DE19961908C2 - Hochauflösendes Littrow-Spektrometer und Verfahren zur quasi-simultanen Bestimmung einer Wellenlänge und eines Linienprofils - Google Patents
Hochauflösendes Littrow-Spektrometer und Verfahren zur quasi-simultanen Bestimmung einer Wellenlänge und eines LinienprofilsInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Spektrometer mit einem dispergierenden Element, das
zwischen wenigstens zwei Stellungen bewegbar ist und bei dem in der ersten Stellung die
einfach dispergierte Strahlung einer ausgewählten Wellenlänge unmittelbar in den
einfallenden Strahlengang zurückfällt.
Die Erfindung betrifft ferner ein Verfahren zur Messung der Strahlung aus einem
Spektalbereich mit unterschiedlicher spektraler Auflösung bei dem der Strahl von einer
Abbildungsoptik auf ein dispergierendes Element geleitet wird und von dem
Dispersionselement wieder zurück auf die Abbildungsoptik. Die Erfindung betrifft
speziell die Verwendung eines solchen Spektrometers.
Die unter dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1 beschriebenen Spektrometer sind auch
unter dem Begriff Littrow-Spektrometer bekannt. Bei einer Littrow-Anordnung fällt der
Strahl einer ausgewählten Wellenlänge nach der Dispersion an einem Gitter oder Prisma
annähernd wieder in sich selbst zurück. Dadurch können die gleichen optischen
Komponenten als Abbildungs- und Kameraoptik verwendet werden. Eine vollständige
Überlagerung der einfallenden und dispergierten Strahlen ist praktisch nicht möglich, da
im Eintrittsspalt kein Detektor angeordnet werden kann. Eine Abweichung ist im
allgemeinen nur für kleine Winkel tolerierbar, da die Abbildungsfehler zunehmen.
Hochauflösende Spektrometer mit spektralen Bandbreiten, die bis zu 15 fm schmal sind,
werden insbesondere bei der Messung der spektralen Intensitätsverteilung von Lasern
verwendet. Neben der Messung der spektralen Intensitätsverteilung kann es jedoch auch
wünschenswert sein, die genaue spektrale Lage des Intensitätsmaximums oder des
Linienschwerpunkts zu bestimmen. Dazu muß eine genaue Zuordnung der der Lage der
Detektoren, bzw. der Bildpunkte auf dem Detektor zu den jeweiligen Wellenlängen
erfolgen.
Es sind Echelle-Spektrometer bekannt, welche Gitter mit einem treppenartigen
Querschnitt enthalten. Durch die Stufenartige Struktur mit einem entsprechenden Blaze-
Winkel wird ein Beugungsmuster erzeugt, welches die Intensität in sehr hoher Ordnung,
z. B. in achzigster bis einhundertster Ordnung konzentriert. Diese Ordnungen können sich
- je nach einfallenden Wellenlängen - überlagern.
Bei einigen derartigen Echelle-Spektrometern werden die Ordnungen daher nochmals
senkrecht zur Dispersionsebene dispergiert, um die verschiedenen auftretenden
Ordnungen zu trennen. Man erhält so ein zweidimensionales Spektrum, das mit Zeilen-
oder Flächendetektoren erfasst werden kann.
Aus der Veröffentlichung "Novel metrology for measuring spectral purity of KrF lasers for
deep UV lithography" von A. I. Ershov, G. G. Padmabandu, J. Tyler, P. Palash, in
http://www.cymer.com vom 17.3.1999 sind weiterhin Echelle-Spektrometer für Laser
bekannt, bei denen ein kollimierter Strahl in Littrow-Anordnung auf ein Gitter geleitet wird.
Bei der Littrow-Anordnung wird der Strahl einer bestimmten Wellenlänge unter dem Winkel
an dem Gitter reflektiert, daß er wenigstens annähernd in sich zurückfällt. Der dispergierte
Strahl wird mittels eines Spiegels auf einen Zeilendetektor gelenkt. Zwischen Kollimator-
Linse und Gitter befindet sich ein teildurchlässiger Spiegel. Dadurch wird ein Teil des Lichtes
nach der ersten Dispersion am Gitter an dem teildurchlässigen Spiegel reflektiert und erneut
an dem Gitter dispergiert. Der teildurchlässige Spiegel steht so, daß die Senkrechte darauf
einen kleinen Winkel mit dem Strahl bildet. Dadurch wird eine geringfügige
Winkelverschiebung der Strahlen mit einfacher und mehrfacher Dispersion erreicht, so daß
sich die Peaks an unterschiedlicher Stelle auf dem Detektor befinden.
Die bekannte Anordnung verwendet einen intensitätsschwächenden teildurchlässigen Spiegel,
der auch von dem einfach dispergierten Strahl zwei Mal durchlaufen werden muß. Bei
mehrfachen Durchläufen, wird die Intensität ensprechend stärker reduziert. Zur Messung bei
einfachem Durchgang ohne eine derartige Schwächung muß der teildurchlässige Spiegel aus
dem Strahlengang entfernt werden.
Aus der US 5,771,252 ist eine Hybrid-Anordnung aus einer Littrow/Littman-Anordnung
bekannt, bei der ein Gitter und ein Reflexionsprisma miteinander verbunden und gemeinsam
als ein Element um eine Drehachse schwenkbar sind. Die Anordnung wird für
Laserresonatoren verwendet. Der Strahl bleibt bei dieser Anordnung stets in einer Ebene.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein hochauflösendes Spektrometer zu schaffen,
mit welchem sowohl die spektrale Intensitätsverteilung einer Emissionslinie relativ zum
Linienschwerpunkt als auch die absolute Wellenlängenposition des Linienschwerpunktes mit
hoher Genauigkeit und Empfindlichkeit bestimmt werden kann.
Erfindungsgemäß wird die Aufgabe durch ein Spektrometer gemäß Anspruch 1 gelöst.
Bei einer derartigen Anordnung kann das dispergierende Element einmal so eingestellt
werden, daß der Strahl direkt wieder zurück geleitet wird. Durch eine Positionsänderung
z. B. eine einfache Drehung des dispergierenden Elements kann der Strahl aber auch auf
ein reflektierendes Element geleitet werden, von dem es wieder zurück auf das
dispergierende Element geleitet wird. Dann läuft der Strahl zweimal über das
dispergierende Element. Entsprechend wird eine höhere spektrale Auflösung erreicht. Da
der Strahl nicht geteilt wird, bleibt auch bei einem mehrfach Durchlauf ein gutes Signal
zu Rausch-Verhältnis erhalten. Lediglich Reflexions- und Effizienzverluste an
reflektierendem und dispergierendem Element mindern die Intensität.
Zur Trennung der Strahlung nach der Anzahl der Durchläufe können Mittel zum
Auslenken des Strahls aus der Dispersionsebene vorgesehen sein. Sie sind so bemessen,
daß der einfach dispergierte Strahl in einer anderen Ebene verläuft als der mehrfach
dispergierte Strahl. Ein Spiegel, der um eine Achse geneigt ist, die parallel zur
Dispersionsebene und senkrecht zum einfallenden Strahl verläuft, ist hierfür besonders
geeignet. Die Auslenkung kann aber auch mit einem Prisma erfolgen.
In einer bevorzugten Ausführungsform handelt es sich bei dem dispergierenden Element
um ein Gitter, daß in einer besonders bevorzugten Ausführungsform ein Echelle-Gitter
ist. Vorzugsweise beträgt der Blaze-Winkel des Echelle-Gitters wenigstens 45°. Dann
wird in hoher Ordnung bei großem Einfallswinkel gemessen, wodurch nach der
Gittergleichung eine hohe Auflösung erzielt wird.
Ein erfindungsgemäßes Echelle-Spektrometer, bei dem die Stellungen des Gitters durch
den Winkel zum einfallenden Strahl bestimmt sind, hat den Vorteil, daß die beiden
Stellungen durch eine einfache Gitterdrehung erreicht werden können. Die Drehachse ist
die gleiche, wie die Achse um welche das Gitter zur Wellenlängeneinstellung gedreht
werden muß.
Als reflektierendes Element kann nach der Erfindung ein Spiegel, der als Plan-Spiegel
ausgestaltet ist oder ein einseitig verspiegeltes Prisma dienen. Der Spiegel oder das
Prisma dienen vorzugsweise gleichzeitig zur Strahlablenkung des Strahls aus der
Dispersionsebene. Dies geschieht bei einem Spiegel vorzugsweise durch Kippen um
einen sehr geringen Winkel um eine Achse, die parallel zur Dispersionsebene liegt und
senkrecht zu dem auf den Spiegel fallenden Strahl verläuft. Dadurch wird der mehrfach
dispergierte Strahl etwas nach oben oder unten abgelenkt und erscheint gegenüber dem
einfach dispergierten Strahl in der Höhe versetzt in der Bildebene, an der üblicherweise
ein Detektor angeordnet ist.
Vorteilhafterweise ist das reflektierende Element derart angeordnet, daß der Winkel, den
die Senkrechte auf das dispergierenden Element mit dem dispergierten Strahl bildet
kleiner ist, als der Winkel mit dem einfallende Strahl bildet. Dadurch hat das parallele
Strahlbündel, welches auf das Gitter fällt, einen kleineren Durchmesser, als das Bündel,
welches auf das reflektierende Element fällt. Das reflektierende Element, z. B. der
Planspiegel, ist dann größer ausgebildet, als der Kollimatorspiegel, der im allgemeinen
teuerer ist. Es gibt aber auch Anordnungen, in welchen die umgekehrte Anordnung
vorteilhafter ist.
Es sind vorzugsweise Mittel zur Steuerung des Winkels, unter dem der einfallende Strahl
auf das dispergierende Element fällt, an dem Spektrometer vorgesehen. Diese Mittel
können von einem Schrittmotor gebildet sein, mit welchem ein Hebel bewegbar ist, mit
dem eine Drehung des dispergierenden Elements bewirkt wird.
Es sind vorzugsweise auch Mittel zur Steuerung des Winkels, unter dem der dispergierte
Strahl das dispergierende Element verlässt, vorgesehen. Es sind ferner Mittel vorgesehen,
mit denen die Positionen der Komponenten von einem Computer aus steuerbar sind.
Dann kann ohne weitere Modifikation des Spektrometers vom Computer aus das Gitter
gedreht und damit die Wellenlänge und die Anzahl der Gitter-Durchgänge eingestellt
werden.
In dem Spektrometer sind vorzugsweise neben dem dispergierenden Element
ausschließlich reflektierende optische Komponenten vorgesehen sind. Dadurch werden
chromatische Abbildungsfehler vermieden und das Spektrometer kann in jedem
Wellenlängenbereich eingesetzt werden. Eine Nachvergrößerung z. B. mittels zweier
Zylinderspiegel nur in Richtung der Dispersionsebene bewirkt, daß die Auflösung des
Geräts nicht durch die endliche Breite der Detektorelemente begrenzt ist.
Entsprechend der Erfindung wird zur Messung der Strahlung aus einem Spektalbereich
mit unterschiedlicher spektraler Auflösung der Strahl von einer Abbildungsoptik auf ein
dispergierendes Element geleitet wird und von dem Dispersionselement wieder zurück
auf die Abbildungsoptik. Der Strahl wird dann wahlweise durch eine Positionsänderung
des dispergierenden Elements, z. B. eine Drehung, auf ein reflektierendes Element
geleitet, von dem es wieder zurück auf das dispergierende Element geleitet wird.
Die Erfindung betrifft auch ein Verfahren gemäß Anspruch 18.
Wenn nach der zweiten Positionierung des dispergierenden Elements das Licht einer
Referenzlichtquelle in das Spektrometer eingekoppelt wird, dann kann man die kleinere
Auflösung mit großem Inspektionsbereich nutzen, um eine Wellenlängenzuordnung zu
den Detektorelementen mittels einer Referenzlichtquelle vorzunehmen. Die
Referenzlichtquelle, z. B. eine Niederdruck-Hohlkathodenlampe, hat im allgemeinen
erheblich weniger Intensität als etwa ein Laser. Wird die Linienstrahlung der
Referenzlichtquelle dann auf zu viele Detektorelemente verteilt, erhält man für jedes
Detektorelement ein schlechtes Signal-Rauschverhältnis. Für die Ermittlung des
Linienpeaks oder des Linienschwerpunkts reicht u. U. eine geringere Auflösung aus. Es
bietet sich also an, hier mit einfachem Gitterdurchgang zu messen.
Bei der Messung eines Linienprofils von einem Laser reicht die Intensität jedoch aus und
die Linie kann auf viele Detektorelemente verteilt werden. Hier kann das Gitter
entsprechend gedreht werden, daß bei mehrfachem Gitterdurchgang gemessen werden
kann. Selbstverständlich kann auch zuerst die Referenzstrahlung gemessen werden.
Ein erfindungsgemäßes Spektrometer eignet sich insbesondere zur Bestimmung der
spektralen Eigenschaften eines Excimer Lasers für die Photolitographie. So können die
spektralen Eigenschaften des Excimer Lasers zu seiner Steuerung und Regelung dienen.
Bei der Photolitographie kann man aus dem Linienprofil des eingesetzten Lasers die
Laserqualität bestimmen. Wird z. B. die spektrale Halbwertsbreite bei einem KrF-
Excimer Laser größer als ein Schwellwert, so muß das Gasgemisch ausgetauscht werden.
Auch Peak zu Peak-Schwankungen der Laserpulse können beobachtet und ausgewertet
werden, so daß nur solche Pulse tatsächlich auf den Wafer geleitet werden, die bestimmte
Kriterien erfüllen. Mit dem erfindungsgemäßen Spektrometer kann eine Auflösung
erreicht werden, die die simultane Linienprofilmessung erlaubt und somit eine Steuerung
und Regelung des Litographie-Prozesses aufgrund der spektralen Eigenschaften des
Lasers.
Ausgestaltungen der Erfindung sind Gegenstand der Unteransprüche. Nachstehend sind
einige Ausführungsbeispiele der Erfindung unter Bezugnahme auf die beigefügten
Zeichnungen beschrieben. Darin zeigen
Fig. 1 Das erfindungsgemäße Spektrometer mit zweifachem Gitterdurchgang,
seitlich versetztem Austrittsspalt und festen Spiegelstellungen
Fig. 2 Den Aufbau eines Echelle Gitters.
Fig. 3 Das erfindungsgemäße Spektrometer mit zweifachem Gitterdurchgang,
kippbarem Parabolspiegel und seitlich versetztem Austrittsspalt.
Fig. 4 Das erfindungsgemäße Spektrometer mit einfachem Gitterdurchgang und
senkrecht zur Dispersionsebene versetztem Austrittsspalt.
Fig. 5 Das erfindungsgemäße Spektrometer mit zweifachem Gitterdurchgang und
senkrecht zur Dispersionsebene versetztem Austrittsspalt.
Fig. 6 Das erfindungsgemäße Spektrometer mit verkipptem Reflektor.
Fig. 7 Das erfindungsgemäße Spektrometer mit reduzierten äußeren Abmessungen
und Nachvergrößerung.
Fig. 8 Ein Detektorsignal einer vollständig aufgelösten Doppellinie bei doppeltem
Gitterdurchgang.
Fig. 9 Ein Detektorsignal der nicht vollständig aufgelösten Doppellinie aus Fig. 8
bei einfachem Gitterdurchgang.
In Fig. 1 ist mit 10 ein Spektrometer bezeichnet. Das Licht wird über einen Eintrittsspalt
12 in das Spektrometer 10 eingekoppelt. An einem off-axis Parabolspiegel 14 wird der
divergente Strahl zu einem parallelen Bündel kollimiert und auf ein Echelle-Gitter 16 mit
großem Blaze Winkel von wenigstens 45 Grad geleitet.
Ein Echelle-Gitter ist in Fig. 2 noch einmal im Detail dargestellt. Das Echelle-Gitter
umfasst stufenförmige Gitterfurchen. Die Gitterfurchen haben einen Abstand d, welcher
der Gitterkonstanten entspricht. Der Einfallswinkel α ist der Winkel zwischen dem
einfallenden Strahl 20 und der Senkrechten 22 auf das Gitter 16. Der Einfallswinkel β ist
der Winkel zwischen reflektiertem Strahl 24 und der Senkrechten 22 auf das Gitter 16.
Als Blazewinkel θB wird der Winkel zwischen der Senkrechten 22 auf das Gitter 16 und
der Senkrechten auf die Gitterfurchen 18 bezeichnet.
Durch einen hohen Blazewinkel wird die Intensität des Beugungsbildes auf hohe
Beugungsordnungen in der Gegend zwischen achzigster und hundertster Ordnung
konzentriert. Eine hohe Beugungsordnung bewirkt eine hohe Auflösung. Desgleichen
bewirkt ein großer Beugungswinkel eine hohe Auflösung. Das Echelle-Gitter hat eine
hohe Strichzahl von 50 bis 100 Striche pro Millimeter um die beugungsbegrenzte
Auflösung möglichst groß zu machen. Durch den großen Einfallswinkel muß das Gitter
entsprechend lang sein, wenn die gesamte Strahlung auf das Gitter auftreffen soll.
In Fig. 1 ist mit 26 eine Drehachse eingezeichnet. Das Gitter 16 ist um diese Achse 26
drehbar angeordnet, wie dies anhand eines mit 28 bezeichneten Pfeiles veranschaulicht
wird. Die Drehung kann erreicht werden, indem das Gitter auf einem Drehtisch (nicht
dargestellt) befestigt wird, der mit einem Hebel verbunden ist. Mittels Schrittmotoren
kann von einem Computer aus der Hebel bewegt und somit eine definierte Drehung
bewirkt werden. Über den Drehwinkel des Gitters kann die zu messende Wellenlänge,
bzw. der Wellenlängenbereich auf besonders einfache Weise ausgewählt werden.
Das Gitter 16 ist so eingestellt, daß der dispergierte Strahl für die ausgewählte
Wellenlänge auf einen Planspiegel 30 fällt. Dies ist durch den Pfeil 32 dargestellt. Der
Planspiegel 30 steht so, daß der reflektierte Strahl direkt wieder in sich zurückfällt und
erneut auf das Gitter 16 trifft. Dies ist durch den Pfeil 34 dargestellt. Dadurch wird ein
doppelter Gitterdurchgang bewirkt, wodurch eine erhöhte spektrale Auflösung erreicht
wird. Bei dem eingestellten Winkel am Gitter 16 fällt der Strahl 38 wieder in sich zurück.
Dies ist durch den Pfeil 36 dargestellt. Dabei fällt der Strahl 38 nicht vollständig in sich
zurück, sondern nur soweit es die Abmessungen des Eintrittsspalts 12 zulassen, damit der
Detektor noch daneben angeordnet werden kann.
Der Strahl wird von der Parabel 14 wieder fokussiert und knapp an dem Eintrittsspalt 12
vorbei gelenkt, wo das Spektrum in einer Austrittsebene 40 mit einer Detektorzeile eines
Detektors detektierbar ist. Als Detektor kann eine CCD-Zeile verwendet werden, es ist
aber auch jede andere Detektorzeile oder jedes andere Detektor-Array geeignet, daß eine
hinreichend kleine Pixelgröße aufweist.
In Fig. 3 ist das Spektrometer 10 aus Fig. 1 mit einer Modifikation dargestellt. Das Gitter
16 ist so angeordnet, daß der dispergierte Strahl, der durch einen Pfeil 44 dargestellt ist,
direkt in sich selbst, zurückreflektiert wird, d. h. in den einfallenden Strahl, der durch
einen Pfeil 42 dargestellt ist, und nicht auf den Spiegel 30 fällt. Das Spektrometer 10 hat
eine dementsprechend geringere spektrale Auflösung als bei einer Gitterstellung, bei der
ein doppelter Durchgang bewirkt wird.
Durch eine Drehung des Parabolspiegels 14 um eine Achse 46, die durch einen Pfeil 48
in Fig. 3 dargestellt ist, kann der Strahl ein wenig in der Ebene versetzt werden. Dann
erscheint das Spektrum nicht neben, sondern über oder unter dem Eintrittsspalt 12. Dieser
Versatz tritt sowohl bei einem einfachen Gitterdurchgang auf, wie es in Fig. 4 dargestellt
ist, als auch bei einem mehrfachen Gitterdurchgang, wie es in Fig. 5 dargestellt ist. Der
rücklaufende Strahl, dargestellt durch einen Pfeil 50, verläuft also oberhalb des
einfallenden Strahls, dargestellt durch einen Pfeil 52.
Es gibt Gitterstellungen, bei denen die entsprechende Wellenlänge in einer Ordnung
direkt auf den Parabol-Spiegel 14 zurückläuft, in einer anderen Ordnung aber gerade auf
den Spiegel 30. Letztere werden in oben beschriebener Weise wieder zurück reflektiert
und laufen erneut wieder über das Gitter. Dann findet man in der Bildebene des
Primärbildes 40 zwei verschiedene Signale aus unterschiedlichen Ordnungen. Mindestens
eins dieser Signale ist unerwünscht.
Dieses Problem kann gelöst werden, indem der Spiegel 30 um eine Achse 54 verkippt
wird, die parallel zur Dispersionsebene und senkrecht zum einfallenden Strahl liegt. Der
Verkippungswinkel kann sehr gering sein. Dadurch werden die entstehenden
Abbildungsfehler minimiert. Er muß jedoch so groß sein, daß das Bild 58 des
Eintrittsspaltes 12 in der Primärbildebene bei einem mehrfach dispergierten Strahl über
oder unter dem Bild 60 des Eintrittsspaltes 12 bei einfach dispergiertem Strahl liegt. In
Fig. 6 liegt das Bild 58 des mehrfach dispergierten Strahls unterhalb des Bildes 60 des
einfach dispergierten Strahls.
Statt eines verkippten Planspiegels 30 ist auch ein entsprechend angeordnetes Littrow-
Prisma geeignet (nicht dargestellt). Durch das einseitig verspiegelte Prisma mit
entsprechend geringem Prismen-Winkel wird der Strahl etwas aus der Dispersionsebene
des Gitters 16 herausgebeugt. Das Bild 58 bzw. 60 des Eintrittsspalts 12 liegt dann
ebenfalls versetzt in der Austrittsebene am Detektor.
In Fig. 7 ist ein erfindungsgemäßes Spektrometer gezeigt, bei dem die äußeren
Abmessungen reduziert wurden. Das Licht wird mittels eines Lichtleiters 62 in den
Eintrittsspalt 12 geleitet. Dadurch kann die Lichtquelle an beliebiger Stelle positioniert
werden. Planspiegel 64 und 66 im Strahlengang bewirken eine Faltung des
Strahlengangs. Ebenso wird der Strahlengang mittels Zylinderspiegel 68 und 70 gefaltet.
Die Zylinderform bewirkt eine Nachvergrößerung des Bildes in Richtung der Dispersion
während die Abmessungen des Bildes senkrecht zur Dispersionsrichtung gleich bleiben.
Dadurch verteilt sich ein Peak auf mehr Bildelemente des Detektors und die
Bildelemente sind nicht länger Auflösungsbegrenzend.
Mit dem beschriebenen Aufbau können durch einfache Drehung des Gitters 16 ohne
weitere Veränderungen zwei verschiedene Messungen mit unterschiedlicher Auflösung
und unterschiedlicher Intensität an einem Detektorelement vorgenommen werden. Bei
der ersten Gitterstellung wird der Strahl zweimal dispergiert und läuft erst dann zurück
auf den Detektor 74. Damit wird eine große Auflösung erreicht und die Intensität des
Lichtes wird auf viele Detektorelemente verteilt. Diese Einstellung eignet sich also
insbesondere zur Vermessung von Linienprofilen von Intensitätsstarken Lichtquellen,
wie Laserlichtquellen. Ein mit dieser Einstellung erhaltenes Signal 80 ist in Fig. 8
dargestellt. Man sieht zwei deutlich voneinander getrennte Peaks 82 und 84.
In einer zweiten Gitterstellung wird der einfach dispergierte Strahl direkt auf den
Detektor 74 zurückgeleitet. Man erhält dadurch eine etwas geringere Auflösung und
verteilt das Licht auf weniger Detektorelemente 72. Das Signal-Rauschverhältnis an
jedem Detektorelement wird dadurch größer. Diese Einstellung eignet sich insbesondere
um das Emissionsspektrum intensitätsschwacher Lichtquellen, wie zum Beispiel von
Niederdruck Hohlkathoden-Lampen zu messen. Dann kann zwar möglicherweise das
Linienprofil der Emissionspeaks nicht vollständig aufgelöst werden, die Auflösung reicht
aber immer noch aus, um den Linienschwerpunkt oder das Intensitätsmaximum zu
ermitteln.
Ein mit dieser Einstellung erhaltenes Signal 86 der gleichen Lichtquelle wie in Fig. 8 ist
in Fig. 9 dargestellt. Man sieht einen Doppelpeak auf einem deutlich reduzierten
Untergrundrauschen. Das geringere Rauschen liegt zum einen daran, daß sich die gleiche
Intensität aufgrund der geringeren Auflösung auf weniger Detektorelemente verteilt und
zum anderen daran, daß die Reflexionsverluste am Spiegel und besonders am Gitter nicht
auftreten. Das Signal ist aber ausreichend, um z. B. einen Linienschwerpunkt mit guter
Genauigkeit zu bestimmen.
Die Kombination der beiden oben beschriebenen Messungen bietet besondere Vorteile:
Mit der hohen Auflösung kann das Linienprofil gemessen werden. Mit der niedrigen Auflösung kann die Wellenlänge einer Referenzlichtquelle, wie zum Beispiel einer Hohlkathodenlampe ermittelt werden und so die Wellenlängenkalibrierung der Detektorelemente vorgenommen werden.
Mit der hohen Auflösung kann das Linienprofil gemessen werden. Mit der niedrigen Auflösung kann die Wellenlänge einer Referenzlichtquelle, wie zum Beispiel einer Hohlkathodenlampe ermittelt werden und so die Wellenlängenkalibrierung der Detektorelemente vorgenommen werden.
Über einen Computer kann die Gitterstellung relativ zur Stellung des off-axis-
Parabolspiegels ermittelt werden. Das Gitter 16 kann drehbar montiert sein und mittels
eines Hebels von einem Schrittmotor gedreht werden. Auf diese Weise lassen sich auch
kleinste Winkeländerungen mit ausreichender Genauigkeit einstellen. Auf ähnliche
Weise kann eine Positionierung des Parabolspiegels vorgenommen werden.
Claims (23)
1. Spektrometer (10) mit einem Eintrittsspalt (12) und einem dispergierenden Element
(16), das zwischen wenigstens zwei Stellungen bewegbar ist und bei dem in der ersten
Stellung die einfach dispergierte Strahlung (44) einer ausgewählten Wellenlänge
unmittelbar in den einfallenden Strahlengang (42) zurückfällt und in der zweiten
Stellung die dispergierte Strahlung (32) der ausgewählten Wellenlänge auf ein
reflektierendes Element (30) fällt, welches so angeordnet ist, daß die Strahlung (34)
mindestens ein weiteres Mal über das dispergierende Element (16) und dann in den
einfallenden Strahlengang (38) zurück lenkbar ist
dadurch gekennzeichnet, daß
das reflektierende Element (30) derart um eine Achse (54) geneigt ist, die parallel zur
Dispersionsebene und senkrecht zum einfallenden Strahl (32) verläuft, daß das
Primärbild dieses Eintrittsspalts bei einer ausgewählten Wellenlänge senkrecht zur
Dispersionsebene versetzt über oder unter dem Eintrittsspalt liegt.
2. Spektrometer (10) nach einem der vorgehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,
daß das dispergierende Element ein Gitter (16) ist.
3. Spektrometer (10) nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Gitter (16) ein
Echelle-Gitter ist.
4. Spektrometer (10) nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Blaze-Winkel
(θB) des Echelle-Gitters (16) wenigstens 45° beträgt.
5. Spektrometer (10) nach einem der Ansprüche 2 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß
die Stellungen des Gitters (16) durch den Winkel zum einfallenden Strahl (38) bestimmt
sind.
6. Spektrometer (10) nach einem der vorgehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,
daß das reflektierende Element ein Spiegel (30) ist.
7. Spektrometer (10) nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß der Spiegel (30)
ein Plan-Spiegel ist.
8. Spektrometer (10) nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß
das reflektierende Element ein einseitig verspiegeltes Prisma ist.
9. Spektrometer (10) nach einem der vorgehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,
daß das reflektierende Element (30) derart angeordnet ist, daß der Winkel (β), den die
Senkrechte (22) auf das dispergierenden Element (16) mit dem dispergierten Strahl (24)
bildet kleiner ist, als der Winkel (α) mit dem einfallenden Strahl (20).
10. Spektrometer (10) nach einem der vorgehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,
daß das reflektierende Element (30) derart angeordnet ist, daß der Winkel (β), den die
Senkrechte (22) auf das dispergierenden Element (16) mit dem dispergierten Strahl (22)
bildet, größer ist, als der Winkel (α) mit dem einfallende Strahl (24).
11. Spektrometer (10) nach einem der vorgehenden Ansprüche gekennzeichnet durch
Mittel zur Steuerung des Winkels, unter dem der einfallende Strahl (20) auf das
dispergierende Element (16) fällt.
12. Spektrometer (10) nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Mittel zur
Steuerung des Winkels von einem Schrittmotor gebildet sind, mit welchem ein Hebel
bewegbar ist, mit dem eine Drehung des dispergierenden Elements (16) bewirkbar ist.
13. Spektrometer (10) nach einem der vorgehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch
Mittel zur Steuerung des Winkels (β), unter dem der dispergierte Strahl (24) das
dispergierende Element (16) verlässt.
14. Spektrometer (10) nach einem der Ansprüche 11 bis 13, gekennzeichnet durch Mittel,
mit denen die Positionen der Komponenten von einem Computer aus steuerbar sind.
15. Spektrometer (10) nach einem der vorgehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,
daß eine Nachvergrößerungsoptik (68, 70) zur Nachvergrößerung des Primärbildes
vorgesehen ist.
16. Spektrometer (10) nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß die
Nachvergrößerungsoptik von zwei Zylinderspiegeln (68, 70) gebildet ist.
17. Spektrometer (10) nach einem der vorgehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,
daß in dem Spektrometer (10) neben dem dispergierenden Element (16) ausschließlich
reflektierende optische Komponenten (14, 30) vorgesehen sind.
18. Verfahren zur Messung der Strahlung aus einem Spektalbereich mit unterschiedlicher
spektraler Auflösung bei dem der Strahl von einer Abbildungsoptik (14) auf ein
dispergierendes Element (16) geleitet wird und von dem dispergierenden Element (16)
wieder zurück auf die Abbildungsoptik (14), wobei der Strahl durch eine
Positionsänderung des dispergierenden Elements auf ein reflektierendes Element (30)
geleitet wird, von dem es wieder zurück auf das dispergierende Element (16) geleitet
wird, dadurch gekennzeichnet, daß das reflektierende Element (30) derart um eine
Achse (54) geneigt wird, die parallel zur Dispersionsebene und senkrecht zum
einfallenden Strahl (32) verläuft, daß das Primärbild dieses Eintrittsspalts bei einer
ausgewählten Wellenlänge senkrecht zur Dispersionsebene versetzt über oder unter dem
Eintrittsspalt liegt.
19. Verfahren zur Messung der Strahlung aus einem Spektralbereich nach Anspruch 18,
dadurch gekennzeichnet, daß die Positionsänderung des dispergierenden Elements
(16) durch eine Drehung vorgenommen wird.
20. Verfahren zur Messung der Strahlung aus einem Spektralbereich nach Anspruch 18 oder
19, gekennzeichnet, durch die Schritte:
- a) Positionierung des dispergierenden Elements (16) derart, daß der dispergierte Strahl einer ausgewählten Wellenlänge in sich selbst zurückläuft
- b) Messung des Signals an einem Detektor,
- c) Positionierung des dispergierenden Elements (16) derart, daß der dispergierte Strahl einer ausgewählten Wellenlänge auf das reflektierende Element (30) fällt, und
- d) Messung des Signals am Detektor.
21. Verfahren zur Messung der Strahlung aus einem Spektralbereich nach Anspruch 20,
dadurch gekennzeichnet, daß nach der zweiten Positionierung des dispergierenden
Elements (16) das Licht einer Referenzlichtquelle in das Spektrometer (10) eingekoppelt
wird.
22. Verwendung eines Spektrometers (10) nach einem der Ansprüche 1 bis 17 zur
Bestimmung der spektralen Eigenschaften eines Excimer Lasers für die
Photolitographie.
23. Verwendung eines Spektrometers (10) nach Anspruch 22, dadurch gekennzeichnet,
daß die spektralen Eigenschaften des Excimer Lasers zu seiner Steuerung und Regelung
dienen.
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