DE2721694A1 - Detektor zum nachweis ionisierender strahlung - Google Patents
Detektor zum nachweis ionisierender strahlungInfo
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Description
i:-;-'" JOACHIM i-i!.JbER
i- i<
M O NCME N 2 1 13-5.1977
GOTTHARD3TR. 81 9504-V/Kl
Thomsori-CSF, Bl. Haussmann 173, F-75008 Paris (Frankreich)
"Detektor zum Nachweis Ionisierender Strahlung"
Priorität: 14. MaJ 1976, Frankreich, No 76 14716
Die Erfindung betrifft einen Detektor mit räumlichen Auflösungs- |
vermögen zum Nachweis ionisierender Strahlung mit einem Halblei- j terkörper und Mitteln, um in der ganzen Tiefe des Körpers zwjschefr
seinen sich gegenüberliegenden Oberflächen eine Raumladungszone zu erzeugen, j η der ein im wesent liehen zu 'Jen Oberflächen senkrechtes
elektrisches Feld herrscht, in dem die freien, auf der einer, der beider. Oberflächen, ausgelöst durch die einfallende :
ior.isierende Strahlung, erscheinenden Elektronen in Bewegung ver-:
setzt werden, mit einem Kollektor auf der anderen der beiden Obertflächen,
mit dem die freien Elektronen aufgefangen werden, und mit Mitteln zur Bestimmung des Aufschlagor-tes der Elektronen auf
dem Kollektor. ;
In der Kernphysik, in der Medizin und auf zahlreichen anderen Gebieten seil, häufig ionisierende Strahlung, wie etwa Röntgen-,
ο !
eC-,/>- cder y-Strahlung nicht nur nachgewiesen, sondern auch !
der Auftreffpunkt der Strahlung lokalisiert werden. j
Die wichtigsten Kenngrößen dieser Detektoren, mit denen der Nachweis
und die Lokalisierung durchgeführt werden kann, sind ihre räumliche Auflösung, d. h., der kleinste Abstand zwischen zwei
Auftreffpunkten, der nachgewiesen werden k=.nn, und ihre Energieauf
lösung, d. h. die kleinste nachweisbare Energiedifferenz.
Zunächst. soJ.l der Aufbau und die Wirkungsweise eines Oetektors
mit räumlichem Auflösungsvermögen nach denn Stande der Technik
beschrieben werden. *f
Bei verschiedenen bekannten Detektoren besteht die räumliche Nachwellvorrichtung
aus einer dünnen Widerstandsschicht, die auf einen mit vier Nachweisabschnitten in Verbindung stehenden Träger
aufgebracht ist. Sie umfaßt einen Detektor, d.h. eine Elektronenemissicnsschicht, die vor der räumlichen Nachweisvorrichtung ange ordnet Is+,und auf die die nachzuweisende Strahlung fällt. Von
der Elektronenemissicnsschicht wird am Auftreffpunkt der ionisierenden Strahlung ein Elektronenbündel ausgesandt. Dieses Elektronenbündel wird durch ein elektrisches Feld, das zwischen die
Zmissiotisschicht und die Widerstandsschicht gelegt ist, beschleunigt. Die Elektronen, die von der Widerstandsschicht eingefangen werden, werden von vier Elementen A, B, C, D, die umfänglich ange· ordnet sind, eine gewisse Dicke aufweisen, elektrisch leitfähig
sind und in Verbindung mit der Widerstar.dsschicht stehen, die die Rolle eines Spannungteilers spielt, gesammelt. Die Messung der auf jedem dieser Abschnitte angesammelten Ladungsmenge ermöglicht auf einfache Weise mit Hilfe eines Rechners das Massenzentrum des Auf treffpunktes des Elektronenbündels auf der Widerstandsschicht und den Auftreffpunkt der ionisierenden Strahlung zu bestimmen.
aufgebracht ist. Sie umfaßt einen Detektor, d.h. eine Elektronenemissicnsschicht, die vor der räumlichen Nachweisvorrichtung ange ordnet Is+,und auf die die nachzuweisende Strahlung fällt. Von
der Elektronenemissicnsschicht wird am Auftreffpunkt der ionisierenden Strahlung ein Elektronenbündel ausgesandt. Dieses Elektronenbündel wird durch ein elektrisches Feld, das zwischen die
Zmissiotisschicht und die Widerstandsschicht gelegt ist, beschleunigt. Die Elektronen, die von der Widerstandsschicht eingefangen werden, werden von vier Elementen A, B, C, D, die umfänglich ange· ordnet sind, eine gewisse Dicke aufweisen, elektrisch leitfähig
sind und in Verbindung mit der Widerstar.dsschicht stehen, die die Rolle eines Spannungteilers spielt, gesammelt. Die Messung der auf jedem dieser Abschnitte angesammelten Ladungsmenge ermöglicht auf einfache Weise mit Hilfe eines Rechners das Massenzentrum des Auf treffpunktes des Elektronenbündels auf der Widerstandsschicht und den Auftreffpunkt der ionisierenden Strahlung zu bestimmen.
