DE2753781A1

DE2753781A1 - Optisches system

Info

Publication number: DE2753781A1
Application number: DE19772753781
Authority: DE
Inventors: Ragnar Dipl Ing Forshufvud; Arnold Johansson; Erland Dipl Ing Petterson
Original assignee: Bofors AB
Current assignee: Saab Bofors AB
Priority date: 1976-12-02
Filing date: 1977-12-02
Publication date: 1978-06-08
Also published as: JPS628753B2; NO774116L; IT1090717B; JPS5382100A; NO149712C; GB1596543A; DE2760430C2; NL7713211A; FR2373074B1; FR2373074A1; DE2753781C2; NO149712B; CH625335A5

Description

Die Erfindung betrifft ein optisches System mit Einrichtungen zum Ausrichten des Systems zu einem bestimmten Punkt und mit einer Meßeinrichtung zum Bestimmen der Abweichung
einer Strahlungsquelle von der Visierlinie zu diesem Punkt.

Die Erfindung soll insbesondere bei Waffensystemen zum
Führen eines sich bewegenden Objektes, z.B. eines Geschosses, zu einem Ziel verwendet werden. In solchen Fällen wird das
optische System auf einen Punkt auf dem Ziel gerichtet, und die Bedienungsperson richtet die Visierlinie ununterbrochen auf das Ziel. Wenn nun das sich bewegende Objekt mit Mitteln

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zum Abgeben von Strahlung versehen ist, kann die Abweichung der Strahlungsmittel von der Visierlinie mittels der Meßeinrichtung bestimmt werden, die auf die emittierte Strahlung anspricht. Die Strahlung kann durch eine Strahlungsquelle erzeugt werden, die innerhalb des Gehäuses des sich bewegenden Objektes angebracht ist, oder sie kann durch den Antriebsmotor des sich bewegenden Objektes erzeugt werden, wobei dann die Strahlung die Form von infraroter Strahlung annimmt. Die Strahlung kann jedoch auch von Reflektoren ausgehen, die auf dem sich bewegenden Objekt angeordnet sind. In diesem Falle wird die Strahlung durch eine Strahlungsquelle erzeugt, die z.B. am Ort des optischen Systems angeordnet ist. Die Strahlung wird dann zum sich bewegenden Objekt übertragen und dann zum optischen System durch die Reflektoren reflektiert.

Bei einer besonders wichtigen und vorteilhaften Ausführungsform wird die Erfindung mit einem optischen Visier des Typs kombiniert, der ein Verfolgungsfernrohr aufweist, das gekreuzte Haare oder andere Bezugssymbole für das Sichtvisier aufweist, um es der Bedienungsperson zu erleichtern, das Visier auf das Ziel zu richten und diesem zu folgen. Die Meßeinrichtung zum Bestimmen der Abweichung der Strahlungsquelle von der Visierlinie umfaßt eine bewegbare Meßmaske, die in einer Bildebene des optischen Systems angeordnet ist, so daß die durch die Strahlungsquelle emittierte Strahlung abwechselnd durch die Maske hindurchgeht bzw. von dieser zurückgehalten

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wird. Die bewegbare Maske kann z.B. aus einer Glasplatte mit einem darauf angebrachten undurchlässigen, modulierenden Muster bestehen, wobei das Muster eine solche Form hat, daß Information über den Ort der Strahlungsquelle aus den auftretenden Fluktuationen der Strahlungsintensität und der momentanen Winkelstellung der Meßmaske gewonnen werden kann.

Bereits bekannte Verfolgungsfernrohre sind in erster Linie mit einer Objektivlinse, einem Okular und einem sichtbaren Visierbezugssymbol bzw. Bezugssymbol für das Sichtvisier versehen, und zwar im allgemeinen des Typs mit gekreuzten Haaren, wobei dünne Linien auf einer Glasoberfläche vorgesehen sind, die in der Bildebene des Objektivs angeordnet ist. Die Bedienungsperson kann mittels des Okulars auf das Ziel und seinen Hintergrund sehen und mit Hilfe von Zielknöpfen oder ähnlichem das Bezugssymbol des Sichtvisiers auf das Ziel richten und das Symbol während des Verfolgungsvorganges auf dieses gerichtet halten. Aufgrund der Tatsache, daß zwei verschiedene Hauptfunktionen, nämlich Zielen und Messen des Ortes, bewirkt werden müssen, ist es bisher notwendig gewesen, zwei verschiedene optische Systeme zu benutzen, ein optisches System zum Zielen bzw. ein optisches System zum Messen des Ortes. Um eine annehmbare Genauigkeit beim Messen zu erhalten, ist es wesentlich, daß die relative Stellung der Meßeinrichtung und der Zieleinrichtung nicht durch mechanische Verformungen, Tenperaturwechsel usw. beeinflußt wird. Eine Beeinflussung eines optj.-

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sehen oder mechanischen Elements kann zu einer Änderung der relativen Stellung der optischen Systeme des Visiers führen. Die Meßsysteme sind daher, damit eine ausreichende Meßgenauigkeit erhalten werden kann, im allgemeinen mit Einrichtungen zum Kontrollieren und Einjustieren der Visierlinie des Fernrohrs und der Achsen der Meßeinheit versehen.

Eine Aufgabe der Erfindung besteht daher darin, ein optisches System zu schaffen, bei dem die oben genannten Nachteile auf technisch einfache Weise vermieden werden.

Diese Aufgabe wird dadurch gelöst, daß die Optik des optischen Systems eine gemeinsame Optik sowohl für das Ausrichten als auch das Messen des Ortes ist.

Dies bedeutet, daß jede Änderung im optischen System zu gleichen Änderungen in beiden Einrichtungen führt, wehrend die relative Einstellung der beiden Einrichtungen zueinander unverändert bleibt. Irgendwelche Kontroll- oder Einstellmittel sind nicht erforderlich.

Die durch die Strahlungsquelle emittierte Strahlung wird in der Meßeinrichtung durch einen Photodetektor empfangen, der zur Erzielung eines niedrigen Rauschniveaus und einer entsprechend hohen Empfindlichkeit mit einer kleinen Detektoroberfläche versehen sein sollte. Die Bildebene, in der die Meßeinrich-

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tung angeordnet ist, sollte daher zweckmäßigerweise auf den Photodetektor mit der größtmöglichen Verkleinerung auf solche Weise abgebildet werden, daß das gesamte Licht, das durch die Meßeinrichtung hindurchgeht, auch den Detektor erreicht. Eine gewisse Größe der Detektoroberfläche entspricht in diesem Falle dem größten Wert des Abweichungswinkels, der gemessen werden kann. Bei verschiedenen Systemen zum Messen des Ortes ist jedoch die von der Strahlungsquelle emittierte Strahlung im allgemeinen stark, wenn der Winkel der Abweichung groß ist.

Dies ist z.B. der Fall, wenn die Strahlungsquelle sich vom

Ortsmeßsystem mit einer konstanten Entfernung von der Visierlinie entfernt. Wenn auf kurzen Entfernungen Messungen vorgenommen werden, muß die Meßeinrichtung mit einem großen Gesichtsfeld versehen werden, während gleichzeitig die vom De- tektor zur Verfugung gestellte Signalgröße ausreichend groß sein muß. Wenn auf große Entfernungen gemessen wird, ist das Gesichtsfeld jedoch klein, und die vom Detektor zur Verfügung gestellte Signalgröße ist häufig nicht groß genug.

Daher besteht eine weitere Aufgabe der Erfindung darin, einen Photodetektor in einer Meßeinrichtung des oben genannten Typs zu schaffen, in dem eine annehmbare Signalgröße durch den Detektor sowohl bei kurzen Entfernungen als auch bei großen Entfernungen zur Verfügung gestellt wird. Um dies zu erreichen, ist bei einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung noch ein Photodetektor vorgesehen, der in oder nahe bei einer BiId-

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ebene des optischen Systems angeordnet und mit einer Oberfläche versehen 1st, die empfindlich auf die von der Strahlungsquelle emittierte Strahlung 1st, wobei die Oberfläche In zwei oder mehrere Teiloberflächen aufgeteilt 1st, von denen jede einem besonderen Bereich von Winkeln entspricht, in dem der Ort der Strahlungsquelle bestimmt werden kann.

Die Erfindung wird im folgenden beispielsweise unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen beschrieben. Es zeigen:

Fig. 1 in schematischer Darstellung ein erfindungsgemäßes optisches System;

Fig. 2 eine alternative Ausf Uhrungsform des Systems gemäß Fig. 1;

Fig. 3 Mittel, durch die das Ausrichten des Systems erleichtert wird;

Fig. 4 die Meßeinrichtung;

Fig. 5 eine weitere Ausführungsform der Erfindung mit einem Photodetektor, dessen empfindliche Oberfläche in zwei getrennte Gebiete aufgeteilt ist;

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Fig. 6 die empfindliche Oberfläche des Detektors;

Fig. 7 eine alternative Ausführungsform der Detektoroberfläche;

Fig. 8 eine vergrößerte Ansicht der Meßeinrichtung;

Fig. 9 eine vergrößerte Schnittansicht des Gebietes zwischen den durchlässigen und nicht durchlässigen Bereichen der Meßeinrichtung; und

Fig. 10 eine alternative und verbesserte AusfUhrungsform in einer Ansicht gemäß Fig. 9.

In Fig. 1 ist schematisch das erfindungsgemäße optische System dargestellt. Wie bereits erwähnt wurde, ist das optische System besonders dafür geeignet, in einem optischen Visier eingebaut zu werden. Aus diesem Grund wird es im folgenden in Verbindung mit einem optischen Visier beschrieben werden, das die zwei hauptsächlichen Funktionen hat, daß das Ziel angeschaut und die Visierlinie auf dem Ziel gehalten werden kann und daß die Bahn eines Geschosses mit der Visierlinie verglichen und die Abweichung zwischen dem Geschoß und der Visierlinie bestimmt werden kann. Die Art des Meßvorganges und die Art, wie die Abweichung, die durch den Meßvorgang bestimmt ist, in ein elektrisches Signal umgewandelt

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wird und wie dieses Signal verarbeitet und ausgewertet wird, bildet keinen Teil der Erfindung und wird daher hier nicht ausführlicher beschrieben.

Das optische System umfaßt im wesentlichen eine einzelne optische Eingangsöffnung mit einer Objektivlinse 1, eine Glasplatte 2 und ein Prisma 3, um das sichtbare Licht vom Ziel und von seinem Hintergrund und die durch die Strahlungsquelle des Geschosses emittierte Strahlung zu trennen. Die Strahlungsquelle kann z.B. aus einer Laserquelle bestehen, vorzugsweise einer Laserdiode, die am Geschoß auf solche Weise angebracht ist, daß das Laserlicht zum Visier hin ausgesandt wird. Die Objektivlinse 1 sammelt sowohl sichtbares Licht als auch Laserlicht und ist so ausgebildet, daß die Brennweite für sichtbares Licht und Laserlicht verschieden ist. Hieraus folgt, daß ein Bild des Ziels und seines Hintergrunds in die Bildebene F₁ für sichtbares Licht projiziert wird, während ein Bild der Strahlungsquelle in eine andere Bildebene F₂ für Laserlicht projiziert wird. In Fig. 1 ist der Strahlengang des sichtbaren Lichtes durch gestrichelte Linien angedeutet, während das Laserlicht durch ausgezogene Linien angedeutet ist. Die Strahlengänge werden im Prisma 3 in an sich bekannter Weise geteilt, so daß sichtbares Licht durch das Prisma hindurch und aus diesem heraus durch ein Okular 4 in die Augen einer Bedienungsperson fällt, während das Laserlicht durch das Prisma reflektiert und aus diesem heraus durch ein Linsensystem 6

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zu einem Detektor 7 gelangt.

Damit der Verfolgungsvorgang erleichtert wird, ist das optische System mit einem Bezugssymbol für das Sichtvisier versehen, das aus dünnen Linien auf einer Glasoberfläche besteht, die in der Bildebene F₁ angeordnet ist, so daß die Bedienungsperson das Ziel und seinen Hintergrund zusammen mit dem Bezugssymbol des Sichtvisiers im Okular 4 sehen kann. Das Symbol kann aus einem Kreis 8 oder Bogen 9 oder mehreren konzentrischen Kreisen oder Bögen bestehen (siehe Fig. 3)» die als gemeinsamen Mittelpunkt die Visierlinie 10 haben.

Die letztgenannte Ausführungsform wird gegenüber konventionellen gekreuzten Haaren vorgezogen, wenn die Meßeinrichtung, wie weiter unten beschrieben, um die Visierlinie als Drehachse rotiert. Die Linien des Bezugssymbols des Sientvisiers müssen so dünn sein, daß sie nicht die Arbeitsweise der Meßeinrichtung dadurch behindern, daß die Lichtstrahlen unterbrochen werden.

Um die Abweichung des Geschosses von der Visierlinie zu bestimmen, ist das optische System mit einer Meßeinrichtung versehen, die die Form einer Meßmaske 11 (siehe Fig. 4) hat und in der Bildebene F₂ angeordnet ist. Die Meßmaske kann aus einer Glasplatte mit einem darauf angeordneten dichroischen

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geometrischen Muster bestehen, das für sichtbares Licht durchlässig, aber für das von der Strahlungsquelle emittierte Laserlicht undurchlässig ist. Da dieses Muster für sichtbares Licht durchlässig ist, stört es das optische Bild und das Bezugssymbol des Sichtvisiers sogar dann nicht, wenn die Maske be wegt wird.

Die Entfernung zwischen den beiden Bildebenen F₁ und F₂ ist so groß, daß die Abdeckungseffekte, die durch die Linien des Bezugssymbols des Sichtvisiers verursacht werden, klein sind, während gleichzeitig die Meßmaske und das Bezugssymbol des Sichtvisiers auf demselben optischen Element angeordnet sind, z.B. auf jeder Seite der Glasplatte 2, deren Seitenflächen mit den Ebenen F₁ und F₂ zusammenfallen. Da die Glasplatte gemeinsames Element für die Funktionen sowohl des Zielens als auch des Ortsmessens ist, führt jede Änderung im optischen System zu den gleichen Änderungen in beiden Einrichtungen, während die relative Einstellung dieser beiden Einrichtungen unverändert bleibt. Irgendwelche Mittel zum Kontrollieren und Einstellen der Visierlinie und der Achsen der Meßeinrichtung sind nicht notwendig.

Anstelle von einer gemeinsamen Glasplatte können zwei Glasplatten 13» 14 benutzt werden (siehe Fig. 2). In diesem Falle fällt die Bildebene F₁' für das sichtbare Licht vorzugsweise mit der Oberfläche der Glasplatte 13 zusammen, die zur Be-

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dlenungsperson hingerichtet 1st. Die Bildebene P^' für das Laserlicht sollte analog mit der Oberfläche der Glasplatte 14 zusammenfallen, die zum Detektor 7 gerichtet 1st. Auch andere Ausführungsformen mit zwei Glasplatten sind möglich; die einzlge Bedingung, die beachtet werden muß, 1st jedoch die, daß die Glasoberflächen, auf denen das Bezugssymbol für das Sichtvisier und die Meßmaske angebracht sind, mit der entsprechenden Bildebene zusammenfallen und daß beide Glasplatten so verbunden sind, daß sie relativ zueinander nicht bewegt werden können. Für das Arbeiten des Vislers 1st es notwendig, daß die Glasplatte 14 rotiert. Die Glasplatte 13 kann mit der Glasplatte 14 starr verbunden sein und mit derselben Drehgeschwindigkeit rotieren. Sie kann jedoch auch feststehen; in diesem Falle kann das Bezugssymbol aus gekreuzten Haaren be stehen.

Fig. 3 zeigt eine Ansicht der Glasoberfläche, die in der Bildebene F₁ angeordnet ist, mit dem Bezugssymbol des Sichtvisiers, das konzentrische Kreise 8 und Bögen 9 um einen Mittelpunkt umfaßt, der auf der Visierlinie 10 liegt. Der Mittel- punkt ist vorzugsweise durch einen kleinen Punkt 15 angedeutet. Der unscharfe Fleck 16 hängt mit dem Bild der Strahlungsquelle zusammen, das in der Bildebene F₁ unscharf ist, aber in der Bildebene Fp scharfe Begrenzungen aufweist. In diesem Falle ist angenommen, daß die Wellenlänge der durch die Strah lungsquelle emittierten Strahlung Im sichtbaren Bereich des

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Spektrums liegt. Es kann Jedoch auch vorteilhaft sein, die Wellenlänge der ausgesandten Strahlung außerhalb des sichtbaren Bereichs des Spektrums zu wählen, wobei dann kein unscharfes Bild in der Bildebene F₁ erscheint.

Fig. 4 zeigt eine Ansicht der Glasoberfläche, die in der Bildebene F₂ angeordnet ist, mit der Meßmaske 11, die aus einer Glasplatte besteht, die ein dichroisches geometrisches Muster trägt. Die gesamte Oberfläche der Glasplatte ist für sichtbares Licht durchlässig. Das darauf angeordnete Muster ist Jedoch für Strahlung, die durch die Strahlungsquelle emittiert wird, undurchlässig. Die Grenzlinie 17 des undurchlässigen Musters kann eine solche Form aufweisen, daß Information bezüglich der Stellung der Strahlungsquelle aus der Beziehung zwischen den auftretenden Fluktuationen der Strah lungsintensität und der Winkelstellung der Maske gewonnen werden kann. Dies ist in der gleichzeitig eingereichten Patentanmeldung Nr. ..., die der schwedischen Patentanmeldung Nr. 76 13514-4 entspricht, deutlicher beschrieben.

Um ein niedriges Rauschniveau und eine entsprechend hohe Empfindlichkeit des Detektors 7¹ zu erhalten, ist der Detektor in einer Bildebene F, (siehe Fig. 5) auf solche Weise angeordnet, daß die Bildebene F₂ mit der Ortsmeßeinrichtung mit der größtmöglichen Größenverkleinerung auf die Detektoroberfläche abgebildet wird. Die gesamte Strahlung, die durch die

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Meßmaske hindurchgeht, wird in diesem Falle den Detektor 7' erreichen. Die empfindliche Oberfläche des Detektors ist in zwei oder mehr getrennte Gebiete aufgeteilt, wobei Jedes dieser getrennten Gebiete einem gewissen Bereich von Winkeln entspricht, in dem der Ort der Strahlungsquelle bestimmt werden kann. Vorzugsweise besteht die Oberfläche des Detektors aus einer inneren mittigen Oberfläche 19 und einer äußeren ringförmigen Oberfläche 20 (siehe Fig. 6).

Die innere Oberfläche 19 entspricht dem Bereich von Winkein bzw. dem Meßbereich, in dem die Abweichung der Strahlungs quelle klein ist, d.h. einem engen Gesichtsfeld des optischen Systems. Die äußere Oberfläche 20 entspricht dagegen dem Bereich von Winkeln oder dem Meßbereich, in dem die Abweichung der Strahlungsquelle groß ist, d.h. einem weiten Gesichtsfeld des optischen Systems. Die elektrische Verbindung zur äußeren Oberfläche 20 kann unterbrochen werden, wenn der Abweichungswinkel klein ist und eine große Empfindlichkeit benötigt wird. In diesem Falle wird die Möglichkeit ausgeschaltet, daß die Meßeinrichtung durch andere Strahlungsquellen innerhalb des Meßbereiches des äußeren Detektors gestört werden könnte. Auch die elektrische Verbindung zur inneren Detektoroberfläche 19 kann unterbrochen werden, z.B. in solchen Fällen, bei denen

isjfc. der Abweichungswinkel der Strahlungsquelle ziemlich groß/und das einfallende Licht eine große Intensität hat.

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In Fig. 7 ist eine alternative Ausf Uhrungsform der Detektoroberfläche dargestellt. Übereinstimmend Bit der Ausf Uhrungsform gemäß Fig. 2 ist die Detektoroberfläche in eine mittige Oberfläche 21 und eine äußere Oberfläche 22 eingeteilt. In diesem Falle ist die innere Oberfläche rechteckförmig, und die äußere Oberfläche umschließt nicht völlig die innere Oberfläche. Eine solche Form von Detektoroberflächen wird bevorzugt, wenn unterschiedliche Meßbereiche in der vertikalen Ebene und der horizontalen Ebene benötigt werden. Wenn der Meßbereich in der vertikalen Richtung nicht vollständig benutzt wird, kann das entsprechende Gebiet der empfindlichen Detektoroberfläche weggelassen werden, was bedeutet, daß die Oberfläche verkleinert werden kann und eine entsprechende Vergrößerung der Empfindlichkeit erhalten werden kann.

Es ist wichtig, um eine genaue Messung des Ortes des Geschosses zu erhalten, daß die Grenzlinie 17, d.h. der übergang zwischen dem durchlässigen Teil 12 und dem opaken Teil 18 der Maske klar begrenzt ist. In der Praxis ist dies Jedoch schwierig zu erreichen, da das dichroische Muster aus mehreren dünnen dielektrischen Schichten besteht, die aufeinander angeordnet sind. Daraus ergibt sich eine Übergangszone zwischen den durchlässigen und opaken Gebieten der Maske, in der sich die Durchlässigkeit allmählich von einem hohen Wert zu einem niedrigen Wert ändert.

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Aus Flg. 9, die eine vergrößerte Querschnittsansicht des Gebietes zwischen den transparenten und opaken Gebieten der Maske zeigt, 1st ersichtlich, daß das dlchrolsche Muster 12 aus einer Anzahl von Schichten 23 besteht, die normalerweise aus dielektrischem Material bestehen, die auf der Glasplatte angeordnet sind und zusammen eine die fragliche Strahlung unterbrechende Schicht bilden. Aufgrund der großen Zahl von Schichten, die im Muster enthalten sind, tritt eine Übergangszone d auf. Wie bereits erwähnt wurde, ist eine solche Uber- gangszone dann nicht zufriedenstellend, wenn der Ort des Objektes genau bestimmt werden soll. Als Beispiel der Größe der Genauigkeit, die benötigt wird, kann erwähnt werden, daß für eine Änderung der durchgelassenen Strahlungsintensität von 90 % eine Orts veränderung des Geschosses von maximal 0,05 mrad erlaubt ist.

Um die Schärfe der Kante des dichroischen Musters zu verbessern und um damit diese Übergangszone zu verkleinern, ist die Kante des Musters, die an den durchlässigen Teil der Maske angrenzt, mit einer Schicht 24 versehen, die für die fragliche Strahlung undurchlässig ist (siehe Fig. 8). Diese Kantenschicht erstreckt sich entlang der Grenzlinie des Musters und ist so eng, daß, wenn die Maske rotiert, die Einrichtung weiterhin durchsichtig ist. Die Kantenschicht besteht vorzugsweise aus einem Metall, das sehr genau ausgeformt werden kann,

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z.B. Aluminium. Aus Flg. 10 1st ersichtlich, daß die Metallschicht oben auf den dielektrischen Schichten angeordnet ist. Es ist jedoch auch möglich, die Kantenschicht unter den dielektrischen Schichten entlang Ihren Grenzlinien anzuordnen.

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Claims

Patentansprüche

' 1. Optisches System mit Einrichtungen zum Ausrichten des Systems zu einem bestimmten Punkt und mit einer Meßeinrichtung zum Bestimmen der Abweichung einer Strahlungsquelle von der Richtung zu diesem Punkt, dadurch gekennzeichnet, daß für das Ausrichten des Systems und das Messen der Abweichung ein gemeinsames optisches System vorgesehen ist.
2. Optisches System nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß die Optik eine Objektivlinse (1) zum Sammeln sowohl von sichtbarem Licht als auch von Strahlung, die von der Strahlungsquelle emittiert wird, ein

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optisches Element (2), das sowohl Mittel in Form von Bezugssymbolen (8, 9, 15) eines Sichtvisiers, um das Ausrichten des optischen Systems zu dem Punkt zu erleichtern, als auch die Meßeinrichtung (11) einschließt, und ein Prisma (3) zum Trennen des sichtbaren Lichtes und der durch die Strahlungsquelle emittierten Strahlung einschließt.
3. Optisches System nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet , daß die Objektivlinse (1) so ausgebildet ist, daß die Brennweiten für sichtbares Licht und die durch die Strahlungsquelle emittierte Strahlung verschieden sind, so daß ein sichtbares Bild in einer ersten Bildebene (F₁, F₁') und ein die Strahlungsquelle darstellendes Bild in einer zweiten Bildebene (F₂, F₂ ¹) projiziert ist.
4. Optisches System nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet , daß das optische Element (2) so angeordnet ist, daß das Bezugssymbol (8, 9, 15) für das Sichtvisier sich in der ersten Bildebene (F₁, F₁·) und die Meßeinrichtung (11) sich in der zweiten Bildebene (F₂, F₂ ¹) befindet.
5. Optisches System nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet , daß die Entfernung zwischen der ersten (F₁, F₁ ¹) und der zweiten (F₂, F₂ ¹) Bildebene so groß ist, daß der Einfluß der Meßeinrichtung (11) auf das Sichtvisier klein ist.

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6. Optisches System nach einem der Ansprüche 3 bis 5,

dadurch gekennzeichnet , daß das optische Element aus einer Glasplatte (2) besteht, die das Bezugssymbol (β, 9, 15) des Sichtvisiers und die Heßeinrichtung auf je einer der beiden gegenüberliegenden Seitenflächen der Glasplatte trägt, die in den beiden Bildebenen (F^ bzw. F₂) angeordnet sind.
7. Optisches System nach einem der Ansprüche 3 bis 5, dadurch gekennzeichnet , daß das optische System (2) zwei parallele Glasplatten (13, 14) einschließt, von denen eine Glasplatte (13) eine Seitenfläche hat, die in der ersten Bildebene (F₁ ¹) angeordnet ist, in der das Bezugssymbol (8, 9, 13) des Sichtvisiers sich befindet, und von denen die andere Glasplatte (14) eine Seitenfläche hat, die in der anderen Bildebene (F₂') angeordnet ist, in der die Meßeinrichtung (11) sich befindet.
8. Optisches System nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet , daß das Bezugssymbol (8, 9, 13) des Sichtvisiers und die Meßeinrichtung (11) auf zwei Seitenflächen angeordnet sind, die aufeinander zugerichtet sind.
9. Optisches System nach einem der Ansprüche 1 bis 8, gekennzeichnet durch einen Photodetektor (7¹)» der in oder nahe bei einer Bildebene (F,) des optischen

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Systems angeordnet und mit einer Oberfläche versehen ist, die empfindlich auf die von der Strahlungsquelle emittierte Strahlung ist, wobei diese Oberfläche in zwei oder mehrere getrennte Abschnitte (19, 20) aufgeteilt ist, von denen Jeder einem gewissen Bereich von Winkeln entspricht, die die Abweichung der Strahlungsquelle darstellen.
10. Optisches System nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet , daß die empfindliche Oberfläche des Photodetektors (7') aus einer inneren mittigen Oberfläche (19), die einem Bereich von Winkeln entspricht, bei denen die Abweichung der Strahlungsquelle klein ist, und aus einer äußeren Oberfläche (20) besteht, die die innere Oberfläche (19) einschließt und einem Bereich von Winkeln entspricht, bei denen die Abweichung der Strahlungsquelle groß ist.
11. Optisches System nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet , daß die Detektoroberflächen (19, 20) voneinander unabhängig elektrisch abschaltbar sind.
12. Optisches System nach einem der Ansprüche 9 bis 11, dadurch gekennzeichnet , daß die Form der Detektoroberflächen (21, 22) einem bestimmten Meßbereich für die Abweichung der Strahlungsquelle entspricht.

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13. Optisches System nach einem der Ansprüche 4 bis 12, dadurch gekennzeichnet , daß die Meßeinrichtung aus einer sich drehenden Meßmaske (11) besteht, die eine Oberfläche aufweist, auf der ein dichroisches Muster angebracht und so angeordnet ist, daß die gesamte Oberfläche der Maske für sichtbares Licht durchlässig und teilweise undurchlässig für die Strahlung ist, die durch die Strahlungsquelle emittiert ist.
14. Optisches System nach einem der Ansprüche 4 bis 13» dadurch gekennzeichnet , daß das dichroische Muster (12) an seiner Grenzlinie (17), die an den Teil der Maskenoberfläche angrenzt, der für von der Strahlungsquelle emittierte Strahlung durchlässig ist, mit einer schmalen Schicht (18) zum Verbessern der Schärfe der Kante der dichroischen Schicht (12) versehen ist.
15. Optisches System nach einen der Ansprüche 4 bis 14, dadurch gekennzeichnet , daß das Bezugssymbol für das Sichtvisier aus einem Kreis oder mehreren Kreisen (8) oder Bögen (9) besteht, die die Rotationsachsen der Meßmaske (11) als Mittelpunkt haben.
16. Optisches System nach einem der Ansprüche 1 bis 15, dadurch gekennzeichnet , daß die Strahlungsquelle Laserlicht emittiert.

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