DE19537879C2 - Verfahren und Vorrichtung zum Behandeln von Substraten - Google Patents

Description

Die Erfindung betrifft Verfahren und Vorrichtungen zum Behandeln von Substraten in einem Spülfluidbecken gemäß dem Oberbegriff der Ansprüche 1, 8, 11, 20, 22 oder 25, nach Patent 44 13 077.

Dieses Verfahren sowie Vorrichtungen zur Durchführung dieses Verfahrens haben sich in der Praxis sehr gut be­ währt.

Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die Ausbeute bei der Herstellung von Halbleiterchips und/ oder Wafern mit diesem Verfahren bzw. mit diesen Vorrich­ tungen weiter zu erhöhen, den Verfahrensablauf weiter zu vereinfachen, und die Fertigungsqualität zu verbessern.

Diese Aufgabe wird im Zusammenhang mit der eingangs ge­ nannten Vorrichtung erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß eine Haube über dem Becken vorgesehen ist, und daß die Haube eine Tropfschutzvorrichtung aufweist.

Insbesondere dann, wenn wenigstens zwei Becken zur Behandlung von Sub­ straten nebeneinander angeordnet sind, tritt bei den her­ kömmlichen Vorrichtungen der Nachteil auf, daß beim Ein­ setzen oder Ausfahren nasser Substrate und/oder Substrat­ träger Tropfen auf die Hauben benachbarter Behandlungs­ becken fallen. Wenn daraufhin die Haube über den Becken verfahren wird, um beispielsweise im Becken abgetrockne­ te Substrate und/oder Substrathalter aus dem Becken zu entnehmen, ist die Gefahr groß, daß Tropfen seitlich an der Haube ablaufen und auf die jeweils trockenen Substra­ te fallen. Dieser Nachteil wird durch die erfindungsge­ mäße Maßnahme, an der Haube eine Tropfschutzvorrichtung vorzusehen, behoben.

Vorzugsweise ist die Tropfschutzhaube eine Abtropfplatte, die entweder auf der Oberseite der Haube angeordnet oder in Form eines Kragens um die Haube herum angebracht bzw. ausgebildet ist. Die Anordnung der Abtropfplatte bzw. des Kragens hängt im wesentlichen von der räumlichen Situa­ tion ab und wird entsprechend dem vorhandenen Platz ge­ wählt.

Gemäß einer sehr vorteilhaften Ausführungsform der Erfin­ dung steht die Platte bzw. der Kragen über die Haubenab­ messungen hinweg vor, wobei gemäß einer besonders vor­ teilhaften Ausführungsform der Erfindung die Abtropf­ platte und/oder der Kragen zu derjenigen Seite der Haube schräg nach unten weist, in die die Haube bei Öffnen des Beckens verschoben wird. Auf diese Weise ist sicherge­ stellt, daß auf der Seite der Haube, die über das offene Becken hinwegleitet, keine Flüssigkeit ablaufen und ins Becken tropfen kann, weil die Abtropfplatte bzw. der Kra­ gen über die Seitenwandung der Haube hinausragt und von der Seitenwand bzw. von der Haubenoberseite nach oben weist und daher Flüssigkeit nicht abtropfen kann. Die auf die Haube gelangende Flüssigkeit bzw. die an den Seiten­ flächen bis zum Kragen ablaufenden Tropfen werden über die Abtropfplatte bzw. den Kragen schräg auf die Seite der Haube geführt, die beim Öffnen und Schließen des Bec­ kens nicht über das offene Becken gelangt.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung ist über dem Rand des Beckens, über die die Haube nicht ver­ schoben wird, am Becken eine Beckenrand-Abtropfschräge angebracht, die verhindert, daß Flüssigkeit von oben auf den Beckenrand tropfen und diesen verunreinigen bzw. wie­ der benetzten kann, wenn beispielsweise Substrate und Substrathalter über diesen Bereich transportiert werden.

Die gestellte Aufgabe wird bei einer eingangs genannten Vorrichtung auch dadurch gelöst, daß das Becken eine Rei­ nigungsöffnung aufweist. Bei der Behandlung von Substra­ ten, insbesondere Wafern, im Becken kommt es während der Behandlung oder während der Manipulation der Wafer vor, daß diese brechen oder Teile davon abbrechen, die danach im Becken verbleiben. Diese Rückstände mußten aufwendig von oben entfernt werden.

Durch die erfindungsgemäße Maßnahme, das Becken mit einer Reinigungsöffnung zu versehen, ist das Entfernen von Rückständen oder zerbrochenen Wafern wesentlich einfa­ cher. Dazu ist die Reinigungsöffnung vorteilhafterweise mit einem abnehmbaren, vorzugsweise abschraubbaren Flansch abgeschlossen, wobei die Reinigungsöffnung vor­ teilhafterweise an einer Seite des Beckens am oder nahe dem Beckenboden vorgesehen ist. Dadurch ist ein direkter Zugriff zu den Rückständen und Waferbruchstücke im Tank schnell und unkompliziert möglich.

Die gestellte Aufgabe wird bei einem eingangs genannten Verfahren erfindungsgemäß auch dadurch gelöst, daß im Dampfbereich eine Ionisation zum Verhindern statischer Aufladungen vorgenommen wird. Im Dampfbereich und insbe­ sondere auch durch die Abtropfvorgänge und fließenden Be­ handlungsfluids, wie destilliertes Wasser usw., entste­ hen im Behandlungsraum oberhalb der Wasserfläche bzw. in der das Becken nach oben abschließenden Haube Ionen, die zu einer statischen Aufladung führen und Beschädigungen an den Substraten verursachen. Durch die statische Aufla­ dung werden teilweise sehr hohe statische Spannungen auf­ gebaut, die zu Durchbrüchen führen und auch dadurch die Substrate beschädigen. Durch Erzeugen von Ionen werden die statischen Aufladungen abgebaut und es sind keine Be­ schädigungen der Wafer mehr durch statische Aufladungen möglich. Im Dampfbereich befindet sich vorzugsweise Stickstoff und/oder Isopropylalkohol.

Gemäß einer vorteilhaften Ausführungsform der Vorrichtung zur Durchführung des genannten Verfahrens ist eine Ioni­ sationseinrichtung im Dampfbereich vorgesehen, wobei die Ionisationseinrichtung vorzugsweise wenigstens einen Io­ nisierungsstab an wenigstens einer Innenwand der Haube aufweist. Vorzugsweise umfaßt die Ionisierungseinrichtung wenigstens eine Gegenelektrode, die vorteilhafterweise ebenfalls an einer Innenwand der Haube in einem gewählten Abstand zum Ionisierungstab bzw. zu den Ionisierungstäben angeordnet ist. Die Gegenelektrode liegt vorzugsweise an Masse bzw. am Anschluß einer Hochspannungsquelle, mit de­ ren anderen Anschluß der Ionisierungsstab verbunden ist.

Der Ionisierungsstab ist vorzugsweise mit einer Hochspan­ nung von 5 bis 25 kV und vorzugsweise von 10 bis 15 kV beaufschlagt.

Gemäß einer vorteilhaften Ausführungsform der Erfindung ist die Hochspannung gepulst. Die Pulse weisen vorzugs­ weise eine Impulsdauer von 1 bis 100 ms und vorzugsweise 10 bis 40 ms auf. Vorteilhafterweise ist das Tastver­ hältnis der Impulse im Bereich von 1 : 8 bis 1 : 12 und vor­ zugsweise etwa 1 : 10.

Eine Verbesserung der Fertigungsqualität wird bei dem eingangs genannten Verfahren auch dadurch erreicht, daß die Gaskonzentration, die GaSgemisch-Anteile und/oder der Gas- bzw. Gasgemischgehalt im Dampfbereich gemessen wird. Vorzugsweise werden die von einer Meßsonde ermittelten Meßwerte zur Steuerung bzw. Regelung der Gaskonzentrati­ on, der Gasgemisch-Anteile und/oder des Gas- bzw. Gasge­ mischgehalts im Dampfraum herangezogen. Auf diese Weise ist es möglich, über den gesamten Fertigungs- und Behand­ lungsablauf optimale Verhältnisse im Dampfbereich auf­ recht zu erhalten, so daß eine hohe Fertigungsqualität und geringer Ausschuß gewährleistet ist.

Die Fertigungsqualität wird gemäß einer weiteren erfin­ dungsgemäßen Ausführungsform des eingangs genannten Ver­ fahrens auch dadurch erreicht, daß in einer Leitung, über die das Behandlungsfluid abfließt, die Durchflußmenge des Behandlungsfluids gemessen wird. Dadurch ist es möglich, abweichende Durchflußmengen schnell festzustellen und/oder die von einem Strömungsmesser ermittelten Meßwerte zur Steuerung bzw. Regelung der ein- und/oder ausströmenden Fluidmenge heranzuziehen.

In der Zu- und/oder Abflußleitung ist dazu vorzugsweise ein Ventil, insbesondere ein von einem Motor gesteuertes Ventil vorgesehen, wobei der Motor bzw. das Ventil in Ab­ hängigkeit von den Meßwerten des Flowmeters gesteuert bzw. geregelt wird.

Bei einem eingangs beschriebenen Verfahren werden die Fertigungskosten erfindungsgemäß dadurch klein gehalten, daß das aus dem Becken ausströmende Behandlungsfluid in einer Wiederaufbereitungsanlage wiederaufbereitet wird. Dies verringert nicht nur die Herstellungskosten sondern dient auch der Umweltverträglichkeit des Verfahrens. Das wiederaufbereitete Fluid wird vorzugsweise im Fluidbecken wieder verwendet. Das gesamte wiederaufbereitete Fluid oder ein Teil hiervon kann nach der Wiederaufbereitung auch in die Brauchwasserableitung abgelassen werden. Dies ist insbesondere dann von Vorteil, wenn das Fluid etwa bei einem Trocknungsverfahren von Substraten destillier­ tes Wasser ist, das nach der Aufbereitung problemlos in das kommunale Abwassersystem eingeleitet werden kann.

Der Erfindung sowie weiterer Ausführungsformen und Vor­ teile wird bzw. werden nachfolgend anhand von Ausfüh­ rungsbeispielen unter Bezugnahme auf die Figuren erläu­ tert. Es zeigen:

Fig. 1 eine Ausführungsform der erfindungsgemäßen Vor­ richtung in schematischer Darstellung mit einer Abtropfplatte über der Haube,

Fig. 2 eine weitere Ausführungsform der erfindungsgemäßen Vorrichtung mit einer Tropfschutzvorrichtung in Form eines um eine Haube herum angeordneten Kra­ gens,

Fig. 3 die Ausführungsform gemäß Fig. 2 in Aufsicht, Fig. 4 eine Seitenansicht einer Ausführungsform der er­ findungsgemäßen Vorrichtung mit einer Reinigungs­ öffnung im Becken,

Fig. 5 einen schematischen Querschnitt entlang der in Fig. 4 eingezeichneten Schnittlinie I-I und

Fig. 6 eine Ausführungsform der Haube mit einer Ionisa­ tionseinrichtung in schematischer Darstellung.

Bei der in Fig. 1 dargestellten Ausführungsform einer Vorrichtung zum chemischen Behandeln von Substraten ist über einer oberen Wandung 1 einer Haube 2 eine Tropf-Schutz­ einrichtung in Form einer Abtropfplatte 3 vorgese­ hen, die in einem Winkel von beispielsweise 5° zur oberen Wand 1 der Haube 2 angebracht ist. Die Abdeckplatte 3 ragt mit ihren seitlichen Enden 4, 5 über die Seitenwände 6, 7 der Haube 2 hinaus. Insbesondere dann, wenn minde­ stens zwei Behandlungsbecken nebeneinander angeordnet sind, werden behandelte, mit Flüssigkeit benetzte Subs­ trate bzw. Substratträger über die Haube 2 transportiert, so daß nicht vermieden werden kann, daß Flüssigkeit auf die Haube 2 bzw. gemäß der vorliegenden Erfindung auf die Abtropfplatte 3 tropft. Ohne Vorhandensein der Abtropf­ platte 3 würde diese Flüssigkeit an den Seiten 6, 7 der Haube 2 als Tropfen abfließen und bei Öffnen der Haube 2 beispielsweise durch Verschieben nach links insbesondere von der Seitenwand 7 in ein lediglich schematisch darge­ stelltes Becken 8 tropfen, in dem sich ein anderes Be­ handlungsfluid oder bereits trockene Substrate und/oder Substratträger befindet bzw. befinden, so daß das Be­ handlungsfluid verunreinigt wird bzw. die bereits trockenen Substrate oder Substratträger wieder naß wer­ den. Die dadurch entstehenden Nachteile, wie beispiels­ weise häufigeres Auswechseln des Behandlungsfluids oder Ausschuß durch wieder mit Flüssigkeit benetzte Wafer wer­ den erfindungsgemäß mit der vorgesehenen Abtropfplatte 3 vermieden. Die Abtropfplatte 3 verhindert ein Herunter­ laufen von Tropfen an den Seitenflächen 6, 7 der Haube 2 und insbesondere auch an der Seitenfläche 7, die etwa beim Verfahren der Haube 2 nach links zur Öffnung des Beckens 8 über das offene Becken 8 gelangt. Durch die schräge Anordnung der Abtropfplatte 3 in Richtung derje­ nigen Seite nach unten, in die die Haube 2 verfahren wird, läuft bzw. tropft die Flüssigkeit von der Abtropf­ platte 3 außerhalb des Beckenbereichs ab und gelangt da­ her nicht in das Becken 8.

Bei der dargestellten Ausführungsform ist auf der Seite des Beckens 8, über die die Haube 2 beim Öffnen des Bec­ kens nicht bewegt wird, eine zusätzliche Beckenwand-Ab­ tropfschräge 9 über diesem Beckenrand 10 am Becken befes­ tigt, über die die von oben auf die Abtropfschräge 9 tropfende Flüssigkeit abgeleitet wird und den Beckenrand 10 nicht erreicht.

Die in den Fig. 2 und 3 dargestellte Ausführungsform un­ terscheidet sich von der in Fig. 1 dargestellten Ausbil­ dung im Wesentlichen lediglich dadurch, daß die Abtropf­ schutzvorrichtung in diesem Falle in Form eines Kragens 21 ausgebildet ist, der im Bereich zumindest der Seiten­ wände 6 und 7 der Haube 2 um die Haube 2 herum oder zu­ mindest im Bereich der Seitenwände 6, 7 angeordnet ist. Durch die überstehenden Bereiche 22, 23 des Kragens 21 ist wiederum in entsprechender Weise, wie dies anhand von Fig. 1 im einzelnen ausgeführt wurde, gewährleistet, daß beim Öffnen des Beckens 8 durch Verschieben der Haube 2 in der Zeichenebene nach links Flüssigkeit, die von oben auf die Haube 2 gelangt, nicht an den Seitenwänden 6, 7 entlang nach unten in das offene Becken 8 abtropfen kann. Die in Fig. 2 dargestellte Beckenrandschräge 9 entspricht derjenigen von Fig. 1 und hat auch dieselbe Funktion.

Bei der in den Fig. 4 und 5 dargestellten Ausführungsform des Beckens 31 ist an seiner schmalen Seite 32 ein Reini­ gungsloch 33 vorgesehen, das am unteren Ende in der Nähe des Beckenbodens ausgeschnitten ist.

Wie insbesondere anhand von Fig. 5 ersichtlich ist, ist das Reinigungsloch 33 mit einem abnehmbaren Flansch 34 verschlossen und über Schrauben 35 am Becken 31 befes­ tigt. Zwischen dem Flansch 34 und dem Becken 31 ist bei der dargestellten Ausführungsform weiterhin ein Zwischen­ flansch 36 vorgesehen. Zur Abdichtung ist an den Rändern des Flansches 34 und/oder des Zwischenflanschs 36 eine umlaufende Dichtung 37 angeordnet.

Die Reinigungsöffnung 33 im Becken 31 erlaubt ein einfa­ ches Reinigen des Tankbodens und das problemlose Entfer­ nen von Rückständen oder zerbrochenen Substraten.

Bei der in Fig. 6 dargestellten Ausführungsform ist eine Ionisierungsvorrichtung mit Ionisierungsstäben 51, 52 an beiden Seiten 6, 7 der Haube 2 vorgesehen, die in diesem Ausführungsbeispiel jeweils mit Befestigungseinrichtungen 53, 54 im oberen Randbereich der Haube 2 fixiert sind.

In einem gewählten Abstand unterhalb der Ionisierungsstä­ be 51, 52 befindet sich jeweils eine Gegenelektrode 55, 56, die beispielsweise geerdet ist oder an Masse liegt.

Durch Anlegen einer Hochspannung zwischen dem jeweiligen Ionisierungstab 51, 52 und der zugeordneten Gegenelektro­ de 55 bzw. 56 werden Ionen erzeugt, die eine statische Aufladung der Substrate, der Substratträger und/oder von Bauteilen der Behandlungsvorrichtung vermeiden. Auf diese Weise wird sichergestellt, daß die mit statischen Aufla­ dungen verbundenen Nachteile, wie Durchschläge oder Über­ schläge nicht auftreten und Beschädigungen der Substrate nicht möglich sind.

Die Erfindung wurde anhand bevorzugter Ausführungsbei­ spiele erläutert. Dem Fachmann sind jedoch zahlreiche Ab­ wandlungen und Ausgestaltungen möglich, ohne daß dadurch der Erfindungsgedanke verlassen wird. Beispielsweise ist es möglich, die Tropfschutzvorrichtung in Form einer Ab­ tropfplatte 3 oder eines Kragens 21 an der Haube 2 je nach den vorhandenen Raumverhältnissen weiter oben oder weiter unten anzuordnen, oder das Maß der Schräge nach den jeweiligen Erfordernissen zu wählen. Weiterhin ist es beispielsweise möglich, mehrere Ionisierungsstäbe 51, 52 und mehrere Gegenelektroden 55, 56 vorzusehen und ver­ teilt über den Behandlungsraum anzuordnen, um eine opti­ male, gleichmäßige Ionisation innerhalb der Haube 2 zu erreichen.

Claims (27)

1. Vorrichtung zum Behandeln von Substraten in einem Spülfluidbecken, mit einem Spül- und einem Trock­ nungsvorgang, wobei das Substrat aus dem Becken herausfahrbar und dabei einem Dampf aussetzbar ist, und das Spülfluid von unten in das Becken einleitbar und über eine Überlaufvorrichtung ableitbar ist, nach Patent 44 13 077, dadurch gekennzeichnet, daß eine Haube (2) über dem Becken (8) vorgesehen ist, und die Haube (2) eine Tropfschutzvorrichtung (3, 21) aufweist.

2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Tropfschutzvorrichtung eine Abtropfplatte (3) ist.

3. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeich­ net, daß die Abtropfplatte (3) auf der Oberseite der Haube (2) angeordnet ist (Fig. 1).

4. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Tropfschutzvorrichtung (3, 21) als Kragen (21) um die Haube (2) herum angeordnet ist (Fig. 2).

5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, da­ durch gekennzeichnet, daß die Abtropfplatte (3) und/oder der Kragen (21) über die Haube (2) hinweg vorsteht.

6. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Abtropfplatte (3) und/oder der Kragen (21) zu derjenigen Seite (5) der Haube (2) schräg nach unten weist, in die die Haube (2) bei Öffnen des Beckens (8) verschiebbar ist.

7. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß über dem Rand (10) des Beckens (8), über die die Haube (2) nicht verschiebt bar ist, eine Beckenrand-Abtropfschräge (9) vorgese­ hen ist.

8. Vorrichtung zum Be­ handeln von Substraten in einem Spülfluidbecken, mit einem Spül- und einem Trocknungsvorgang, wobei das Substrat aus dem Becken herausfahrbar und dabei ei­ nem Dampf aussetzbar ist, und das Spülfluid von un­ ten in das Becken einleitbar ist, nach Patent 44 13 077, dadurch gekennzeichnet, daß das Becken (31) eine Reinigungsöffnung (33) aufweist (Fig. 3 und 4).

9. Vorrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Reinigungsöffnung (33) mit wenigstens einem Flansch (34, 36) abgeschlossen ist.

10. Vorrichtung nach Anspruch 8 oder 9, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die Reinigungsöffnung (33) an einer Seite (32) des Beckens (31) am oder nahe dem Boden­ becken vorgesehen ist.

11. Verfahren zum Behandeln von Substraten in einem Spülfluidbecken, mit einem Spül- und einem Trock­ nungsvorgang, wobei das Substrat aus dem Becken her­ ausgefahren und dabei einem Dampf ausgesetzt, und das Spülfluid von unten in das Becken eingeleitet wird und über eine Überlaufvorrichtung abläuft, nach Patent 44 13 077, dadurch gekennzeichnet, daß im Dampfbereich eine Ionisation zum Verhindern stati­ scher Aufladungen vorgenommen wird.

12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Ionisation in einer Haube (2) über dem Bec­ ken (8) vorgenommen wird.

13. Verfahren nach Anspruch 11 oder 12, dadurch gekenn­ zeichnet, daß sich im Dampfbereich Stickstoff und/oder Isopropylalkohol befindet.

14. Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 13, da­ durch gekennzeichnet, daß die Ionisierungsvorrichtung mit einer Hochspannung von 5 bis 25 kV und vor­ zugsweise von 10 bis 15 kV beaufschlagt ist.

15. Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 14, da­ durch gekennzeichnet, daß die Hochspannung gepulst ist und die Pulse eine Impulsdauer von 1 bis 100 ms und vorzugsweise von 10 bis 40 ms aufweisen.

16. Verfahren nach Anspruch 14 oder 15, dadurch gekenn­ zeichnet, daß das Tastverhältnis der Hochspannungs-Im­ pulse in einem Bereich von 1 : 8 bis 1 : 12 liegt und vorzugsweise etwa 1 : 10 ist.

17. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach ei­ nem der Ansprüche 11 bis 16, gekennzeichnet durch eine Ionisierungsvorrichtung mit wenigstens einem Ionisierungsstab (51, 52) an wenigstens einer Innenwand (6, 7) der Haube (2).

18. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 11 bis 17, da­ durch gekennzeichnet, daß die Ionisierungseinrichtung wenigstens eine Gegenelektrode (55, 56) auf­ weist.

19. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 11 bis 18, da­ durch gekennzeichnet, daß die Gegenelektrode (55, 56) an Masse liegt.

20. Verfahren zum Behandeln von Substraten in einem Spülfluidbecken, mit einem Spül- und einem Trock­ nungsvorgang, wobei das Substrat aus dem Becken herausgefahren und dabei einem Dampf ausgesetzt, und Spülfluid von unten in das Becken eingeleitet wird, und über eine Überlaufvorrichtung abläuft, nach Patent 44 13 077, dadurch gekennzeichnet, daß die Gaskonzentration, die Gasgemisch-Anteile und/oder der Gas- bzw. Gasgemischgehalt im Dampfbereich ge­ messen und/oder überwacht werden.

21. Verfahren nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, daß die von der Meßsonde ermittelten Meßwerte zur Steuerung und/oder Regelung der Gaskonzentration, der Gasgemisch-Anteile und/oder des Gas- bzw. Gasge­ mischgehalts im Dampfbereich herangezogen werden.

22. Verfahren zum Behandeln von Substraten in einem Spülfluidbecken, mit einem Spül- und einem Trock­ nungsvorgang, wobei das Substrat aus dem Becken herausgefahren und dabei einem Dampf ausgesetzt, und das Spülfluid von unten in das Becken eingeleitet wird und über eine Überlaufvorrichtung abläuft, nach Patent 44 13 077, dadurch gekennzeichnet, daß in ei­ ner Leitung, über die Behandlungsfluid abfließt, die Durchflußmenge des Behandlungsfluids gemessen wird.

23. Verfahren nach Anspruch 22, dadurch gekennzeichnet, daß die ermittelten Meßwerte zur Steuerung und/oder Regelung der ein- und/oder ausströmenden Fluidmenge herangezogen werden.

24. Verfahren nach Anspruch 22 oder 23, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die Steuerung und/oder Regelung der ein- und/oder ausströmenden Fluidmenge mittels eines Ventils, insbesondere eines mit einem Motor getrie­ benen Ventils erfolgt.

25. Verfahren zum Behandeln von Substraten in einem Spülfluidbecken, mit einem Spül- und einem Trock­ nungsvorgang, wobei das Substrat aus dem Becken her­ ausgefahren und dabei einem Dampf ausgesetzt, und das Spülfluid von unten in das Becken eingeleitet wird und über eine Überlaufvorrichtung abläuft, nach Patent 44 13 077, dadurch gekennzeichnet, daß das aus Becken ausströmende Fluid in einer Wiederaufbe­ reitungsanlage wiederaufbereitet wird.

26. Verfahren nach Anspruch 25, dadurch gekennzeichnet, daß das wiederaufbereitete Fluid im Fluidbecken wie­ der verwendet wird.

27. Verfahren nach Anspruch 25 oder 26, dadurch gekenn­ zeichnet, daß das wiederaufbereitete Fluid der Brauchwasserableitung zugeführt wird.