DE2923682C2 - Magnetischer Aufzeichnungsträger - Google Patents
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Description
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf einen magnetischen Aufzeichnungsträger nach dem Oberbegriff
des Anspruchs 1. Derartige Aufzeichnungsträger werden in Magne^aufzeichnungsvorrichtungen bspvv.
als Magnetplatten oder Magnettrommeln verwendet
Aufzeichnungs- und Wiedergabesysteme, die bei MagnetaufzeichnungsvorrichtuDgen verwendet werden,
welche mit einem Aufzeichnungs-/Wiedergabekopf (im folgenden kurz Magnetkopf genannt) und einem
magnetischen Aufzeichnungsträger versehen sind, können
grundsätzlich in folgende zwei Systeme unterteilt werden. Das erste System ist als Kontakt-Start-Stop
(CSS)-System bekannt, das in der Weise durchgeführt wird, daß der Magnetkopf zu Beginn des Vorganges in
Kontakt mit der Oberfläche eines Aufzeichnungsträgers gebracht wird, daß danach der Aufzeichnungsträger mit
einer vorbestimmten Geschwindigkeit in der Weise rotierend angetrieben wird, daß ein Luftfilmspalt
zwischen dem Magnetkopf und der Oberfläche des Aufzeichnungsträgers gebildet wird, und daß eine
Aufzeichnung oder eine Playback-Wirkung unter Aufrechterhaltung dieses Spaltes erreicht wird. Bei dem
CSS-System wird der magnetische Aufzeichnungsträger gleichzeitig mit der Beendigung des Vorganges
angehalten und der Magnetkopf ist wiederum, wie bei Beginn des Vorganges, in Reibkontakt mit der
Oberfläche des Aufzeichnungsträgers gehalten. Das zweite System ist in der Weise wirksam, daß zunächst
der Aufzeichnungsträger mit einer bestimmten Geschwindigkeit gedreht wird, daß dann der Magnetkopf M
plötzlich auf die Oberfläche des Aufzeichnungsträgers gedrückt wird, wobei ein Luftfilmspalt dazwischen
entsteht, und daß dann die Aufzeichnung oder Wiedergabe unter Aufrechterhaltung dieses Spaltes
durchgeführt wird. Beim ersten System werden der Magnetkopf und die Aufzeichnungsträgeroberfläche
sowohl zu Beginn als auch am Ende des Vorganges in Reibkontakt miteinander gehalten. Beim zweiten
System wird di · Magnetkopf erst beim Auflegen mit der Aufzeichnungsträgeroberfläche dann in Berührung
gebracht. Die Reibkraft zwischen dem Magnetkopf und der Aufzeichnungsträgeroberfläche im Zustand der
gegenseitigen Berührung bewirkt einen Abrieb des Magnetkopfes und des Aufzeichnungsträgers und kann
schließlich den Magne;kopf und die m».gnetmetallische 4^
Dünnfilmschicht auf dem Aufzeichnungsträger beschädigen. Darüber hinaus bringt bereits eine geringe
Änderung der Haltung des Magnetkopfes in einem solchen Reibkoniaktzustanü bereits eine Uneinheitlichkeit
der auf den Magnetkopf ausgeübten Belastung mit >° sich, was den Magnetkopf und die Aufzeichnungsträgeroberfläche
springen bzw. reißen lassen kann. Darüber hinaus ergibt sich häufig ein plötzlicher Kontakt des
Magnetkopfes mit dem magnetischen Aufzeichnungsträger während der Aufzeichnung oder der Wiedergabe. "
so daß zwischen dem Magnetkopf und der Aufzeichnungsträgeroberfläche eine große Reibkraft ausgeübt
wird, was ein Brechen desselben zur Folge naben kann.
Zum Schutz des Magnetkopfes und des Magnetaufzeichnungsträgers vor solch einer Reibung und vor 6δ
Abrieb und Reißen aufgrund der gegenseitigen Berührung ist es notwendig, die Oberfläche des Aufzeichnungsträgers
mit einer Schutzschicht zu überziehen. Für diesen Film wird allgemein ein plattierter Metallfilm,
bspw. aus Cr, RIi oder Ni-P verwendet. Dieser Film ist
jedoch zur Lösung des Prol ie ms des o. g. Reibkoniaktes
nicht sehr effektiv.
Außerdem ist bereits aus der US-PS 34 66 156 bzw. der DE-AS 12 82 084 eine andere Schutzschicht
bekannt, die aus einem synthetischen organischen Polymer-Dünnfilm auf einer magnetmetallischen Dünnfilmschicht
und aus einem Wachsfilm besteht, der den Polymerdünnfilm überzieht. Eine ausreichende Adhäsion
zwischen jeder dieser beiden Filme und der individuellen Unterschicht kann jedoch nicht erreicht
werden, so daß sich jeder Film bei wiederholter oder starker Reibberührung zwischen dem Magnetkopf und
dem Magnetaufzeichnungsträger von der Unterschicht abblättert, so daß auch dies nicht praktikabel ist Eine
weitere Schutzschicht ist in der US-PS 37 19 525 gezeigt, die durch Oxidieren der Oberfläche einer
magnetmetallischen Dünnfilmschicht und durch Anwendung eines Silikonöls gebildet ist Diese Schutzschicht ist
jedoch deshalb nachteilig, weil sich die Magneteigenschaft der Dünnfilmschicht verschlechtert und weil ein
unerwünschtes Adhäsionsphänomen zwischen dem Magnetkopf tnd der Platte auftritt, so daß auch diese
Schicht nicht als wirksames Mittel „.^r Lösung des
Problems des Reibkontaktes dienen kam. und daher ebenfalls nicht praktikabel ist
Aus diesem Grunde ist in beiden Fällen die Fehfer-
bzw. Ausfallsicherheit gering. Als Fehler- bzw. Ausfallsicherheit .Jt hier das Verhältnis von maximalen
Magnetkopfausgangssignal zur Differenz zwischen dem maximalen und dem minimalen Magnetkopfausgangssignal
definiert
Bereits früher hat der Erfinder vorliegender Anmeldung
einen magnetischen Aufzeichnungsträger, bei dem eine magnetmetallische Dünnfilmschicht mit einer
Schicht überzogen ist, die aus Polysilikat oder Metallalkoxid zusammengesetzt ist, und einen anderen
magnetischen Aufzeichnungsträger vorgeschlagen, bei dem eine Schicht aus einem orientierten Schmiermittel
zusätzlich auf dem HydrolysepolymerFilm gebildet ist (siehe US-PS 40 69 360 bzw. DE-OS 26 48 303 und
DE-OS 27 56 254). Obwohl jede dieser beiden Erfindungen in der Lage ist. den magnetischen Aufzeichnungsträger
vor dem o. g. Phänomen der Reibberührung zu schützen, sollte die Zuverlässigkeit gegenüber diesen
Phänomen so groß wie möglich sein.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es deshalb, einen magnetischen Aufzeichnungsträger rler eingangs
genannten Art zu schaffen, der in der Lage ist. die magnetmetallische Dünnfilmschicht vollständiger vor
der erwähnten Reibberührung zu schützen und der eine größere Fehler- bzw. Ausfallssicherheit besitzt.
Diese Aufgabe wird bei einem magnetischen Aufzeichnungsträger der eingangs genannten Art erfindungsgemäß
durch die im Kennzeichen des Anspruchs 1 angegebenen Merkmale gelöst.
Die \ orteile der kombinierten Verwendung einer chemischen Behandiungsschicht und einer anorganischen
Polymerschicht gemäß vorliegender E/findung liegen nicht nur darin, daß die magnetmetallische
Dünnfilmschicht geschützt wird und daß die chemische Behandlungsschicht P'ne große Adhäsion zum anorganischen
Polymer besitzt, sondern auch darin, daß ein magnetischer Aufzeichnungsträger geschaffen ist, welcher
eine größere Fehler- bzw. Ausfallssicherheit bezüglich einer Änderungsverringerung im Wiedergabesignal
des Magnetkopfes aufweist.
Weitere Einzelheit ;n und Ausgestaltungen der Erfindung sind der folgenden Beschreibung zu entnehmen,
in der die Erfindung anhand der in der Zeichnung dargestellten Ausfiihrungsbeispiele näher beschrieben
und erläutert w ird. Es zeigen
Fig. I—3 jeweils einen Teilschnitt durch einen
magnetischen Aufzeichnungsträger gemäß verschiedener Ausführungsbeispiele vorliegender Erfindung.
In Fig. 1 ist ein magnetischer Aufzeichnungsträger gemäß einem ersten Ausführungsbeispiel vorliegender
Erfindung dargestellt. Der magnetische Aufzeichnungsträger enthält eine Legierungsplatlc 1, eine unmagnetische
Legierungsschicht 2 auf der Grundplatte 1, eine magnetmetallische Dünnfilmschicht 3 auf der mit einer
fein bearbeiteten bzw. polierten Oberfläche versehenen unmagnetischen Legierungsschicht 2, eine chemische
Behandlungsschicht 5 auf der Schicht 3. eine anorganische Polymerschicht 7, die ggf. ein Spannungsrelaxationsmittel
enthält, auf der Schicht 5 und eine Schmiermittelschicht 8 auf der Polymerschicht 7.
Das in F i g. 2 dargestellte zweite Ausführuiigsbeispiel
vorliegender Erfindung ist ähnlich dem Ausführungsbeispiel der F i g. 1 aufgebaut, enthält also die Grundplatte
1. die Legierungsschicht 2. die magnetmetallische Dünnfilmschicht 3, die chemische Behandlungsschicht 5,
eine hochadhäsive Schicht 6, die anorganische Polymerschicht 7 und die Schmiermittelschicht 8.
Das in Fig. 3 dargestellte dritte Ausführungsbeispiel
vorliegender Erfindung enthält die Grundplatte 1, die Legierungsschicht 2. die magnetmetallische Dünnfilmschicht
3. eine unmagnetische Metallschicht 4. die chemische Behandlungsschicht 5. die hochadhäsive
Schicht 6. die anorganische Polymerschicht 7 und die Schmiermittelschicht 8.
Die Oberfläche des Legierungsgrundelementes 1 jo sollte mit einer genügend geringen Welligkeitstoleranz
von nicht mehr als 50 μ in Umfangsrichtung und 100 μ in radialer Richtung eben geschliffen bzw. poliert werden.
Wenn diese nicht innerhalb dieser Werte liegt, kann der Magnetkopf, der während des Aufzeichnungs- und
Wiedergabevorganges über den magnetischen Aufzeichnungsträger fliegt, der vertikalen Bewegung der
Aufzeichnungsträgeroberfläche nicht folgen, so daß sich
der Abstand zwischen ihnen ändert, so daß sich infolgedessen die Aufzeichnungs-Wiedergabe-Eigen- ·<ο
schäften ändern. Die unmagnetische Legierungsschicht
2. die durch Piatieren auf der Legierungsgrundplatte 1 gebildet ist. wird zu einer Spiegeloberfläche, deren
Rauhigkeit unter 0.2 μ liegt, fein bearbeitet. Besteht die Legierungsgraundp'atte I aus einem Metall, das mit
einer Spiegeloberfläche versehen werden kann, dann ist die Schicht 2 nicht notwendig. Die magnetmetallische
Dünnfilmschicht 3. die für eine Aufzeichnung hoher Dichte geeignet ist. ist mittels Piatieren auf die Schicht 2
aufgebracht. Die Schutzschicht, die in der Lage ist. die Filmschicht 3 vor einer Berührung mit dem Magnetkopf
oder vor Feuchtigkeits- und Temperaturschwankungen vollständig zu schützen, besteht aus der unmagnetischen
Metallschicht 4 auf der Dünnfilmschicht 3. der chemischen Behandlungsschicht 5 auf der Metallschicht
4. der Schicht 6 großer Adhäsivität, dem ein- oder doppelschichtigen Film 7. der auf der Schicht 6
aufgebracht ist, daß ggf. ein Spannungsrelaxationsmittel enthält, und aus einer Schmiermittelschicht 8 auf der
Schicht 7.
Um eine hohe Beständigkeit gegenüber einem Reibkontakt mit dem Magnetkopf zu erreichen, muß die
Schutzschicht den folgenden Bedingungen genügen bzw. folgende Eigenschaften besitzen:
65
(1) eine große Härte;
(2) eine geringe innere Spannung;
(3) eine ausgezeichnete Adhäsion zur Unterschicht;
und
(4) einen geringen Reibungskoeffizienten.
(4) einen geringen Reibungskoeffizienten.
Bei der Schutzschicht vorliegender Erfindung erreicht man beachtliche Wirkungen gegen dessen Reibberiihrung
mit dem Magnetkopf aufgrund von dessen Aufbau dadurch, daß die magnetmetallische Dünnfilmschicht
über eine chemische Behandlungsschicht mit einer anorganischen Polymerschicht adhäsiv überzogen wird,
die eine geringe innere Spannung, eine große Härte und einen kleinen Reibkoeffizienten besitzt. Hinsichtlich der
Schutzschicht ist es vorteilhaft, einen magnetischen Aufzeichnungsträger mit größerem Fehlerspielraum zu
schaffen, indem die Einheitlichkeit der magnetmetallischen Dünnfilmschicht 3 aufrechterhalten wird, um die
Änderung am Wiedergabeausgang des Magnetkopfes zu reduzieren. Die Schutzschicht, die man durch
Zwischenfügen einer unmagnetischen Metallschicht 4 zwischen der magnetmetallischen Dünntilmschicht S
und der chemischen Behandlungsschicht 5 erhält, ist geeignet, die Fehlersicherheit im Aufzeichnungsträger
zu erhöhen. Die Adhäsion kann weiter dadurch verstärkt werden, daß man eine Schicht 6 hoher
Adhäsivität zwischen die Schicht 5 und die anorganische Polymerschicht 7 anordnet.
Ef. ist auch möglich, eine weitere Verminderung der inneren Spannung des Schutzfilms dadurch zu erreichen,
daß man eines oder zwei oder mehrere Arten von Spannungsrelaxationsmitteln in die anorganische Polymerschicht
7 mischt. Darüber hinaus kann der Reibungskoeffizient dadurch verringert werden, daß
eine Schmiermittelschicht auf der Polymerschicht 7, die das oder die Spannungsrelaxationsmittel enthält oder
nicht enthält, gebildet wird.
Die Schutzschicht des magnetischen Aufzeichnungsträgers gemäß vorliegender Erfindung besitzt folgende
ivierkmaie:
(1) Eine nicht- bzw. unmagnetische Metallschicht ist auf der magnetmetallischen Dünnfilmschicht aufgebracht,
um die Einheitlichkeit in der Dicke der Dünnfilmschicht zu erhalten.
(2) Die unmagnetische Metallschicht auf der magnetmetallischen Dünnfilmschicht wird mit großer
Adhäsion gehalten.
(3) Die unmagnetische Metallschicht kann so dünn (einige %) gemacht werden, so daß sie im
wesentlichen keinen Einfluß auf die Dicke der gesamten Schutzschicht ausübt.
(4) Die chemische Behandlungsschicht haftet -uf der unmagnetischen Metallschicht oder an der anorganischen
Polymerschicht, die das Spannungsrelaxationsmittel enthält oder nicht enthält, sehr eng und
mit einer beachtlich hohen Adhäsion.
(5) Die Ungleichförmigkeit innerhalb der Oberfläche der unmagnetischen Metallschicht kann reduziert
werden, da die chemische Behandlungsschicht innerhalb eines zulässigen Dickenbereiches der
unmagnetischen Metallschicht relativ dick gemacht werden kann.
(6) Die hochadhäsive Schicht kann so dünn gemacht werden, daß sie praktisch keinen Einfluß auf die
Dicke der gesamten Schutzschicht hat.
(7) Die hochadhäsive Schicht schafft eine sehr feste und adhäsive Verbindung zwischen der chemischen
Behandlungsschicht und der anorganischen Polymerschicht, die ggf. das Spannungsrelaxationsmittel
enthält. Da man erhebliche Verbesserungen
hinsichtlich der Antireibiingseigenschaft der
Schutzschicht gegenüber einer Berührung mit dem Magnetkopf aufgrund der verbesserten Adhäsion
erreicht, kann die anorganische Polymerschicht, die
den größten Anteil an der Dicke der gesamten Schutzschicht ausmacht, noch dünner gemacht
wc- !en. Dies bedeutet, daß ein solcher Aufbau die
Vergrößerung des Spaltes zwischen dem Magnetkopf
und der Auf/eichnungstriigeroberfläche wirksam
verhindert, was aus dem mehrschichtigen Aufbau der Schutzschicht resultieren kann, und daß
dieser Aufbau den Spalt sogar verringern kann. Dies bedeutet, daß der Aufzeichnungsträger gemäß
vorliegender Erfindung bei der Ausführung der
Aufzeichnung hoher Dichte von erheblichem Vorteil ist.
Da.s Anordnen oines unmnpnptisrhen Metalls zwischen
die magnetmetallische Dünnfilmschicht und die chemische Behandlungsschicht ermöglicht es. daß man
bei der Schutzschicht eine einheitliche Dicke der inagnetmetallischen Dünnfilmschicht halten und des
weiteren die Fehlersicherheit erhöhen kann.
Die oben beschriebene anorganische Polymerschicht enthält ein Hydrolysepolymer aus einem Metall- oder
Halb- bzw. Übergangsmetall-Alkoxid oder eines Acylats.
Eine weitere Erläuterung sei nun anhand einer Verbindung, wie bspw. Polysilikat oder einem Hydrolysepolymer
eines Metallalkoxids, das in der anorganischen P lymerschicht enthalten ist, gegeben.
Das hier verwendete Polysilikat ist eine Art einer anorganischen Polymersubstanz, bei welcher die kovalenten
Si —O-Bindungen zu Si-OH ...O-Bindungen
verkettet sind, um so einen dreidimensionalen Netzwerksaufbau, wie er nachstehend gezeigt ist. zu bilden:
— Si — O — Si — OH
-HO
■0 —Si —
— Si —Ο—Si —Ο —Si —Ο —Si —
Bei diesem Netzwerkaufbau bezeichnen die ausgezogenen Linien die kovalenten Bindungen und die
gepunkteten Linien die hydrogenen Bindungen.
Das Polysilikat ist durch Dehydrations-Kondensations-Polymerisation
von Tetrahydroxysilan Si(OH)* hergestellt, das ein Hydrolyseprodukt aus Tetraalkoxysilan
oder Siliziumacylat ist. Tetraalkoxysilan, das auch das Rohmaterial für Tetrahydroxysilan ist, wird durch
die chemische Formel Si(OR^ und Siliziumacrylat durch
Si(OCOR^ ausgedrückt, wobei R ein Alcylradikal, bspw. das Methyl-, Ethyl-, Propyl- oder Buthylradiakl ist. Es ist
wichtig, daß eine große Menge eines Süanolradikals in der Schicht aus Polysilikat enthalten ist, um so eine hohe
Adhäsion insbesondere zur Unterschicht sicherzustellen. Dies bedeutet, daß die Polysilikatschicht, die ein
Silanolradikal enthält, eng an die chemische Behandlungsschicht
oder an die hoch adhäsive Schicht mit beachtlich großer Adhäsion haftet, so daß eine ganz
ausgezeichnete Halbarkeit gegenüber der Reibberührung
mit dem Magnetkopf gegeben ist. Die Polysilikatschicht haftet an der chemischen Behandlungsschicht
oder der hochadhäsiven Schicht mit einer weit größeren
Kraft als eine Schicht aus einem organischen Harz, wie
bspw.Phenolharz oder Epoxydharz. Eine solche hervorragende Adhäsivitätseigenschaft trägt /ur festen und
sicheren Bindung zwischen dem Silanolradikal und der chemischen Behandlungsschicht oder der hochadhäsiven
Schicht bei. Da die Polysilikatschicht selbst in der Lage ist. die magnetmetallische Dünnfilmschicht vor
Korrosion zu schützen, muß die chemische Behandlungsschicht oder die hoch adhäsive Schicht nur die
Funktion besitzen, die Adhäsion zur Polysilikatschicht zu verbessern. Infolgedessen ist solch eine Funktion in
jeder der beiden Schichten sogar bei sehr kleiner Dicke zu erreichet:, die im wesentlichen keinen Einfluß auf die
Gesamtdicke der ganzen Schutzschicht besitzt. In der Praxis erhielt man keinen Unterschied zwischen dem
Ausgang eines magnetischen Aufzeichnungsträgers mit einer diese beiden Schichten enthaltenden Schutzschicht
und dem Ausgang eines Trägers ohne solche zwei Schichten.
Dasselbe kann man im Hinblick auf das Hyclrolysepolymer
des Metallalkoxids sagen. Das M —OH-Radikal oder das M-OR-Radikal, das in diesem Polymer
enthalten ist, fördert die Adhäsion zur chemischen Behandlungsschicht oder zur hoch adhäsiven Schicht
und bildet darauf eine Schicht von ausgezeichneter Antireibungseigenschaft gegenüber dem Magnetkopf.
Das Hydrolysepolymer des Metallalkoxids erhält man
durch hydrolyse-Polymerisaüon einer Verbindung, die
durch folgende allgemeine Formel ausgedrückt ist:
k,„M(0R')„ ,„
wobei M ein Metall, wie Ti, Zr, V, Al, Sn, Zn. Be1 Ce. Co,
Cr. Cu, Dy, Eu, Fe. Ga. Ge, Hf. In, Mg, Mn, Mo, Nb. Ni,
Pd, Rh, Sb. Th, Ti. Ta, V oder V/ bezeichnet: R und R'
Alkylradikale, wie Methyl-Äthyl-, Propyl-, Butyl- oder Antiradikale sind; OR' ein Alkoxyradikal allgemein
bezeichnet, η eine Valenz von M ist, und m eine ganze Zahl von O bis (n-1) ist.
Im allgemeinen ist ein Metallalkoxid reaktionsfähiger
als eine organische Metallverbindung, wie Metall-Chelat,
und wird durch Hydrolyse polymerisiert, so daß es eine nichtkristalline Polymerschicht hoher Härte auf
einem Substrat bildet.
Das hier verwendete Metallalkoxid ist hoch reaktionsfähig mit Tetraalkoxysilan, Tetrahydroxysilan oder
Tetraacysilan (Siliziumtetraacylat), von denen alle Quellenmaterialien des genannten Polysilikats sind. Eine
Polysilikatschicht, die ein Hydrolysepolymer eines härteren Metall-Alkoxids mit sich bringt, kann durch
Überziehen eines Gemisches aus dem Metall-Alkoxid und einem der verschiedenen Silane und durch
Wärmebehandlung des Ganzen gebildet werden. Darüber hinaus kann, obwohl das Metall-Alkoxid im
allgemeinen als Quellenmaterial für das Hydrolysepolymer
des Metall-Alkoxids verwendet wird, das Metallacyiat
denselben Effekt wie das Metall-Alkoxid geben.
Als Spannungsrelaxationsmittel für die vorliegende Erfindung ist ein organischer Polymer vorgesehen, das
mindestens ein mit dem anorganischen Polymer reaktionsfähiges Radikal, ein Metalloxid, ein Silanhaftmittel,
ein Oberflächenhaftmittel oder eine Kombination davon enthält
Das Metalloxid, das als Spannungsrelaxationsmittel dient, das im anorganischen Polymer enthalten ist,
besteht aus einem der folgenden Materialien:
LiO. Ma-O. K2O. Rb2O, Cs2O, La2Oj. As2Oj. Re2O-.
BaO. SrO. CrO1. RuO4. OsO4. B2Oj, Sb2O,. TI2O
oder TI2O ι.
eines oder mehrere dieser Metalloxide werden ausgewählt und in einer Alkohollösung, die Metall-Alkoxid
und/oder Tetrahydroxysilan enthält, vollständig gelöst; nachdem darcit die chemische Behandlungsschicht oder
die hoch adhäsive Schicht überzogen wurde, wird das Ganze wärmebehandelt.
Eine Mischung aus dem anorganischen Polymer und dem organischen Polymer, das sowohl mindestens eine
funktionell Gruppe besitzt, die mit dem anorganischen
Polymer reak':onsfähig ist als auch als Spannungsrclaxationsmittel
dient, wird auf der nuignctmctallischen
Dünnfilmschicht über die chemische Behandlungsschicht und die hoch adhäsive Schicht gebildet, wodurch
sich eine ausgezeichnete Widerstandsfähigkeit gegenüber einer Reibberührung mit dem Magnetkopf ergibt.
Dies wird deshalb erreicht, weil das anorganische Polymer und die funktioneile Gruppe gleichzeitig mit
der Spannungsrelaxationswirkung der organischen Polymerkette miteinander festgekoppelt sind. Typische
funktionell Gruppen, die mit dem anorganischen Polymer reagieren sind die folgenden:
— COOH,
-NH2, -SH, -COOR,
-NHR, >NH, -CHO, -NCO, Si-OH, Si-OR.
Si — X, —CH — CH2, —C H,O
\ /
O
\ /
O
CH
Hi, —OCOR ur.d OH,
N H
wobei R ein Alcylradikal und X ein Halogen bezeichnet.
Typische Polymere, die wenigstens eine der oben _>i
genannten funktioneilen Gruppen besitzen sind:
N-Methoxymethylnylon,
Silikonzwischenprodukt, Epoxidharz.
Phenolharz, Melaminharz, Harnstoffharz, Zellulose
(Azethylzellulose. Nitrozellulose,
Methylzellulose, Äthylzellulose, usw.),
Methylzellulose, Äthylzellulose, usw.),
Polyvinylharz
(Polyvinylazetat, Polyvinylalkohol,
Polyvinylholmal, Polyvinylbutylal, usw..)
Polyvinylholmal, Polyvinylbutylal, usw..)
Polyiso7.yanat und Polymethylmetacrylai.
oder
-CH3, -C2H5, -CH2CH2OCH3.
CH3
-C-CH3
CH3
CH3
und Rc einen Teil bezeichnet, der aus einer organischen
Verbindung zusammengesetzt ist. die als funktionelle Gruppe bspw.
Eine Säure kann zur Beschleunigung der Reaktionsfähigkeit zwischen dem anorganischen Polymer und der
funktionellen Gruppe eines der oben genannten organischen Polamere hinzugefügt werden. Insbesondere
zum Epoxidharz kann eines der folgenden als Härtemittel hinzugefügt werden: Diäthylen-Triamin.
Diäthyiaminopropylamin, Polyamidharz, ein Amin. wie +5
bspw. ein Silanbindemittel, das ein Aminoradikal enthält, Säureanhydrid, wie bspw. phthalisches Anhydrid,
Tetrahydrophthalisches Anhydrid oder dodecylullin-Anhydrid,
und Isozyanat, wie bspw. Hexamethylen-Diisozyanat.Trilendiisozyanat
oder Polyisozyanat.
Das oben genannte Silikonzwischenprodukt ist ein Polymer, dessen durchschnittliche Molekulargewichtsbereiche
zwischen 500 und 2000 liegen. Es besitzt eine aktive Gruppe, wie SiOH oder SiOCHj und ist in der
Lage, sich mit einem anorganischen Polymer fest haftend zu verbinden.
Das Silanhaftmittel. das für die hoch adhäsive Schicht
und auch als Spannungsrelaxationsmittel verwendet wird, ist eine Silan- (Siliziumwasserstoff-) Verbindung,
die durch folgende allgemeine Formel ausgedrückt wird:
RcSi(XaMXb)3-H
wobei π eine ganze Zah! von Null bis 3 is«, Xa und Xb ->
Atome eines Halogens, wie bspw. Chlor -.der Brom,
oder ORd oder OCORd oder OORd, wobei Rd ein Alkylr;.dikal wie bspw.
OfSjCH2CH2-,
Cl-CH2CH2CH2-ICH2CH2C::,-,
CH2-CH2
0 CH2O(CHj)3-HSCH2CH2CH2
H2NCH2CH2CH2-,
HjNCH2CH2NH(CHj)3-. CH2=CH-,
CH3
CH2=C-COO(CH2J3-.
H3COOCCHjCH2NH
or
enthält. Xa und Ab erzeugen ein Silanradikal Si-OM durch Hydrolyse.
Einige Beispiele eines solchen Silanhaftmittels seien
im folgenden angegeben:
Vinyltrichlorosilan
CH2=CHSiCi3
CH2=CHSiCi3
Vmyhriäthoxysilan
CH2=CHSi(OC2Hs)3
Viny!-lris(Beta-Methoxy-Äthoxy-i>ilr.n
CH2=CHSi(OCH2CH2OCH3)
«jamma-Methacryloxypropyl-Trimethoxysilan
CH3
CH2=C-COO(CH2)JSi(OCH3)
Beta(3,4-Epoxycyclohexyl)-Äthy!trimethoxysilan 0(S)CH2CH2Si(OCHj)3
Gamma-Glycidoxypropyltrimethoxysilan
CH2-CHCH2O(CH2)Si(OCH3)J
\ /
O
O
Vinyltriacetoxysilan
CH2=CHSi(CoCCH3),
Gamrria-Chloropropyltrimethoxysilan CiCH2CH2CH2Si(GCHj)J
Gamma-Melci^topropyltrimethoxysilan
HSCH2CH2CH2Si(OCHj)3
Gamma- Aminopropyl-Triethoxysilan NH2CH2CH2CH2Si(OC2Hj)3
N-beta(Aminoäthyl)-Gammaaminopopyl-Trimethoxysilan
N H2C H2C H2N H(C Hz)3SKO CK3)j
Vinyl-tris(t-Butylperoxy)-Silan
CH3
15
2C
25
30
CH2=CH-Si(OOC-CHj)3
CH3
Zusätzlich zu dem obengenannten esistiert ein PoIyaminüsilan,
bei weichem, obwohl seine genaue chemische Formel nicht ganz eindeutig ist, eine Einheit
von
35
40
,11I
— C — C — Ν —
— C — C — Ν —
möglich, zusätzlich zum Silanhaftmittel einen Chromkomplex zu verwenden, wobei ein typischer Vertreter
dieses Komplexes Methacrylat-Chromchlorid ist.
Der Chromkomplex besitzt den folgenden Aufbau und ist in der Lage, die chemische BehandlunTSEchicht
an die anorganische Polymerschicht, die das Spannungsrelaxationsmittel enthält oder nicht enthält, fest
anzubinden:
,„ 0-CrCl2
R-O OH
CtCI2
wobei R ein Kohlenwasserstoff mit einer aktiven funktionellen Gruppe, wie bspw.
(J H2 = (J —
CH3
üiid der Pfeil einer Koordinatenbindung bezeichnet.
Die bei der vorliegenden Erfindung verwendeten Schmiermittel sind bspw. Silikonöl, Fluoro!, Flursilikonöl,
Polyglycol, Phosphat, Perfluralcylpolyäther, höhere Fettsäuren und deren Esther.
Von diesen Schmiermitteln ist das orientierte Schmiermittel, gemäß der veröffentlichten japanischen
Patentanmeldung 55 603/1977 aus einem öl, wie bspw. orientiertem Silikonöl, Fluröl oder Flurosilikonöl. oder
aus Silan oder Silazan, wie bspw.
Oktodecyltriclorosilan,
Hexamethyldisilazan,
N.N-Dimethyl-N-OktadecylO-Aminopropyl-Trimetoxysilychlorid
(DMOAP), oder
Dimeihyldichlorosüan,
auf das im folgenden als Oberflächenhaftmittel Bezug genommen wird, zusammengesetzt. Es sei angemerkt,
daß das Oberflächenhaftmittel als Spannungsrelaxationsmittel wirkt. Silan ist durch die folgende allgemeine
Formel beschrieben:
NH,
HN-
HjN-
-N-
-Si(OCHj)3
50
55
NH,
im Teil von Rc wiederholt wird und ein organisches Radikal,
das primäre, sekundäre und tertiäre Aminogruppen besitzt, in komplizierter Weise zur Bildung der
nachstehend aufgeführten Matrix verzweigt ist:
Das Oberflächenhaftmittel das im folgenden zu beschreiben sein wird, ist ebenfalls als weiteres
Spannungsrelaxationsmittel verwendbar.
Das Spannungsrelaxationsmittel besitzt außer seiner Eigenschaft zur Relaxation der Spannung eine Reaktionsfähigkeit
gegenüber der chemisciien Behandlungsschicht oder der hoch adhäsiven Schicht so daß die auf
sie ausgeübte Adhäsivität verstärkt bzw. intensiviert wird.
Das Silanhaftmittel kann für die oben genannte hoch adhäsive Schicht verwendet werden. Es ist auch
wobei R ein Alkylradikal oder ein aromatischer Kohlenwasserstoff, wie CH3. C2Hj, C3H?, C4Hq, CiSH37,
oder ein Fluor-Kohlenwasserstoff, wie CF3, C2F5, C3F7,
Ci8F37, X ein Alkoxyradikial, wie -OCH3, -OC2H5,
-OC3H7, oder ein Halogen, wie Chlor oder Brom, oder
ein Alkylperoxyradikal, wie bspw. — OOC4H* und π
eine ganze Zahl aus 1,2 oder 3 ist.
Die chemische Behandlungsschicht, die bei vorliegender Erfindung verwendet wird, bezeichnet ein Metalloxid,
ein hydriertes Metalloxid, eine Mischung davon oder ein metallisches Salz, das man durch Verarbeiten
bzw. Bearbeiten einer metallischen Unterschicht (eines magnetmetallischen Dünnfilmmediums oder einer unmagnetischen
Metallschicht darauf) mittels chemischer, elektrochemischer oder Wärmebehandlung erhält.
Genauer gesagt, wird die chemische Behandlungsschicht durch Eintauchen der metallischen Unterschicht
in eine Säure oder Alkalilösung gebildet die ein metallisches Salz, ein Oxidationsmittel, ein Puffermittel
oder eine Mischung davon enthalten kann, erzeugt. Die chemische Behandlungsschicht kann man auch durch
Anlegen eines elektrischen Stromes an die metallische Unterschicht bilden, die in der genannten Lösung
angeordnet ist und in diesem Falle als Elektrode dient.
10
15
20
oder durch Wärmebehandlung der metallischen Unterschicht
Die zur Verfügung stehenden metallischen Salze sine primäre, sekundäre und tertiäre Phosphate
von Magnesium, Zink und Alkalimetall. Chromkarbonat Natriummolybdat (VI) und Natrium-Wolframat Die zur
Verfügung stehenden Oxidationsmittel sind Chromsäure. Dichromat Permanganat Perchlorat Nitrat Nitrit
Wasserstoffperoxid, und Benzoylperoxid.
Die zur Verfügung stehenden Puffermittel sind Karbonsäure und deren Salz. Die zur Verfugung
stehenden Säuren umfassen Salpetersäure, Sulfonsäure.
Flursäure, Phosphorsäure, Essigsäure, Fluressigsäure und Oxalsäure. Die zur Verfugung stehenden Alkalien
u:nfassen Kaliumhvdroxid. Natriumkarbonat und Ammoniak.
Der magnetische Aufzeichnungsträger gemäß vorliegender Enindung und das Verfahren zum Herstellen
desselben seien nun in weiteren Einzelheiten anhand der folgenden Beispiele beschrieben.
Eine Aluminiumlegierungs-Grundplatte wurde mit
einer Oberfläche geringer Topographie (weniger als 50 μ in Umfangsrichtung und weniger als 100 μ in
radialer Richtung) durch Abdreh- und Wärmeglättungsverfahren
versehen, so daß sich die Legierungsplatte 1 ergab. Die Aluminiumlegierungsgrundplatte wurde mit
einer unmagnetischen Legierung aus N.ickelphosphor (Ni-P) mit einer Dicke von etwa 50 μ platiert, wodurch
die nichtmagTietische Metallschicht 2 gebildet wurde.
Die Nickelphosphorschicht wurde dann durch mechanisches Polieren zu einer Spiegelfläche mit einer
Oberflächenrauhigkeit von 0,04 μ oder weniger und einer Dicke von etwa 30 μ fein bearbeitet Die
unmagnetische Legierungsschicht 2 wurde dann mit einer magnetmetallischen Legierung aus Kobalt-Nickel-Phosphor
(Co—Ni-P) mit einer Dicke von etwa 0,05 μ
platiert. wodurch sich die magnetmetallische Dürinfilmschicht
3 ergab. Daraufhin wurde die so mit der magnetischen Co—Ni-P-Legierung platierte Platte in
eine Lösung (1) der folgenden Zusammensetzung zwei Minuten lang eingetaucht, danach abgespült und
getrocknet, wodurch die chemische Behandlungsschicht aus Kobaltoxid und Chromoxid gebildet wurde.
Lösung (I)
Chromsäure-Anhydride 03 Gew.-%
Natrium-Wasserstoff-Sulfosäure 2,0 Gew.-%
1 % verdünnte Schwefelsäure Rest
ehe nach außen ausgebreitet wobei die Oberflache
benetzt wurde. Mit dem Verdampfen der Verdünner (Äthylalkohol und n-Butylalkohol), die in der auf diese
Weise auf der Plattenoberfläche ausgebreiteten Lösung enthalten sind, wurde eine Schicht aus Poiysilikat
gebildet Die Platte, die mit der Polysilikatschicht überzogen ist die eine Hydrolysepolymer eines
Metall-Alkoxids enthält und eine Dicke von 0,1 μ besitzt wurde eine Zeit lang bei Raumtemperatur (etwa
25° C) zum weiteren Ausdampfen der Lösungsmittel aus Äthylalkohol und n-Butylalkohol, die in der Polysilikatschicht
als Rest verbleiben, belassen, danach einem Trocknungsvorgang ausgesetzt, und schließlich wurde
das Ganze bei 200° C eine Stunde lang wärmebehandelt, wodurch sich die Schutzschicht auf der Platte gebildet
hat und der magnetische Aufzeichnungsträger fertig
In einer dem Beispiel 1 ähnlichen Weise, mit Ausnahme der Verwendung von Lösungen der folgenden
Zusammensetzung statt der vorhergehenden Lösungen (I) und (II), wurde eine Polysilikatschicht die
ein spannungsreiaxationsmittel und ein Hydrolysepolymer aus Metall-Alkoxid enthält, auf der magnetmetallischen
Dünnfilmschicht über eine chemische Behandlungsschicht gebildet, wodurch sich die Schutzschicht
auf der Platte ergab und der magnetische Aufzeichnungsträger fertig var.
Lösung (I)
Manganesiumdihydrogenphosphat 2 Gew.-% Kaliumpermanganat 0.1 Gew.-%
1 % Phosphorsäure Rest
50
Die so gebildete chemische Behandlungsschicht wurde mit einer Lösung (II) der folgenden Zusammensetzung
durch ein Spinüberzugsverfahren überzogen.
Lösung (II)
Tetrahydroxysilan-
11%-Äthylalkohol-Lösung
Tsopropyl-Alkohol
Tsopropyl-Alkohol
55
lOGew.-o/o
90 Gew.-o/o
90 Gew.-o/o
Die Platte, die aus der Aluminiumlegierungsgrund=
platte und den aufeinanderfolgenden Überzügen der Nickel-Phosphor-Schicht der Kobalt-Nickel-Phosphor-Schicht
und der chemischen Behandiungsschicht besteht, wurde in horizontaler Ebene mit einer Geschwindigkeit
von mehr als 200 Upm gedreht. In diesem Zustand wurde die Lösung (II) von ihrem Gefäß aus auf
die Oberfläche der Platte gebracht. Dann wurde durch die Zentrifugalkraft die Lösung auf der Plattenobcrflü-
Lösung (II) | Beispiel 3 | 9 Gew.-% |
Tetrahydroxysilan- | 1 Gew.-% | |
11%-Äthylalkohol-Lösung | 0.05 Gew.-% | |
Gallium-n-Butylat | 0.05 Gew.-o/o | |
Epoxidharz | 50 Gew.-% | |
Polyaminosilan | Rest | |
Isobutylazetat | ||
n-Butylalkohol |
In einer dem Beispiel 1 ähnlichen Weise wurde die chemische Behandlungsschicht mittels eines Spinüberzugsverfahrens
mit einer n-Butylalkohollösung überzogen,
die ein Silanhaftmittel aus 0,1 Gewichtsprozent Gamma-Glycidoxypropyltrimetoxysilan enthält, das als
ein hoch adhäsives Mittel dient. Danach wurde wie beim Beispiel 1 das hoch adhäsive Mittel weiter mit
Poiysilikat überzogen und dann das Ganze bei 2000C zwei Stunden lang wärmebehandelt, wodurch sich die
Schutzschicht auf der Platte und dadurch der magnetische Aufzeichnungsträger ergab.
In einer dem Beispiel 3 ähnlichen Weise wurde tue chemische Behandlungsschicht über cm hoch adhäsives
Mittel mit einem anorganischen Polymer überzogen, das ein Spannungsrelaxationsmittel enthält, und zwar
durch die Verwendung einer Lösung (II) der folgenden Zusammensetzung statt derjenigen der F i g. 3.
Lösung (II)
Tetrahydroxysilan-
I I%-Äthylalkohol-Lösunp
S C.cw.%
Zirkoniumpropylate
Hexamethyidisilazan
n-ButylalkohoI
Hexamethyidisilazan
n-ButylalkohoI
1 Gew.-%
0.1 Gew.-%
Rest
0.1 Gew.-%
Rest
Danach wurde eine 0,l%ige Trichloräthylenlosung
aus Perfluoroktadecyltrichlorsilan als orientiertes Schmiermittel auf der anorganischen Polymerschicht
angewendet und das Ganze bei 2000C zwei Stunden
lang wärmebehandelt, wodurch sich die Schutzschicht auf der Platte und damit der magnetische Aufzeichnungsträger
ergab.
In einer dem Beispiel 3 ähnlichen Weise wurde eine magnetmetallische Dünnfilmschicht mit einem unmagnetischen
Metall aus Nickel-Phosphor (Ni-P) auf eine Dicke von 0,05 μ platiert und dann weiter mit einer
chemischen Behandlungsschicht, einem hoch adhäsiven Mit* :l und einer Polysilikatschicht nacheinander überzogen,
so daß sich ein magnetischer Aufzeichnungsträger ergab.
In einer dem Beispiel 4 ähnlichen Weise wurde eine magnetmetallische Dünnfilmschicht über eine unmagnetische
Legierung aus Nickel-Phosphor mit einer chemischen Behandlungsschicht, einer hoch adhäsiven
Schicht, einem anorganischen Polymer und einem orientierten Schmiermittel nacheinander überzogen.
woraus sich ein magnetischer Aufzeichnungsträger ergab.
Vergleichsbeispiel
Ein magnetischer Aufzeichnungsträger wurde in einer dem Beispiel 1 ähnlichen Weise erzeugt mit der
Ausnahme, daß e:ne Polysilikatschicht auf einer
magnetmetallischen Dünnfilmschicht ohne eine chemische Behandlungsschicht gebildet wurde; das Ganze
ίο wurde dann bei 2000C zwei Stunden lang wärmebehandelt
so daß sich eine Schutzschicht auf der Platte ergab. Unter Verwendung der magnetischen Aufzeichnungsträger,
die man gemäß den Beispielen 1 bis 6 und dem Vergleichsbeispiel erhielt, und unter Verwsndung
eines Magnetkopfes mit einer konischen Front, die starken Schmutz bzw. Staub sammeln kann, wurden
Aufzeichnungs- und Wiedergabevorgänge mittel1; des
Berührungs-Start-Stop (CCS)-Systems wiederholt durchgeführt, wobei der magnetische Aufzeichnungsträger
und der Magnetkopf zu Beginn und am Ende jeder Operation bzw. jedes Vorganges in Berührung
miteinander waren. Die Veränderung (Abblättern) an der Oberfläche jedes Aufzeichnungsträgers aufgrund
der Reibberührung mit dem Magnetkopf wurde überprüft.
Die Ergebnisse dieser Versuche bezüglich der Beispiele 1 bis 6 und der betreffenden Anzahl der
CSS-Zyklen sind in der folgenden Tabelle angegeben.
Bei spiel |
Unmagnetisches Metall |
Hoch adhesive Schicht |
Lösung (II) | Gleitmittel | CSS- Zyklen |
1 | _ | _ | Polysilikat | — | 10 000 |
2 | Polysilikat + Spannungsrelaxationsmittel + Metalalkoxid |
25 000 | |||
3 | - | Siianhaftmittel | Polysilikat | - | 30 000 |
4 | Silanhaftmittel | Polysilikat + Spannungsrelaxationsmittel + Metalalkoxid |
orientiert | 55 000 | |
5 | NiP | Siianhaftmittel | Polysilikat | - | 35 000 |
6 | NiP | Silanhaftmittel | Polysilikat + Spannungsrelaxationsmittel + Metalalkoxid |
orientiert | 60 000 |
Gemäß den Versuchsergebnissen zeigt der magnetische Aufzeichnungsträger des Vergleichsbeispiels einige
bis 10% Abblättern der gesamten Reibspuren, was durch den Magnetkopf während 7000 CSS-Zyklen
verursacht wurde (obwohl keine Schramme auf dem magnetmetallischen Dünnfilmmedium vorhanden war),
während jeder magnetische Aufzeichnungsträger der erfindungsgemäßen Beispiele 1 bis 6 überhaupt kein
Abblättern nach den betreffenden CSS-Zyklen der Tabelle zeigte,
Aus dem obigen ist ersichtlich, dall die verbesserte
Antiabriebeigcnschaft gegenüber einer Berührung mit dem Magnetkopf beim Aufzeichnungsträger des Beispiels
1 erreicht wurde, das eine anorganische Polymerschicht auf der magnetmetallischen Dünnfilmschicht
über einer chemischen Behandlungsschicht besitzt. Die Tabelle zeigt auch, daß eine verbesserte
Antiabriebeigcnschaft gegenüber dem Magnetkopf auch be>m Aufzeichnungsträger des Beispiels 2 erreicht
ist, bei dem die anorganische Polymerschicht ein Spannungsrelaxationsmittel enthält. Beim Aufzeichnungsträger
des Beispiels 3, der eine anorganische Polymerschicht auf einer chemischen Behandliingsschicht
über einem hoch adhäsiven Mittel besitzt, wurde eine noch weiter verbesserte Antiabriebeigenschaft
gegenüber dem Magnetkopf erreicht. Diese Eigenschaft ist beim Aufzeichnungsträger des Beispiels 4 noch
weiter verbessert, bei dem ein Spannungsrelaxationsmittel in der anorganischen Polymerschicht enthalten
und darauf eine orientierte Schmiermittelschicht gebildet ist. Es sei angemerkt, daß verglichen mit den
Aufzeichnungsträgern der Beispiele 3 und 4, bei denen eine unmagnetische Legierungsschicht nicht vorhanden
ist. die Antiabriebeigenschaft gegenüber dem Magnetkopf beim Aufzeichnungsträger des Beispiels 5 noch
etwas weiter verbessert ist, bei dem eine anorganische
Polymerschicht auf einer magnetmetallischen Dünnfilmschicht
über die nichtmagnetische Legierungsschicht und das doch adhäsive Mittel gebildet ist;
dasselbe gilt für den Aufzeichnungsträger des Beispiels 6, bei dem ein Spannungsrelaxationsmittel in der
anorganischen Polymerschicht enthalten und die orientierte Schmiermittelschicht darauf gebildet ist
Was die Ausgangsänderungen, die in stabilem Flugzustand des Magnetkopfes aufgrund von Uneinheitlichkeiten
in der Dicke der magnetmetallischen Dünnfilmschicht auftreten, anbetrifft, so war das
Verhältnis von minimalem zu maximalem Ausgang derselben Spur bei den Beispielen 1 bis 4 70%; dieses
Verhältnis erhöhte sich bei den Beispielen 5 und 6 auf 80%, wobei vorausgesetzt ist, daß man eine große t5
Verbesserung in der Fehlersicherheit erreicht hat
Hinsichtlich des Widerstandes der magnetischen Aufzeichnungsträger gegenüber Umgebungsbedingungen
bzw. -einflössen wurden die Versuche zehnmal wiederholend durchgeführt, wobei jeder Versuch aus
zwei Vier-Stj»»iden-Zyklen bei einer Temperatur von
65" C und einer relativen Feuchte von 90% und einem Drei-Stunden-Zyklus bei einer relativen Feuchte von
90% und einem Drei-Stunden-Zyklus bei einer Temperatur
von — 400C bestand. Die Versuchsergebnisse
zeigten keine Verschlechterung der Aufzeichnungs- und
Wiedergabemerkmale und der Antiabriebeigenschaft gegenüber dem Magnetkopf.
Wenn auch zum Aufbau der unmagnetischen Grundplatte bei den Ausführungsbeispielen vorliegender
Erfindung ein Metall verwendet wurde, so kann dies doch auch durch andere Materialien, w:e bspw.
Kunststoffe, Glas oder keramische Stoffe ersetzt werden, da offensichtlich das Material der Grundplatte
keine Rolle spielt. Darüber hinaus kann statt der Wärmebehandlung des gesamten magnetischen Aufzeichnungsträgers
bei 2000C, wie bei den Ausführungsbeispielen beschrieben, das Ziel vorliegender Erfindung
auch durch Entfernen des Lösungsmittels mittels vollständigen Trocknens bei Normaliemperatur (etwa
25°C) oder durch Verwenden eines anderen Lösungsmittels mit hohem Dampfdruck erreicht werden. Es ist
ferner möglich, die Wärmebehandlung bei Temperaturen oberhalb 2000C innerhalb eines Bereiches durchzuführen,
der die magnetische Eigenschaft des Aufzeichnungsträgers nicht nachteilig beeinflußt.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (22)
1. Magnetischer Aufzeichnungsträger, bspw. Magnetplatte, Magnettrommel oder dgL, mit einer
unmagnetischen Grandplatte, die ein- oder beidseitig zu einer Spiegelfläche poliert ist und mit einer
magnetmetallischen Dünnfilmschicht überzogen ist, auf der eine Schutzschicht aufgebracht ist, dadurch
gekennzeichnet, daß als Schutzschicht eine auf der Dünnfilmschicht (3) angeordnete
chemische Behandlungsschicht (5), deren Material aus einer ein Magnetmetalloxid, ein Chromoxid, ein
Phosphat und eine Mischung davon enthaltenden Gruppe ausgewählt ist, und mindestens eine darauf
angeordnete Schicht (7) aus einem anorganischen is Polymer, das aus einer ein Polysilikat, ein Hydrolysepolymer
eines Metallalkoxids und eine Mischung davon enthaltenden Gruppe ausgewählt ist, vorgesehen
sind.
2. Magnetischer Aufzeichnungsträger nach Anipruch 1. dadurch gekennzeichnet, daß die Schutzschicht
eine Schicht (6) hoher Adhäsivität aufweist, die zwischen der chemischen Behandlungsschicht (5)
und der anorganischen Polymerschicht (7) angeordnet ist.
3. Magnetischer Aufzeichnungsträger nach Anspruch 1 oder 2. dadurch gekennzeichnet, daß die
Schutzschicht eine unmagnetische Metallschicht (4) aufweist, die zwischen der magnetmetallischen
DünnfilmscNcht (3) und der chemischen Behändlungsschicht
(5) angeordnet ist.
4. Magnetischer Aufzeichnungsträger nach Anspruch
1,dadurch gekennzeichnet,daß das Metallalkoxid
eines oder eine Kombii-aior aus zwei oder
mehr Alkoxiden von Al. Be. Ce, Co, Cr, Cu. Dy, Eu.
Fe. Ga, Ge, Hf. In. Mg. Mn, Mo. Nb. Ni.Ti. Pd. Rh. Sb.
Sn. Th. Ta. U. V, W. Zr und Zn ist.
5. Magnetischer Aufzeichnungsträger nach Anspruch 1. dadurch gekennzeichnet, daß das Polysilikat
ein Polymer aus Tetrahydroxysilan ist. «
6. Magnetischer Aufzeichnungsträger nach Anspruch 2. dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht
(6) hoher Adhäsivität ein Silanhaftmittel enthält.
7. Magnetischer Aufzeichnungsträger nach Anspruch 2. dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht
(6) hoher Adhäsivität ein Methakrylat-Chromchlorid enthält.
8. Magnetischer Aufzeichnungsträger nach Anspruch I. dadurch gekennzeichnet, daß die anorganische
Polymerschicht (7) ein Spannungsrelaxationsmittel enthält.
9. Magnetischer Aufzeichnungsträger nach Anspruch 8. dadurch gekennzeichnet, daß das Spannungsrelaxationsmittel
eines oder eine Kombination von zwei oder mehr organischen Polymeren enthält, die eine auf das anorganische Polymer reagierende
funktionell Gruppe besitzen.
IC. Magnetischer Aufzeichnungsträger nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß das Spannungsrelaxationsmittel
eines oder zwei oder mehr «> Metalloxide enthält.
11. Magnetischer Aufzeichnungsträger nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß das Spannungsrelaxationsmittel
ein Silanhaftmittel enthält.
12. Magnetischer Aufzeichnungsträger nach An- b5
spruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß das Spannungsrelaxationsmittel
ein Oberflächenhaftmittel enthält.
13. Magnetischer Aufzeichnungsträger nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß das Spannungsrelaxationsmittel
eine Kombination aus zwei oder mehr Elementen enthält, die ein organisches
Polymer mit einer mit dem anorganischen Polymer reagierenden funktionellen Gruppe, ein Metalloxid,
ein Silanhaftmittel und ein Oberflächenhaftmittel umfassen.
14. Magnetischer Aufzeichnungsträger nach Anspruch 9 oder 13, dadurch gekennzeichnet, daß die
mit dem anorganischen Polymer reagierende funktionelle Gruppe ein oder eine Kombination von zwei
oder mehr Elementen, die
-COOH, -NH2, -RcI, -SH, -COOR,
-NHR, >NH, -CHO, Si-OH, Si-OR, Si-X,
-CH-CH2, -CH2OH, -CH-CH2, -OCOR
\ / N κ
O N
und -OH
umfassen und die in anorganischen Polymeren enthalten sind, wobei R ein Alcylradical und X ein
Halogen bezeichnet.
15. Magnetischer Aufzeichnungsträger nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß das
organische Polymer, das eine auf das anorganische Polymer reagierende funktionell Gruppe enthält,
N-Methoxymethyl-Nylon, ein Silikonzwischenprodukt, Epoxidharz. Phenolharz. Melaminharz, Harnharz,
Zellulose, Polyvinylharz, Polyisozyanat oder Polymethylmethakrylat enthält.
16. Magnetischer Aufzeichnungsträger nach Anspruch 10 oder 13. dadurch gekennzeichnet, daß das
Metalloxid BaO, SrO, Li2O. Ν^,Ο, K2O. Rb2O, Cs2O.
La2O3, As2Oj, OsO4, B2O3, Sb2O3. Re2O7. CrOj. RuO4.
Tl2O oder TI2O1 ist.
17. Magnetischer Aufzeichnungsträger nach Anspruch 11 oder 13, dadurch gekennzeichnet, daß das
Silanhaftmittel Pol>aminosilan enthalt.
18. Magnetischer Aufzeichnungsträger nach Anspruch 1. dadurch gekennzeichnet, daß eine
Schmiermittelschicht (8) auf dem Hydrolysepolymer aus Metallalkoxid im anorganischen Polymerfilm (7)
gebildet ist.
19. Magnetischer Aufzeichnungsträger nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, daß das
Schmiermittel ein orientiertes Schmiermittel ist.
20. Magnetischer Aufzeichnungsträger nach Anspruch 19. dadurch gekennzeichnet, daß das
orientierte Schmiermittel fluoriertes Alkoxysilan. Alkoxysilan. Chlorsilan. Silazan oder eine Kombination
davon ist.
21. Magnetischer Aufzeichnungsträger nach Anspruch
19. dadurch gekennzeichnet, daß das orientierte Schmiermittel eine oder eine Kombination
aus orientiertem Dimethyl-Silikonöl. Methylphenyl-Silikonöl,
Fluor-Silikonöl oder Fluoröl ist.
22. Magnetischer Aufzeichnungsträger nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß eine Fluorierte
Alkoxysilan-Schicht als Schmiermiüelschicht auf dem Polysilikat in der anorganischen Polymerschicht
(7) gebildet ist.
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Families Citing this family (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5798134A (en) * | 1980-12-11 | 1982-06-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetic recording body |
JPS5798135A (en) * | 1980-12-11 | 1982-06-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetic recording medium |
JPS6033192B2 (ja) * | 1980-12-24 | 1985-08-01 | 日本鋼管株式会社 | 耐食性、塗料密着性、塗装耐食性のすぐれた複合被覆鋼板 |
JPS57133520A (en) * | 1981-02-10 | 1982-08-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetic recording medium |
JPS57143729A (en) * | 1981-02-27 | 1982-09-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetic recording medium |
US4495242A (en) * | 1981-04-02 | 1985-01-22 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
DE3212907C2 (de) * | 1981-04-06 | 1985-10-24 | Olympus Optical Co., Ltd., Tokio/Tokyo | Magnetband sowie Verfahren zu dessen Herstellung |
JPS5883346A (ja) * | 1981-11-10 | 1983-05-19 | Kokusai Denshin Denwa Co Ltd <Kdd> | 光磁気記録媒体 |
JPS5968815A (ja) * | 1982-10-12 | 1984-04-18 | Sony Corp | 磁気記録媒体 |
JPS5979426A (ja) * | 1982-10-29 | 1984-05-08 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
JPS59119532A (ja) * | 1982-12-25 | 1984-07-10 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
JPS59140654A (ja) * | 1983-01-31 | 1984-08-13 | Canon Inc | 光熱磁気記録媒体 |
EP0123707B1 (de) * | 1983-05-02 | 1987-10-21 | Ibm Deutschland Gmbh | Anordnung aus einer mit einem Schmierstoff versehenen Magnetplatte und einem Magnetkopf und Verfahren zum Herstellen der Anordnung |
JPS605423A (ja) * | 1983-06-22 | 1985-01-12 | Fujitsu Ltd | 連続磁性膜型磁気記録媒体 |
US4529659A (en) * | 1983-11-05 | 1985-07-16 | Nippon Telegraph & Telephone Public Corporation | Magnetic recording member and process for manufacturing the same |
JPS60138720A (ja) * | 1983-12-27 | 1985-07-23 | Sharp Corp | 垂直磁気記録媒体 |
US4552820A (en) * | 1984-04-25 | 1985-11-12 | Lin Data Corporation | Disc media |
JPS60229233A (ja) * | 1984-04-27 | 1985-11-14 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | 磁気ディスク用基板の製造方法 |
JPS6150236A (ja) * | 1984-08-18 | 1986-03-12 | Canon Inc | 磁気記録媒体の製造方法 |
US4923574A (en) * | 1984-11-13 | 1990-05-08 | Uri Cohen | Method for making a record member with a metallic antifriction overcoat |
US4698251A (en) * | 1985-01-22 | 1987-10-06 | Victor Company Of Japan, Limited | Magnetic recording medium and method of producing the same |
ATE44837T1 (de) * | 1985-03-29 | 1989-08-15 | Siemens Ag | Senkrecht zu magnetisierendes aufzeichnungsmedium und verfahren zu dessen herstellung. |
JPH0715752B2 (ja) * | 1985-06-29 | 1995-02-22 | 株式会社東芝 | 磁気記録媒体 |
FR2584847B1 (fr) * | 1985-07-15 | 1987-10-16 | Bull Sa | Support d'enregistrement perpendiculaire magnetiquement anisotrope |
JP2633230B2 (ja) * | 1985-09-26 | 1997-07-23 | 日本電気株式会社 | 磁気記憶体 |
US4758474A (en) * | 1985-11-20 | 1988-07-19 | Nec Corporation | Magnetic recording member |
US6379801B1 (en) | 1998-12-07 | 2002-04-30 | Seagate Technology, Llc | Silane derivatized lubricants for magnetic recording media |
US6468947B1 (en) | 1999-03-26 | 2002-10-22 | Seagate Technology Llc | Lubricants with improved stability for magnetic recording media |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1282084B (de) * | 1966-12-01 | 1968-11-07 | Ncr Co | Magnetischer Aufzeichnungstraeger und Verfahren zur Herstellung seiner UEberzugsschicht |
US4124736A (en) * | 1974-10-29 | 1978-11-07 | Poly-Disc Systems, Inc. | Surface protected magnetic recording members |
JPS5220804A (en) * | 1975-07-01 | 1977-02-17 | Nec Corp | Magnetic memory device and the manufacturing method |
US4162350A (en) * | 1975-07-01 | 1979-07-24 | Nippon Electric Co., Ltd. | Magnetic record member |
US4154875A (en) * | 1975-07-01 | 1979-05-15 | Nippon Electric Co., Ltd. | Process for manufacturing a magnetic record member |
US4206256A (en) * | 1975-08-21 | 1980-06-03 | Rca Corporation | Metallized video disc having an insulating layer thereon |
JPS5255603A (en) * | 1975-10-31 | 1977-05-07 | Nec Corp | Magnetic memory element and production of same |
DE2559259A1 (de) * | 1975-12-31 | 1977-07-14 | Dynamit Nobel Ag | Silane mit verkappten funktionellen gruppen als haftvermittler |
US4079169A (en) * | 1976-11-15 | 1978-03-14 | International Business Machines Corporation | Cobalt base alloy as protective layer for magnetic recording media |
US4152487A (en) * | 1976-12-17 | 1979-05-01 | Nippon Electric Co., Ltd. | Magnetic record member |
DE2756254C3 (de) * | 1976-12-17 | 1981-12-24 | Nippon Electric Co., Ltd., Tokyo | Magnetaufzeichnungselement |
US4224381A (en) * | 1978-10-19 | 1980-09-23 | Poly Disc Systems, Inc. | Abrasion resistant magnetic record members |
-
1979
- 1979-06-12 DE DE2923682A patent/DE2923682C2/de not_active Expired
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Publication number | Publication date |
---|---|
DE2923682A1 (de) | 1979-12-20 |
US4307156A (en) | 1981-12-22 |
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