DE2814750C2 - Verfahren zu Herstellung von disubstituierten Dichlorsilanen - Google Patents
Verfahren zu Herstellung von disubstituierten DichlorsilanenInfo
- Publication number
- DE2814750C2 DE2814750C2 DE2814750A DE2814750A DE2814750C2 DE 2814750 C2 DE2814750 C2 DE 2814750C2 DE 2814750 A DE2814750 A DE 2814750A DE 2814750 A DE2814750 A DE 2814750A DE 2814750 C2 DE2814750 C2 DE 2814750C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- pph
- mol
- carbon atoms
- dichlorosilane
- pphj
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N dichlorosilane Chemical class Cl[SiH2]Cl MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 8
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 15
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 13
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 7
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 claims description 3
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 claims description 2
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 16
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 13
- -1 monosubstituted dichlorosilane Chemical class 0.000 description 11
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 10
- 239000000047 product Substances 0.000 description 9
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 8
- NYKYPUSQZAJABL-UHFFFAOYSA-N dichloro(hexyl)silane Chemical compound CCCCCC[SiH](Cl)Cl NYKYPUSQZAJABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- PXLREXIFXBMRFT-UHFFFAOYSA-N dichloro(octadecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[SiH](Cl)Cl PXLREXIFXBMRFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- CRSBERNSMYQZNG-UHFFFAOYSA-N 1-dodecene Chemical compound CCCCCCCCCCC=C CRSBERNSMYQZNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- GUSPMMRBFSIHDG-UHFFFAOYSA-N Cl[SiH](Cl)CCC1=CC=CC=C1 Chemical compound Cl[SiH](Cl)CCC1=CC=CC=C1 GUSPMMRBFSIHDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N cyclohexene Chemical class C1CCC=CC1 HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QYHJCPUWIKKKGA-UHFFFAOYSA-N dichloro-cyclohexyl-(2-phenylethyl)silane Chemical compound C1CCCCC1[Si](Cl)(Cl)CCC1=CC=CC=C1 QYHJCPUWIKKKGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 5
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 5
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000009102 absorption Effects 0.000 description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 4
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 4
- LVKAGPJYCZIYLB-UHFFFAOYSA-N dichloro(dodecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCC[SiH](Cl)Cl LVKAGPJYCZIYLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SJTARAZFCVDEIM-UHFFFAOYSA-N dichloro(propyl)silane Chemical class CCC[SiH](Cl)Cl SJTARAZFCVDEIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940069096 dodecene Drugs 0.000 description 3
- 239000010687 lubricating oil Substances 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 3
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 3
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 3
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 2
- KUNSHWNTCFZUJI-UHFFFAOYSA-N dichloro-dodecyl-propylsilane Chemical compound CCCCCCCCCCCC[Si](Cl)(Cl)CCC KUNSHWNTCFZUJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 240000007594 Oryza sativa Species 0.000 description 1
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 1
- 229910003930 SiCb Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 1
- SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N chlorosilicon Chemical compound Cl[Si] SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- XNAFLNBULDHNJS-UHFFFAOYSA-N dichloro(phenyl)silicon Chemical compound Cl[Si](Cl)C1=CC=CC=C1 XNAFLNBULDHNJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSOMYYQBEDDFBJ-UHFFFAOYSA-N dichloro-cyclohexyl-hexylsilane Chemical compound CCCCCC[Si](Cl)(Cl)C1CCCCC1 DSOMYYQBEDDFBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFVFNJHZBMHRCO-UHFFFAOYSA-N dichloro-decyl-methylsilane Chemical compound CCCCCCCCCC[Si](C)(Cl)Cl UFVFNJHZBMHRCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDJRNSFHFDBOBA-UHFFFAOYSA-N dichloro-dodecyl-hexylsilane Chemical compound CCCCCCCCCCCC[Si](Cl)(Cl)CCCCCC QDJRNSFHFDBOBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHPSDDXTQSOFQZ-UHFFFAOYSA-N dichloro-dodecyl-octadecylsilane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](Cl)(Cl)CCCCCCCCCCCC HHPSDDXTQSOFQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNECSTWRDNQOLT-UHFFFAOYSA-N dichloro-ethyl-methylsilane Chemical compound CC[Si](C)(Cl)Cl PNECSTWRDNQOLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGADWIDDHIDENL-UHFFFAOYSA-N dichloro-hexyl-octadecylsilane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](Cl)(Cl)CCCCCC YGADWIDDHIDENL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMVRHRGCLMRJAO-UHFFFAOYSA-N dichloro-octadecyl-octylsilane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](Cl)(Cl)CCCCCCCC AMVRHRGCLMRJAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQKUSXJSJYGPIM-UHFFFAOYSA-N dichloro-octadecyl-propylsilane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](Cl)(Cl)CCC GQKUSXJSJYGPIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSJRDKBQAGCUAP-UHFFFAOYSA-N dichloro-octyl-propylsilane Chemical compound CCCCCCCC[Si](Cl)(Cl)CCC PSJRDKBQAGCUAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/14—Preparation thereof from optionally substituted halogenated silanes and hydrocarbons hydrosilylation reactions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
Description
zu einem monosubstituierten Dichiorsiian der allgemeinen Formel R0HSiCIi, worin R0 ein Alkyl mit 2 bis
20 Kohlenstoffatomen, Cyclohexyl oder Phenyl bedeutet, umsetzt und
b) das in a) erhaltene monosubstituierte Dichlorsilan mit einem Ä-Olefin mit 2 bis 20 Kohlenstoffatomen,
25 das in der Anzahl der Kohlenstoffatome von. dem zuerst verwendeten verschieden ist, oder mit Cyclohe-
xen (ausgenommen, wenn R0 Alkyl oder Cyclohexyl ist) in an sich bekannter Weise in Gegenwart von
Chlorplatinsäure umsetzt
j» Disubstituiei te Dichlorsilane sind wichtig als bifunktionelle Monomere für Polysiloxane. (Sie werden nachfol-
p gend als Monomere bez-;ichne;>
Die Monomeren, die bisher verwendet wurden, sind meistens solche gewesen,
|| bei denen die Substituents Methyl oder Phenyl waren und zwei Substituenten gleich waren. Im Hinblick auf die
β 35 neueren Entwicklungen auf dem Tiliconharzgebiet sind Siliconharze mit besonderen Eigenschaften notwendig
ig geworden und hierfür benötigt man disubstituierte Dichlorsilanverbindungen, wie sie bisher noch nicht bekannt
iff waren. Zu solchen Verbindungen gehören beispielsweise solche, welche zwei verschiedene Alkylgruppen haben.
*M Die bekannten Dialkyldichlorsilane waren bisher im wesentlichen solche, bei denen die beiden Alkylgruppen
■"'■ gleich waren oder eine von ihnen Methyl bedeutete. Die Alkyldichlorsilane, die bisher technisch verwertet
vi 40 wurden waren solche, welche die gleichen Alkylgruppen enthielten, nämlich Dimethyl- oder Ditihyldichlorsilane
Ρ- und solche, die verschiedene Alkylgruppen enthielten, waren Melhyl-älhyldichlorsilan, Methyl-hexyldichlorsil2n
;'| bzw. Methyl-decyldichlorsilan. Aus der Literatur bekannt sind weiterhin Verbindungen, wie
f\ C2H5SiCl2Oi-C4H.))(Chemical Abstracts, Bd. 50, S17844c, nachfolgend abgekürzt als C. A. 50,7844e),
U C2H5SiCI2CH2CH(CH1J2 (C. A. 50,13726 0.
μ 45 C2H5SiClKn-CH13)(C. A.62,2795 c).
% C2H5SiCI2(n-C7H„)(C. A. 76,3055b),
; C3H7SiCI2Oi-C6H,j) (C. A. 73.13 777 r).
f'; Unter den disubstituierten Dichlorsilanen mit einer zyklischen Gruppe findet man in der Literatur nur Verbin-
"ί düngen wie
Hi 50 C2H5SiCl2(CH2CH2Ph)(C. A. 68,44 645 x),
>i C2H5SiCl2[CH(CH3)Ph] (C. A. 54.22 435 c)
\y und Phenyldichlorsilan.
|j Als Herstellungsverfahren für disubstituierte Dichlorsilane kann man sich eine Verfahrensweise denken, bei
■■' welcher in monosubstituierten Dichlorsilanen der allgemeinen Formel RHSiCI2 (worin R einen organischen Rest
\f 55 bedeutet) ein H, das mit Si verbunden ist, ersetzt wird durch einen anderen Substituenten, jedoch bilden sich bei
■:'· der Herstellung von RHSiCI2 Nebenprodukte.
'.'■■'. Aufgabe der Erfindung ist es, die Herstellung von disubsliluierten Dichlorsilanen mit unterschiedlichen
Substituenten zu zeigen welche nicht die bekannten Nachteile der üblichen Verfahren aufweisen.
Diese Aufgabe wird durch das Verfahren nach dem Patentanspruch gelöst.
60 Erfindungsgemäß herstellbare Verbindungen der allgemeinen Formel (1) in denen R' eine Alkylgruppe mit 2
bis 3 Kohlenstoffatomen und R" eine Alkylgruppe mit 8 bis 20 Kohlenstoffatomen bedeuten sind n-Äthy!-n-oc-
tyldichlorsilan, n-Propyl-n-octyldichlorsilan, n-Äthyidodccyldichlorsilan. n-Propyl-dodecyldichlorsilan, n-Äthyloctadecyldichlorsilan
und n-Propyl-octadecyldichlorsilan.
Dialkyldichlorsilane der allgemeinen Formel (I), in denen R' eine Alkylgruppe mit 4 bis 20 Kohlenstoffatomen
65 und R" eine davon unterschiedliche Alkylgruppe mit 5 bis 20 Kohlenstoffatomen bedeuten, wobei Verbindungen
mit einer Anzahl von Kohlenstoffatomen in R' und R", die um mindestens 6 sich unterscheiden, besonders
bevorzugt werden, sind n-Hexyl-dodecyidichlorsikin, n-Hcxyl-oct;idci:yl-dichlorsilan. n-Dodecyl-octadecyldichlorsilan
und n-Octyl-octadecyldichlorsilan.
Die erfindungsgemäß herstellbare Verbindung Cyclohexyl-phenäthyldichlorsilan hat die Formel
10
Als Katalysatoren für die erste Reaktionsstufe werden die folgenden verwendet:
15
RhH(PPhJ)4; RhH(COXPPhj)3; RhCI(COXPPh j)2; RhCl(PPhj),; RuCI2(PPhJ)3; RuHCI(PPhJ)3[CiH6];
RuHa(PPhJ)3CbH5CHj; RuHj(PPh3 J3[Si(OCHj)3]; RuH1(PPh3)J[Si(OCHj)2Ph]; RuH(PPh3HSi(C2Hs)2Cl];
RuH2(PPhJ)4; NiCI2(PPhJ)2; PdCI2(PPh3J2; Pd(PPh3J4 und Pt(PPh3J4.
RuHa(PPhJ)3CbH5CHj; RuHj(PPh3 J3[Si(OCHj)3]; RuH1(PPh3)J[Si(OCHj)2Ph]; RuH(PPh3HSi(C2Hs)2Cl];
RuH2(PPhJ)4; NiCI2(PPhJ)2; PdCI2(PPh3J2; Pd(PPh3J4 und Pt(PPh3J4.
20
Die Konzentration des Katalysators liegt beim erfindungsgemäßen Verfahren im Bereich v.-r, 1 bis ungefähr
ΙΟ-'5 Mol%, vorzugsweise 1 bis ungefähr 1O-" f*'ol-% pro Dichlorsilan in der ersten Reaktionsst ife und bei 1
bis ungefähr 10~15 Mol-%, vorzugsweise 1 bis ungefähr 10-8 Mol-% pro monosubstituiertem Dichlorsilan bei
der zweiten Reaktionsstufe.
Die Reaktionstemperatur liegt in beiden Stufen bei Temperaturen von 30 bis 1500C und die Reaktionszeit im
Bereich von 0,1 bis 60 Stunden.
Zur Herstellung von Cyclohexyl-phenäthyldichlorsilan werden Dichlorsilan und Styrol in Gegenwart des
Katalysators umgesetzt, wobei man Phenäthyldichlorsilan erhält, und dieses Phenäthyldichlorsilan und Cyclohexen
werden dann in Gegenwart eines Chlorplalinsäurekatalysators umgesetzt.
Die erfindungsgemäß herstellbaren Verbindungen sind neue Verbindungen und können als Monomere für
Polysiloxane für Siliconkautschuk, Siliconöle, Siliconfette, Siliconlacke und dergleichen verwendet werden.
Die am häufigsten verwendeten Polysiloxane sind meistens Niedrig-dialkylpolysiloxane mit Methyl- oder
Äthylgruppen. Diese Niedrig-dialkylpolysiloxane haben Nachteile, weil sie mit verschiedenen Polymeren und
Lösungsmitteln nur schlecht verträglich sind, weil ihre Niedrigtemperatureigenschaften schlecht sind, weil im
Falle der Verwendung als Schmiermittel die Schmicreigenschaften unter Grenzbedingungen schlecht sind, weil
auch ihre Eigenschaften als Beschichtungsmittel bei Anstrichen im Falle ihrer Verwendung als Freigabemittel
schlecht sind, so daß aus diesen Gründen die Anwendung nur sehr begrenzt möglich ist.
Die Polysiloxane, die aus den erfindungsgemäßen Dialkyldichlorsilanen hergestellt werden können, können
hinsichtlich der Verträglichkeit mit anderen Polymeren und Lösungsmitteln verbessert werden, indem man die
Alkylgruppen in R' und R" der Formel (I) in geeigneter Weise wählt.
Diese Tatsache ist besonders vorteilhaft, wenn das Polysilc^an für Anstriche verwendet wird. Weiterhin ist es
möglich, die Niedrigtemperatureigenschaften von Polysiloxanen gleichzeitig erheblich zu erhöhen und man
kann erwarten, daß diese Eignung dieses Materials ihre weitere Entwicklung in kalten Gebieten fördern wird. Da
dieses Material auch mit anderen Schmierölen besonders gut verträglich ist, trägt es dazu bei, die Eigenschaften
und Anwendungsgebiete von Schmierölen zu verbessern bzw. zu erweitern. Als Trennmittel iil es möglich,
Polysiloxane zu erhalten, mit überlegenen Beschichtungseigenschaften im Vergleich zu üblichen Produkten.
Schließlich sind sie auch als Weichmacher geeignet.
Aus Cyclohexyl-phenäthyldichlorsilan ist es möglich. Polysiloxane herzustellen, die bisher nicht hergestellt
werden konnten, indem man sie der Hydrolyse unterwirft und anschließend polykondensiert oder indem man sie
zuerst copolykondenaiert mit einem bifunktionellen Polysiloxanmonomeren der bekannten Art. Sie sind sehr
brauchbar für die Verbesserung von Siliconölen, Kautschuken, Lacken, wie sie auf weiten Gebieten für elektrische
Isolierungen verwendet werden, Schmierölen, wasserabsioßendmachenden Mitteln. Anstrichmitteln und
Freigabemittcln.
Das erfindungsgemäße Verfahren wird anhand der Beispiele näher erläutert.
Die Infrarotspektren und N M R-Spektren von einigen Verbindungen der Reispiclc werden in den F i g. 1 bb 6
gezeigt, wie aus der folgenden Tabelle hervorgeht.
60
Tabelle | 28 14 750 | Verbindung | i.R. N.M.R. I.R. N.M.R. I.R. N.M.R. |
Nr. der FiS- |
Beispiel | n-Hexyldichlorsilan desgl. n-Hexyl-dodccyldichlorsilan desgl. Cyclohcxyl-phenäthyldichlorsilan desgl. |
Fig. i Fig. 4 Fig. 2 Fig. 5 Fig. 3 Fig. 6 |
||
Beispiel 1 Beispiel 4 |
||||
a) Dichlorsilan in einer Menge von 74,7 g (0,74 Mol). 63.0 g I-Hcxen (0.75 Mol) und als Katalysator 0.684 g
RhCI(PPh j)i (7,4 ■ 10 ■« Mol) wurden in ein 500 ml Druckgefäß aus einem rostfreien Stahlrohr gegeben und nach
dem Verschließen wurde die Umsetzung durchgeführt durch Erhitzen auf einem Ölbad bei einer Temperatur
von 900C während 13 Stunden. Die Reaktionsfiüssigkeit wurde im Vakuum destilliert, wuuei man !!Og
(0,59 Mol) n-Hexyldichlorsilan erhielt. Der Siedepunkt dieses Produktes betrug 100 bis l02°C/100 mm Hg und
der Brechungsindex η™ 1,4412. Das Infrarotspektrum dieses Produktes, wie es in Fig. 1 gezeigt wird, zeigte die
charakteristischen Absorptionen von Si-H bei 2213cm-' an. Das NMR-Spektrum dieses Produktes wird in
Fig.4 gezeigt. Diese Spektren bestätigen, daß es sich bei dem Produkt um das der Formel (n-C<,Hn)SiHCl2
handelt.
b) Das so erhaltene n-Hexyldichlorsilan in einer Menge von 3,33 g (18 mmol), 3,36 g (20 mmol) 1-Dodecen und
als Katalysator eine Lösung aus H2PtCU · 6 H2O in Isopropanol (0.05 Mol-%, bezogen auf Dichlorsilan) wurden
in einen Kolben, der mit einem Kühler ausgerüstet war, gegeben und die Mischung wurde unter Rühren auf
einem Ölbad 15Stunden auf 500C erhitzt und umgesetzt. Nach ucr Umsetzung wurde die Reaktionslösung
destilliert, wobei man 5.7 g (16 mmol) n-Hexyl-dodecyldichlorsilan in einer Ausbeute von 89%, bezogen auf
n-Hexyldichlorsilan, erhielt. Das Infrarotspektrum dieser Verbindung wird in F i g. 2 gezeigt. Die Absorption der
Si-H-Bande bei 2213 cm-' ist verschwunden, das NMR-Spektrum dieser Verbindung wird in F i g. 5 gezeigt. Die
Formel(n-CHi3)(n-Ci2H2s)SiCI2fürdicse Verbindung wurde somit bestätigt.
