat 30 herausstrukturiert ist.
Heim Auftreten einer Winkelgeschwindigkeit wird die
Stimmgabelstruktur aus der Ebene der Platte 30 ausgelenkt, und
dieser Auslenkung kann nachgewiesen werden.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, besonders einfach
aufgebaute Sensoren zur Messung einer Drehrate sowie Verfahren zur Herstellung anzugeben.
Diese Aufgabe wird durch die Merkmale der unabhängigen
Ansprüche gelöst.
Der erfindungsgemäße Sensor mit den kennzeichnenden Merkmalen des
Anspruchs 1 hat den Vorteil, daß die Schwinger als Stege mit einem
hohen Höhe zu Breite Verhältnis je nach Dicke des Trägers ausge
bildet sein können, so daß eine große Auslenkung in der ersten
Schwingungsrichtung erfolgen kann und gleichzeitig Querauslenkungen
weitgehend vermieden werden, die Störsignale verursachen. Diese
spezielle Ausbildung der Schwinger ermöglicht vorteilhaft eine
starre, präzise und störsichere Führung in der ersten Schwingungs
richtung. Gleichzeitig können die senkrecht zur ersten Schwingungs
richtung auslenkbaren Strukturelemente, die auf den Schwingern auf
gebracht sind und als Beschleunigungssensoren für die Coriolis
beschleunigung senkrecht zur ersten Schwingungsrichtung dienen, so
ausgebildet sein, daß sie eine große Empfindlichkeit aufweisen.
Besonders vorteilhaft ist es, die beschleunigungssensitiven
Strukturelemente über Stege mit dem Schwinger zu verbinden, die
parallel zur ersten Schwingungsrichtung ausgerichtet sind. Dadurch
können durch die Bewegung des Schwingers verursachte Querauslenkun
gen des Strukturelementes weitgehend vermieden werden. Der erfin
dungsgemäße Sensor mit den kennzeichnenden Merkmalen des Anspruchs 7
hat den Vorteil, daß er mit sehr kleinen Abmessungen realisierbar
ist. Der Meßeffekt der erfindungsgemäßen Sensoren läßt sich positiv
durch Anregung der Schwinger zu Schwingungen hoher Frequenz und
durch eine möglichst große Auslenkung der Strukturelemente senkrecht
zur ersten Schwingungsrichtung der Schwinger verstärken.
Durch die in den Unteransprüchen aufgeführten Maßnahmen sind vor
teilhafte Weiterbildungen der in den beiden nebengeordneten
Ansprüchen 1 und 3 angegebenen Sensoren möglich. Besonders vorteil
haft ist es, als Träger einen monokristallinen Siliziumwafer mit
(110)- oder (100)-Kristallorientierung zu verwenden, da sich diese
einfach mit aus der Mikromechanik bekannten Verfahren durch
trocken- oder naßchemisches Ätzen strukturieren lassen. Stege mit
senkrecht zur Waferoberfläche ausgebildeten Wänden eignen sich
besonders vorteilhaft als Schwinger. Sie lassen sich einfach durch
anisotropes elektrochemisches Ätzen mittels KOH aus (110)-orientier
ten Siliziumwafern strukturieren. Durch trockenchemisches Ätzen
(Trenchen) können auch von der Kristallorientierung unabhängige
Ausgestaltungen verwirklicht werden. Besonders vorteilhaft sind
Polysiliziumstrukturen oder Strukturen aus monokristallinem Silizium
als schwingungsfähige Strukturelemente, da sie in Dünnschichttechnik
nach bekannten Verfahren so herstellbar sind, daß sie eine hohe
Empfindlichkeit aufweisen. Die Realisierung der erfindungsgemäßen
Drehratensensoren in Silizium ist außerdem besonders vorteilhaft, da
sie eine Integration der zugehörigen Auswerteschaltung auf dem
Sensorelement erlaubt.
Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in der Zeichnung dargestellt
und in der nachfolgenden Beschreibung näher erläutert.
Es zeigen Fig. 1 die perspektivische Darstellung eines Ausschnitts
eines Sensorelementes, die Fig. 2a bis d verschiedene Ausge
staltungen eines Strukturelementes und Fig. 3 die perspektivische
Darstellung eines Ausschnitts eines weiteren Sensorelementes.
In Fig. 1 ist ein Ausschnitt eines Sensorelementes dargestellt, das
aus einem scheibenförmigen Träger 10 in Form einer doppelten Stimm
gabel herausstrukturiert ist. Die eine Seite der Stimmgabelstruktur
besteht aus einem Schwinger 13, der zweiseitig über vier Stege 14
mit dem Träger 10 verbunden ist. Sowohl der Schwinger 13 als auch
die Aufhängungsstege 14 sind in der vollen Dicke des Trägers 10 aus
gebildet. Ebenfalls möglich ist es, den Schwinger 13 nur einseitig
über Stege 14 mit dem Träger zu verbinden, so daß eine offene Stimm
gabelstruktur entsteht. Der Schwinger kann mit Hilfe von in der
Zeichnung nicht näher dargestellten Mitteln zu Schwingungen in einer
ersten Schwingungsrichtung, was durch den Pfeil 1 angedeutet ist,
die in der Trägerebene liegt, angeregt werden. Dies kann beispiels
weise elektrostatisch, elektrodynamisch oder auch thermoelektrisch
erfolgen, wie in der nicht vorveröffentlichten Patentanmeldung
40 22 495 A1 beschrieben. Auf dem Schwinger 13 ist über Stege 23 ein
als Zunge ausgebildetes Strukturelement 21 aufgebracht. Die Zunge 21
ist parallel zur Trägeroberfläche orientiert und senkrecht zur
Trägeroberfläche auslenkbar, so daß sich Beschleunigungen senkrecht
zur Trägeroberfläche mit der Zunge 21 erfassen lassen. Schwingt der
Schwinger 13 in der ersten Schwingungsrichtung 1 und wenn das
Sensorelement eine Drehbewegung um eine Drehachse 3, die senkrecht
zur ersten Schwingungsrichtung 1 und senkrecht zur Auslenkungs
richtung 2 der Zunge 21 orientiert ist, so wirkt auf die Zunge 21
eine Coriolisbeschleunigung senkrecht zur Trägeroberfläche in Rich
tung 2. Diese Coriolisbeschleunigung, die zu einer Auslenkung der
Zunge 21 führt, kann entweder piezoresistiv durch auf der Zunge 21
angeordnete Piezowiderstände oder wie in Fig. 1 dargestellt kapazi
tiv erfaßt werden. Dazu ist ein Bereich der der Zunge 21 zugewandten
Oberfläche des Schwinges 13 als eine Elektrodenseite 17 eines
Plattenkondensators präpariert, die über eine Zuleitung 181 mit
einem Anschluß 191 verbunden ist. Die andere Elektrodenseite des
Plattenkondensators wird durch die Zunge 21 selbst gebildet, die
über eine Zuleitung 182 mit einem Anschluß 192 verbunden ist. Eine
Auslenkung der Zunge 21 in Richtung 2 führt zu einer Kapazitäts
änderung dieses Plattenkondensators und kann mittels einer hier
nicht dargestellten Auswerteschaltung ausgewertet werden.
Besonders vorteilhaft läßt sich die in Fig. 1 dargestellte Struktur
eines Sensorelementes in einkristallinen Siliziumträgern 10 und
darauf abgeschiedenen Polysiliziumstrukturen oder monokristallinen
Siliziumstrukturen realisieren. Der Schwinger 13 und die Stege 14
lassen sich einfach durch trocken- oder naßchemisches Ätzen aus dem
Siliziumträger herausstrukturieren, was zum Beispiel durch das
elektrochemische Ätzen einer Membran und anschließendes Struktu
rieren dieser Membran erfolgen kann. Zur Erzeugung von Strukturen
mit Seitenwänden senkrecht zur Trägeroberfläche eignen sich
besonders (110)-orientierte Siliziumwafer, da die Strukturen dann
durch naßchemisches Ätzen mittels KOH erzeugt werden können. Bei
Verwendung von trockenchemischem Ätzen (Trenchen) können solche
Stege auch unabhängig von der Kristallorientierung hergestellt
werden. Die auf den Schwingern angeordneten schwingungsfähigen
Strukturelemente sowie deren Verbindungsstege zum Trägersubstrat
lassen sich vorteilhaft in Polysilizium oder monokristallinem
Silizium verwirklichen, da durch Abscheidung von Silizium auf einer
Hilfsschicht, beispielsweise einer Oxidschicht, die als sogenannte
"sacrificial layer" dient und anschließend durch Unterätzen der
Siliziumstruktur wieder entfernt wird, dünne Strukturelemente
erzeugt werden können, die zu einer hohen Empfindlichkeit des
Drehratensensors beitragen. Als Strukturelemente eignen sich neben
parallel zur Trägeroberfläche orientierten Zungen auch zweiseitig
befestigte, brückenartig auf dem Schwinger angeordnete Platten.
Die Realisierung des erfindungsgemäßen Sensorelementes in Silizium
ermöglicht die Integration von Teilen der Auswerteschaltung auf dem
Sensorelement. Besonders vorteilhaft in diesem Zusammenhang ist, daß
beispielsweise eine starre Elektrodenseite des Plattenkondensators,
die auf der Oberfläche des Schwingers 13 realisiert ist, durch ein
fache Diffusion in das Trägersubstrat erzeugt sein kann. Dasselbe
gilt für die Zuleitungen 181, 182.
In den Fig. 2a bis d sind verschiedene Ausgestaltungen des
Strukturelementes 21 mit Aufhängungsstegen 23 dargestellt. Je nach
Anwendung können eine einseitige Aufhängung, siehe Fig. 2b, eine
zweiseitige Aufhängung, siehe Fig. 2a und d, oder auch eine vier
seitige Aufhängung, siehe Fig. 2c gewählt werden. Dient das
Strukturelement 21 nur als Beschleunigungsaufnehmer für die
Coriolisbeschleunigung, das heißt, wird es auf einen aus einem
Träger 10 strukturierten Schwinger 13 aufgebracht, so ist es
besonders geschickt, die Aufhängungsstege 23 parallel zur ersten
Schwingungsrichtung 1, wie mit dem Pfeil 1 angedeutet, auszurichten.
dadurch können störende Querauslenkungen des Strukturelementes 21 in
der ersten Anregungsrichtung 1 weitgehend vermieden werden. Die in
Fig. 2c dargestellte vierseitige Aufhängung des Strukturelements 21
durch vier sternförmig angeordnete Aufhängungsstege 23 ist vorteil
haft, da dadurch alle Querauslenkungen gleichmäßig verhindert wer
den. Die Beschleunigungssensitivität senkrecht zur Oberfläche des
Schwingers 13 kann auch vorteilhaft durch eine Ausgestaltung des
Strukturelementes 21 entsprechend Fig. 2d erhöht werden. Das
Strukturelement 21 ist hier zweiseitig über Stege 23 mit dem
Schwinger 13 verbunden. Die Verbindung der beschleunigungssensitiven
Platte 21 mit den Stegen 23 ist aber nicht direkt, sondern wird
durch zwei dünne verbiegbare Stäbe 231 gebildet.
In Fig. 3 ist der Ausschnitt aus einem weiteren Sensorelement dar
gestellt mit einem angeschittenen Träger 10. Bei diesem Ausführungs
beispiel ist der Träger 10 nicht strukturiert. Es kann sich hier
ebenfalls um einen monokristallinen Siliziumwafer handeln oder um
ein anderes Substrat, auf das in geeigneter Weise Strukturelemente
und Mittel zur Signalerfassung aufgebracht werden können. Auf den
Träger 10 ist eine brückenartige Struktur aufgebracht. Sie wird im
wesentlichen von einer plattenförmigen seismischen Masse 30 gebil
det, die zweiseitig über vier Stegen 31 mit dem Trägersubstrat ver
bunden ist. Diese Struktur läßt sich in einer ersten Schwingungs
richtung, die durch den Pfeil 1 angedeutet ist, anregen, was bei
spielsweise elektrostatisch erfolgen kann. Die Anregungsmittel sind
hier nicht näher dargestellt. Bei einer Drehbewegung des Sensor
elementes um eine Drehachse 3, die in der Trägerebene und senkrecht
zur ersten Schwingungsrichtung liegt, wirkt eine Coriolisbeschleuni
gung auf die schwingende seismische Masse 30 senkrecht zur Träger
oberfläche. Die daraus resultierende Auslenkung der seismischen
Masse 30 senkrecht zur Trägeroberfläche kann piezoresisitv oder
kapazitiv erfaßt werden und ist ein Maß für die Winkelgeschwindig
keit der Drehung. Das in Fig. 3 dargestellte Sensorelement ist in
Silizium realisiert. Mit 11 ist eine Ladungsträgerdiffusion in den
Träger 10 bezeichnet, die dazu dient, einen Teil der unter der
plattenförmigen seismischen Masse 30 befindlichen Oberfläche des
Trägers elektrisch von der plattenförmigen seismischen Masse 30 zu
isolieren, so daß dieser Teil der Oberfläche zusammen mit der
seismischen Masse 30 einen Kondensator bildet, über dessen
Kapazitätsänderung die Auslenkung der seismischen Masse 30 in einer
zweiten Schwingungsrichtung senkrecht zur Trägeroberfläche erfaßt
werden kann.
Claims (8)
1. Drehratensensor mit einem Sensorelement aus einer ersten
und zweiten Schicht, das mindestens einen aus der ersten
Schicht ausgebildeten Schwinger (13) aufweist, wobei die
erste Schicht durch einen scheibenförmigen Träger (10)
gebildet ist, und mit Mitteln zur Anregung des mindestens
einen Schwingers (13) in einer ersten Schwingungsrichtung,
die parallel zu einer Oberfläche des Trägers (10) orientiert
ist, wobei der mindestens eine Schwinger (13) mit mindestens
einem Steg (14) mit dem Träger (10) verbunden ist, dadurch
gekennzeichnet, daß mindestens ein beschleunigungssensitives
Strukturelement (21) aus der zweiten Schicht herausgebildet
ist, die auf einer parallel zur Oberfläche des Trägers (10)
orientierten Oberfläche des mindestens einen Schwingers (13)
aufgebracht ist, daß das mindestens eine Strukturelement
(21) senkrecht zu der Oberfläche des Trägers auslenkbar ist
und daß Mittel zur kapazitiven oder piezoresistiven
Erfassung der Auslenkungen des mindestens einen
Strukturelementes (21) senkrecht zur Oberfläche des Trägers
(10) vorhanden sind.
2. Drehratensensor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß das mindestens eine Strukturelement (21) einseitig oder
zweiseitig über Stege (23) mit dem Schwinger (13) verbunden
ist, so daß die Stege (23) parallel zur ersten
Schwingungsrichtung (1) ausgerichtet sind.
3. Drehratensensor nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet,
daß das Strukturelement (21) eine plattenförmige seismische
Masse aufweist, die parallel zur Oberfläche des Trägers (10)
orientiert ist.
4. Drehratensensor nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß der Träger (10) ein
monokristalliner Siliziumträger mit (110)- oder (100)-
Kristallorientierung ist.
5. Drehratensensor nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß das mindestens eine
Strukturelement (21) als Polysiliziumstruktur ausgebildet
ist.
6. Verfahren zur Herstellung eines Drehratensensor nach
Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das mindestens eine
Strukturelement (21, 30) durch Abscheiden einer
Polysiliziumschicht auf in Teilbereichen der
Trägeroberfläche aufgebrachten Hilfsschichtsockeln und durch
anschließendes Entfernen der Hilfsschichtsockel durch
Unterätzen der aufgebrachten Siliziumschicht hergestellt wird.
7. Drehratensensor mit einem Sensorelement aus einer ersten
und zweiten Schicht, wobei die erste Schicht durch einen
scheibenförmigen Träger (10) gebildet ist, wobei mindestens
ein in der zweiten Schicht ausgebildeter Schwinger (30)
vorgesehen ist, und mit Mitteln zur Anregung des mindestens
einen Schwingers (30) in einer ersten Schwingungsrichtung,
die parallel zu einer Oberfläche des Trägers (10) orientiert
ist, wobei der Schwinger (30) senkrecht zur Oberfläche des
Trägers (10) auslenkbar ist und mit Mittel zur kapazitiven
oder piezoresistiven Erfassung der Auslenkung des Schwingers
(30) senkrecht zur Oberfläche des Trägers (10), dadurch
gekennzeichnet, daß der Träger (10) als monokristalliner
Siliziumträger mit (110)- oder (100)-Kristallorientierung
und daß der Schwinger (30) als Polysiliziumstruktur
ausgebildet sind.
8. Verfahren zur Herstellung eines Drehratensensor nach
Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß der Schwinger (30)
durch Abscheiden einer Polysiliziumschicht auf in
Teilbereichen der Oberfläche des Trägers (10) aufgebrachten
Hilfsschichtsockeln und durch anschließendes Entfernen der
Hilfsschichtsockel durch Unterätzen der aufgebrachten
Siliziumschicht hergestellt wird.
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ID=6416236
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Legal Events
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8125 | Change of the main classification |
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|
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition |