DE2251103B2 - - Google Patents
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein saures galvanisches Zinkbad mit einem Gehalt an Zink-, Ammonium-, Sulfat- und Chloridionen, einer äthoxylierten organischen Verbindung sowie einer organischen Säure. Dieses Bad ist für die Erzeugung glänzender Zinküberzüge mit dichten Kristallstrukturen unter hohen Stromdichten geeignet.The invention relates to an acidic galvanic zinc bath with a content of zinc, ammonium, Sulphate and chloride ions, an ethoxylated organic compound and an organic Acid. This bath is for producing shiny zinc coatings with dense crystal structures suitable under high current densities.
Es ist bekannt, saure Zinkplattierungsbäder zu verwenden, die Zinksulfat, Zinkchlorid oder Zinkfluoroborat od. dgl. als Quelle von Zn2+-Ionen enthalten. Um die Leitfähigkeit des Bades zu erhöhen, wird häufig Sulfat oder Chlorid dem Bad zugefügt. Mit derartigen Plattierungsbädern ist es möglich, Plattierungen beträchtlich hoher Dichte zu erzeugen, wenn das Plattierungsbad während der Plattierungsoperation gerührt wird. Bei hohen Stromdichten ist jedoch die Oberfläche der Überzüge grob und nicht glänzend. Darüber hinaus werden große Kristalle gebildet. Um diese Schwierigkeiten zu vermeiden, ist vorgeschlagen worden, kleine Mengen an organischer Substanz, beispielsweise Lakritze, Leim, Gummiarabicum, Dextrose, ^-Naphthol od. dgl. dem Bad zuzufügen. Eine Einbringung von derartigen organischen Substanzen ermöglicht die Erzeugung von Plattierungen hoher Qualität innerhalb eines gewissen Bereiches der Stromdichte, wenngleich der praktische Bereich der Stromdichte relativ begrenzt und es unmöglich ist, schöne Überzüge bei hohen Stromdichten, insbesondere in einem Bereich von 50 A/dm2 bis 100 A/dm2 zu erhalten. It is known to use acidic zinc plating baths which contain zinc sulfate, zinc chloride or zinc fluoroborate or the like as a source of Zn 2+ ions. To increase the conductivity of the bath, sulfate or chloride is often added to the bath. With such plating baths, it is possible to produce plating of considerably high density when the plating bath is agitated during the plating operation. At high current densities, however, the surface of the coatings is coarse and not shiny. In addition, large crystals are formed. In order to avoid these difficulties, it has been proposed to add small amounts of organic substance, for example liquorice, glue, gum arabic, dextrose, ^ -naphthol or the like, to the bath. The incorporation of such organic substances enables the production of high quality plating within a certain range of the current density, although the practical range of the current density is relatively limited and it is impossible to produce beautiful coatings at high current densities, especially in the range of 50 A / dm 2 to 100 A / dm 2 .
So ist beispielsweise ein saures galvanisches Zinkbad, das Zink-, Ammonium-, Sulfat- und Chloridionen, eine äthoxylierte Verbindung sowie eine organische Säure als Zusätze enthält, in der deutschen Offenlegungsschrift 1521029 beschrieben worden. Dieses Bad kann jedoch bei Anwendung hoher Stromdichten infolge Bildung grober Überzüge noch nicht befriedigen. For example, an acidic galvanic zinc bath containing zinc, ammonium, sulfate and chloride ions is one contains ethoxylated compound and an organic acid as additives, in the German Offenlegungsschrift 1521029 has been described. This bathroom however, cannot be satisfactory when using high current densities due to the formation of coarse coatings.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein verbessertes Bad zur Zinkelektroplattierung zu schaffen, welches die Erzeugung dichter und glänzender Plattierungen in einem breiten Bereich von Stromdichten von 10 A/dm2 bis 100 A/dm2 ermöglicht. The invention is therefore based on the object of creating an improved zinc electroplating bath which enables the production of dense and shiny platings in a wide range of current densities from 10 A / dm 2 to 100 A / dm 2 .
Gemäß der Erfindung wird ein saures galvanisches Zinkbad der eingangs genannten Art zur Verfügung gestellt, welches dadurch gekennzeichnet ist, daß das Bad eine wäßrige Lösung von 200 bis 650 g/l Zinksulfat, 50 bis 200 g/l Zinkchlorid, 10 bis 70 g/l Ammoniumchlorid, 5 bis 30 g/l Natriumsuccinat und 0,1 bis 10 g/l Nikotinsäureamid und/oder 0,01 bis 0,1 g/l äthoxylierter a-Naphtholsulfonsäure enthält.According to the invention, an acidic galvanic zinc bath of the type mentioned at the outset is available provided, which is characterized in that the bath is an aqueous solution of 200 to 650 g / l zinc sulfate, 50 to 200 g / l zinc chloride, 10 to 70 g / l ammonium chloride, 5 to 30 g / l sodium succinate and 0.1 contains up to 10 g / l nicotinic acid amide and / or 0.01 to 0.1 g / l ethoxylated a-naphtholsulfonic acid.
Zinksulfat und Zinkchlorid werden als Quelle der Zn2+-Ionen verwendet. Bei einer Zinksulfatkonzentration von weniger als 200 g/l ist es unmöglich, hohe Stromdichten anzuwenden, da die Oberfläche der Plattierungen verbrannt wird, während bei einer Konzentration oberhalb 650 g/l die Neigung zur Erzeugung von Niederschlägen auftritt. Diese Niederschläge stellen Zinkammoniumsulfate dar, die die Leiterwalze für die Abgabe eines elektrischen Stromes vergiften oder sich auf der Oberfläche des Plattierungsfilmes abscheiden und den Plattierungsfilm verschlechtern.Zinc sulfate and zinc chloride are used as the source of the Zn 2+ ions. If the zinc sulfate concentration is less than 200 g / l, it is impossible to use high current densities because the surface of the platings is burned, while if the concentration exceeds 650 g / l, deposits tend to be generated. These precipitates are zinc ammonium sulfates which poison the conductor roller for outputting an electric current or deposit on the surface of the plating film to deteriorate the plating film.
ίο Daher wird Zinksulfat in Mengen von 200 bis 650 g/l verwendet.ίο Therefore, zinc sulfate is used in amounts of 200 to 650 g / l used.
Bei einer Konzentration an Zinkchlorid von weniger als 50 g/l wird die Leitfähigkeit zu gering, um hohe Stromdichten zu erzeugen, während bei einer Konzentration von mehr als 200 g/l sich das Aussehen der Plattierungen verschlechtert, wenn diese mit einem Phosphat oder Chromsäure behandelt werden.If the concentration of zinc chloride is less than 50 g / l, the conductivity becomes too low to generate high current densities, while at a concentration of more than 200 g / l the appearance of the plating deteriorates when treated with a phosphate or chromic acid.
Durch die Zugabe von Ammoniumchlorid soll die Leitfähigkeit verbessert werden. Bei KonzentrationThe conductivity should be improved by adding ammonium chloride. With concentration
ao von weniger als 10 g/l kann dieses Ziel von Ammoniumchlorid nicht erreicht werden, während bei einer Konzentration oberhalb 70 g/l eine Neigung zur Abscheidung von Niederschlägen besteht. Bei der Elektrolyse unter Verwendung des Elektrolysebades gemäß der Erfindung liegt der günstige pH-Wert des Elektrolysebades zwischen 3,5 und 4,5 und vorzugsweise bei 4,0. Ein pH-Wert des Elektrolysebades oberhalb 4,5 würde eine Abscheidung von Eisen- und Zinkverbindungen hervorrufen. Ein pH-Wert des Elektrolysebades unterhalb 3,5 würde zur Wasserstoffentwicklung im Bad führen, welches durch den Plattierungsfilm absorbiert und Nadellöcher in dem Plattierungsfilm hervorrufen würde.ao of less than 10 g / l can achieve this goal of ammonium chloride cannot be achieved, while at a concentration above 70 g / l there is a tendency to There is deposition of precipitation. In electrolysis using the electrolysis bath According to the invention, the favorable pH value of the electrolysis bath is between 3.5 and 4.5 and preferably at 4.0. A pH of the electrolysis bath above 4.5 would cause a deposition of iron and Produce zinc compounds. A pH value of the electrolysis bath below 3.5 would lead to the evolution of hydrogen lead in the bath, which is absorbed by the plating film, and pinholes in the Plating film.
Die Hauptaufgabe des Natriumsuccinates besteht in der Stabilisierung des pH-Wertes des Plattierungsbades. Bei einer Natriumsuccinatkonzentration von weniger als 5 g/l ist dessen Wirkung zur Pufferung des pHs nicht ausreichend, während bei einer Konzentration oberhalb 30 g/l der Vorzug von Natriumsuccinat nicht erhöht wird.The main function of the sodium succinate is to stabilize the pH of the plating bath. If the sodium succinate concentration is less than 5 g / l, its effect is to buffer the pHs inadequate, while sodium succinate is preferred at a concentration above 30 g / l is not increased.
Nikotinsäureamid und äthoxylierte Λ-Naphtholsulfonsäure werden zugegeben, um dichte und glänzende Plattierungsoberflächen zu erhalten. Sie können einzeln oder in Kombination verwendet werden. Die Einbringung erzeugt feine Kristalle, wodurch glatte, glänzende und schön plattierte Oberflächen erhalten werden.Nicotinic acid amide and ethoxylated Λ-naphtholsulfonic acid are added to obtain dense and shiny plating surfaces. You can can be used individually or in combination. The incorporation creates fine crystals, resulting in smooth, shiny and nicely plated surfaces can be obtained.
Eine Menge von 0,1 bis 10 g/l Nikotinsäureamid ist geeignet. Eine geringere Konzentration als 0,1 g/l ist nicht wirksam, während eine 10 g/l übersteigende Konzentration den gewünschten Vorteil nicht vergrößert. Eine geeignete Konzentration an äthoxylierter a-Naphtholsulfonsäure liegt im Bereich von 0,01 g/l bis 0,1 g/l. Während eine Konzentration von weniger als 0,01 g/l nicht wirksam ist, führt eine Konzentration von mehr als 0,1 g/l zur Bildung von Nadellöchern in den plattierten Oberflächen und zu trübplattierten Oberflächen mit einem unvorteilhaften Erscheinungsbild.An amount of 0.1 to 10 g / l nicotinic acid amide is suitable. A concentration lower than 0.1 g / l is not effective, while a concentration in excess of 10 g / L does not increase the desired benefit. A suitable concentration of ethoxylated α-naphtholsulfonic acid is in the range from 0.01 g / l to 0.1 g / l. While a concentration of less than 0.01 g / L is not effective, a concentration of more will do than 0.1 g / L to form pinholes in the plated surfaces and to opaque plated surfaces with an unfavorable appearance.
Wird ein Plattierungsbad einer Zusammensetzung innerhalb des Bereiches der oben beschriebenen Grenzen verwendet und dieses Bad heftig während des Plattierungsbetriebs gerührt, ist es möglich, plattierte Oberflächen mit dichter Kristallstruktur bei hohen Stromdichten von 10 A/dm2 bis 100 A/dm2 zu erhalten. If a plating bath having a composition within the range of the above-described limits is used and this bath is vigorously stirred during the plating operation, it is possible to obtain plated surfaces having a dense crystal structure at high current densities of 10 A / dm 2 to 100 A / dm 2.
Zum besseren Verständnis der Erfindung werden die nachstehenden Beispiele, die bevorzugte Ausführungsformen darstellen, angeführt.For a better understanding of the invention, the following examples are preferred embodiments represent, listed.
Eine kaltgewalzte Stahlplatte wurde unter den folgenden Bedingungen plattiert.A cold-rolled steel plate was clad under the following conditions.
Zusammensetzung des BadesComposition of the bath
Zinksulfat (ZnSO4 · 7 H2O) 450 g/lZinc sulfate (ZnSO 4 · 7 H 2 O) 450 g / l
Zinkchlorid (ZnCl2) 150 g/lZinc chloride (ZnCl 2 ) 150 g / l
Natriumsuccinat [(CH2COONa)2 ■Sodium succinate [(CH 2 COONa) 2 ■
6H2O)] 15 g/l6H 2 O)] 15 g / l
Nikotinsäureamid (C6H6N2O2) 3 g/lNicotinic acid amide (C 6 H 6 N 2 O 2 ) 3 g / l
Ammoniumchlorid (NH4Cl) 40 g/lAmmonium chloride (NH 4 Cl) 40 g / l
Äthoxylierte «-Naphtholsulfon-Ethoxylated "-naphtholsulfone-
säure (C12H12O5S) 0,02 g/lacid (C 12 H 12 O 5 S) 0.02 g / l
Stromdichte 100 A/dm2 Current density 100 A / dm 2
Plattierungszeit 5 SekundenPlating time 5 seconds
Beispiel 2
Zusammensetzung des BadesExample 2
Composition of the bath
Zinksulfat (ZnSO4 · 7 H2O) 300 g/lZinc sulfate (ZnSO 4 · 7 H 2 O) 300 g / l
Zinkchlorid (ZnCl2) 80 g/lZinc chloride (ZnCl 2 ) 80 g / l
Ammoniumchlorid (NH4Cl) 20 g/lAmmonium chloride (NH 4 Cl) 20 g / l
NatriumsuccinatSodium succinate
[(CH2COONa)2-OH2O)] 10 g/I[(CH 2 COONa) 2 -OH 2 O)] 10 g / l
Nikotinsäureamid (C6H6N2O2) 5 gl/Nicotinic acid amide (C 6 H 6 N 2 O 2 ) 5 gl /
Stromdichte 60 A/dm2 Current density 60 A / dm 2
Plattierungszeit 8 SekundenPlating time 8 seconds
Zusammensetzung des Bades
5Composition of the bath
5
Zinksulfat (ZnSO4 · 7 H2O) 350 g/lZinc sulfate (ZnSO 4 · 7 H 2 O) 350 g / l
Zinkchlorid (ZnCl2) 200 g/lZinc chloride (ZnCl 2 ) 200 g / l
Ammoniumchlorid (NH4Cl) 50 g/lAmmonium chloride (NH 4 Cl) 50 g / l
NatriumsuccinatSodium succinate
[(CH2COONa)2 · 6 H2O)] 20 g/l[(CH 2 COONa) 2 · 6 H 2 O)] 20 g / l
Äthoxylierte aNaphtholsulfonsäureEthoxylated a-naphtholsulfonic acid
(C12H12O2S) 0,05 g/l(C 12 H 12 O 2 S) 0.05 g / l
Stromdichte 80 A/dm2 Current density 80 A / dm 2
Plattierungszeit 4 SekundenPlating time 4 seconds
Die gemäß den entsprechenden Beispielen erzeugten Plattierungsüberzüge weisen dichte Kristallstrukturen mit einem guten Erscheinungsbild auf und sind glattThe plating coatings produced according to the corresponding examples have dense crystal structures with a good appearance and are smooth
ao und glänzend.ao and shiny.
Als Kontroll- bzw. Bezugsversuch wurde der Elektroplattierungsbetrieb mit den Zusammensetzungen der Beispiele 1 bis 3, jedoch ohne einen Gehalt an Nikotinsäureamid und/oder äthoxylierter a-Naphtholsulfonsäure, durchgeführt, und es wurde gefunden, daß die gebildeten Filme grob und die Oberfläche der Plattierung nicht glatt und glänzend wird.The electroplating operation was used as a control or reference test with the compositions of Examples 1 to 3, but without a content of nicotinic acid amide and / or ethoxylated a-naphtholsulfonic acid, and it was found that the films formed were coarse and the surface of the Plating does not become smooth and shiny.
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