B e i s ρ i e I 2
a) Dichlorsilan in einer Menge von 75,8 g (0.75 Mol), 228,5 g 1-Dodeccn (1.36 Mol) und 0.05 Mol-% (bezogen
auf Dichiorsiian) NiCi2-(PPhj)2 ais Katalysator wurden in einem dfuekiesten 500 rni-Rcaktor aus rostfreiem Stahl
vorgelegt und der Reaktor wurde versiegelt. Die Umsetzung wurde 30 Stunden bei 100°C durchgeführt und die
umgesetzte Flüssigkeit wurde destilliert, wobei man n-Dodecyldichlorsilan (n-Ci2H25SiH Cl2) erhielt.
b) Das so erhaltene n-Dodecycldichlorsilan in einer Menge von 161,4 g (0.6 Mol), 22,4 g Äthylen (0,8 Mol) und
eine Lösung aus H3PtCU ■ 6 H2O in Isopropanol (0,05 Mol-%. bezogen auf n-Dodecyldichlorsilan) wurden in
einen druckbeständigen Reaktor aus rostfreiem Stahl gegeben. Nach dem Verschließen wurde die Umsetzung
25 Stunden bei 500C durchgeführt, wobei man 159.2 g (054 Mol) n-Dodecyl-äthyldichlorsilan [(n-C12Hj^XC3Hs)SiCl2]
in einer Ausbeute von 90%. bezogen auf n-Dodecyldichlorsilan erhielt.
a) Dichlorsilan in einer Menge von 60.6 g (0.6 Mol). 176.4 g 1-Octadcccn (0.7 Mol) und 0,07 Mol-% RhCl(PPh)i
(bezogen auf Dichlorsilan) wurden in einen druckfesten 500 ml-Reaktor aus rostfreiem Stahl gegeben. Nach dem
Verschließen wurde die Umsetzung 30 Stunden bei 130°C durchgeführt. Die umgesetzte Flüssigkeit wurdo im
Vakuum destilliert, wobei man n-Octadecyldichlorsilan (n-CieH 17SiHCI2) erhielt
b) 1765 g (05MoI) des so gebildeten n-Octadecyldichlorsilans, 50,4 g 1-Hexen (0,6 Mol) und 0,05 Mol-%
(bezogen auf n-Octadecyldichlorsilan) H2PtCI2 ■ 6 H2O. gelöst in Isopropanol, wurden in einem Kolben unter
Rühren bei 50°C während 25 Stunden umgesetzt, wobei man 186.0 g (0,43 Mol) n-Hexyl-octadecyldichlorsilan
[(n-QH !3Xn-C9Hj7)SiCb] in einer Ausbeute von 85%. bezogen auf n-Octadecyldichlorsilan, erhielt
Vergleichsversuch 1
835 g Dichlorsilan (0. 827 Mol), 88.6 g 1-Hexen (1.08 Mol) und 0,05 Mol-% Chlorplatinsäure (bezogen auf
Dichlorsilan) wurden in einem Reaktor aus rostfreiem Stahl vorgelegt und die Umsetzung wurde 5 Stunden bei
50°C vorgenommen. Nach der Umsetzung wurde der Reaktor geöffnet und die umgesetzte Flüssigkeit wurde
entnommen und im Vakuum destilliert, wobei man n-Hexyldichlorsilan in einer Ausbeute von 18% und Di-n-
„5 hexyldichlorsilan in einer Ausbeute von 72% erhielt
Dieses n-Hexyidichlorsilan in einer Menge von 305 g (0.J65 Mol), 17.2 g Cyclohcxcn (0.2 Mo!) und 0,05 Mo!
Chlorplatinsäure (bezogen auf Hexyldichlorsilan) wurden in einem Kolben unter Rühren 20 Stunden bei einer
Temperatur von 40° C umgesetzt Man erhielt kein Hexyl-cyclohexyldichlorsilan.
14 /DU j
B c i s ρ i e I 4 ■ j
a) Dichlorsilan in einer Menge von 5,35 g (53.0 mmol), 5,70 g Styrol (54,7 nimol) und als Katalysator 0.0490 g :'|
(5,3 · 10~s McI) RhCI(PPh))j wurden in einem druckfcslcn 100 ml-Rcaktor aus rostfreiem Stahl vorgelegt und U
nach dem Verschließen wurde die Umsetzung durch 20stiindiges Erhitzen auf einem ölbad bei 800C durchge- ■>
ü führt. Die umgesetzte Flüssigkeit wurde anschließend im Vakuum destilliert, wobei man 9,5 g (46,3 mmol) eines
Produktes mit einem Siedepunkt von 76 bis 77°C/3 mmHg und mit einem Brechungsindex nj," von 1,5199
erhell.
DaS IR-Spektrum dieses Produktes zeigte eine charakteristische Absorption von Si-H bei 2206cm-'. Das
NMR-Spektrum zeigte Signale von Si-H, Si-CH2, CoH5-CH2- und Ct,H5-Protonen, bei den Peaks, 5,52 ppm,
1,53 ppm, 2,88 ppm und 7,22 ppm. Aur diesen Ergebnissen wird ersichtlich, daß es sich bei dem Produkt um
Phenäthyldichlorsilan handelte.
b) In einen druckbeständigen Reaktor aus rostfreiem Stahl mit 100 ml Inhalt wurden 6,21 g (30,3 mmol) des
vorerwähnten Phenäthyldichlorsilans, 4,47 g (54,4 mmol) Cyclohexen und 0,1 ml Chlorplatinsäurelösung in Isopropanol
(03 Mol-%, bezogen auf Phenäthyldichlorsilan) gegeben und der Reaktor wurde verschlossen. Die
Umsetzung wurde unter Rühren während 17,5 Stunden auf einem ölbad bei 1000C durchgeführt. Nach Beendigung
der Umsetzung wurde die umgesetzte Lösung im Vakuum destilliert, wobei man 5,30 g (18.4 mmol) in einer
Ausbeute von 61%, bezogen auf Phenäthyldichlorsilan, Cyclohexyl-phenäthyldichlorsilan erhielt. Dieses Cylcohexyl-phenäthylphenäthyld'.chlorsüan
erhielt. Diese? Cyclohcyl-phpniiihylrlirhlnrsilan siedet hei 112.8 his
115,4"Χ/2,0 mmHg. Das IR-Spektrum dieser Verbindung wird in F i g. 3 gezeigt. Es gibt keine charakteristische
Absorption des Si-H bei 2100cm-'. Das NMR-Spektrum wird in Fig. 6 gezeigt. Man erkennt Signale von
£ Werten bei 1,0 bis ungefähr 2,0 ppm (Si-CH2 und C-CH2-); bei 2.4 bis 3,0 ppm (-CH2-C6H5) und 7,15 ppm
(-Ct1H5). Das Verhältnis dieser Signale war 14:2:5. Bei der massenspektrografischen Analyse wurde für das
Hauption M + 286 festgestellt.
Aus diesen Ergebnissen bestätigt sich, daß es sich bei dem Produkt um das der Formel (III), nämlich um
Cyclohexyl-phenäthyldichlorsilan, handelt.
176,5 g (0,5 Mol) n-Octadecyldichlorsilan, das nach einem Verfahren gleich dem des Beispiels 3 erhalten wurde,
33,7 g (0,6 Mol) 1-Buten und 0,05 Mol-% einer isopropanolischen Lösung von H2PtCU · 6 H2O (bezogen auf
n-Octadecyldichlorsilan) wurden in ein 500 ml druckfreies Reaktionsrohr aus rostfreiem Stahl gegeben, und nach
dem Verschließen wurde die Mischung 2 Stunden auf 500C erhitzt, wobei man 176,9 g (0,43 Mol) n-Butyl-octadecyldichlosilan
[(n-C^Hi)) (n-CisH W)SiCl2] in einer Ausbeute von 90%. bezogen auf n-Octadecyldichlorsilan, erhielt
a) 763 g (0,76 Mol) Dichlorsilan, 33,6 g (0,8 Mol) Propylen und 0.1 Mol-% (bezogen auf Dichlorsilan)
RuH2(PPhS)* wurden in einem druckfesten 500 ml-Reaktor aus rostfreiem Stahl vorgelegt und der Reaktor
wurde verschlossen. Nach 5-stündiger Umsetzung bei 1100C wurde die umgesetzte Lösung destilliert wobei man
n-Propyldichlorsilan Hn-C1H7)SiHCl2] erhielt.
b) 57,2 g (0,4 Mol) dieses n-Propyldichlorsilans, 84,2 g (0,5 Mol) 1-Dodecen und 0,05 Mol-% (bezogen auf
n-Propyldichlorsilan) einer isopropanolischen Lösung von HjPtCIt, · 6 H2O wurden unter 5stündigem Rühren in
einem Kolben bei 500C umgesetzt, wobei man 109,4 g (035 Mol) n-Propyl-dodecyldichlorsilan [(X
2] in einer Ausbeute von 88%, bezogen auf n-Propyldichlorsilan, erhielt.
Hierzu 3 Blatt Zeichnungen
Z.
Claims (1)
- Patentanspruch:Verfahren zur Herstellung von disubstituierten Dichlorsilanen der allgemeinen Formel 5 R' ClR" Clworin R' eine Alkylgruppe mit 2 oder 3 Kohlenstoffatomen und R" eine Alkylgruppe mit 8 bis 20 Kohlenstoffatomen bedeutet, oder R' eine Alkylgruppe mit 4 bis 20 Kohlenstoffatomen und R" eine Alkylgruppe mit 5 bis 20 Kohlenstoffatomen, die y.T.ersehied'.ich von R' ist. bedeuten, oder R' eine Phenäthylgruppe und R" eine Cyclohexylgruppe bedeuten, dadurchge kennzeichnet,daß man15 a) Dichlorsilan bei Temperaturen von 30 bis 1500C und einer Reaktionszeit von 0,1 bis 60 h mit einem Λ-Olefin mit 2 bis 20 Kohlenstoffatomen, Cyclohexcn oder Styrol in Gegenwart eines Katalysators aus der GruppeRhH(PPh3)*; RhH(COXPPh^)3; RhCl(COXPPh3)2; RhCl(PPh3)3; RuCl2(PPhJ)3; RuHCl(PPh3)S[C6H6]; RuHCI(PPhJ)3C6H5CH3; RuH3(PPh3 J3[Si(OCH3)J; RuHj(PPh3)JfSi(OCH3)^Ph]; 20 RuH(PPh3)J[Si(C2Hs)2Cl]; RuH2(PPh3J4; NiCl^PPh^; PdCI2(PPhJ)2; Pd(PPh1J4; Pt(PPh3J4
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4168677A JPS53127419A (en) | 1977-04-12 | 1977-04-12 | Dialkyl dichlorosilanes |
JP7818677A JPS5412355A (en) | 1977-06-30 | 1977-06-30 | Alkyl cyclohexyldichlorosilane compounds and their preparation |
JP658478A JPS54100356A (en) | 1978-01-24 | 1978-01-24 | Cyclohexyl phenethyl-dichlorosilane |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2814750A1 DE2814750A1 (de) | 1978-10-19 |
DE2814750C2 true DE2814750C2 (de) | 1984-10-18 |
Family
ID=27277231
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2814750A Expired DE2814750C2 (de) | 1977-04-12 | 1978-04-05 | Verfahren zu Herstellung von disubstituierten Dichlorsilanen |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4297499A (de) |
CH (1) | CH635348A5 (de) |
DE (1) | DE2814750C2 (de) |
FR (1) | FR2387238A1 (de) |
GB (1) | GB1590057A (de) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4299923A (en) * | 1980-03-27 | 1981-11-10 | Union Carbide Corporation | Alkyl-modified siloxane copolymers useful as foam stabilizers in high resilience polyurethane foam |
EP0177454B1 (de) * | 1984-10-04 | 1988-12-21 | Ciba-Geigy Ag | Silane, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung |
JPS61221191A (ja) | 1985-03-26 | 1986-10-01 | Toshiba Silicone Co Ltd | クロロシラン化合物 |
JPH01132591A (ja) * | 1987-11-18 | 1989-05-25 | Toshiba Silicone Co Ltd | 二量体化されたビニルビシクロヘプチル基含有ケイ素化合物およびその製造方法 |
EP0602922B1 (de) * | 1992-12-14 | 1998-01-14 | Dow Corning Corporation | Verfahren zur Herstellung von dicycloalkylsubstituierten Silanen |
EP0894802B1 (de) * | 1997-07-31 | 2002-11-06 | Nippon Mitsubishi Oil Corporation | Silanverbindung |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2626268A (en) * | 1948-12-11 | 1953-01-20 | Dow Chemical Co | Synthesis of aliphatic silanes |
FR1170718A (fr) * | 1955-11-28 | 1959-01-16 | Metal & Thermit Corp | Procédé de préparation de composés organiques du silicium et produits conformes à ceux obtenus |
BE553159A (de) * | 1955-12-05 | |||
US2951862A (en) * | 1958-06-26 | 1960-09-06 | Dow Corning | Chlorodifluoropropyl substituted silanes and siloxanes |
US3231594A (en) * | 1961-05-10 | 1966-01-25 | Dow Corning | Addition of silicon hydrides to beta-alkenyl halides |
US3159601A (en) * | 1962-07-02 | 1964-12-01 | Gen Electric | Platinum-olefin complex catalyzed addition of hydrogen- and alkenyl-substituted siloxanes |
GB1140424A (en) * | 1965-09-03 | 1969-01-22 | Ici Ltd | Improvements in and relating to the production of silicon compounds |
DE1768785C3 (de) * | 1968-06-29 | 1975-01-23 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur Herstellung von OrganosiHciumverbindungen |
FR2014578A1 (en) * | 1968-07-12 | 1970-04-17 | Texas Instruments Inc | Cyclosiloxane coating for suction box lids for fourdrinier - machines |
US3658866A (en) * | 1968-08-26 | 1972-04-25 | Toray Industries | Catalyst for a hydrosilation reactor |
BE789152A (de) * | 1971-09-22 | 1973-01-15 | Ceskoslovenska Akademie Ved | |
BE792530A (fr) * | 1971-12-10 | 1973-03-30 | Ceskoslovenska Akademie Ved | Procede de preparation de composes organiques non satures de silicium |
US3907852A (en) * | 1972-06-23 | 1975-09-23 | Exxon Research Engineering Co | Silylhydrocarbyl phosphines and related compounds |
GB1432339A (en) * | 1972-12-11 | 1976-04-14 | Ici Ltd | Organopolysiloxane compositions |
US3856837A (en) * | 1973-02-01 | 1974-12-24 | Dow Corning Ltd | Silicon-containing complexes |
US3907850A (en) * | 1973-11-23 | 1975-09-23 | Ceskoslovenska Akademie Ved | Method of producing unsaturated organosilicon compounds |
CA1053252A (en) * | 1975-02-25 | 1979-04-24 | Dow Corning Limited | Preparation of organosilicon products |
-
1978
- 1978-04-05 DE DE2814750A patent/DE2814750C2/de not_active Expired
- 1978-04-11 CH CH386478A patent/CH635348A5/de not_active IP Right Cessation
- 1978-04-11 US US05/895,332 patent/US4297499A/en not_active Expired - Lifetime
- 1978-04-12 FR FR7810754A patent/FR2387238A1/fr active Granted
- 1978-04-12 GB GB14303/78A patent/GB1590057A/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2814750A1 (de) | 1978-10-19 |
FR2387238B1 (de) | 1981-05-29 |
CH635348A5 (de) | 1983-03-31 |
GB1590057A (en) | 1981-05-28 |
US4297499A (en) | 1981-10-27 |
FR2387238A1 (fr) | 1978-11-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE68919530T2 (de) | Verfahren und Zwischenprodukte für die Herstellung von Bis(aminoalkyl)polydiorganosiloxanen. | |
DE69031480T2 (de) | Verfahren zur Reinigung von Polyethersiloxanen | |
EP0018624B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von vernetzten Organopolysiloxanen und deren Verwendung als Wirkstoff für abhäsive Beschichtungsmassen für flächige Träger | |
DE2846621A1 (de) | Verfahren zum anlagern von si-gebundenem wasserstoff an aliphatische mehrfachbindung | |
EP0600266A2 (de) | Verfahren zur Herstellung von SiH-Gruppen aufweisenden Organopolysiloxanen | |
EP0075703A1 (de) | Verfahren zur Addition von organischen Siliciumverbindungen mit SiH-Gruppen an Verbindungen mit olefinischen Doppelbindungen | |
DE2703802C3 (de) | Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von organischen Phosphinen | |
DE2814750C2 (de) | Verfahren zu Herstellung von disubstituierten Dichlorsilanen | |
DE3020446C2 (de) | ||
DE3023620C2 (de) | Organosilane | |
DE2251297C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von Organosiliciumverbindungen | |
DE3702631C2 (de) | Verfahren zur Herstellung primärer Aminosiloxane | |
DE2519720C2 (de) | ||
DE69130433T2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Cyclopentyl-trichlorosilan | |
EP0003317A1 (de) | Verfahren zum Herstellen von Acyloxysilanen und gegebenenfalls Acyloxysiloxanen | |
DE69114570T2 (de) | Alkoxysilane. | |
DE1158071B (de) | Verfahren zur Herstellung von ª†-Aminoisobutylgruppen enthaltenden siliciumorganischen Verbindungen | |
DE1956903C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von Cyanalkylsilanen oder siloxanen | |
DE2159991A1 (de) | Siliciumhaltige dioxolanderivate und ihre verwendung zur herstellung von epoxygruppen enthaltenden organosilanestern | |
DE2135511A1 (de) | Katalysator fur die Polymerisation von Olefinen | |
DE69015677T2 (de) | 3-(2-Oxo-1-pyrrolidinyl)-propylsilane und Verfahren zur Herstellung der Silanverbindungen. | |
DE3726028A1 (de) | Verfahren zur herstellung von niedermolekularen organo-(poly)siloxanen | |
DE69423685T2 (de) | Dialkoxysilanverbindungen mit einer Cycloalkylgruppe und einer Tert-Butylgruppe und Verfahren zur deren Herstellung | |
DE2439088A1 (de) | Verfahren zur herstellung von aminoaromatisch substituierten silanen und den entsprechenden polymeren | |
DE2851984A1 (de) | Verfahren zur gewinnung von dimethylhydrogenchlorsilan |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OAP | Request for examination filed | ||
OD | Request for examination | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |