DE2040693A1

DE2040693A1 - Apparat und Verfahren zur Entwicklung von Druckplatten

Info

Publication number: DE2040693A1
Application number: DE19702040693
Authority: DE
Inventors: Von Meister Frederick W
Original assignee: American Hoechst Corp
Current assignee: CNA Holdings LLC
Priority date: 1969-08-21
Filing date: 1970-08-17
Publication date: 1971-03-04
Also published as: CA925745A; DE7030730U; FR2060330B1; AT312640B; GB1311941A; BE754986A; FR2060330A1; ES382889A1; NL7011842A

Description

K 1981 A FP-Dr.P.-is 7. August 1970

Beschreibung zur Anmeldung der

AZOPLATE CORPORATION Murray Hill, New Jersey, USA

für ein Patent auf

Apparat und Verfahren zur Entwicklung von Druckplatten

Die Erfindung betrifft einen Apparat und ein Verfahren zum Entwickeln von Druckplatten und ähnlichen Materialien, die mit einer bereits bildmäßig belichteten, lichtempfindlichen Oberfläche versehen sind. Sie betrifft in erster Linie einen Apparat und ein Verfahren zum Entwickeln von Flachdruckplatten für den Offsetdruck. Sie ist jedoch überall da von Nutzen, wo nan Lösungen auf lichtempfindliche Schichten einwirken läßt, um Teile der Schicht zu entfernen, und wo ein mechanisches Reiben für das Verfahren nachteilig wäre.

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Es ist im Druckgewerbe seit langem bekannt, daß man Bilder auf vorsensibilisierten Offset-Druckplatten durch ein manuelles Entwicklungsverfahren entwickeln kann. Man belichtet die Platte unter einer das Bild tragenden Vorlage, z.B. einer Kunststoff-Folie, mit einer starken Lichtquelle, z.B. einer Kohlenbogenlampe. Nach der Belichtung muß man die Oberfläche der Platte mit einer oder mehreren chemischen Lösungen behandeln, um an den Nicht-Bildstellen die lichtempfindliche Schicht abzulösen und die Platte für ihren endgUltigen Verwendungszweck vorzubereiten. Durch die Belichtung wird das lichtempfindliche Material so verändert, daß es nach dieser Behandlung ein druckfähiges Bild ergibt.

Durch Antragen der Behandlungslösung, z.B. einer Entwickler flüssigkeit, und Verreiben der Entwicklerflüssigkeit auf der Oberfläche der Offset-Druckplatte, z.B. mit Hilfe eines Wattebausches, werden die Nicht-Bildstellen der Schicht auf der Offsetdruckplatte gelöst und entfernt. Manchmal muß die Offsetplatte anschließend noch gewaschen und fixiert werden, wobei man die gleiche Technik anwendet wie beim Entwickeln. Zum Schluß kann es erforderlich sein, die

Platte noch einmal zu waschen.

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Die Nachteile einer solchen manuellen Behandlung liegen auf der Hand. Das Verfahren ist zeitraubend, enthält viele Variablen, und ist somit teuer. So ist es zIb. nahezu unmöglich, beim Arbeiten von Hand die Entwickler- und/oder Fixierlösung mit gleichmäßigem Druck aufzutragen. Durch unsachgemäßes Aufbringen und Einreiben chemischer Lösungen entstehen aber oft Fehler beim Drucken. Schwankungen der Temperatur, wie sie in fast allen Druckereien auftreten, verursachen weitere Ab- I

weichungen usw. ·

Man hat bereits versucht, einige der Variablen bei der Druckplattenherstellung dadurch auszuschalten, daß man die Platte erst in die Entwicklerflüssigkeit und anschließend in soviele Lösungen wie erforderlich eintauchte. Auch sind bereits automatische .Vorrichtungen konstruiert worden, bei denen die Platte unter einer rotierenden und/oder sich hin- und herbewegenden Bürste durchgeführt wird, um auf diese Weise einige der Variablen zu standardisieren.

Derartige Geräte können zwar benutzt werden, doch ist ihre Anwendungsmöglichkeit normalerweise beschränkt. Vorrichtungen, die mit Bürsten arbeiten, sind deshalb unbefriedigend, weil

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durch das mechanische Abbürsten der unerwünschten Teile der lichtempfindlichen Schicht auch das Bild mit abgerieben wird, so daß die erwünschten Bildstellen leiden. In einigen Verarbeitungsvorrichtungen wird die Behandlungsflüssigkeit aus einem Behälter entnommen und mittels einer Pumpe umgewälzt. Die Bürsten und Walzen, die mit der belichteten Obert fläche in Berührung kommen, nehmen geringe Mengen der von den Nicht-Bildstellen abgelösten chemischen Substanzen auf und werden dadurch verunreinigt. Durch das Umwälzen der Behandlungsflüssigkeit von dem Behälter auf die Plattenoberfläche und von da zurück in den Behälter wird verbrauchte Flüssigkeit mit der frischen Lösung vermischt. Es obliegt dem Bedienungspersonal an der Maschine, in geeigneten Abständen neue Lösung nachzufüllen, jedoch selbst wenn dies sorgfältig ausgeführt wird, läßt die Lösung doch schon während der Betätigung der Maschine nach, also zwischen dem Ablassen der verunreinigten Lösung und dem Nachfüllen der Behälter.

Andererseits wird zwar bei Apparaten, in denen die Platte nur eingetaucht wird, ein Abscheuern vermieden, jedoch werden die Gebiete "im Schatten" oft nicht erreicht, d.h. die unerwünschten Teile der Schicht in direkter Nähe der erwünschten Bildstellen werden nicht entfernt. Außerdem müssen die oben

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beschriebenen Maschinen allesamt häufig gereinigt und regelmäßig gewartet werden. Derartige Systeme haben noch andere Nachteile, die jedoch hier nicht weiter aufgezählt werden, da sie allgemein bekannt :ind.

Eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, einen Apparat zur Verfügung zu stellen, mit dem das Entwickeln von belichteten lichtempfindlichen Platten in schonender Weise, mit möglichst geringem Materialverbrauch, automatisch durchführbar ist. Bei der Lösung der Aufgabe wird von einem bekannten Apparat zum Entwickeln einer belichteten lichtempfindlichen Platte ausgegangen, bei welchem in einer mit einer Eingangsöffnung, vorzugsweise Eingangs- und Ausgangsöffnung, versehenen Entwicklungskammer ein Plattenhalter und Sprühdüsen derart angeordnet sind, daß die Düsen im wesentlichen senkrecht auf eine von dem Plattenhalter gehaltene Platte gerichtet sind, und bei welchem die Düsen Über eine Pumpe mit einem Flüssigkeitsbehälter in Verbindung . stehen. Die Aufgabe wird dadurch gelöst, daß der Flüssigkeitsbehälter ein tiefer als der Plattenhalter angeordneter Sumpf ist, daß die von der Pumpe zu den Düsen führende Leitung «ine wahlweise einschaltbare Verzweigung hat, und daß mindestens zwei Vorrat!behälter für Flüssigkeiten vor-

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gesehen eind, die über je eine Dosiervorrichtung mit dem Sumpf in Flüssigkeit leitender Verbindung stehen.

Eine andere Aufgabe der Erfindung ist ein materialsparendes Verfahren zum Entwickeln einer belichteten lichtempfindlichen Platte. Bei der Lösung der anderen Aufgabe wird von einem bekannten Verfahren zum Entwickeln von belichteten lichtempfindlichen Platten ausgegangen, bei dem man jede Platte nacheinander mit mindestens zwei voneinander verschiedenen Flüssigkeiten behandelt, die man auf die Platte aufsprüht, von der Platte ablaufen läßt, sammelt und im Kreislauf wieder auf die Platte sprüht, und die Lösung der Aufgabe wird dadurch herbeigeführt, daß man in den Kreislauf jedesmal eine zu einer einmaligen Behandlung einer Platte ausreichende FlUssigkeitsmenge bringt und jedesmal nach einer Behandlung die Flüssigkeitsmenge verwirft.

Der Apparat der vorliegenden Erfindung hat eine nahezu vollständig geschlossene Entwicklungskammer, in der sioh zweckmäßigerweise eine Transportvorrichtung befindet, mit deren Hilfe die zu entwickelnde Platte in und aus der Kammer befördert werden kann. Vorzugsweise ist auch eine Vorrichtung vorgesehen, um während der Dauer des ganzen Entwioklungsvor-

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ganges die Temperatur in der Entwicklungskammer zu kontrollieren. Mittels der in der Entwicklungskammer angebrachten Düsen wird jedesmal eine der Flüssigkeiten in Form von Tröpfchen unter verhältnismäßig niedrigem Druck im wesentlichen senkrecht zur Oberfläche der zu entwickelnden Platte versprüht.

Von den zwei oder mehr Vorratsbehältern für Flüssigkeiten ist mindestens eine*r zur Aufnahme einer chemischen Lösung und mindestens einer zur Aufnahme von Wasser bestimmt. Als Dosiervorrichtungen sind beispielsweise Regulierventile vorgesehen, mit denen der Flüssigkeitszufluß aus den Vorratsbehältern in den Sumpf reguliert wird. Ferner sind Vorrichtungen zweckmäßig, die die Temperatur der in den Sumpf einfließenden Flüssigkeit und die Temperatur der im Sumpf befindlichen Flüssigkeit regeln.

Mittels der Pumpe wird Flüssigkeit aus dem Sumpf zu den Düsen innerhalb der Kammer gepumpt, doch muß die Pumpe wahlweise auch auf "Ablauf" gestellt werden körnen« damit die Flüssigkeit aus dem Apparat abgelassen werden kann.

Durch die vorliegende Erfindung können alle Parameter, die

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Einfluß auf das endgültige Resultat haben, innerhalb fester Grenzen automatisch gesteuert werden, womit die Nachteile der bisherigen Geräte vermieden werden. Eine oder mehrere Lösungen können in genau bemessenen Mengen und in einer vorher bestimmten Reihenfolge eine ganz bestimmte Zeit lang unter relativ niedrigem Druck bei einer ganz bestimmten Temperatur eingesprüht werden. Die Menge jeder Lösung, die auf die jeweilige Fläche der zu behandelnden Platte zur Anwendung kommt, ihre Verweilzeit auf der Plattenoberfläche, die durch den Aufprall der Teilchen während des Sprühvorganges hervorgerufene Bewegung, und die Temperatur in der Kammer während des Entwicklungsvorganges werden auf den jeweils günstigsten Wert eingestellt, wodurch eine Platte mit bestmöglichen Gebrauchseigenschaften erzielt wird.

Die für eine derartige Behandlung normalerweise verwendete Entwicklerflüssigkeit entfaltet ihre Wirkung am besten bei einer ganz bestimmten Temperatur, und die Temperatur der versprühten Flüssigkeit und die Temperatur der umgebenden Entwicklungskammer können so eingestellt werden, daß sowohl mit der Entwicklerflüssigkeit als auch mit anderen chemischen Lösungen beste Resultate erzielt werden.

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Für das mit niedrigem Druck arbeitende Versprühungssystem werden Weitwinkel-Sprühdüsen, vorzugsweise Einstoffdüsen, verwendet. Durch diese Düsen wird die Flüssigkeit in der Weise auf die Platte aufgesprüht daß die ganze Oberfläche der Platte ausreichend bedeckt ist. Für die Versprühung unter niedrigem Druck wendet man einen Druck von 0.7 bis 3.5 kg/qcra an. Ein derartiges Versprühungssystem ist billiger als die bisher verwendete Versprühung unter hohem Druck. Die chemische Lösung wird dabei nicht zerstäubt, sondern schlägt vielmehr in Form von Tröpfchen auf die Platte auf, was ihre Wirksamkeit erhöht.

Bei dem Apparat gemäß der Erfindung werden für alle Flüssigkeiten, also für Lösungen von Chemikalien und für Wasser, die gleichen Sprühdüsen verwendet. Auf jeden Arbeitsgang, bei dem eine chemische Lösung auf die zu verarbeitende Platte aufgesprüht wurde, folgt ein Waschvorgang, bei dem Wasser aus den Düsen verspritzt wird. Auf diese Weise wird der Apparat jedesmal gründlich gereinigt. Pie bei derartigen Verfahren verwendet η Entwicklerlösungen neigen dazu, Kristalle zu bilden und die Sprühdüsen zu verstopfen. Durch den Waschvorgang, der nach jeder Behandlung mit einer chemischen Lösung folgt, wird «ine derartige Kristallbildung und damit ein

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' Verstopfen der Düsen vermieden. Außerdem sollte man auch deshalb Jedesmal, wenn man Entwickler benutzt hat, diesen aus dem Apparat ablassen, weil durch in der Vorrichtung verbleibende Lösungsreste die im folgenden Arbeitsgang verwendete Flüssigkeit verunreinigt oder verdünnt wird. Auf diese Weise wird eine Verunreinigung der einen Flüssigkeit durch

" die andere vermieden und das Sprühsystem des Apparates jederzeit sauber gehalten.

Die vorliegende Erfindung ermöglicht eine beträchtlich bessere Wiedergabe der feinen Einzelheiten des herzustellenden Bildes. Es ist durchaus möglich, einen ganz ganz kleinen Rasterpunkt eines sehr feinen Rasters wiederzugeben, so s.B. einen 2£-Punkt eines Rasters von 120 Linien je cm. In eines Apparat, in dem die Platte einer reibenden oder mechanisch schleifenden Wirkung ausgesetzt wird, würde ein so kleiner Punkt von einer normalen Druckplatte aller Wahrscheinlichkeit nach entfernt werden. Dies wird bei der vorliegenden Erfindung vermieden, da die wirksame Kraft der versprühten Flüssigkeit unter einem Winkel von etwa 90* auf die Oberfläche der zu bearbeitenden Platte auftrifft. Außerdem wird die angewendete Kraft in der Weise reguliert, da* sie gerade ausreicht, um die Nioht-Bildstellen zu entfernen, ohne dabei da· Bild su beschädigen.

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Die Erfindung wird nun unter Bezugnahme auf die Fig. 1 bis 4 weiterhin erläutert.
Von den Figuren ist

Fig. 1 eine schematische Darstellung einer ersten

Ausführungaform des Entwicklungsapparates gemäß der Erfindung,

Fig. 2 eine schematische Darstellung einer abgewandelten Form des Entwicklungsapparates»

Fig. 3 eine schematische Darstellung einer weiteren

AusfUhrungsform des Entwicklungsapparates, und

Fig. 4 eine schematische Darstellung einer vierten Ausführungsform des Entwicklungsapparates gemäß der Erfindung.

In den Zeichnungen ist eine erste Ausführungsform der Erfindung in Fig. 1 dargestellt. Sie umfaßt ein? nahezu vollständig geschlossene Entwicklungskammer 10 mit iner Öffnung 12 an der einen Seite, durch welche die zu entwickelnde Platte in den Apparat und aus diesem heraus befördert werden kann. An der Öffnung 12 ist eine Aufgabeplatte Ik angebracht, auf die die zu entwickelnde Platte, beispielsweise eine belichtete Druckplatte, aufgelegt wird. Es ist zu bemerken, daß der Boden 16 der Entwicklungskammer abwärts, bei dem in

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der Zeichnung dargestellten Beispiel nach rechts abwärts, geneigt ist und daß sich am unteren Ende des abwärts geneigten Bodens der Entwicklungskammer ein Abfluß 18 befindet, durch welchen man Flüssigkeit aus der Entwicklungskammer in einen Sumpf 20 ablassen kann. Einzelheiten des Sumpfes sind weiter unten angegeben.

Bei der in Fig. 1 dargestellten Ausführungsform ist der

Plattenhalter ein Teil einer Transportvorrichtung, zu der ein Walzenpaar 2M/26 gehört, von dem Walze 26 mit einer Riemenscheibe versehen und über einen Riemen 28 mit einem Antriebsmotor 30 verbunden ist, der an der Entwicklungskammer festgemacht ist. Ein endloses Transportband 32 führt über die Walze 26 und eine Leerlaufwalze 34 am anderen Ende der Kammer. Es dient zum Transportieren der Platten von der Eingangsöffnung 12 in die Entwicklungskammer und umgekehrt und als Halter für die Platten, während sie mit den Flüssigkeiten besprüht werden. Das Transportband 32 kann z.B. aus einer Nylonbahn (Polyamidbahn) mit einer Gummiauflage bestehen, auf der eine Platte P gut haftet, wenn sie sich innerhalb der Entwicklungskammer in der in der Fig. 1 dargestellten Arbeitslage befindet.

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Wenn eine Platte in den Apparat eingeführt werden soll, bringt man sie, wie aus der Zeichnung ersichtlich, in den Spalt zwischen den Walzen 24 und 26 und treibt dann die Walze 26 im Uhrzeigersinn an, se daß die Platte in die in der Zeichnung dargestellte Arbeitslage vorrückt. Nach Beendigung der Behandlung der Platte kann, die Antriebswalze 26 entgegen dem Uhrzeigersinn betätigt werden, um die Platte P durch die öffnung 12 aus dem Apparat herauszubefördern.

Zur Regulierung der Temperatur innerhalb der Entwicklungskammer ist eine Vorrichtung vorgesehen, die aus korrosionsfesten Heizstreifen 40 besteht, die an mindestens zwei der senkrechten Seitenwände der Kammer angebracht sind. Die Heizet reif en 40 sind Über eine geeignete Leitung 44 mit einem Thermostat 42 verbunden. Die Leitung 44 führt zu einem Stecker 46, der an eine geeignete Stromquelle angeschlossen werden kann. Der Thermostat 42 kann so eingestellt werden, daft, solang· der Apparat in Betrieb ist, im Innern der Kammer •teto d£: gewünschte Temperatur herrscht.

Drei verschieden?-, getrennte Vorratsbehälter 50» 52 umi 5¹* sind vorgeethwn, die die für eine übliche Behandlung einer

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Platte erforderlichen Flüssigkeiten, nämlich Entwickler, Fixierflüssigkeit, und Wasser, enthalten können. Der Vorratsbehälter 50 ist mit einer Rohrleitung 56 verbunden, die ein elektromagnetisch betätigtes Ventil enthält. Die Rohrleitung 56 ist ihrerseits mit einer abfallenden Rohrleitung verbunden, die in den vorher beschriebenen Sumpf 20 einmündet, fc Der Vorratsbehälter 52 ist mit einer Rohrleitung 62 verbunden, die ebenfalls ein elektromagnetisch betätigtes Ventil enthält. Die Rohrleitung 62 ist ihrerseits mit der bereits genannten Rohrleitung 60 verbunden. Der Vorratsbehälter 54 ist an eine Rohrleitung 66 angeschlossen, die ein elektromagnetisch betätigtes Ventil enthält und ebenfalls an die Rohrleitung 60 angeschlossen ist.

Eb ist ersichtlich, daß jedes der elektromagnetisch betätigten Ventile 58, 64, und 68 dazu dient, den Zufluß der Flüssigkeit aus dem jeweiligen Vorratsbehälter in die abfallende Rohrleitung 60 und von dieser in den Sumpf 20 zu steuern. Während die Flüssigkeit in der Rohrleitung 60 nach unten fließt, wird ihre Temperatur mit Hilfe einer Heizspirale 70 reguliert, die um den direkt vor der Einmündung in den Sumpf befindlichen Teil der Rohrleitung 60 herumliegt. Die Heizspirale 70 kann in geeigneter Weise gesteuert sein, so daß sie die durch die

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Rohrleitung 60 fließende Flüssigkeit auf die gewünschte Temperatur aufheizt.

Ferner ist eine Vorrichtung vorgesehen, um die Temperatur der Flüssigkeit innerhalb des Sumpfes zu regulieren. Zu ihr gehurt ein Heizelement 76, das über eine Leitung 80 mit einem Thermostat 78 verbunden ist. Die Leitung 80 führt ssu einem Stecker 82, der an eine geeignete Stromquelle angeschlossen werden kann.

Innerhalb des Sumpfes befindet sich ein Schwimmer 88, der . mit einem Schwimmerschalter 86 in Verbindung steht, der in geeigneter Weise an die'elektromagnetisch betätigten Ventile" 58, 64 und 68 angeschlossen ist und deren Betätigung ■' wie weiter unten beschrieben,steuert, d.h. die menge, die aus dem jeweiligen Vorratsbehälter .entnommen 'bemißt-*und reguliert»

Über* eine Rohrleitung 90 ißfe -äe? Saipf 19 aife Ärängerpuiipe 92 verbündest ■ öies durch eines?· GS angetrieben, ist. Atiaerereeits; .verbindet eise Moteieifettng 9^ die toetrittsöfftiuag der fiepe 92 siit elaeE elelcfcj?©©ßgnefeisefe betätigten Ventil, um wafelweioo in eine do dteeligesogen©

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Linie dargestellte Stellung oder in eine als gestrichelte Linie dargestellte Stellung gebracht werden kann. Wenn das Ventil 96 in der als ununterbrochene Linie dargestellten Position ist, ist die Pumpe mit einer Leitung 98 verbunden, die zu der innerhalb des oberen Teiles der Kanuner 10 angebrachten Sprühvorrichtung 100 führt. Zu dieser Sprühvorrichtung gehört ein Verteiler 102, der mit einer größeren Zahl von einzelnen, im Abstand voneinander angebrachten Sprühdüsen 1OM verbunden ist. Die Sprühdüsen sind vorzugsweise im Quadrat oder im Rechteck angeordnet, so daß die in der Kammer liegende Platte in der gewünschten Weise von der versprühten Flüssigkeit bedeckt werden kann.

Die Flüssigkeit wird den SprUhdüsen mit einem Druck zwischen 0.7 bis 3.5 kg/qcm zugeführt und wird von den Düsen in Form von Tröpfchen versprüht, die sich im wesentlichen senkrecht zu der Oberfläche der in der Kammer liegenden zu behandelnden Platte bewegen.

Wenn das Ventil 96 die durch eine gestrichelte Linie angedeutete Stellung einnimmt, steht die Pumpe mit einer Rohrleitung 110 in Verbindung, welche ihrerseits zu einem Abwasserbehälter 112 führt.

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Der in Pig. 1 dargestellte Apparat ist an ein nicht gezeigtes Regelsystem der Üblichen Konstruktion angeschlossen, das einen Zeitschalter enthält, mit dem die Dauer und Reihenfolge der Tätigkeiten der einzelnen Bet tandteile des Apparate« geregelt werden. Der gezeigte Apparat kann entweder im Zweistufen-Zyklus oder im Vierstufen-Zyklus arbeiten. In dem nun folgenden ersten Beispiel wird eine aus zwei Stufen- bestehende Arbeitsweise beschrieben.

Beispiel 1

Eine negativ-arbeitende voraensibilisierte Druckplatte wird gemäß den Vorschriften des Herstellers in einem der üblichen pneumatischen Kopierrahmen unter einem transparenten negativen Original belichtet. Dann nimmt man die belichtete Platte aus dem Kopierrahmen heraus und steckt sie mit der belichteten Seite nach oben in den Entwicklungsapparat. Dies geschieht, indem man die Platte in den Spalt zwischen den Walzen 24 und 26 einschiebt und dann die Walze 26 wie weiter oben beschrieben in Gang setzt. Von den Vorratsbehältern 50 und 54 ibt einer mit einem für die Platte geeigneten Entwickler und der andere mit Wasser gefüllt. Bei der zweistufigen Arbeitsweise ist kein Fixiermittel nötig, 00 daß der FlÜfiigktitsbehälter 52 leer bleiben kann.

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Durch Niederdrucken eines geeigneten Anlaßknopfes wird ein mit diesem verbundener Zeitfolgeschalter in Gang gesetzt. Eine viele Nocken tragende Nockenscheibe innerhalb des Zeitschalters betätigt einen Mikroschalter, der das elektromagnetisch betätigte Ventil 58 betätigt. Die Betätigung des Ventils 58 dient dem Zweck, das Ventil zu öffnen und so den P Zufluß der Entwicklerlösung aus dem Vorratsbehälter 50 in die Rohrleitung 60 und danach durch das Zentrum der die Temperatur regelnden Heizspirale 70, in den Sumpf 20 zu ermöglichen. Der Zufluß von Entwicklerflüssigkeit in den Sumpf dauert so lange, bis der Flüssigkeitsstand im Sumpf eine bestimmte Höhe erreicht hat und dadurch der Schwimmerschalter 66 betätigt wird und dafür sorgt, daß das Ventil 58 geschlossen wird. Der Schwimmerschalter 86 steuert also die Flüssigkeitsinenge, die aus dem Flüssigkeitsbehälter 50 zufließt. Der Schwimmerschalter 86 gibt auch dem Motor der Pumpe das Startsignal, worauf die Entwicklerflüssigkeit in Sumpf 20 durch das Ventil 96, das dabei in der als durchgezogene Linie dargestellten Stellung ist, und von dort zu den SprühdUien 104 in der Entwicklerkammer gepumpt wird. Die Entwicklerflüssigkeit wird dann auf die Oberfläche der innerhalb der Kammer auf dem Transportband 32 liegenden Platte vtnprüht.

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Die Entwicklerflüssigkeit fließt sum Boden der.Entwicklungskammer und von da durch die Auslaßöffnung 18 zurück in den Sumpf 20, solange diese Betriebsphase andauert. Me Nooke des Zeitschalters sorgt dafür, daß die Pumpe eine bestimmte Zeit lang arbeitet; dann setzt die Pumpe aus, bis alle Ent·* Wicklerflüssigkeit in den Sumpf abgeflossen ist»

Das Ventil 96 wird dann in die in Abb. 1 als gestrichelte Linie dargestellte Stellung gebracht, wodurch die Pumpe wieder in Gang gesetzt und die Entwicklerflüssigkeit in den Abwasserbehälter 112 gepumpt wird.

Anschließend sorgt der Zeitschalter dafür, daß das Ventil geöffnet wird, so daß Wasser durch die Leitung 60 und durch das Zentrum der der Temperaturregelung dienenden.Heizspirale ?0 in den Sumpf 20 fließt. Wenn das Wasser in dem Sumpf eine gewisse Höhe erreicht hat, tritt-wieder der Schwimmer- Schalter 86 in Aktion» der das Ventil.68 schließ und die Pumpe 92 wieder in'Qang setzt«, iDas lasser wird cteaa - von-, der Pumpe, durch 'das Ventil" 96 &ü-.- d©a -SprühdUsen 104 gepusapt und durch die Sprühdüsen auf'die innerhalb des? Entwicklungskammer liegende Platte versprüht. . . .

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Das Wasser fließt nach unten ab und durch die Auslaßöffnung 18 der Entwicklungskammer in den Sumpf zurück. Das Wasser wird in dieser Weise eine bestimmte Zeit lang umgewälzt, und dann wird durch den Zeitschalter die Pumpe 92 so lange abgeschaltet, daß alles Wasser in den Sumpf 20 abfließen kann. Durch den Zeitschalter wird das Ventil 96 in die durch die gestrichelte Linie angedeutete Stellung gebracht, die Pumpe wird wieder angestellt und pumpt alles Wasser in den Abwasserbehälter 112. Anschließend geht der Zeitschalter in seine Ausgangsstellung zurück und die Platte wird aus der Entwicklungskammer herausbefördert.

Beispiel 2

Bei der Durchführung der vierstufigen Arbeitsweise werden zunächst die oben beschriebenen beiden Verfahrensschritte durchgeführt, dann folgt jedoch noch einmal eine Behandlung W mit einer chemischen Lösung, indem man das Ventil 64 anstelle des Ventils 58 betätigt und damit eine Fixierflüssigkeit oder eine andere gewünschte chemische Lösung aus dem Flüssigkeitsbehälter 52 durch den Apparat zirkulieren läßt und dann in einen Abwasserbehälter pumpt. An einen derartigen Arbeitsgang mit einer zweiten chemischen Lösung schließt sich automatisch ein zweiter Waschgang an, wobei das Ventil 68 betätigt

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wird, um zu ermöglichen, daß Wasser durch den Apparat gepumpt und schließlich in den Abwasserbehälter abgeleitet wird.

Ein entsprechender Schaltmechanismus kann vorgesehen sein, um den Apparat entweder auf die zweistufige Arbeitsweise oder auf die vierstufige Arbeitsweise zu schalten. Der Zeitschalter kann so eingerichtet sein, daß chemische Lösungen in beliebiger Zahl durch den Apparat geleitet werden können, wobei sich an einen Arbeitsgang mit einer chemischen Lösung in jedem Fall ein Waschgang mit Wasser anschließt, weil dies für die Behandlung der lichtempfindlichen Platte am günstigsten ist.

Selbstverständlich wird die behandelte Platte erst.dann durch Betätigung der Transportvorrichtung aus dem Apparat herausbefördert, wenn alle Phasen der Behandlung durchlaufen worden sind. ,

In Pig. '' der Zeichnungen ist eine abgewandelte Form der Erfindung dargestellt, in der der Apparat aber im wesentlichen dem in Fig. i dargestellten Qerät entspricht. Gleiche Teil· sind mit den gleichen Bezugsziffern wie oben gekenn-

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zeichnet, und die Qesamtlage ist die gleiche wie in Fig. 1, mit Ausnahme der Transportvorrichtung in der Entwicklungskammer 10. Das zu behandelnde Material wird durch eine Öffnung 12 in die Entwicklungskammer eingeführt. In der Kammer befinden sich ein erstes Walzenpaar 120/122 und, am anderen Ende der Kammer, ein zweites Walzenpaar 124/126. Ein ψ endloses Transportband 128, das dem Band 32 in der vorher beschriebenen Ausführungsform des Apparates entspricht, führt um die Walzen 120 und 124.

An dem der Einlaßöffnung 12 gegenüberliegenden Ende der Kammer befindet sich eine Austritteöffnung 130, an welcher ein Plattentisch 132 angebracht ist, auf den die aus der Kammer herauskommende Platte gleitet.

Durch die Einlaßöffnung 12 wird eine Platte geschoben und

in die in Fig. 2 dargestellte Stellung gebracht. Daraufhin hält das Transportband an und es werden die bereite im Zusammenhang mit der Fig. 1 beschriebenen Arbeitsgänge ausgeführt.

Nach Beendigung der Behandlung fängt das Transportband wieder an zu laufen und bewegt sioh in der gleichen Riohtung wie

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vorher. Dadurch wird die Platte durch die Austrittsoffnung 130 am anderen Ende des Apparates ausgeworfen. Diese Ausführungsform der Erfindung ist besonders vorteilhaft, wenn kontinuierliches Arbeiten gewünscht wird.

In Fig. 3 ist eine weitere Ausführungsform der Erfindung dargestellt, die besonders für die Aufnahme außergewöhnlich großer Platten, z.B. vom Format 1,45 m mal 2,00 i, geeignet ist, dabei aber sehr wenig Platz beansprucht. Auch in dieser Zeichnung entsprechen viele Teile des Apparates denjenigen in Fig. 1 und sind mit den gleichen Bezugsziffern versehen, die bereits oben eingeführt wurden.

Diese Ausführungsform der Erfindung unterscheidet sich von den vorher beschriebenen durch die Konstruktion der Entwicklungskammer 14O. Sie enthält eine Einlaßöffnung 142, an der ein Aufgabetisch 144 angebracht ist. Innerhalb der Entwicklungskammer ist ein Walzenpaar lyO/152 angebracht„ das dazu' dient, eine Platte in den Apparat und aus dem Ipp&nt heraus su befördern.

Zur Aufnahme und zum Tragen der Platte innerhalb der Entwick™

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lungskammer ist eine gewölbte Auflagefläche 154 vorgesehen, die im Querschnitt im wesentlichen bogenförmig ist. Bei dieser AusfUhrungsform der Erfindung befindet sich die Sprühvorrichtung im wesentlichen im Mittelpunkt des von der Auflagefläche 154 beschriebenen Bogens und hat einen Verteiler 160, der mit einer Anzahl von voneinander getrennt angebrachten einzelnen Sprühdüsen 162 in Verbindung steht.

Die Walzen I50 und 152 dienen dem Zweck, das zu behandelnde Material auf die Auflagefläche 154 zu schieben, wo es während der Behandlung in bogenförmiger Position festgehalten wird. ' Diese Stellung des Materials während der Behandlung in der Entwicklungskammer bringt einen ungewöhnlichen Vorteil mit sich. Sprühdüsen haben im Mittelpunkt des besprühten Bereiches eine etwas höhere Auftreffgeschwindigkeit als in den Außenbezirken. Dadurch können bei einem außergewöhnlich heiklen Sprühvorgang zwischen dem Mittelteil und den Rändern eines Bildes Unterschiede entstehen. Durch die Lage der Platte zur Sprühvorrichtung, wie sie in Abb. 3 dargestellt ist, werden derartige Probleme überwunden.

Der untere Teil der Entwicklungskammer 140 ist mit einer Abflußleitung 166 verbunden, aus deren offenem Ende 168 die Flüssigkeit aus der Entwicklungskammer in den angeschlossenen Sumpf abfließt.

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In Fig» 4 ist eine weitere Ausführungsform der Erfindung dargestellt, in der ebenfalls viele Apparateteile im wesentlichen den in Pig. I dargestellten Teilen entsprechen und dieselben Bezugsziffern tragen. .

Bei dieser Ausführungsform der Erfindung ist eine neuartige Konstruktion der Entwicklungskammer 170 vorgesehen, und die Sprühvorrichtung enthält einen Verteiler 172, der sowohl mit einer ersten Gruppe einzelner, voneinander getrennter Sprühdüsen 17Ί, deren Sprühstrahl nach rechts gerichtet ist, als auch mit einer zweiten Gruppe einzelner, voneinander getrennter Sprühdüsen 176, deren Sprühstrahl nach links gerichtet ist, verbunden ist.

In der Decke der Entwicklungskammer befinden sich zwei öffnungen 178 und 179, durch welche die Druckplatten in den Apparat eingeführt und aus dem Apparat herausgenommen werden können. Ein erstes Zahnrad l80 ist innerhalb der Kammer und ein zweites Zahnrad 182 ist außerhalb der Kammer angebracht, über beide Zahnräder verläuft eine Transportkette IBk. Zwei Plattenklemmen 186 und 188 sind im Abstand voneinander an der Transportkette l8U angebracht und dienen dazu, die Platten P wie in der Zeichnung dargestellt zu befördern.

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Diese Ausführungsform des Apparates gemäß der Erfindung dient dazu, entweder beide Seiten einer Platte oder je eine Seite von zwei Platten gleichzeitig zu behandeln. Eine auf beiden Seiten beschichtete Platte, oder zwei Platten, von denen jede auf einer Seite beschichtet ist, werden außerhalb der Entwicklungskammer an den Klemmen befestigt und dann zur Behandlung in die Kammer hinabgelassen, und die fertig behandelten Platten werden wieder aus der Kammer heraufgezogen. Während eine erste Platte oder ein erstes Paar Platten behandelt wird, kann man eine zweite Platte oder ein zweites Paar Platten an den Klemmen befestigen, die sich gerade außerhalb der Entwicklungskammer befinden.

Es ist für den Fachmann selbstverständlich, daß innerhalb der vorliegenden Erfindung noch viele Modifikationen möglich sind, ohne daß damit die Erfindung verlassen wird, und die Erfindung soll alle diese Modifikationen mit umfassen.

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Claims

Patentansprüche

[D Entwicklungsapparat, enthaltend eine Entwicklungskammer i eine Transportvorrichtung, um das zu behandelnde Material in die Kammer und aus der Kammer zu befördern; eine Sprühvorrichtung innerhalb der Kammer, um eine Flüssigkeit auf das au behandelnde Material zu sprühen; einen · Flüssigkeitsvorrat.und einen mit dera Pltssigkeitsvorrat verbundenen Sumpfj Reguliervorrichtungen, um den Zufluß der aus dem Flüssigkeitsvorrat in den Sumpf fließenden Flüssigkeiten zu regulieren! und ©ine Pumpe, die mit dem Sumpf einerseits und der Sprühvorrichtung andererseits verbunden ist. und die Sprühvorrichtung unter reiativ niedrigem Dr-ee-k Bit Flüssig=· ■ keit versorgt.
2. Apparat gemäß. Anspruch 1, bei dem die Entwicklungskammer nahezu vollständig-'geschlossen ist, um so den Zutritt von frischer Luft sii !beschränken und damit zu verhindern, daß die versprühte Flüssigkeit mit Bestandteilen der Luft reagiert.
3«, . Apparat genas Anspruch 1, bei den die Transportvorrichtung eine Vorrichtung zum Transport des zu

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Materials in und aus der Kammer und zur Aufnahme des zu behandelnden Materials innerhalb der Kammer ist.
4. Apparat gemäß Anspruch 1, mit einer Vorrichtung zur Regulierung der Temperatur in der Kammer.
5. Apparat gemäß Anspruch 1, bei dem die Entwicklungskammer eine Auslaßöffnung enthält, um die Flüssigkeit in den Sumpf abzulassen.
6. Apparat gemäß Anspruch 1, bei dem die Sprühvorrichtung mehrere getrennte und im Abstand voneinander angebrachte Sprühdüsen umfaßt, die in einer im wesentlichen rechteckigen Anordnung zueinander stehen.
7. Apparat gemäß Anspruch 1, bei dem der Druck der Flüssigkeit an der Sprühvorrichtung zwischen 0.7 bis 3.5 kg/qcm liegt.
8. Apparat gemäß Anspruch 1, bei dem die genannte Sprühvorrichtung so angeordnet ist, daß sie die Flüssigkeit im wesentlichen senkrecht zur Oberfläche des zu behandelnden Materials versprüht.

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9. Apparat gemäß Anspruch 1, bei dem der Flüssigkeitsvorrat aus mehreren einzelnen Vorratsbehältern besteht, von denen mindestens einer eine chemische Lösung und mindestens ein anderer Wasser enthält.
10. Apparat gemäß Anspruch 9» bei dem die Reguliervorrichtung für die Flüssigkeitszufuhr Ventile umfaßt und bei dem jeder einzelne Vorratsbehälter mit einem getrennten und unabhängig zu betätigenden Ventil verbunden ist.
11. Apparat gemäß Anspruch 1, bei dem der Sumpf durch Leitungen mit den genannten Vorratsbehältern verbunden ist und eine Vorrichtung zur Kontrolle der Temperatur der durch die Leitungen fließenden Flüssigkeit vorgesehen ist.
12. Apparat gemäß Anspruch 1, bei dem eine Vorrichtung vorgesehen ist, um die Temperatur der Flüssigkeit innerhalb des Sumpfes zu regulieren.
13. Apparat gemäß Anspruch I₁ bei dem eine Vorrichtung vorgesehen ist, um die Menge der von den Vorratsbehältern in den Sumpf fließenden Flüssigkeit zu messen und zu regulieren.

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14. Apparat gemäß Anspruch 13, bei dem die Vorrichtung zum Messen und Regulieren der von den Vorratsbehältern in den Sumpf fließenden Flüssigkeitsmengen einen Schwimmerschalter umfaßt, der innerhalb des Sumpfes angebracht ist.
15* Apparat gemäß Anspruch 1, bei dem die Pumpe auf Ablauf eingestellt werden kann und ein Ventil vorgesehen ist, um die Pumpe entweder mit der Sprühvorrichtung oder mit dem Abwasserbehälter zu verbinden.
16. Apparat gemäß Anspruch I, bei dem die Transportvorrichtung eine öffnung an der einen Seite der Entwicklungskammer und ein endloses Band innerhalb der Kammer umfaßt, das das zu behandelnde Material von der Öffnung in die Kammer und anschließend zurück zur Öffnung befördert, wo es die Kammer wieder verläßt.
17. Apparat gemäß Anspruch 1, bei dem die Transportvorrichtung eine Einlaßöffnung an der einen Seite der Kammer und eine Austrittsöffnung an der gegenüberliegenden Seite der Kammer umfaßt und außerdem noch zwei zusammenwirkende Walzenpaare und ein Transportband, das das zu behandelnde Material trägt und befördert.

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18. Apparat gemäß Anspruch i, bei dem sich innerhalb der Kammer eine gewölbte Auflagevorrichtung befindet, um das zu behandelnde Material aufzunehmen.
19. Apparat gemäß Anspruch 18, bei dem die gewölbte Auflagevorrichtung im Querschnitt etwa die Form eines Kreisbogens hat und die Sprühvorrichtung sich im wesentlichen im Mittelpunkt des von der gewölbten Auflagevorrichtung beschriebenen Bogens befindet.
20. Apparat gemäß Anspruch 1, bei dem die Sprühvorrichtung Sprühdüsen umfaßt, die sich an entgegengesetzten Seiten der Entwicklungskammer befinden und einander gegenüberliegen, um auf diese Weise entweder -beide Seiten.eines au behandelnden.-. Materials oder je eine Seite von zwei .zu.behandelnäen Materialien gleichzeitig behandeln zu können.
21. Apparat gemäß Anspruch 2O₄ bei dem sich die Einlaßöffnung in der Decke der Kammer befindet und eine Transport' Vorrichtung vorgesehen ist» die zum Teil außerhalb der Kammer liegt und zum Teil in die Kammer hineinragt und mit der die zu behandelnden Materialien in die Kammer und aus der Kammer heraus befördert werden.

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22. Apparat zum Entwickeln einer belichteten lichtempfindlichen Platte, bei welcher in einer mit einer Eingangsttffnung, vorzugsweise mit einer Eingangs- und Ausgangsöffnung versehenen Entwicklungskammer ein Plattenhalter und Sprühdüsen derart angeordnet sind, daß die Düsen im wesentlichen senkrecht auf eine von dem Plattenhalter gehaltene Platte gerichtet sind, und bei welcher die Düsen über eine Pumpe mit einem Flüssigkeitsbehälter in Verbindung stehen, dadurch gekennzeichnet, daß der Flüssigkeitsbehälter ein tiefer als der Plattenhalter (32) angeordneter Sumpf (20) ist, daß die von der Pumpe (92) zu den Düsen (104) führende Leitung (98) eine wahlweise einschaltbare Verzweigung (96) hat, und daß mindestens zwei Vorratsbehälter (50, 52, 5¹O für Flüssigkeiten vorgesehen sind, die über je eine Dosiervorrichtung (58, 64, 68) mit dem Sumpf (20) in Flüssigkeit leitender Verbindung (56/60, 62/60, 66/60) stehen.
23. Verfahren zur Entwicklung und Behandlung von Materialien mit einer bereits belichteten lichtempfindlichen Oberfläche, bei dem man das zu behandelnde Material in die Behandlungszone befördert und die Oberfläche des eu behandelnden Materials erst mit einer genau bemessenen Menge einer . unter niedrigem Druck stehenden chemischen Lösung und die so

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behandelte Oberfläche dann mit einer genau bemessenen Menge Wasser unter niedrigem Druck besprüht,
24. Verfahren gemäß Anspruch 23, bei dem die Temperatur der Behandlungszone während der Behandlung des Materials gesteuert wird.
25. Verfahren gemäß Anspruch 24, bei dem während der Behandlung des Materials auch noch die Temperatur der versprühten Flüssigkeit reguliert wird.
26. Verfahren gemäß Anspruch 23» bei dem die Flüssigkeit in Form von Tröpfchen auf die Oberfläche des zu behandelnden Materials versprüht wird.
27. Verfahren gemäß Anspruch 26, bei dem die Flüssigkeit in im wesentlichen senkrechter Richtung auf die Oberfläche des zu behandelnden Materials versprüht wird,
28. Verfahren gemäß Anspruch 23ι bei dem anschließend noch einmal eine genau bemessene Menge einer anderen chemischen Lösung unter niedrigem Druok auf die bereits behandelte Oberfläch· gesprüht wird und dann noch einmal eine genau

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bemessene Menge Wasser auf die behandelte Oberfläche unter niedrigem Druck versprüht wird.

29· Verfahren zum Entwickeln von belichteten, lichtempfindlichen Platten, bei dem man jede Platte nacheinander mit mindestens zwei voneinander verschiedenen Flüssigkeiten behandelt, die man auf die Platte aufsprüht, von der Platte ™ ablaufen läßt, sammelt und im Kreislauf wieder auf die Platte sprüht, dadurch gekennzeichnet, daß man in den Kreislauf jedesmal eine zu einer einmaligen Behandlung einer Platte ausreichende Flüssigkeitsmenge bringt und nach der Behandlung die FlUseigkeitsmenge verwirft.

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