DE4007825C2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- DE4007825C2 DE4007825C2 DE4007825A DE4007825A DE4007825C2 DE 4007825 C2 DE4007825 C2 DE 4007825C2 DE 4007825 A DE4007825 A DE 4007825A DE 4007825 A DE4007825 A DE 4007825A DE 4007825 C2 DE4007825 C2 DE 4007825C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- weight
- parts
- additive
- sintering
- sintered
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 24
- QYEXBYZXHDUPRC-UHFFFAOYSA-N B#[Ti]#B Chemical compound B#[Ti]#B QYEXBYZXHDUPRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 229910033181 TiB2 Inorganic materials 0.000 claims description 23
- 238000005245 sintering Methods 0.000 claims description 23
- 229910007948 ZrB2 Inorganic materials 0.000 claims description 21
- VWZIXVXBCBBRGP-UHFFFAOYSA-N boron;zirconium Chemical compound B#[Zr]#B VWZIXVXBCBBRGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 20
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 20
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 19
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 18
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 17
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 11
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 8
- 239000005078 molybdenum compound Substances 0.000 claims description 7
- 150000002752 molybdenum compounds Chemical class 0.000 claims description 7
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 7
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 6
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 claims description 5
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010439 graphite Substances 0.000 claims description 5
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910020968 MoSi2 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 4
- 239000007849 furan resin Substances 0.000 claims description 3
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims description 3
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 claims description 3
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 claims description 3
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 22
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 9
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 150000003682 vanadium compounds Chemical class 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 3
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 2
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXTPWUNVHCYOSP-UHFFFAOYSA-N bis($l^{2}-silanylidene)molybdenum Chemical compound [Si]=[Mo]=[Si] YXTPWUNVHCYOSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003575 carbonaceous material Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000000748 compression moulding Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000000280 densification Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002075 main ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 1
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910021344 molybdenum silicide Inorganic materials 0.000 description 1
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229910021332 silicide Inorganic materials 0.000 description 1
- FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N silicide(4-) Chemical compound [Si-4] FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 description 1
- 238000001238 wet grinding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/515—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics
- C04B35/58—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides
- C04B35/5805—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides based on borides
- C04B35/58064—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides based on borides based on refractory borides
- C04B35/58071—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides based on borides based on refractory borides based on titanium borides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/515—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics
- C04B35/58—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides
- C04B35/5805—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides based on borides
- C04B35/58064—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides based on borides based on refractory borides
- C04B35/58078—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides based on borides based on refractory borides based on zirconium or hafnium borides
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Ceramic Products (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines
Sinterkeramikkörpers auf Metalldiboridbasis.
Sinterkeramiken unter Verwendung von entweder TiB₂ oder ZrB₂
als Hauptbestandteil besitzen eine sehr hohe Hitzebeständigkeit,
Korrosionsfestigkeit, Härte und Abriebbeständigkeit.
Daher sind Sinterkeramiken auf Basis von TiB₂ und/oder ZrB₂
z. B. als Hitzeisoliermaterialien und mechanische Materialien
für Schneidwerkzeuge, Maschinenteile, Teile für Wärmemaschinen,
Raketenkomponenten etc. sehr brauchbar. Weiterhin ist
es möglich, die guten elektrischen Leitfähigkeiten dieser
Materialien auszunutzen.
Jedoch besitzen sowohl TiB₂ als auch ZrB₂ schlechte Sinteraktivität.
Falls TiB₂ oder ZrB₂ alleine gesintert werden,
ist der Sinterkörper sehr brüchig und besitzt eine niedrige
Biegefestigkeit. Daher wurden verschiedene Zusatzstoffe zur
Verbesserung der mechanischen Eigenschaften von Sinterkörpern
auf Basis von TiB₂ oder ZrB₂ und auch von anderen Sinterkeramiken
auf Basis von Metalldiboriden untersucht. Es
gibt z. B. folgende Vorschläge.
Die JP-A-57 42 578 zeigt eine Zugabe eines Metallmonoborids
und wenigstens eines Metallcarbids, -silicids, -nitrids oder
-oxids. Die JP-A-58 55 378 zeigt die Zugabe von Zirkoniumoxid.
Die JP-A-60 103 080 zeigt die Zugabe eines Mischborids
aus W und Fe, Co oder Ni. Die JP-A-60 195 061 zeigt die Zugabe
von Molybdänsilicid. Die JP-A-61 97 169 zeigt die Zugabe
eines Metallmonoborids und von Titancarbonitrid.
Die meisten der zuvor aufgeführten Vorschläge erfordern jedoch
ein Heißpreßsintern zur Gewinnung von Sinterkeramikkörpern
mit guten mechanischen Eigenschaften, da die Produkte
des Sinterns unter Normaldruck hinsichtlich der Biegefestigkeit
unzureichend sind. Darüber hinaus sind die bislang vorgeschlagenen
Sinterkörper auf Basis von TiB₂ und/oder ZrB₂ im
allgemeinen hinsichtlich der Rißfestigkeit unzureichend.
Aus der DE 38 04 982 A1 ist ein Verfahren zur Herstellung
eines Metallborid-Keramikmaterials bekannt, bei dem Metalldiborid,
u. a. TiB₂ und ZrB₂, mit 1 bis 20 Gew.-% Metallpulver
und 0,1 bis 10 Gew.-% Kohlenstoffpulver gemischt wird, aus
der Mischung ein Formkörper gebildet wird und dieser Formkörper
bei 1900°C gebrannt wird. Als Metallpulver kann Cr,
Ni, Ti, Mo, Si, Fe und/oder Ta verwendet werden. Alternativ
kann das Metallborid mit 0,1 bis 89 Gew.-% Metallcarbidpulver
gemischt werden, wobei als Metallcarbidpulver eines
oder mehrere Elemente der Gruppen III, IVa, Va, VIa und VIII
des Periodensystems verwendet werden.
Aus der EP 01 70 889 A1 ist eine Keramik auf Basis von ZrB₂
bekannt, die wenigstens 1 Gew.-% SiC, wenigstens 1 Gew.-%
B₄C (insgesamt 2 bis 50 Gew.-% SiC und B₄C) und wahlweise
bis zu 15 Gew.-% TiC, bis zu 35 Gew.-% TiN und bis zu 40 Gew.-%
AlN enthält. Bei dieser Keramik werden als essentielle
Bestandteile SiC und B₄C verwendet. Dabei wird die
Wahlkomponente TiN verwendet, um die Korrosions- und
Oxidationsbeständigkeit zu verbessern. Die Wahlkomponente
AlN wird zugegeben, um die elektrische Leitfähigkeit zu
verbessern. Die meisten der in der EP 01 70 889 A1 beschriebenen
Keramiken werden unter sehr hohen Drücken gesintert.
Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist die Bereitstellung
eines Verfahrens zur Herstellung von Sinterkeramikkörpern
auf Basis von Metalldiborid, insbesondere Titandiborid
und/oder Zirkoniumdiborid, mit verbesserter Rißfestigkeit
bzw. Bruchzähigkeit ohne Verschlechterung der anderen Eigenschaften
und mit ausreichender Biegefestigkeit, wobei das
Sintern unter Normaldruck oder unter vermindertem Druck
durchgeführt werden kann.
Zur Lösung dieser Aufgabe sind bei einem Verfahren zur Herstellung
eines Sinterkeramikkörpers auf Metalldiboridbasis
die folgenden Stufen vorgesehen:
- a) Vermischen von 100 Gew.-Teilen eines pulverförmigen Hauptmaterials, wobei dieses wenigstens ein Metalldiborid, ausgewählt aus der TiB₂ und ZrB₂ bestehenden Gruppe, ist, mit einem pulverförmigen ersten Zusatzstoff, wobei dieser wenigstens eine Vanadin- oder Molybdänverbindung aus der Gruppe VC, VN, MoSi₂, MoC und MoN ist und seine Menge 0,5 bis 99,5 Gew.-Teile, berechnet als V und/oder Mo, beträgt, mit 1 bis 50 Gew.-Teilen eines pulverförmigen zweiten Zusatzstoffes, wobei dieser wenigstens ein Nitrid aus der Gruppe TiN, ZrN, TaN, NbN, CrN, AlN und BN ist, und mit 0,5 bis 10 Gew.-Teilen Kohlenstoff als dritten Zusatzstoff in Form von Graphit, Ruß oder einem carbonisierbaren organischen Material;
- b) Verdichten der in Stufe a) erhaltenen Mischung zu einem Körper gewünschter Form; und
- c) Sintern dieses Formkörpers im Vakuum oder in einer nicht oxidierenden Gasatmosphäre bei einer Temperatur im Bereich von 1600°C bis 2200°C.
Erfindungsgemäß kann
jeder der Stoffe TiB₂ und ZrB₂ als Hauptmaterial verwendet
werden, weiterhin ist es möglich, eine Mischung von TiB₂
und ZrB₂ in einem beliebigen Verhältnis zu verwenden.
Das Hauptmerkmal der Erfindung liegt darin, ein Nitrid
wie z. B. TiN oder TaN in die Sinterkeramik in Kombination
mit Kohlenstoff und wenigstens einer Verbindung von Vanadium
und Molybdän einzuführen. Die Zugabe einer Titanverbindung
ergibt eine bemerkenswerte Steigerung der Rißfestigkeit
bzw. Bruchzähigkeit der Sinterkeramik. Um diesen Effekt
zu erreichen, ist es nicht erforderlich, das Sintern unter
hohem Druck durchzuführen. Der Grund für diesen Effekt ist
noch nicht vollständig aufgeklärt. Bei Betrachtung eines
beispielhaften Falles der Zugabe von VC, TiN und C zu TiB₂
ergibt, daß die Sinterkeramik eine sehr komplizierte Struktur
besitzt, die aus verschiedenen Komponenten wie TiB₂,
TiN, VC, BN, etc. und deren feste Lösungen besteht,
und es ist wahrscheinlich, daß diese Kompliziertheit der
Struktur einen wesentlichen Beitrag zur Erhöhung der Rißfestigkeit
bzw. Bruchzähigkeit ergibt.
Die Zugabe von Kohlenstoff ist ebenfalls wichtig. In der
Stufe des Sinterns wirkt Kohlenstoff als Sinterfördermittel
und dient darüber hinaus der Entfernung von Sauerstoff aus
der die Umgebung bildenden Gasatmosphäre und auch aus einigen
Oxiden (z. B. von Fe, Mg, Zr und/oder Nb), welche
möglicherweise in dem Hauptmaterial, TiB₂ und/oder ZrB₂,
enthalten sein können. In der Sinterkeramik liegt Kohlenstoff
in Form von Carbiden vor.
Die Sinterkeramik gemäß der Erfindung besitzt ein relativ
hohes Raumgewicht und weist eine sehr feine und dichte
Kristallstruktur auf, selbst wenn das Sintern unter Normaldruck
oder vermindertem Druck durchgeführt wird. Üblicherweise
sind die meisten der Kristallkörner in dem
gesinterten Produkt kleiner als 5 µm in der Korngröße und
gleichförmig verteilt.
Erfindungsgemäß hergestellte Sinterkeramikkörper weisen eine ausgezeichnete
Hitzebeständigkeit und Korrosionsbeständigkeit
auf und besitzen ausreichend hohe Werte der Härte, der
Biegefestigkeit und der Rißfestigkeit bzw. Bruchzähigkeit,
wobei es möglich ist, Sinterkörper von komplizierten Formgebungen
herzustellen.
Daher ist die vorliegende Erfindung zur Herstellung von
verschiedenen Bearbeitungswerkzeugen, Formen, Maschinenteilen,
Raketenkomponenten usw. anwendbar.
Im folgenden werden bevorzugte Ausführungsformen näher
erläutert.
Bei der vorliegenden Erfindung ist das Hauptmaterial ein
Pulver von TiB₂, ZrB₂ oder einer Mischung dieser beiden
Boride, und es ist vorteilhaft, ein feines Pulver hoher
Reinheit einzusetzen. Die Erfindung betrifft nicht die
Herstellung von TiB₂ oder ZrB₂, und es ist ausreichend,
ein Produkt einzusetzen, das nach wohlbekannten Arbeitsweisen
wie der direkten Reaktion von elementarem Titan
oder Zirkonium mit Bor oder der Reduktion von Titanoxid
oder Zirkoniumoxid hergestellt wurde. Vorteilhafterweise
wird ein TiB₂-Pulver und/oder ein ZrB₂-Pulver mit einer
Reinheit von nicht weniger als 98% und mit einer mittleren
Teilchengröße von nicht größer als 5 µm und vorzugsweise
nicht größer als 2 µm eingesetzt.
Dabei werden drei Sorten von Zusatzstoffen,
wie sie zuvor genannt wurden, verwendet. Der erste Zusatzstoff
ist entweder eine Vanadiumverbindung oder
eine Molybdänverbindung.
Wahlweise können zwei oder mehr Arten von Vanadiumverbindungen
oder Molybdänverbindungen verwendet werden,
ebenfalls ist es möglich, eine Kombination von wenigstens
einer Vanadiumverbindung
und wenigstens einer Molybdänverbindung
einzusetzen.
Brauchbare Vanadiumverbindungen sind VC und
VN, und Beispiele für brauchbare
Molybdänverbindungen sind MoSi₂, MoN und
MoC. Es wird entweder einer der Stoffe
VC, VN, MoSi₂, MoN oder MoC oder eine
ausgewählte Kombination hiervon verwendet. In jedem Fall
ist es vorteilhaft, wenn jeder Bestandteil des ersten Zusatzstoffes
ein Pulver mit einer Teilchengröße von nicht
größer als 10 µm und vorzugsweise nicht größer als 5 µm ist.
Zu 100 Gew.-Teilen des Hauptmaterials (TiB₂ und/oder ZrB₂)
ist die Zugabemenge des ersten Zusatzstoffes, berechnet als
V und/oder Mo, 0,5 bis 99,5 Gew.-Teile. Falls die Zugabemenge
des ersten Zusatzstoffes weniger als 0,5 Gew.-Teile
ausmacht, ist das gesinterte Produkt hinsichtlich Festigkeit
und Zähigkeit als Folge des übermäßigen Wachstums der
Körner unzureichend, und falls mehr als 99,5 Gew.-Teile
vorliegen, ist das gesinterte Produkt hinsichtlich der
Biegefestigkeit als Folge des herabgeminderten Anteiles
des Hauptmaterials unzureichend. Bevorzugt werden 2 bis
60 Gew.-Teile des ersten Zusatzstoffes, berechnet als V
und/oder Mo, auf 100 Gew.-Teile des Hauptmaterials bzw.
des/der Hauptbestandteile zugesetzt.
Der zweite Zusatzstoff ist ein Nitrid eines von V und Mo
verschiedenen Metalls. Dabei wird eine Auswahl
unter TiN, ZrN, TaN, NbN, CrN, AlN und BN getroffen.
Gewünschtenfalls können zwei oder mehr Sorten von Nitriden
gemeinsam verwendet werden. Der zweite Zusatzstoff wird
vorteilhafterweise in Form eines Pulvers mit einer Teilchengröße
von nicht größer als 10 µm und vorzugsweise nicht
größer als 5 µm eingesetzt.
Zu 100 Gew.-Teilen des Hauptmaterials werden 1 bis 50 Gew.-Teile
des zweiten Zusatzstoffes zugesetzt. Falls die Menge
des zweiten Zusatzstoffes weniger als 1 Gew.-Teil beträgt,
wird die Rißfestigkeit des gesinterten Produktes nur unbedeutend
erhöht, und falls mehr als 50 Gew.-Teile zugesetzt
werden, besitzt das gesinterte Produkt eine relativ geringe
Biegefestigkeit.
Der dritte Zusatzstoff ist Kohlenstoff oder ein relativ
einfach carbonierbares, d. h. verkohlbares Material. Beispiele
von Kohlenstoffmaterial sind: Graphit und Ruß.
Beispiele von brauchbaren carbonisierbaren
Materialien sind hitzehärtende Harze wie Phenolharz, Furanharz,
Polyimidharz, Polyurethanharz, Melaminharz und Harnstoffharz,
Petrolteer und Pech. Bevorzugt wird pulverförmiger
Graphit, Ruß, pulverförmiges Phenolharz oder Furanharz
verwendet.
Die Zugabemenge des dritten Zusatzstoffes, berechnet als
Kohlenstoff, beträgt von 0,5 bis 10 Gew.-Teile auf 100 Gew.-Teile
des Hauptmaterials. Falls weniger als 0,5 Gew.-Teile
Kohlenstoff verwendet werden, ist eine ausreichende
Verdichtung der gesinterten Zusammensetzung schwierig.
Falls mehr als 10 Gew.-Teile Kohlenstoff eingesetzt werden,
besteht die Wahrscheinlichkeit, daß das gesinterte
Produkt freien Kohlenstoff enthält und den Nachteil verschlechterter
physikalischer Eigenschaften als Folge von
unerwünschtem Kornwachstum aufweist.
Ein erfindungsgemäßer Sinterkeramikkörper kann nach einem
relativ einfachen Sinterverfahren hergestellt werden.
Zuerst werden Pulver des Hauptmaterials und der zuvor beschriebenen
Zusatzstoffe zusammen nach einer geeigneten
Arbeitsweise vermischt. Beispielsweise kann das Vermischen
in Form eines Naßmischens in einer Kugelmühle unter Verwendung
einer organischen Flüssigkeit wie z. B. Petroleum,
Äther, Hexan, Benzol, Toluol, Methanol, Ethanol, Propanol,
Isopropanol oder Kohlenstofftetrachlorid, durchgeführt
werden. Üblicherweise reicht es aus, den Mischvorgang für
etwa 5 bis 24 h für eine feine Unterteilung der agglomerierten
oder koagulierten Pulverteilchen und zur Erzielung
eines gleichförmigen Durchmischens fortzuführen. Es besteht
die Möglichkeit des Einschlusses einer geringen Menge des
Kugelmaterials in die vermischten Materialien, diese Erscheinung
beeinträchtigt jedoch nicht in signifikanter
Weise die physikalischen Eigenschaften des gesinterten
Produktes, sofern ein geeignetes Keramikmaterial als Kugelmaterial
verwendet wird.
Nach der Entfernung der organischen Flüssigkeit wird das
Mischpulver in eine gewünschte Form nach einer geeigneten
Verfahrensweise kompaktiert oder verdichtet, z. B. durch
Formpressen in einer Metallform oder nach dem Gummipreßverfahren.
Der Formkörper wird im Vakuum oder in einer
nichtoxidierenden Gasatmosphäre bei einer Temperatur im
Bereich von 1600°C bis 2200°C gesintert. Vorteilhafterweise
wird ein inaktives Gas wie Argon, Helium oder Stickstoff
als nichtoxidierendes Gas eingesetzt. Es ist nicht erforderlich,
jedoch vorteilhaft, ein Gasdruck-Sinterverfahren
oder ein Heißpreß-Sinterverfahren anzuwenden. Falls die
Sintertemperatur unterhalb 1600°C liegt, besteht die Wahrscheinlichkeit,
daß der Sinterkörper keine relativ hohe
Raumdichte als Folge eines unzureichenden Sinterns aufweist.
Wenn die Sintertemperatur oberhalb von 2200°C liegt,
besitzt der Sinterkörper eine relativ niedrige Biegefestigkeit
als Folge von nichterwünschtem Kornwachstum, und eine
solche hohe Temperatur ist aus wirtschaftlichen Gründen
nicht vorteilhaft. Bei 1600-2200°C wird das Sintern üblicherweise
während 0,5 bis 10 h durchgeführt, obwohl die optimale
Sinterdauer von der Gestalt und der Größe des Formkörpers abhängt.
Die Erfindung wird anhand der folgenden Beispiele näher
erläutert.
Als Hauptmaterial wurde TiB₂-Pulver mit einer Reinheit von
99% und einer mittleren Teilchengröße von 1 µm verwendet.
In einer Kugelmühle mit Kugeln aus Zirkoniumdioxid wurden
100 Gew.-Teile des TiB₂-Pulvers mit 10 Gew.-Teilen VC (berechnet
als V), 10 Gew.-Teilen TiN und 3 Gew.-Teilen Ruß
gemischt. Jeder der drei Zusatzstoffe lag in Form eines
Pulvers mit einer geringeren Teilchengröße als 5 µm vor.
Das Mischen bzw. Mahlen wurde während 24 h als Naßmahlen
unter Verwendung von Hexan durchgeführt.
Nach dem Trocknen wurde das Mischpulver in eine Metallform
mit einem zylindrischen Hohlraum von 15 mm Durchmesser und
10 mm Höhe eingefüllt und nach einem Kautschukpreßverfahren
bei einem Druck von 147,2 N/mm² gepreßt.
Der scheibenförmige Körper wurde in einen Graphittiegel
gesetzt und unter Normaldruck einem Sintern unter Argongas
bei einer Temperatur von 1850°C während 2 h unterzogen.
Das Sintern ergab eine schwache Schrumpfung des scheibenförmigen
Körpers, die Schrumpfung war jedoch sehr gleichförmig,
so daß der Sinterkörper die akkurate Gestalt einer
Scheibe besaß. Der Sinterkörper wies eine relative Dichte
von annähernd 100% auf. Durch Beobachtung von willkürlichen
Abschnitten des Sinterkörpers unter einem Elektronenabtastmikroskop
(SEM) ergab sich, daß der Sinterkörper eine sehr
dichte Kristallstruktur mit gleichförmiger Verteilung von
feinen Körnern mit einer mittleren Teilchengröße von kleiner
als 5 µm aufwies. Die Werte für die Härte, der Biegefestigkeit
und die Rißzähigkeit des Sinterkörpers bei
Zimmertemperatur sind in der Tabelle I-2 aufgeführt.
Die Arbeitsweise von Beispiel 1 wurde mit den in der Tabelle I-1
gezeigten Änderungen hinsichtlich der Zusatzstoffe
und der Sinterbedingung wiederholt. In den Beispielen 13
bis 15 wurde ein ZrB₂-Pulver mit 99%iger Reinheit
und einer mittleren Teilchengröße von 1 µm als Hauptmaterial,
sowie in den Beispielen 16 und 17 eine Mischung
von 50 Gew.-Teilen des TiB₂-Pulvers und 50 Gew.-Teilen
des ZrB₂-Pulvers eingesetzt. In jedem Beispiel war der
Zusatzstoff ein Pulver mit einer Teilchengröße von kleiner
als 5 µm. Mit Ausnahme der in der Tabelle I-1 gezeigten
Angaben wurde das Sinterverfahren des Beispiels 1 in
diesen Beispielen 2 bis 17 wiederholt.
In jedem Beispiel wurde ein Sinterkörper mit einer relativen
Dichte von annähernd 100% erhalten, und im Elektronenabtastmikroskop
(SEM) wurde eine gleichförmige und sehr
dichte Kristallstruktur beobachtet. Die Werte der Messungen
von Härte, Biegefestigkeit und Rißzähigkeit sind in
Tabelle I-2 zusammengestellt.
Einige der Beispiele 1 bis 17 wurden dadurch modifiziert,
daß hauptsächlich die Zugabe eines Nitrids ausgelassen
wurde, wie aus Tabelle II-1 ersichtlich ist. Weiterhin
wurde im Vergleichsversuch F keine Vanadium- oder Molybdänverbindung
zugesetzt. Das Sinterverfahren wurde mit den
in der Tabelle II-1 gezeigten Ausnahmen wie in Beispiel 1
durchgeführt.
Bei jedem Vergleichsversuch besaß der Sinterkörper eine
relative Dichte von annähernd 100% und es wurde unter dem
Elektronenabtastmikroskop eine gleichförmige und sehr dichte
Kristallstruktur beobachtet. Die Meßwerte für die Härte, die
Biegefestigkeit und die Rißfestigkeit sind in Tabelle II-2
aufgeführt.
Aus einem Vergleich zwischen den Werten der Beispiele 1-16
in Tabelle I-2 und der Werte der Vergleichsversuche A-E
in Tabelle II-2 und ebenfalls aus einem Vergleich zwischen
den Werten der Beispiele 17-19 und den Werten der Vergleichsversuche
F-H ist ersichtlich, daß die Rißzähigkeit bzw.
Bruchzähigkeit sowohl eines Sinterkörpers auf Basis von
TiB₂ als auch auf Basis von ZrB₂ gemäß der Erfindung wesentlich
verbessert wird. Es ist ersichtlich, daß die Biegefestigkeit
und die Härte des Sinterkörpers ebenfalls bei
der Erfindung verbessert sind. Diese Werte zeigen deutlich,
daß die mechanischen Eigenschaften eines Sinterkörpers
durch die Erfindung insgesamt verbessert werden.
Claims (4)
1. Verfahren zur Herstellung eines Sinterkeramikkörpers auf
Metalldiboridbasis, dadurch gekennzeichnet, daß es
folgende Stufen umfaßt:
- a) Vermischen von 100 Gew.-Teilen eines pulverförmigen Hauptmaterials, wobei dieses wenigstens ein Metalldiborid, ausgewählt aus der TiB₂ und ZrB₂ bestehenden Gruppe, ist, mit einem pulverförmigen ersten Zusatzstoff, wobei dieser wenigstens eine Vanadium- oder Molybdänverbindung aus der Gruppe VC, VN, MoSi₂, MoC und MoN ist und seine Menge 0,5 bis 99,5 Gew.-Teile, berechnet als V und/oder Mo, beträgt, mit 1 bis 50 Gew.-Teilen eines pulverförmigen zweiten Zusatzstoffes, wobei dieser wenigstens ein Nitrid aus der Gruppe TiN, ZrN, TaN, NbN, CrN, AlN und BN ist, und mit 0,5 bis 10 Gew.-Teilen Kohlenstoff als dritten Zusatzstoff in Form von Graphit, Ruß oder einem carbonisierbaren organischen Material;
- b) Verdichten der in Stufe a) erhaltenen Mischung zu einem Körper gewünschter Form; und
- c) Sintern dieses Formkörpers im Vakuum oder in einer nichtoxidierenden Gasatmosphäre bei einer Temperatur im Bereich von 1600°C bis 2200°C.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
das organische Material aus der Gruppe Phenolharze und
Furanharze ausgewählt ist.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
der erste Zusatzstoff in einer Menge von 2 bis 60 Gew.-Teilen,
berechnet als V und/oder Mo, eingesetzt wird.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
das Sintern in Stufe c) unter Normaldruck durchgeführt wird.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1060539A JPH02239156A (ja) | 1989-03-13 | 1989-03-13 | 二ホウ化金属系焼結体およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4007825A1 DE4007825A1 (de) | 1990-09-20 |
DE4007825C2 true DE4007825C2 (de) | 1992-01-16 |
Family
ID=13145199
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4007825A Granted DE4007825A1 (de) | 1989-03-13 | 1990-03-12 | Sinterkeramik auf metalldiboridbasis und verfahren zu ihrer herstellung |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5019540A (de) |
JP (1) | JPH02239156A (de) |
DE (1) | DE4007825A1 (de) |
FR (1) | FR2644159B1 (de) |
GB (1) | GB2229451B (de) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3255738B2 (ja) | 1992-12-10 | 2002-02-12 | 京セラ株式会社 | 金色焼結合金およびその製造方法 |
JP3255744B2 (ja) | 1993-02-05 | 2002-02-12 | 京セラ株式会社 | 金色焼結体およびその製造方法 |
US5427987A (en) * | 1993-05-10 | 1995-06-27 | Kennametal Inc. | Group IVB boride based cutting tools for machining group IVB based materials |
JP3255767B2 (ja) | 1993-07-22 | 2002-02-12 | 京セラ株式会社 | 金色焼結体およびその製造方法 |
JP2003191900A (ja) * | 2001-12-26 | 2003-07-09 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 宇宙往還機用耐熱材及びホットストラクチャー部材及び宇宙往還機及び宇宙往還機用耐熱材の製造方法 |
WO2006038406A1 (ja) * | 2004-10-07 | 2006-04-13 | Nippon Mining & Metals Co., Ltd. | 高純度ZrB2粉末及びその製造方法 |
RU2725329C1 (ru) * | 2019-10-25 | 2020-07-02 | Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский Томский государственный университет" (ТГУ) | Гетеромодульный керамический композиционный материал и способ его получения |
CN111848220B (zh) * | 2020-07-30 | 2022-10-28 | 中国人民解放军火箭军工程大学 | Mb2基超高温陶瓷涂层及其制备方法 |
CN116354730B (zh) * | 2023-03-31 | 2025-04-08 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 一种(Ti,Zr,Hf)B2中熵陶瓷基复相材料及其制备方法 |
CN116589766B (zh) * | 2023-05-29 | 2023-10-24 | 广东浦鸿半导体有限公司 | 一种半导体封装模具用清模胶及制备工艺 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2872327A (en) * | 1954-10-25 | 1959-02-03 | Carborundum Co | Refractory bodies containing boron nitride and a boride, and the manufacture thereof |
DE1127093B (de) * | 1957-07-12 | 1962-04-05 | Plansee Metallwerk | Gesinterte Hartstofflegierung hoher Haerte, Verschleissfestigkeit und Korrosionsbestaendigkeit |
GB894104A (en) * | 1960-02-01 | 1962-04-18 | Union Carbide Corp | Improvements in hot pressed articles |
GB1285211A (en) * | 1969-01-09 | 1972-08-16 | United States Borax Chem | 31ycompositions for making refractory articles |
GB1558068A (en) * | 1975-07-09 | 1979-12-19 | Teledyne Ind | Aluminium oxide based compositions |
JPS5837274B2 (ja) * | 1980-08-26 | 1983-08-15 | 工業技術院長 | 高強度複合焼結材料 |
JPS597668B2 (ja) * | 1981-09-24 | 1984-02-20 | 工業技術院長 | 高強度耐熱性ホウ化金属・酸化ジルコニウム複合セラミックス |
JPS5918349B2 (ja) * | 1982-07-12 | 1984-04-26 | 工業技術院長 | 炭窒化チタン−ホウ化金属系セラミツクス材料 |
JPS60103080A (ja) * | 1983-11-10 | 1985-06-07 | 東洋鋼鈑株式会社 | 硼化物系超硬質材料 |
US4704372A (en) * | 1984-03-16 | 1987-11-03 | Agency Of Industrial Science And Technology | High-strength molybdenum silicide-based ceramic material and process for producing the same |
JPS60195061A (ja) * | 1984-03-16 | 1985-10-03 | 工業技術院長 | 高強度耐酸化性ホウ化金属化合物系セラミツクス材料及びその製造方法 |
US4636481A (en) * | 1984-07-10 | 1987-01-13 | Asahi Glass Company Ltd. | ZrB2 composite sintered material |
JPS6197169A (ja) * | 1984-10-19 | 1986-05-15 | 工業技術院長 | 強じん性金属ホウ化物基超硬耐熱材料 |
US4873053A (en) * | 1987-02-20 | 1989-10-10 | Stk Ceramics Laboratory Corp. | Method for manufacturing a metal boride ceramic material |
US4889836A (en) * | 1988-02-22 | 1989-12-26 | Gte Laboratories Incorporated | Titanium diboride-based composite articles with improved fracture toughness |
-
1989
- 1989-03-13 JP JP1060539A patent/JPH02239156A/ja active Granted
-
1990
- 1990-03-05 GB GB9004852A patent/GB2229451B/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-03-09 US US07/491,063 patent/US5019540A/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-03-12 DE DE4007825A patent/DE4007825A1/de active Granted
- 1990-03-12 FR FR9003117A patent/FR2644159B1/fr not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5019540A (en) | 1991-05-28 |
FR2644159A1 (fr) | 1990-09-14 |
DE4007825A1 (de) | 1990-09-20 |
GB2229451B (en) | 1993-05-19 |
JPH0579627B2 (de) | 1993-11-04 |
JPH02239156A (ja) | 1990-09-21 |
GB2229451A (en) | 1990-09-26 |
FR2644159B1 (fr) | 1993-08-20 |
GB9004852D0 (en) | 1990-05-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3123974C2 (de) | ||
DE3423911C2 (de) | ||
EP0004031B1 (de) | Dichte polykristalline Formkörper aus alpha-Siliciumcarbid und Verfahren zu ihrer Herstellung durch drucklose Sinterung | |
EP0628525B1 (de) | Verbundwerkstoffe auf der Basis von Borcarbid, Titanborid und elementarem Kohlenstoff sowie Verfahren zu ihrer Herstellung | |
DE3205877C2 (de) | ||
DE2627856C2 (de) | ||
EP0629594B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von polykristallinen dichten Formkörpern auf der Basis von Borcarbid durch drucklose Sinterung | |
EP0094591A1 (de) | Polykristalline, praktisch porenfreie Sinterkörper aus Alpha-Siliciumcarbid, Borcarbid und freiem Kohlenstoff und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
DE3127649A1 (de) | Dichtgesinterter siliciumcarbid-keramikkoerper | |
EP1999087A1 (de) | Gesinterter verschleissbeständiger boridwerkstoff, sinterfähige pulvermischung zur herstellung des werkstoffs, verfahren zur herstellung des werkstoffs und dessen verwendung | |
EP0433856A1 (de) | Hartmetall-Mischwerkstoffe auf Basis von Boriden, Nitriden und Eisenbindemetallen | |
DE68925310T2 (de) | Komplexe Cermets aus Boriden | |
DE4007825C2 (de) | ||
EP0071241B1 (de) | Praktisch porenfreie Formkörper aus polykristallinem Siliciumcarbid, die durch isostatisches Heisspressen hergestellt worden sind | |
EP0021239A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von dichten Formkörpern aus polykristallinem alpha-Siliciumcarbid durch Heisspressen und so hergestellte Formkörper | |
DE4221318A1 (de) | Kohlenstoffgefuelltes, keramisches verbundmaterial, verfahren zu seiner herstellung und seine verwendung in gleitteilen | |
DE2923729C2 (de) | ||
DE69018868T2 (de) | Siliciumnitridkeramik mit einer Metallsilizidphase. | |
DE3853322T2 (de) | Gesinterter Formkörper aus Siliciumcarbid und Verfahren zu seiner Herstellung. | |
DE2856593A1 (de) | Sinterfaehiges pulver und verfahren zur herstellung von sinterkoerpern daraus | |
DE68918506T2 (de) | Hochfeste hochzähe TiB2-Keramik. | |
DE3645097C2 (de) | ||
DE3881777T2 (de) | Gesinterte Siliziumcarbid-Verbundkörper und Verfahren zu ihrer Herstellung. | |
DE2927226A1 (de) | Dichte formkoerper aus polykristallinem beta -siliciumcarbid und verfahren zu ihrer herstellung durch heisspressen | |
DE3221629A1 (de) | Keramikwerkstoff fuer zerspanungswerkzeuge und verfahren zu dessen herstellung |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |