DE3732476A1 - Verfahren zur angleichung der teilstroeme in einem elektrolytischen bad - Google Patents
Verfahren zur angleichung der teilstroeme in einem elektrolytischen badInfo
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 10
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 4
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 claims 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims 1
- 241000531116 Blitum bonus-henricus Species 0.000 description 1
- 235000008645 Chenopodium bonus henricus Nutrition 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005246 galvanizing Methods 0.000 description 1
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Angleichung der Teilströme in einem
elektrolytischen Bad zur Verbesserung der Schichtdickenverteilung.
In elektrolytischen Bädern befinden sich im allgemeinen eine Vielzahl von Ano
den und mehrere gleichzeitig zu behandelnde Teile, die Kathoden, wobei sich der
Galvanisierstrom zusammensetzt aus den Teilströmen Ia an den Anoden beziehungs
weise an den Kathoden Ik.
Wünschenswert ist es, die Anodenteilströme beziehungsweise Kathodenteilströme
untereinander gleich groß zu halten, damit alle zu behandelnden Waren mit dem
gleich großen Strom beaufschlagt werden, was wiederum auch eine gleich große
Schichtstärke des galvanischen Niederschlages aller Teile an der Kathode be
wirkt.
In der Praxis treten eine Reihe von Störgrößen auf, die eine ungleichmäßige
Stromverteilung an den Einzelanoden beziehungsweise an den Einzelkathoden zur
Folge haben.
Zu nennen sind hier insbesondere eine
unterschiedliche Kontaktierung der Anoden und Kathoden,
unterschiedliche Abstände zwischen Anoden und Kathoden,
unterschiedliche Anoden oder Kathodenaktivität und
unterschiedliche Anoden oder Kathodenwiderstände.
unterschiedliche Kontaktierung der Anoden und Kathoden,
unterschiedliche Abstände zwischen Anoden und Kathoden,
unterschiedliche Anoden oder Kathodenaktivität und
unterschiedliche Anoden oder Kathodenwiderstände.
Zur Verbesserung der Stromverteilung ist bereits ein Verfahren bekannt, das mit
Hilfe von Regeltransistoren als Längsregler in jedem Teilstromkreis die Einzel
ströme untereinander aktiv ausregelt (DE-OS 29 51 708). Die Teilströme werden
hierbei mittels Meßwiderständen gemessen. Dem Vorteil, daß innerhalb des
Stellbereichs aller Einzelregler eine vollständige Angleichung aller Teilströme
möglich ist, steht jedoch der Nachteil gegenüber, daß der gerätetechnische und
apparative Aufwand relativ groß ist.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist die Zurverfügungstellung eines Verfah
rens zur Angleichung der Teilströme in einem elektrolytischen Bad, womit eine
Verbesserung der Schichtdickenverteilung mit nur geringfügigem apparativen
Aufwand ermöglicht wird.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch ein Verfahren gemäß dem kennzeichnen
den Teil des Patentanspruchs gelöst.
Bevorzugte Ausführungsformen sind in den Unteransprüchen beschrieben.
Das erfindungsgemäße Verfahren ermöglicht unter Einsatz nur weniger technischer
Mittel eine herausragende Angleichung der Teilströme im Bad und damit eine er
hebliche Verbesserung der Schichtdickenverteilung der abgeschiedenen Überzüge.
Die Teilströme It verhalten sich nach dem Kirchhoffschen Gesetz umgekehrt wie
die Teilwiderstände Rt. Der Teilwidertand ist hier die Summe des jeweiligen
Vorwiderstandes Rvt und des technologisch bedingten elektrolytischen Teilwi
derstandes Rte (Anodenwiderstand Rta + Badwiderstand Rtb + Kathodenwiderstand
Rtk).
Wird der Vorwiderstand Rvt groß gewählt gegenüber dem technologisch bedingten
instabilen elektrolytischen Teilwiderstand Rte, so bestimmt dieser im wesent
lichen den Teilstrom It. Somit kann, je nach Dimensionierung der Größe der Vor
widerstände die gewünschte Angleichung beziehungsweise Beeinflussung der Teil
ströme It erzielt werden.
Werden die Teilwiderstände Rvt im Bereich der Kathoden angebracht, so besteht
die Möglichkeit, diese in die üblichen Galvanisiergestelle mit zu integrieren,
zum Beispiel durch entsprechende Widerstandsmaterialien. Dabei besteht auch die
Möglichkeit, in die zweite Dimension zu gehen, das heißt Einzelteile, die gal
vanisiert werden sollen, auf einer Kathodenschiene sowohl horizontal als auch
vertikal über einzelne Widerstände Rvt zu versorgen.
Die Anbringung der Vorwiderstände direkt auf dem Warenträger hat auch den Vor
teil, daß nur eine gemeinsame Kontaktierung für den gesamten Galvanisierstrom
erforderlich ist. Gleiches gilt für die Anbringung der Vorwiderstände je Teil
anode auf dem Anodenträger.
Als elektrolytische Bäder lassen sich alle üblichen Bäder dieser Art einsetzen.
Die Figuren dienen zur weiteren Erläuterung der Erfindung.
Fig. 1 zeigt die Teilwiderstände eines elektrolytischen Bades mit
passiven Vorwiderständen.
Fig. 2 zeigt einen Warenträger (in einer Anlage) mit integrierten
Teilvorwiderständen.
Hierin bedeuten:
1 = Galvanogleichrichter
2 = Elektrolytisches Bad
3 = Badwanne
4 = Teilwiderstände Rt
5 = Vorwiderstände Rvt
6 = Warenträger
7 = Ware
1 = Galvanogleichrichter
2 = Elektrolytisches Bad
3 = Badwanne
4 = Teilwiderstände Rt
5 = Vorwiderstände Rvt
6 = Warenträger
7 = Ware
Claims (10)
1. Verfahren zur Angleichung der Teilströme It in einem elektrolytischen Bad,
zur Verbesserung der Schichtdickenverteilung, dadurch gekennzeichnet, daß in
die technologisch bedingten Teilstromkreise des elektrolytischen Gesamtstrom
kreises passive Vorwiderstände Rvt eingebracht werden, wobei in der so gebilde
ten Serienschaltung die Größe der Teilströme It von den Vorwiderständen be
stimmt wird.
2. Verfahren gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß jedem Teilstromkreis
ein passiver Vorwiderstand Rvt vorgeschaltet wird.
3. Verfahren gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Vorwiderstände
Rvt gleich große Widerstandswerte Rte besitzen.
4. Verfahren gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Vorwiderstände
Rvt unterschiedliche Widerstandswerte Rte besitzen.
5. Vorrichtung zur Angleichung der Teilströme It in einem elektrolytischen Bad
gemäß Ansprüchen 1 bis 4.
6. Vorrichtung gemäß Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß diese in einer
Galvanisieranlage angeordnet ist.
7. Vorrichtung gemäß Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Vorwiderstände
auf den Anodenschienen angeordnet sind.
8. Vorrichtung gemäß Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Vorwiderstande
auf den Kathodenschienen angeordnet sind.
9. Vorrichtung gemäß Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Vorwiderstände
an den Anodenhalterungen oder Anodenbehältern angeordnet sind.
10. Vorrichtung gemäß Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Vorwider
stände an den Galvanisiergestellen angeordnet sind.
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19873732476 DE3732476A1 (de) | 1987-09-24 | 1987-09-24 | Verfahren zur angleichung der teilstroeme in einem elektrolytischen bad |
DE3853757T DE3853757D1 (de) | 1987-09-24 | 1988-08-03 | Verfahren zur Angleichung der Teilströme in einem elektrolytischen Bad. |
EP88112599A EP0308636B1 (de) | 1987-09-24 | 1988-08-03 | Verfahren zur Angleichung der Teilströme in einem elektrolytischen Bad |
US07/241,595 US5024732A (en) | 1987-09-24 | 1988-09-07 | Method of and device for compensating variations of branch currents in electroplating baths |
JP63236603A JPH01119699A (ja) | 1987-09-24 | 1988-09-22 | 電解浴中の部分電流を調整する方法および装置 |
AT0233988A AT394736B (de) | 1987-09-24 | 1988-09-22 | Verfahren zur angleichung der teilstroeme in einem elektrolytischen bad |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19873732476 DE3732476A1 (de) | 1987-09-24 | 1987-09-24 | Verfahren zur angleichung der teilstroeme in einem elektrolytischen bad |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3732476A1 true DE3732476A1 (de) | 1989-04-13 |
Family
ID=6336948
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19873732476 Withdrawn DE3732476A1 (de) | 1987-09-24 | 1987-09-24 | Verfahren zur angleichung der teilstroeme in einem elektrolytischen bad |
DE3853757T Expired - Fee Related DE3853757D1 (de) | 1987-09-24 | 1988-08-03 | Verfahren zur Angleichung der Teilströme in einem elektrolytischen Bad. |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3853757T Expired - Fee Related DE3853757D1 (de) | 1987-09-24 | 1988-08-03 | Verfahren zur Angleichung der Teilströme in einem elektrolytischen Bad. |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5024732A (de) |
EP (1) | EP0308636B1 (de) |
JP (1) | JPH01119699A (de) |
AT (1) | AT394736B (de) |
DE (2) | DE3732476A1 (de) |
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---|---|---|---|---|
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DE102012014985B4 (de) | 2012-07-27 | 2014-08-21 | GalvaConsult GmbH | Verfahren und Vorrichtung zur Überwachung von Galvanisierströmen |
CN106435701A (zh) * | 2016-12-14 | 2017-02-22 | 陕西宝光真空电器股份有限公司 | 一种具有均衡电阻值的电镀用挂具 |
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Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1987
- 1987-09-24 DE DE19873732476 patent/DE3732476A1/de not_active Withdrawn
-
1988
- 1988-08-03 DE DE3853757T patent/DE3853757D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1988-08-03 EP EP88112599A patent/EP0308636B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-09-07 US US07/241,595 patent/US5024732A/en not_active Expired - Fee Related
- 1988-09-22 JP JP63236603A patent/JPH01119699A/ja active Pending
- 1988-09-22 AT AT0233988A patent/AT394736B/de not_active IP Right Cessation
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5024732A (en) | 1991-06-18 |
AT394736B (de) | 1992-06-10 |
DE3853757D1 (de) | 1995-06-14 |
ATA233988A (de) | 1991-11-15 |
JPH01119699A (ja) | 1989-05-11 |
EP0308636B1 (de) | 1995-05-10 |
EP0308636A2 (de) | 1989-03-29 |
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Legal Events
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---|---|---|---|
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|
8141 | Disposal/no request for examination |