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DE3841255A1 - Verfahren zur bildung eines gemusterten filmes auf einer substratoberflaeche unter verwendung eines metallalkoxidsols - Google Patents

Verfahren zur bildung eines gemusterten filmes auf einer substratoberflaeche unter verwendung eines metallalkoxidsols

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DE3841255A1
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viscous liquid
gel film
liquid
acid
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Akimasa Hattori
Katsuto Tanaka
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Central Glass Co Ltd
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Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Bildung eines ge­ musterten Überzugsfilms einer Metallverbindung wie eines Oxids oder eines Nitrids auf einer Substratoberfläche nach einer Sol-Gel-Methode unter Verwendung eines Metallalkoxid­ sols, wobei das Verfahren einen selektiven Ätzvorgang umfaßt.
Für verschiedene Zwecke einschließlich elektronische Zwecke, optische Anwendungen und Ornamente ist derzeit eine wichtige Verfahrensweise die Bildung eines dünnen Films eines Oxids, Nitrids oder eines halbleitenden Materials auf einer Sub­ stratoberfläche in einem gewünschten Muster, wobei verschie­ dene Verfahrensweisen zur Durchführung einer Musterbeschich­ tung bekannt sind. Beispielsweise wird bei einer PVD-Ver­ fahrensweise (PVD = physikalische Dampfabscheidung) wie einer Vakuumverdampfung oder einer Vakuumzerstäubung das Substrat häufig mit einer Maske mit dem gewünschten Muster versehen.
Weiterhin wird eine Verfahrensweise angewandt, bei der zu­ nächst ein Überzugsfilm über der gesamten Fläche der Sub­ stratoberfläche ausgebildet und dann der Film in den nicht erforderlichen oder nicht gewünschten Flächen durch eine Ätzbehandlung entfernt wird. Beispielsweise umfaßt die Ätz­ behandlung im Fall eines Filmes aus SnO2 oder In2O3-SnO2 das Überziehen des Filmes mit einer Ätzschutzschicht, die Ausbildung des Musters in der Ätzschutzschicht durch Photo­ lithographie und dann das Ätzen des mit der Ätzschutzschicht maskierten Oxidfilms unter Verwendung eines geeigneten Ätz­ mittels wie einer wäßrigen Lösung einer Säure oder eines Metallchlorids oder mittels durch Reaktion eines Metallpul­ vers mit einer Säure gebildeten Wasserstoffgases. Für einige Anwendungen ist die Ausbildung des Musters eines Überzugs­ films durch Laserstrahlabtastung ebenfalls bekannt.
Diese konventionellen Methoden der Musterbildung sind jedoch nicht immer effektiv für eine Musterbildung von dünnen Fil­ men von einigen Oxiden wie SiO2, TiO2, ZrO2 und Al2O3 oder korrosionsbeständigen Nitriden wie TiN und SiN, und bei einigen Methoden bedingt die Verwendung von schädlichen und korrodierenden Ätzmitteln wie Fluorwasserstoffsäure oftmals schwerwiegende Probleme.
In letzter Zeit zeigte sich wachsendes Interesse für die Anwendungen der sogenannten Sol-Gel-Methode zur Bildung von mit Mustern versehenen Überzugsfilmen. Bei einer Sol- Gel-Methode wird ein Überzugsfilm eines Metallalkoxidsols durch Hydrolyse auf einer Substratoberfläche geliert, und dann wird der Gelfilm zur Herbeiführung der Pyrolyse einge­ brannt. Es gibt einige Vorschläge hinsichtlich der Ätzmethode, die bei einer Sol-Gel-Methode angewandt werden kann. In der JP-A 59-6541 wird z.B. vorgeschlagen, zuerst einen Metallalk­ oxidgelfilm auf einer Substratoberfläche durch Erhitzen zu härten, den gehärteten Film mit einem Film eines Ätzschutz­ mittels zu überlagern, den Ätzschutzmittelfilm durch Litho­ graphie unter Ausnutzung hiervon als Maske zu mustern und den gehärteten Film in den nicht erforderlichen Flächen mit z.B. einem reaktionsfähigen Gas zu ätzen. In der JP-A 60-1711 wird vorgeschlagen, zunächst einen Siliziumalkoxid­ gelfilm auf einer Substratoberfläche durch eine milde Hitze­ behandlung zu härten, einen gemusterten Film eines alkali­ beständigen Ätzschutzes auf den gehärteten Film mittels Siebdruck auszubilden und den gehärteten Film in den nicht erforderlichen Flächen mit einer Alkalilösung zu ätzen.
Wie in den zuvorgenannten japanischen Patentveröffentlichun­ gen ausgeführt, ist es eine gemeinsame Möglichkeit, einen Alkoxidgelfilm durch eine Hitzebehandlung zu härten vor der Durchführung einer Ätzbehandlung unter Anwendung eines gemusterten Ätzschutzfilms als Maskierung. Jedoch bedingt das Aushärten des Überzugsfilms einige Beständigkeit gegen­ über Korrosion, wodurch der nachfolgende Ätzvorgang eine relativ geringe Effizienz bekommt. Daher ist es erforder­ lich, den Ätzvorgang für eine lange Zeitspanne fortzufüh­ ren und/oder eine sehr korrodierende Säure oder Alkaliver­ bindung als Ätzmittel anzuwenden, und bei einem solchen intensiven Ätzen besteht die Schwierigkeit einer präzisen Musterbildung, da selbst in den maskierten Flächen der ge­ härtete Film in einem gewissen Ausmaß eine Erosion erfahren kann.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist die Bereitstellung eines Verfahrens für die leichte und effiziente Ausbildung eines Beschichtungsfilms mit gewünschtem Muster aus einer Metallverbindung auf einer Substratoberfläche, wobei dieses Verfahren sich eines Metallalkoxidsols bedient und ein selek­ tives Ätzen nach einer neuen Technik umfaßt.
Zur Lösung dieser Aufgabe dient das erfindungsgemäße Ver­ fahren zur Herstellung eines gemusterten Films aus einer anorganischen Metallverbindung auf einem Substrat, wobei das Verfahren die Stufen des Auftrages eines Metallalkoxid­ sols auf ein Substrat zur Bildung eines Solfilmes auf dem Substrat, die Ermöglichung der Umwandlung des Solfilmes in einen Gelfilm durch Hydrolyse des Metallalkoxids, die Entfernung des Gelfilms in der/den nicht erforderlichen Fläche/n durch selektives Ätzen und dann das Einbrennen des Filmes in der/den verbliebenen Fläche/n zur vollständi­ gen Umwandlung des Materials des Filmes in die gewünschte, anorganische Metallverbindung umfaßt, wobei das Verfahren dadurch gekennzeichnet ist, daß das selektive Ätzen durch folgende Stufen durchgeführt wird:
  • a) Auftrag einer viskosen Flüssigkeit, welche zur wenig­ stens teilweisen Zersetzung des Gelfilms in der Lage ist, auf den Gelfilm in der/den nicht erforderlichen Fläche/n und Ermöglichung des Eindringens der aufge­ tragenen, viskosen Flüssigkeit in den darunterliegen­ den Gelfilm und dessen Befeuchtung,
  • b) Erhitzen des mit dieser viskosen Flüssigkeit in der/den nicht erforderlichen Fläche/n befeuchteten Gelfilms auf eine Temperatur niedriger als 300°C zur Härtung des Gelfilmes in der/den erforderlichen Fläche/n, und
  • c) Entfernung des Gelfilmes in der/den nicht erforder­ lichen Fläche/n zusammen mit dem Rückstand der aufge­ tragenen viskosen Flüssigkeit durch Waschen mit wenig­ stens einer Waschflüssigkeit.
Die bei dem erfindungsgemäßen Verfahren eingesetzte viskose Flüssigkeit kann z.B. ein organisches Lösungsmittel, welches in dem Metallalkoxidsol löslich ist und in welchem das Alkoxidsol löslich ist, und/oder eine organische Säure enthalten.
Durch das milde Erwärmen nach dem Auftrag der viskosen Flüs­ sigkeit auf den Gelfilm in der nicht erforderlichen Fläche/n wird der Gelfilm in der/den erforderlichen oder gewünschten Fläche/n gehärtet, so daß er gegenüber der oder den in der nachfolgenden Stufe eingesetzten Waschflüssigkeit oder Wasch­ flüssigkeiten beständig wird. Als Waschflüssigkeit kann beispielsweise eine alkalische Lösung bzw. Alkalilösung verwendet werden. In einigen Fällen, bei denen die viskose Flüssigkeit eine wässrige Lösung einer organischen Säure umfaßt und hinsichtlich der Zersetzung des darunterliegen­ den Gelfilmes sehr effektiv ist, reicht die alleinige Ver­ wendung von Wasser als Waschflüssigkeit aus.
Durch Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens ist eine Musterbildung von nach der Sol-Gel-Methode gebildeten Über­ zugsfilmen in einfacher und wirtschaftlich leicht durchzu­ führender Weise ohne Verwendung von sehr schädlichen und stark korrodierenden Ätzmitteln möglich. Das erfindungsge­ mäße Verfahren ist auf die Bildung von gemusterten Filmen aus verschiedenen Oxiden und Nitriden wie z.B. TiO2, SiO2 ZrO2, Al2O3, TiN, SiN und Si3N4, sowie für verschiedene Zwecke einschließlich Leiterfilmen, Halbleiterfilmen und dielektrischen Filmen für Elektronikanwendungen, Filme mit bestimmten Brechungsindizes und selektiv reflektierende Filme für optische Anwendungszwecke und gefärbte Filme für Ornamente anwendbar.
Im folgenden werden bevorzugte Ausführungsformen näher er­ läutert:
Die bei konventionellen Sol-Gel-Methoden eingesetzten Metall­ alkoxide können bei dem erfindungsgemäßen Verfahren verwen­ det werden. Üblicherweise wird ein Alkoxid von Ti, Si, Zr oder Al angewandt, und üblicherweise wird das Alkoxid unter Methoxiden, Ethoxiden, Propoxiden und Butoxiden ausgewählt. Die Herstellung eines Metallalkoxidsols erfolgt ebenso wie bei konventionellen Sol-Gel-Methoden. Üblicherweise wird gegebenenfalls ein Alkohol zusammen mit anderen organischen Lösungsmitteln und/oder Wasser eingesetzt.
Das Sol eines ausgewählten Metalloxids wird auf ein Substrat oder eine Unterlage nach einer beliebigen der an sich be­ kannten Beschichtungsmethoden aufgebracht, und der Solfilm auf dem Substrat wird durch Hydrolyse des Metallalkoxids mit entweder in dem Sol enthaltenem Wasser oder die Feuchtig­ keit der Luft gelieren gelassen. Dies wird dadurch durchge­ führt, daß der Solfilm einem natürlichen Trocknen bei Normal­ temperatur oder einem Trocknen des Solfilms bei einer Tempera­ tur niedriger als 100°C ausgesetzt wird. Der Gelfilm nimmt zumindest an seiner Oberfläche einen festen Zustand an, die­ ser Film enthält jedoch noch beträchtliche Mengen an Alkyl­ gruppen, Hydroxylgruppen, etc. und ist daher kein sehr sta­ biler Film. Der Gelfilm in diesem Zustand kann als "feuch­ ter Gelfilm" bezeichnet werden.
Als nächstes wird eine viskose Flüssigkeit auf den feuchten Gelfilm in der nicht erforderlichen Fläche/n bzw. Bereich/en nach einer geeigneten Beschichtungsmethode unter Verwendung einer gemusterten Maske oder nach der Technik des Siebdruckes aufgebracht. Die viskose Flüssigkeit enthält eine flüssige Substanz, welche in der Lage ist, wenigstens teilweise den Gelfilm zu zersetzen. Ein Beispiel einer solchen flüssigen Substanz ist ein organisches Lösungsmittel, das in dem ver­ wendeten Alkoxidsol löslich ist und in welchem das Alkoxid­ sol löslich ist. Solch ein Lösungsmittel kann aus Essig­ säureestern, Ketonen und Alkoholen ausgewählt werden. Zur Bereitstellung einer geeigneten Viskosität kann ein lösliches Harz wie ein in Alkohol lösliches Phenolharz oder ein modifi­ ziertes Kolophonium-Maleinsäureharz zusammen mit einem organischen Lösungsmittel verwendet werden. Wahlweise kann eine organische Säure wie Essigsäure, Oxalsäure, Citronen­ säure oder Propionsäure oder eine alkalische Verbindung wie Natriumhydroxid oder Ammoniak zu einer viskosen Flüssig­ keit, welche ein organisches Lösungsmittel und ein Harz enthält, zugesetzt werden. Im Fall der Zugabe einer orga­ nischen Säure oder einer alkalischen Verbindung ist es be­ vorzugt, weiterhin Wasser zuzusetzen. Ein anderes Beispiel der flüssigen Substanz als wesentliche Komponente der vis­ kosen Flüssigkeit ist eine Kombination von Wasser und einer organischen Säure wie Essigsäure, Oxalsäure, Citronensäure oder Propionsäure. In diesem Fall ist es vorteilhaft, ein Glykol wie Polyethylenglykol oder Propylenglykol als die Viskosität erhöhendes Mittel, wahlweise zusammen mit einem anorganischen Füllstoff wie Ceroxidpulver, Bariumsulfatpul­ ver oder Talkum, anzuwenden.
Durch Auftrag der viskosen Flüssigkeit wird der Gelfilm in der/den nicht erforderlichen Fläche/n oder dem/den nicht erwünschten Bereich/en angefeuchtet und wird sehr leicht zerstörbar oder entfernbar. Es wird eine viskose Flüssigkeit verwendet, so daß der Gelfilm in der/den erforderlichen Fläche/n oder dem/den erwünschten Bereich/en nicht durch­ feuchtet und zersetzt wird. Dieses Erfordernis kann erreicht werden, wenn die Viskosität der aufgetragenen viskosen Flüs­ sigkeit oberhalb etwa 10 Pas (100 Poise) bei Normaltempera­ tur ist. Andererseits soll die viskose Flüssigkeit eine angemessene Fließfähigkeit oder Beweglichkeit besitzen, so daß die Flüssigkeit für einen Beschichtungs- oder Druck­ vorgang geeignet ist. Daher wird es bevorzugt, daß die Vis­ kosität der viskosen Flüssigkeit nicht höher als 100 Pas (1000 Poise) bei Normaltemperatur ist.
Nach dem Befeuchten oder Durchfeuchten des Gelfilms in der/ den nicht erforderlichen Fläche/n mit der viskosen Flüssig­ keit wird der Gelfilm auf dem Substrat auf eine Temperatur niedriger als 300°C und üblicherweise höher als 150°C er­ hitzt. Diese Hitzebehandlung dient der Zersetzung und Ent­ fernung der zuvor erwähnten Alkylgruppen, Hydroxylgruppen etc. und hiermit der Umwandlung des feuchten Gelfilms in der/den erforderlichen Fläche/n in einen harten Film eines Metalloxids. Da die Erhitzungstemperatur relativ niedrig ist, verbleibt der gehärtete Film in einem porösen und ziem­ lich zerbrechlichen Zustand. Jedoch ist der gehärtete Film ausreichend beständig gegenüber der in der nächsten Stufe eingesetzten Waschflüssigkeit.
Nach der zuvor beschriebenen Hitzebehandlung wird der zer­ setzte Gelfilm in der/den nicht erforderlichen Fläche/n zusammen mit dem Rückstand der viskosen Flüssigkeit durch Waschen mit einer geeigneten Flüssigkeit entfernt. Beispiels­ weise kann eine wässrige alkalische Lösung wie eine wässrige Lösung von Natriumhydroxid als Waschflüssigkeit verwendet werden. Erforderlichenfalls kann für eine vollständige Ent­ fernung des Gelfilms oder dessen Rückständen auf den Alkali­ waschvorgang ein Waschvorgang mit einer sauren Lösung fol­ gen. In einigen Fällen, wie zuvor beschrieben, kann dies durch Verwendung von Wasser alleine als Waschflüssigkeit erreicht werden.
Nach den zuvor beschriebenen Arbeitsvorgängen verbleibt der gehärtete Film auf der Substratoberfläche in dem ge­ wünschten Muster. Dann wird das Substrat einem Einbrennvor­ gang unterzogen, um den gehärteten Film zu einem ausreichend dichten Film des gewünschten Metalloxids oder -nitrids umzu­ wandeln. Üblicherweise wird das Einbrennen bei einer Tempera­ tur höher als 400°C in einer sauerstoffhaltigen Gasatmos­ phäre im Fall der Bildung eines Oxidfilms und in einer stick­ stoffhaltigen Gasatmosphäre im Fall der Herstellung eines Nitridfilms durchgeführt.
Die Erfindung wird anhand der folgenden Beispiele näher erläutert.
Beispiel 1
Es wurde eine Alkoxidlösung durch Zugabe von Isopropanol und Ethylenglykolether (Ethylcellosolve) zu Titanisopropoxid und gründliches Rühren der Mischung hergestellt. Eine gut gereinigte Natronkalk-Glasplatte mit einer Dicke von 2 mm und Abmessungen von 30 cm × 30 cm wurde in die Alkoxidlösung eingetaucht und dann mit einer konstanten Geschwindigkeit von 5 mm/sec herausgezogen. Die benetzte Glasplatte wurde bei Zimmertemperatur trocknen gelassen, um hierdurch einen Gelfilm auf jeder Seite der Glasplatte auszubilden.
Getrennt hiervon wurde eine Paste durch Vermischen eines modifizierten Kolophonium-Maleinsäureharzes mit 10 Gew.-% einer flüssigen Mischung aus Ethylenglykolether (Ethylcello­ solve) und n-Propylacetat sowie Kneten des Gemisches herge­ stellt. Bei Zimmertemperatur betrug die Viskosität der Harz­ paste etwa 10-20 Pas (100-200 Poise).
Durch Siebdruck wurde die zuvor beschriebene Paste auf den Gelfilm auf der Glasplatte in einem solchen Muster aufge­ bracht, so daß die nicht erforderlichen bzw. nicht gewünsch­ ten Flächen bzw. Bereiche des Gelfilmes bedeckt wurden. Danach wurde die Glasplatte einer Hitzebehandlung bei 200°C während 5 min unterworfen. Durch die Hitzebehandlung wandelte sich der Gelfilm in den freiliegenden Flächen bzw. Bereichen in einen harten Film um. Nach dem Abkühlen wurde die behan­ delte Glasplatte mit einer wässrigen Natriumhydroxidlösung (1 N) zum teilweisen Auflösen und Abtragen des Gelfilmes in den mit der Paste bedeckten Bereichen gewaschen. Dann wurde die Glasplatte mit einer wässrigen Schwefelsäurelösung (1 N) zur vollständigen Auflösung und Entfernung der Rück­ stände des Gelfilms gewaschen. In den nicht zuvor mit der Paste abgedeckten Flächen oder Bereichen war der harte Film gegenüber den Waschflüssigkeiten vollkommen beständig.
Nach den Waschbehandlungen wurde die Glasplatte mit dem hierauf befindlichen harten Film bei 550°C während etwa 1 h gebrannt, bis sich der harte Film in einen TiO2-Film umgewandelt hatte. Der erhaltene TiO2-Film lag in dem ge­ wünschten Muster vor und besaß eine Dicke von etwa 0,1 µm. Dieser Film nahm eine blaß purpurblaue Färbung an und zeigte hochreflektierende Eigenschaften. Der Brechungsindex des Films betrug etwa 2,2.
Beispiel 2
Die in Beispiel 1 hergestellte Harzpaste wurde durch Zugabe von 10 Gew.-% einer wässrigen Citronensäurelösung mit einer Konzentration von 10 Gew.-% modifiziert.
Unter Verwendung der so modifizierten Paste anstelle der in Beispiel 1 verwendeten Paste wurde der Prozeß der Herstel­ lung des Musters von Beispiel 1 mit einer weiteren Modifika­ tion im folgenden Punkt wiederholt. In diesem Fall wurde der Gelfilm in den nicht erforderlichen Flächen in einfacher Weise durch Befeuchten mit der angemessene Mengen an Wasser und Säure enthaltenden Paste zersetzt. Daher konnte nach der anfänglichen Hitzebehandlung bei 200°C die Entfernung des Gelfilmes in den nicht erforderlichen Flächen in ein­ facher Weise durch bloßes Waschen mit Wasser durchgeführt werden.
Das Ergebnis des Musterbildungsprozesses dieses Beispiels war vergleichbar zu dem Ergebnis in Beispiel 1. Auf der Glasplatte wurde ein guter TiO2-Film in dem gewünschten Muster ausgebildet.
Beispiel 3
Es wurde eine wässrige Paste durch Vermischen von 10 Gew.-% Wasser, 10 Gew.-% Citronensäure, 9 Gew.-% Polyethylenglykol und 71 Gew.-% Ceroxid in Form eines feinen Pulvers herge­ stellt.
Unter Verwendung dieser Paste anstelle der Harzpaste von Beispiel 1 wurde der Prozeß zur Herstellung des Musters von Beispiel 1 mit einer weiteren Modifikation in folgendem Punkt wiederholt. Im vorliegenden Fall wurde der Gelfilm in den nichterforderlichen Flächen in einfacher Weise durch Befeuchten mit der eine Säure enthaltenden, wässrigen Paste zersetzt, und die Paste selbst war leicht in Wasser disper­ gierbar. Daher konnte die Entfernung des Gelfilms in den nichterforderlichen Flächen nach der Hitzebehandlung bei 200°C in einfacher Weise durch bloßes Waschen mit Wasser durchgeführt werden. Da die Paste kein organisches Lösungs­ mittel enthielt, konnten die Ätzvorgänge ohne Vorsichtsmaß­ nahmen zur Vermeidung einer Entzündung der Paste oder von verdampftem Lösungsmittel durchgeführt werden.
Auch in diesem Beispiel wurde ein guter TiO2-Film in dem gewünschten Muster auf der Glasplatte erhalten.
Beispiel 4
Eine Quarzglasplatte wurde anstelle der Natronkalk-Glasplatte in Beispiel 1 verwendet, und der das Muster bildende Prozeß von Beispiel 1 wurde bis zur Stufe der vollständigen Entfer­ nung des Gelfilms in den nichterforderlichen Flächen durch wiederholtes Waschen wiederholt. Dann wurde die Quarzglas­ platte mit dem harten Film in dem gewünschten Muster hierauf in einer Ammoniakgasströmung während 1 h auf 950°C erhitzt. Als Ergebnis wurde der harte Film in einen TiN-Film, der in dem gewünschten Muster vorlag, umgewandelt. Der TiN-Film besaß elektrische Leitfähigkeit und zeigte eine gute Witte­ rungsbeständigkeit und Lebensdauer.

Claims (21)

1. Verfahren zur Bildung eines gemusterten Films einer an­ organischen Metallverbindung auf einem Substrat, wobei das Verfahren die Stufen des Auftrages eines Metall­ alkoxidsols auf ein Substrat zur Bildung eines Solfilmes auf dem Substrat, die Ermöglichung der Umwandlung des Solfilmes in einen Gelfilm durch Hydrolyse des Metall­ alkoxids, die Entfernung des Gelfilms in der/den nicht erforderlichen Fläche/n durch selektives Ätzen und dann das Einbrennen des Filmes in der/den verbliebenen Fläche/n zur vollständigen Umwandlung des Materials des Filmes in die gewünschte, anorganische Metallverbindung umfaßt, dadurch gekennzeichnet, daß das selektive Ätzen durch folgende Stufen durchgeführt wird:
  • a) Auftrag einer viskosen Flüssigkeit, welche zur wenig­ stens teilweisen Zersetzung des Gelfilms in der Lage ist, auf den Gelfilm in der/den nicht erforderlichen Fläche/n und Ermöglichung des Eindringens der aufge­ tragenen, viskosen Flüssigkeit in den darunterliegen­ den Gelfilm und dessen Befeuchtung,
  • b) Erhitzen des mit dieser viskosen Flüssigkeit in der/den nicht erforderlichen Fläche/n befeuchteten Gelfilms auf eine Temperatur niedriger als 300°C zur Härtung des Gelfilmes in der/den erforderlichen Fläche/n, und
  • c) Entfernung des Gelfilmes in der/den nicht erforder­ lichen Fläche/n zusammen mit dem Rückstand der auf­ getragenen viskosen Flüssigkeit durch Waschen mit wenigstens einer Waschflüssigkeit.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die viskose Flüssigkeit ein organisches Lösungsmittel umfaßt, welches in dem Metalloxidsol löslich ist und in welchem das Metalloxidsol löslich ist.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das organische Lösungsmittel aus der aus Essigsäureestern, Ketonen und Alkoholen bestehenden Gruppe ausgewählt wird.
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Waschflüssigkeit oder Waschflüssigkeiten eine Alkali­ lösung umfaßt/umfassen.
5. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die viskose Flüssigkeit weiterhin ein Harz umfaßt.
6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die viskose Flüssigkeit weiterhin eine organische Säure umfaßt.
7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die organische Säure aus der aus Essigsäure, Oxalsäure, Citronensäure und Propionsäure bestehenden Gruppe ausge­ wählt wird.
8. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die viskose Flüssigkeit weiterhin Wasser umfaßt.
9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß nur Wasser als Waschflüssigkeit/Waschflüssigkeiten ver­ wendet wird.
10.Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die viskose Flüssigkeit weiterhin eine Alkaliverbindung und Wasser umfaßt.
11.Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die viskose Flüssigkeit eine organische Säure, Wasser und ein die Viskosität erhöhendes Mittel umfaßt.
12.Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die organische Flüssigkeit aus der aus Essigsäure, Oxal­ säure, Citronensäure und Propionsäure bestehenden Gruppe ausgewählt wird.
13.Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß das die Viskosität erhöhende Mittel ein Glykol ist.
14. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die viskose Flüssigkeit weiterhin einen anorganischen Füllstoff umfaßt.
15. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Waschflüssigkeit oder die Waschflüssigkeiten eine Alkalilösung umfaßt/umfassen.
16. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß nur Wasser als Waschflüssigkeit oder Waschflüssig­ keiten verwendet wird.
17. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Viskosität der viskosen Flüssigkeit bei Normal­ temperatur 10 bis 100 Pas (100 bis 1000 Poise) beträgt.
18. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die viskose Flüssigkeit auf den Gelfilm durch Siebdruck aufgetragen wird.
19. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Metalloxid aus der aus Titanalkoxiden, Silizium­ alkoxiden, Zirkoniumalkoxiden und Aluminiumalkoxiden bestehenden Gruppe ausgewählt wird.
20. Verfahren nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, daß die Metallverbindung ein Metalloxid ist, wobei die Einbrennstufe in einer sauerstoffhaltigen Gasatmosphäre durchgeführt wird.
21. Verfahren nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, daß die Metallverbindung ein Metallnitrid ist, wobei die Einbrennstufe in einer stickstoffhaltigen Gas­ atmosphäre durchgeführt wird.
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