Zur Bestimmung des Massenzentrums werden folgende Verhältnisse ge bildet:
QA - QB und QC - QD
QA + QB QC + QD
QA + QB QC + QD
wobei QA, QB, QC, QD jeweils die von den vier Abschnitten gesammelte
Ladung bezeichnen. Die Energie der eingefallenen Strahlung, die proportional zu der Menge der emittierten Elektronen ist,
wird durch die Summe QA + QB + QC + QD bestimmt.
wird durch die Summe QA + QB + QC + QD bestimmt.
Bei anderen zum Stande der Technik gehörenden Detektoren ist die
Widerstandsschicht direkt auf der Strahlungsnachweisschicht angeordnet. Der Detektor besteht aus einem plattenförmigen Träger,
aus Halbleitermaterial mit großer Reinheit, der auf seinen der
Strahlung ausgesetzten Oberflächen eine Struktur von der Art einer
Widerstandsschicht direkt auf der Strahlungsnachweisschicht angeordnet. Der Detektor besteht aus einem plattenförmigen Träger,
aus Halbleitermaterial mit großer Reinheit, der auf seinen der
Strahlung ausgesetzten Oberflächen eine Struktur von der Art einer
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besitzt
Gleichrichterdiode, die durch eine Kontaktflache zwischen einem
Gleichrichterdiode, die durch eine Kontaktflache zwischen einem
Metall und einem Halbleiter (Schottky-Diode) oder durch einen
p-n-übergang erhalten wird. Die Reinheit des Halbleitermaterial
und seine Dicke werden so gewühlt, daß die Raumladungszone dieser Dioden sich durch die ganze Tiefe des Halbleiterträgers erstreckt^ auf dessen anderer Seite die Widerstandsschicht der räumlichen
Nachweisvorrichtung angeordnet ist, wenn zwischen dieser und der
Übergangsstelle auf der anderen Seite eine Spannung angelegt ist. Diese Widerstandsschicht. arbeitet, wie bereits erwähnt, im Zusammenwirken mit vier Sammelabsohnitten A, B, C, D. Die Wirkungsweise der Vorrichtung ist folgende:
p-n-übergang erhalten wird. Die Reinheit des Halbleitermaterial
und seine Dicke werden so gewühlt, daß die Raumladungszone dieser Dioden sich durch die ganze Tiefe des Halbleiterträgers erstreckt^ auf dessen anderer Seite die Widerstandsschicht der räumlichen
Nachweisvorrichtung angeordnet ist, wenn zwischen dieser und der
Übergangsstelle auf der anderen Seite eine Spannung angelegt ist. Diese Widerstandsschicht. arbeitet, wie bereits erwähnt, im Zusammenwirken mit vier Sammelabsohnitten A, B, C, D. Die Wirkungsweise der Vorrichtung ist folgende:
Unter der Einwirkung i or.isierender Strahlung werden Elektronen-Loch-Paare
in der Raumladungszone des Halbleiters erzeugt. Das
elektrische Feld, das in dieser Zone herrscht, zieht die Elektronen entlang der senkrecht zu den Oberflächen der Halbleiterplatte stehenden Feldlinien auf die Widerstandsschicht. Diese Elektronen werden von den Abschnitten A, B, C, D gesammelt, deren Signale
dazu verwendet werden, unter den bereits angegebenen Bedingungen
den Massenmittelpunkt des Auftreffpunktes der einfallenden Strahlung auf der Strahlungsnacbweisschicht zu bestimmen.
elektrische Feld, das in dieser Zone herrscht, zieht die Elektronen entlang der senkrecht zu den Oberflächen der Halbleiterplatte stehenden Feldlinien auf die Widerstandsschicht. Diese Elektronen werden von den Abschnitten A, B, C, D gesammelt, deren Signale
dazu verwendet werden, unter den bereits angegebenen Bedingungen
den Massenmittelpunkt des Auftreffpunktes der einfallenden Strahlung auf der Strahlungsnacbweisschicht zu bestimmen.
Bezüglich der zuerst beschriebenen Detektoren besitzt diese Anord nung den Vorteil einer besseren räumlichen Auflösung, da die vier
Kollektoren intensivere Impulse erhalten. Die Summe der von der
Gesamtheit der Kollektorabschnitte aufgenommenen Elektronen ist
proportional zur Energie des einfallenden Teilchens. Bei einem:
Siliciumträger ist diese Verbesserung in Bezug auf andere vorstehend beschriebene Detektoren bedeutsam. Eine Einfallsenergie
von 3,5 eV erzeugt ein Elektronen-Loch-Paar in dem Silicium.
Gesamtheit der Kollektorabschnitte aufgenommenen Elektronen ist
proportional zur Energie des einfallenden Teilchens. Bei einem:
Siliciumträger ist diese Verbesserung in Bezug auf andere vorstehend beschriebene Detektoren bedeutsam. Eine Einfallsenergie
von 3,5 eV erzeugt ein Elektronen-Loch-Paar in dem Silicium.
Diese genannte Verbesserung reicht ::noch nicht aus, um eine gute
räumliche Auflösung und den Nachweis von Strahlung unterhalb eine bestimmten Energieniveaus zu ermöglichen.
räumliche Auflösung und den Nachweis von Strahlung unterhalb eine bestimmten Energieniveaus zu ermöglichen.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen Detektor der eingangs
genannten Gattung; zu schaffen, der sich durch ein hohes -1I-
709846/1U3
räumliches Auflösungsvermögen und durch die Fähigkeit auszeichnet,
auch Strahlung sehr geringer*· Energie nachzuweisen.
Diese Aufgabe ist dadurch gelöst, daß der Halbleiterkörper ein
Sekundäremissionsvermögen größer als Eins aufweist und daß er mit einem System aus zu den Oberflächen senkrechten Mikrokanälen
durchzogen ist, die an derjenigen der beiden Oberflächen münden, an der die freien Elektronen erscheinen.
Zur weiteren Erläuterung der Erfindung dient das nachfolgend anhand
der Figuren beschriebene Ausführungsbeispiel. Es zeigt:
Figur 1 einen Schnitt durch einen Detektor nach der Erfindung
Figur 2 den Detektor nach Fig.l in der Draufsicht
Figur 3 eine andere Ausführungsform der in
Fig.l dargestellten Struktur.
Die in Figur 1 dargestellte Platte 1 aus einem Halbleiterkörper weist an einer ihrer Oberflächen eine Oberflächenbarriere oder
Schottky-Barriere auf, die durch Überziehen dieser Fläche mit
einer Leiterschicht 2 erzeugt wird.
Mit dieser Oberfläche Liegt die Platte 1 einem Körper 4 gegenüber,
der Elektronen emittiert, wenn er ionisierender Strahlung (angedeutet durch den gewellten Pfeil) ausgesetzt wird. Das Elektronenbundel
(Pfeile 10), das von dem Auftreffpunkt der ionisierenden
Strahlung des Körpers 4 ausgesandt wird, wird durch eine Gleichspannung
(Gleichspannungsquelle 3) gegen die Platte 1 beschleunigt. Auf der anderen Seite der Platte 1 sind die feine Widerstandsschicht
5 und die vier Leiterabschnitte A, B, C, D der vorbeschrtebenen
Vorrichtung angeordnet. Die Gesamtheit dieser Abschnitte, deren Anordnung aus Figur 2 erkennbar ist, ist mit dem Bezugszeichen
6 bezeichnet. Diese Figur 2 zeigt die Platte von unten gesehen. Die Figuren 1 und 3 sind Schnitte längs der Achse aa der
Figur 2 in vergrößertem Maßstab. Jeder der vorerwähnten Abschnitte
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besitzt einen Anschluß (ohne Eezugsweichen).
Bei einem Detektor nach der Erfindung ist die Platte t mit einem
System von Mikrokanälen 7 durchzogen. Die Mikrokanäle münden an
der Oberfläche der Platte 1 gegenüber dem Körper i\ und sind in
diesem Beispiel an ihren jeweiligen anderen Enden geschlossen.
Zwischen der Schicht 2 und den Leiterabschnitten 6 hält eine Gleichspannurigsquelle eine Potentialdifferenz Vn aufrecht. Das
Halbleitermaterial der Platte 1 weist einen selchen Verunre3.nlgungsgrad
auf, daß die in dem Halbleiter erzeugte Raumladungszone unter dev Oberflächenbarriere sich unter der· Wirkung der Potentialdiffereriz
durch die ganze Dicke der Platte erstreckt. In dieser Raumladungszone herrscht ein elektrisches Feld, das senkrecht zu
den Oberflächen der Platte ist. Eei einem vorgegebenen Wert VQ
ist diese Zone umso tiefer je größer der Verunreinigungsgrad des Halbleitermaterials ist. Für den Fall von η-leitendem Silicium,
h,
Jas einen einem Widerstand von 10 Ohm χ cm ent sprechenden Verunreinigungsgrad
aufweist, betragt diese Dicke 1 mm für eine Spannung
Vp v^n 400 Volt. Das Halbleitermaterial, aus welchem die
Platte 1 besteht, besitzt die Eigenschaft zur Sekundärelektronenemission mit einem Koeffizient größer Eins . Das obenerwähnte
Silicium besitzt diese Eigenschaft.
Die Arbeitsweise des Detektors wird im folgenden beschrieben:
Wenn ein von dem Körper k emittiertes Elektron gegen die Wand
eines Mikrokanales schlägt, findet im Innern des Mikrokar.ales
wegen des bestehenden longitudinalen elektrischen Feldes und der Sekundäremissioaseigenschaft Elektronenverstärkung statt, mit
3 9 einem Verstärkungsfaktor»der Werte zwischen 10" und 10 je nach
Eigenschaften des Kanals, seiner Länge und insbesondere des Emissior.skoeffizierten der Wand annehmen kann. Die aus dieser
Elektronenverstärkung hervorgehenden Elektronen durchqueren die
F.aumladungszone des Halbleiters zwischen dem Grund des Mikrokanals
und der unteren Fläche des Halbleiters und werden von der
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^ u 272169A
Widerstandsschicht 5 ur.d schließlich von den Abschnitten A, B, C,
D eingefangen. Bereits sehr niedrige Energiebetröge reichen aus, um diese Verstärkung zu verursachen.
Beispielsweise reicht eine Einfallsenergie von 35 Elektronenvolt
nur aus, um 10 Elektronen-Lcch-Paare bei Detektoren bekannter Art,
wie sie einleitend beschrieben worden sind, zu erzeugen. Die gleiche Energie würde unter bestimmten Bedingungen ausreichen, um
die Verstärkung in den Mikrokanälen des Detektors nach der Erfindung
chen.
chen.
dung zu sättigen und eine maximale Verstärkung von 10 zu errei-
Die Genauigkeit der Bestimmung des Auftreffpunktes des Elektronenbündels
auf der Platte 1 und die der einfallenden ionisierenden Strahlung, die auf die Nachweiseinrichtung 4 trifft, hängt, unter
sonst gleichen Bedingungen, von der Zahl der von den Einrichtungen
, 6 (Figur l) eingefangenen Elektronen ab. Die Fluktuation £ bei
der Best.nv.-nung des Massenmittelpunktes des Auftreffpunktes, welche
Bestimmung mit Hilfe Jer auf den vier Abschnitten A, B, C, D
empfangenen Signale durchgeführt wird, ergibt sich aus einer Formel,
iij die u.a. die absolute Temperatur des Halbleiters, der
Widerstand der Schicht, 5, die Zeitkonstante der elektronischen
Verarbeitungsschaltung für die von den Abschnitten gelieferten Signale, und die Ladungsmenge Q der gesammelten Ladungen eingeht.
Die Fluktuation ist umso kleiner, je größer Q ist. Sie ist dieser Größe umgekehrt proportional.
Dies verdeutlicht die Bedeutung der Elektronenverstärkung nach der
Erfindung. Bei Umgebungstemperatur und bei Zeitkonstanten, die
lektronische Verarbeitungsschaltangen üblicherweise aufweisen,
ist die Fluktuation bei Detektoren nach dem Stande der Technik in 3er Größenordnung von 250 Mikrometern für einen Siliciumhalbleiter
riit einer Widerstandsschicht von einem Megohm und für eine Elektro
lenzanl von 3x10 ,die einer Einfallsenergie von der Größenordnung
/On MEV entspricht.
e gleiche Genauigkeit wird mit Detektoren nach der Erfindung
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schori bei Einfc llsenergj en, die wesentlich unter den vorgenannten,
r.ämlich bei eiriem .T-Tundert3te] oder einem Tausendstel derselben
liegen, für sonst gleiche Werte erreicht. Für gleiche
Einfal] senergien wird mit dem Detektor nach der Erfindung nxn-ä
Genauigkeit erreicht, die hundert- bis tausendmal größer ist.
Der Detektor- r.ach der Krfindurg wurde in dom vorangegangenen
Beispiel η it einer Lsitert-.ch.icht 2 beschrieber, die auf die eine
der beider Oberflächen der Halb.": eiterplatte 1 aufgetragen ist,
um auf dieser Oberfläche einp Schottky-B-rriere zu bilden. Ein
p-n-übergang,der auf dieser Oberfläche cu:-:h Eindiffundieren von
p-Verunreir:igungen in das η-leitende Falbleitersubstrat h er gestellt
wird, erfülJt dieselbe Punktion. Eine Ausführung!-:form mit
diesem Übergang wird folg]ich gleichermaßen von der Erfindung erfaßt
.
Bis jetzt wurde ein Detektor beschrieben, bei dem die Ladungen
dem Halbleiter durch ein Elektronenbündel zugeführt werden, welches
von dem Körper 4 unter der Einwirkung der einfallenden ionisierenäen
Strahlung ausgesandt v/lrd. Derartige Körper 1J sind bekannt,
weswegen sie hier nicht näher beschrieben werden. Aus dem gleichen Grunde wird auf die Einzelheiten der Erzeugung der Elektronen,
die von dem Körper unter dem Einfluß der einfal]enden
Strahlung ausgesandt werden, nicht, näher eingegangen.
Diese Elektronen können auch direkt auf der Halbleiterplatte 1
durch Auftreffen der ionisierenden Strahlung auf diese erzeugt werden. In diesem Fall ent?iä.lt ein Detektor nach der Erfindung
nicht de« Körner H. Diese Ausführungsf orrn, bei der Elektronen-Loch-Paare
am Eingang der Mikrokanäle erzeugt werden, ist in Figur 3 dargestellt, in der die Mikrckanäle 7 ^n ihren beiden
Enden offen sind.
Die Arbeitsweise des Detektors nach der Erfindung kann je nach Fall unterschiedlich sein.
Angenommen die Energie des einfallenden Teilchens od&r der" -8-
709846/1 U3
einfallenden Strahlung sei bereits durch Irgendein Verfahren beatinimt
und es bestehe nur noch das Problem, den Auftref fpur.kt
präzise festzulegen. In diesem Fall werden die Betriebsdaten so gewählt, daß die Elektronenverstärkung in den Mikrokanälen Ihre
Sättigung erreicht. Bei dieser Betriebsweise ist die Zahl der von der Widerstandsßchicht 5 aufgenommenen Elektronen konstant gleich
dem vorerwähnten Maximum, d.h. ungefähr ICr Elektronen pro Kanal,
unabhängig vu.n der Zahl oder der Energie der Teilchen am Eingarg des Kanales. Dank der großen Impulsamplituden auf den Saramelelementen
A, E,C, D wird eine besonders präzise Ortsbestimmung des
Auftreffpunktes ermöglicht.
In dem gegenteiligen Fall, in dem die Intensität der einfallenden
Strahlung gemessen werden soll, wird der Detektor so betrieben,
daß im Innern der Mikrokanäle nicht die SSttigungsverstärkung erreicht
wird. In diesem Fall ist die Anzahl der Elektronen QA + QB + QC + QD,die von den vier auf der Widerstandsechicht 5 angeordnetenvim
ijauife eines Nachweisereignisses aufgenommen wird, propor·
tioual zu der Anzahl der Elektronen an Eingang des M.ikrokanals,
auf den das von dem Körper l\ kommende Elektronenbündel aufschlägt
oder proportional der Zahl der Elektronen, die durch Auftreffen der einfallenden Strahlung am Eingang dieses Mikrokanals erzeugt
werden. In diesem Fall ist die Ortsbestimmung weniger genau als
in dem zuvor bescnriebenen Fall, da die Zahl der eingefangenen
Elektronen beschränkt wird. Diese Genauigkeit ist jedoch immer
noch wesentlich größer als die Genauigkeit der Ortsbestimmung bei
Detektoren nach dem Stande der Technik, wobei gleichzeitig wesentlich geringere Einf allsenergier. nachgewiesen werden können.
Bei einem Detektor nach der Erfindung bewegen sich die Elektronen
insbesondere im Innern der Mikrokanäle im Vakuum. Aus Gründen der übersichtlichen Darstellung ist in den Zeichnungen das Vakuumgefäß,
in dem diese Fortbewegung stattfindet, nicht dargestellt. Derartige Vakuumgefäße sind nach dem Stande der Technik hergestel
It und bestehen aus einem Material, welches für die einfallende Strahlung durchlässig ist.
f09846/1143
Claims (1)
- PATENTANWÄLTEDlETPJCH LEWINSKYHEÜVL'-3OACHiM HU3ER RE IHi; χ PSIETSCHn: onchen 21GOTTH A R DSTR. 8113.5.1977 Thomson-CSF 9504-V/NiPatentansprüche:1./Detektor mit räumlichem Auflösungsvermögen zum Nachweis ' ■—^ Iionisierende:1 Strahlung mit einem Halbleiterkörper und Mitteln* um in der ganzen Tiefe des Körpers zwischen seinen sich gegen-l überliegenden Oberflächen eine Raumladungszone zu erzeugen, i in der ein im wesentlichen zu den Oberflächen senkrechtes ji elektrisches Feld herrscht, in dem die freien, auf der einen \ der beiden Oberflächen, ausgelöst durch die einfallende ionisierende Strahlung, erscheinenden Elektronen in Bewegung ver-1 setzt werden, mit einem Kollektor auf der anderen der beiden j Oberflächen, mit dem die freien Elektronen aufgefangen werden, und mit Mitteln zur Bestimmung des Aufschlagortes der Elektro-{ nen auf dem Kollektor, dadurch gekennzeichnet, daß der Halbleiterkörper ein Sekundäremissionsvermögen größer als Eins aufweist und daß er mit einem System aus zu den Oberflächen senkrechten Mikrokanälen durchzogen ist, die an derjenigen der beiden Oberflächen münden, an der die freien Elektronen erscheinen.2. Detektor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die freien Elektronen durch direktes Auftreffen der ionisierenden Strahlung auf die Oberfläche des Halbleiters erzeugt werden.3. Detektor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die freien Elektronen durch Auftreffen eines Elektronenbündels auf die Oberfläche erzeugt werden, wobei die anderen Elektronen von einem der ionisierenden Strahlung ausgesetzten Körper ausgesandt und in Richtung auf den Halbleiterkörper -2-7O9846/ 1U3durch eine angelegte Potentialdifferenz zwischen dem Körper und dem Halbleiterkörper beschleunigt werden.H. Detektor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Mittel zur Erzeugung der Raumladungszone eine Oberflächenbarriere auf derjenigen Oberfläche des Halbleiters, auf der die freien Elektronen erscheinen, umfassen, wobei diese Oberfläche mit einer leitenden Schicht ausgestattet ist und eine Gleichspannungsquelle eine Potentialdifferenz zwischen beiden Flächen erzeugt.5. Detektor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Mittel zur Erzeugung der Raumladungszone aus p-n-Mbergängen bestehen, die auf derjenigen Oberfläche des Halbleiterkörpers liegen, auf der die freien Elektronen erscheinen und daft Mittel zur Polarisierung der Übergänge vorhanden sind.6. Detektor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Mikrokanäle an ihrem jeweiligen anderen Ende geschlossen sind.7. Detektor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Mikrokanäle an der anderen der beiden Oberflächen münden.': b I ! 1 '- 3
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR7614716A FR2351422A1 (fr) | 1976-05-14 | 1976-05-14 | Dispositif detecteur, localisateur solide d'impacts de rayonnement ionisants |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2721694A1 true DE2721694A1 (de) | 1977-11-17 |
Family
ID=9173189
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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Country Status (4)
Country | Link |
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DE (1) | DE2721694A1 (de) |
FR (1) | FR2351422A1 (de) |
GB (1) | GB1559728A (de) |
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1976
- 1976-05-14 FR FR7614716A patent/FR2351422A1/fr active Granted
-
1977
- 1977-05-10 US US05/795,425 patent/US4147933A/en not_active Expired - Lifetime
- 1977-05-11 GB GB19864/77A patent/GB1559728A/en not_active Expired
- 1977-05-13 DE DE19772721694 patent/DE2721694A1/de not_active Ceased
Also Published As
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FR2351422B1 (de) | 1979-10-05 |
FR2351422A1 (fr) | 1977-12-09 |
GB1559728A (en) | 1980-01-23 |
US4147933A (en) | 1979-04-03 |
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8131 | Rejection |