DE2251103A1 - ACID BATH FOR ZINC ELECTROPLATING - Google Patents
ACID BATH FOR ZINC ELECTROPLATINGInfo
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Description
Nippon Kokan Kabushiki Kaisha, Tokyo / Japan Saures Bad für die Zinkelektroplattierung Nippon Kokan Kabushiki Kaisha, Tokyo / Japan Acid bath for zinc electroplating
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein saures Bad für die Zinkelektroplattierung, das für die Erzeugung glänzender Zinküberzüge mit dichten Kristallstrukturen unter hohen Stromdichten geeignet ist.The present invention relates to an acidic bath for zinc electroplating which is used for producing shinier Zinc coatings with dense crystal structures under high current densities is suitable.
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ÖA - 2 -ÖA - 2 -
Es ist bekannt saure Zinkplattierungsbäder zu verwenden, die Zinksulfat, Zinkchlorid oder Zinkfluoroborat oder dergleichen als Quelle von Zn2+ Ionen enthalten. Um die Leitfähigkeit des Bades zu erhöhen, wird häufig Sulfat oder Chlorid dem Bad zugefügt. Mit derartigen Plattierungsbädern ist es möglich, Plattierungen beträchtlich hoher Dichten zu erzeugen, wenn das Plattierungsbad während der Plattlerungsoperation gerührt wird. Bei hohen Stromdichten ist jedoch die Oberfläche der überzüge grob und nicht glänzend. Darüberhinaus werden große Kristalle gebildet. Um diese Schwierigkeiten zu vermeiden,, ist vorgeschlagen worden, kleine Mengen an organischer Substanz, beispielsweise Lakritze, Leim, Gumrniarabicum, Dextrose, β naphthol oder dergleichen dem Bad zuzufügen. Eine Einbringung von derartigen organischen Substanzen ermöglicht die Erzeugung von Plattierungen hoher Qualität innerhalb eines gewissen Bereichs der Stromdichte, wenngleich der praktische Bereich der Stromdichte relativ begrenzt ist und es unmöglich war, schöne Überzüge bei hohen Strom-It is known to use acidic zinc plating baths containing zinc sulfate, zinc chloride or zinc fluoroborate or the like as a source of Zn 2+ ions. To increase the conductivity of the bath, sulfate or chloride is often added to the bath. With such plating baths, it is possible to produce plating of considerably high densities when the plating bath is agitated during the plating operation. At high current densities, however, the surface of the coatings is coarse and not shiny. In addition, large crystals are formed. In order to avoid these difficulties, it has been proposed to add small amounts of organic matter such as liquorice, glue, rubber arabic, dextrose, β naphthol or the like to the bath. Incorporation of such organic substances enables high quality plating to be produced within a certain range of current density, although the practical range of current density is relatively limited and it has been impossible to produce beautiful coatings at high currents.
p ρp ρ
dichten, insbesondere in einem Bereich von 50 A/dm bis 100 A/dm zu erhalten.density, in particular in a range from 50 A / dm to 100 A / dm to obtain.
Die Erfindung hat sich die Aufgabe gestellt, ein verbessertes Bad zur Zinkelektroplattierung zu-liefern, welches die Erzeugung dichter und glänzender Plattierungen in einem breiten BereichThe invention has set itself the task of providing an improved bath for zinc electroplating, which the production thick and shiny claddings in a wide range
ρ ρ von Stromdichten von 10 A/dm bis 100 A/dm ermöglicht.ρ ρ allows current densities of 10 A / dm to 100 A / dm.
Gemäß der Erfindung wird ein saures Bad zur Zinkelektroplattierung zur Verfügung gestellt, welches aus einem Gemisch einer wässrigen Lösung, aus 200 bis 650 g/l Zinksulfat, 50 - 200 g/l Zinkchlorid, 10 - 70 g/l Amrnoniumchlorid, 5-30 g/l Natriumsuccinat und zumindest einer Verbindung, die unter 0.1 bis 10 g/l Nikotinsäureamid und 0.01 bis 0.1 g/l äthoxylierter- c< -Naphtholsulfonsäure gewählt ist, besteht.According to the invention, an acidic bath is used for zinc electroplating made available, which is made from a mixture of an aqueous solution, from 200 to 650 g / l zinc sulfate, 50 - 200 g / l zinc chloride, 10-70 g / l ammonium chloride, 5-30 g / l sodium succinate and at least one compound below 0.1 to 10 g / l nicotinic acid amide and 0.01 to 0.1 g / l ethoxylated c <-naphtholsulfonic acid is selected.
2+2+
Zinksulfat und Zinkchlorid v/erden als Quelle der Zn Ionen verwendet und ihre Konzentrationen werden auf der folgenden Basis bestimmt. Insbesondere bei einer Zinksulfatkonzentration vonZinc sulfate and zinc chloride are used as the source of Zn ions, and their concentrations are based on the following certainly. Especially with a zinc sulfate concentration of
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22611032261103
weniger als 200 g/l ist es unmöglich hohe Stromdichten abzuwenden, da die Oberfläche der Plattierung verbrannt wird, während bei. einer Konzentration oberhalb 650 g/l die Neigung zur Erzeugung von Niederschlägen auftritt. Diese Niederschläge stellen Zinkammoniumsulfate dar, die die Leiterwalze für die Abgabe.eines ,elektrischen Stromes vergiften oder sich auf der Oberfläche des Plattierungsfilmes abscheiden und den Plattierungsfilm verschlechtern. less than 200 g / l it is impossible to avert high current densities, as the surface of the plating is burned while at. a concentration above 650 g / l the tendency to generate of precipitation occurs. These precipitates represent zinc ammonium sulfate, which is the conductor roller for the delivery , electric current or deposit on the surface of the plating film and deteriorate the plating film.
Bei einer Konzentration von Zinkchlorid von weniger als 50 g/l wird die Leitfähigkeit zu gering um hohe Stromdichten zu erzeugen, während bei einer Konzentration von mehr als 200 g/l sich das Aussehen der Plattierungen verschlechert, wenn diese mit einem Phosphat oder Chromsäure behandelt werden.If the concentration of zinc chloride is less than 50 g / l, the conductivity is too low to generate high current densities, while at a concentration of more than 200 g / l, the appearance of the plating deteriorates if it is with treated with a phosphate or chromic acid.
Der Zweck der Zugabe von Ammoniumchlorid besteht in einer Verbesserung der Leitfähigkeit. Bei Konzentration von weniger als 10 g/l kann dies Ziel von Ammoniumchlorid nicht erreicht werden, während bei einer Konzentration oberhalb 70 g/l eine Neigung zur Abscheidung von Niederschlagen besteht. Bei der Elektrolyse unter Verwendung des Elektrolysebades gemäß der Erfindung liegt der günstige pH-Wert des Elektrolysebades zwischen 3.5 und 4.5 und vorzugsweise bei 4.0. Ein pH-Wert des Elektrolysebades oberhalb 4.5 würde eine Abscheidung von Eisen-und Zinkverbindungen hervorrufen. Ein pH-Wert des Elektrolysebades unterhalb 3·5 würde zur Wasserstoffentwicklung im Bad führen, welches durch den Plattierungsfilm absorbiert und Nadellöcher in dem Plattierungsfilm hervorrufen würde.The purpose of adding ammonium chloride is to improve the conductivity. If the concentration is less than 10 g / l, this goal of ammonium chloride cannot be achieved become, while at a concentration above 70 g / l a There is a tendency to deposit deposits. In the electrolysis using the electrolysis bath according to FIG According to the invention, the favorable pH value of the electrolysis bath is between 3.5 and 4.5 and preferably 4.0. A pH of the electrolytic bath above 4.5, iron and zinc compounds would be deposited. A pH of the electrolytic bath below 3 5 would lead to the evolution of hydrogen in the bath, which would be absorbed by the plating film and cause pinholes in the plating film.
Die Hauptaufgabe des Natriumsuccinats besteht in der Stabilisierung des pH-Wertes des Plattierungsbades. Bei einer Natriumsuccinatkonzentration von weniger als 5 g/l ist dessen Wirkung zur Pufferung des pHs nicht ausreichend, während - bei einer Konzentration oberhalb 50 g/l der Vorzug von Natriumsuccinat nicht erhöht wird.The main task of the sodium succinate is to stabilize it the pH of the plating bath. At a sodium succinate concentration of less than 5 g / l its effect for buffering the pH is not sufficient, while - with a Concentration above 50 g / l the preference of sodium succinate is not increased.
Nikotinsäureamid und äthoxylierte~.-\- naphtholsulfonsaure wer-Nicotinic acid amide and ethoxylated naphtholsulfonic acid are
309821 / 1003309821/1003
B*t ORIGINAL B * t ORIGINAL
den zügegeben um dichte und glänzende Flattierungsoberflächen zu erhalten. Sie können einzeln oder in Korabination verwendet werden. Die Einbringung erzeugt feine Kristalle, wodurch glatte, glänzende und schön plattierte Oberflächen erhalten werden.added to by dense and shiny flatting surfaces to obtain. They can be used individually or in coordination will. The incorporation creates fine crystals, resulting in smooth, shiny and beautifully plated surfaces.
Eine Menge von 0.1 bos 10 g/l Nikotinsäureamid ist geeignet. Eine geringere Konzentration als 0.1 g/l ist nicht wirksam, während eine Konzentration höher als 10 g/l den gewünschten Vorteil nicht vergrößert. Eine geeignete Konzentration an äthoxyllerter-o< -naphtholsulfonsäure liegt im Bereich von 0.01 g/l bis 0.1 g/l. Während eine Konzentration von weniger als 0.01 g/l nicht wirksam ist, führt eine Konzentration von mehr als 0.1 g/l zur Bildung von Nadellöchern in den plattierten Oberflächen und zu trUbplattierten Oberflächen mit einem unvorteilhaften Erscheinungsbild. A quantity of 0.1 to 10 g / l nicotinic acid amide is suitable. A concentration lower than 0.1 g / l is not effective, while a concentration higher than 10 g / l is the desired one Advantage not increased. A suitable concentration of ethoxyllerter-o < -naphtholsulfonic acid is in the range from 0.01 g / l to 0.1 g / l. While a concentration of less than 0.01 g / l is not effective, a concentration greater than 0.1 g / l will result in the formation of pinholes in the plated surfaces and cloudy clad surfaces with an unfavorable appearance.
"Wird- ein Plattierungsbad einer Zusammensetzung innerhalb des Bereichs der oben beschriebenen Grenzen verwendet und dieses Bad heftig während des Plattierungsbetriebs gerührt, ist es möglich, plattierte Oberflächen mit diohter Kristallstruktur"Will- a plating bath of a composition within the Using the range of limits described above and stirring this bath vigorously during the plating operation, it is possible, plated surfaces with diohter crystal structure
ρ ρρ ρ
bei hohen Stromdichten von 10 A/dm bis 100 A/dm zu erhalten.obtainable at high current densities of 10 A / dm to 100 A / dm.
Zum besseren Verständnis der Erfindung werden die nachstehenden Beispiele, die bevorzugte Ausführungsformen darstellen, angeführt, wenngleich diese nicht als Einschränkung anzusehen sind.For a better understanding of the invention, the following examples, which represent preferred embodiments, are given: although these are not to be regarded as a restriction.
Eine kaltgewalzte Stahlplatte wurde unter den folgenden Bedingungen plattiert.A cold-rolled steel plate was produced under the following conditions plated.
Zusammensetzung des Bades:Composition of the bath:
Zinksulfat (ZnSOif. 7H2O) 450 g/lZinc sulfate (ZnSO if. 7H 2 O) 450 g / l
Zinkchlorid (ZnCl2) 150 g/lZinc chloride (ZnCl 2 ) 150 g / l
Natriumsuccinat ((CH2COONa)2.6H3O) 15 g/lSodium succinate ((CH 2 COONa) 2 .6H 3 O) 15 g / l
Ammoniurnchlorid (NHj+Cl) 40 g/lAmmonium chloride (NHj + Cl) 40 g / l
30982 1/100330982 1/1003
Zusammensetzung des Bades:Composition of the bath:
Zinksulfat Zinkehlorid (ZnCl2) Ammoniumohlorid Natriumsuocinat ( NikotinsäureamidZinc sulfate zinc chloride (ZnCl 2 ) ammonium chloride sodium suocinate (nicotinic acid amide
StromdichteCurrent density
Plattierungszelt . 8 Sek.Plating tent. 8 sec.
Beispiel 3
Zusammensetzung des Bades; Example 3
Composition of the bath;
Zinksulfat (ZnSO21-TH2O) 350 g/lZinc sulfate (ZnSO 21 -TH 2 O) 350 g / l
Zinkchlorid (ZnCl2) ' 200 g/l Ammoniumchlorid (NHhCl) . '. 50 g/l Natriumsuccinat ((CH2COONa)2.6H3O) 20g/lZinc chloride (ZnCl 2 ) '200 g / l ammonium chloride (NHhCl). '. 50 g / l sodium succinate ((CH 2 COONa) 2 .6H 3 O) 20 g / l
Ä'thoxylierte -cC-naphtholsuTfonsäure O0O5 g/lEthoxylated -cC-naphthol sulfonic acid O0O5 g / l
Stromdichte 80 A/dmCurrent density 80 A / dm
Plattierungszeit 4 Sek„Plating time 4 sec "
Die gemäß den entsprechenden Befielen erzeugten Plattierungs· überzüge v/ei sen. dichte Kristallstrukturen mit einem guten Erscheinungsbild auf, und sind glatt und glänzend,The plating produced in accordance with the corresponding cases coatings v / iron sen. dense crystal structures with a good appearance, and are smooth and shiny,
■ 309821/1003■ 309821/1003
Ala Köntroll- bzw. Bezugsversuch wurde der Elektroplattierungsbetrieb
mit den Zusammensetzungen der Beispiele 1 bis J5 jedoch
ohne einen Gehalt an Nikotinsäureamid und/oder äthoxylierter-^·
naphtholsulfonsäure durchgeführt und es wurde gefunden daß die
gebildeten Filme grob und die Oberfläche der Plattierung nicht
glatt und glänzend wird.As a control or reference test, the electroplating operation was carried out with the compositions of Examples 1 to J5 but without a content of nicotinic acid amide and / or ethoxylated naphthol sulfonic acid and it was found that the films formed were coarse and the surface of the plating was not
becomes smooth and shiny.
309821 /1003309821/1003
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Legal Events
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C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 | ||
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