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DE1522527A1 - Verfahren zur Herstellung von Photokopierlacken - Google Patents

Verfahren zur Herstellung von Photokopierlacken

Info

Publication number
DE1522527A1
DE1522527A1 DE19661522527 DE1522527A DE1522527A1 DE 1522527 A1 DE1522527 A1 DE 1522527A1 DE 19661522527 DE19661522527 DE 19661522527 DE 1522527 A DE1522527 A DE 1522527A DE 1522527 A1 DE1522527 A1 DE 1522527A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
parts
weight
chloride
sulfonic acid
photocopying
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE19661522527
Other languages
English (en)
Inventor
Klaus Rademacher
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Alcatel Lucent Deutschland AG
Original Assignee
Standard Elektrik Lorenz AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Standard Elektrik Lorenz AG filed Critical Standard Elektrik Lorenz AG
Publication of DE1522527A1 publication Critical patent/DE1522527A1/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/022—Quinonediazides
    • G03F7/023—Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders
    • G03F7/0233—Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binders or the macromolecular additives other than the macromolecular quinonediazides

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

  • Verfahren zur Herstellung von Photokopierlacken (Zusatzpatent zum Hauptpatent DBP ........ / Anmeldung. St 24 6o5-IXa 57d - SEL-Reg. 1o 938) . Das Hauptpatent DBP ....:... (Patentanmeldung St 24 605 IXa 57d) bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung von Photokopierlacken nach dem der an sich bekannten lichtempfindlichen Substanz Naphthochinon - (1,2) diazid - (2) sulfosäure - (5) ohlorid ein organisches Amin, wie z:B. Äthylendiamin als stabilisierende Substanz beigegeben wird..
  • Der nach diesem Verfahren hergestellte Photolack lässt sich etwa vier bis. `acht Wochen lagern.
  • Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die Lagerfähigkeit zu verbessern, was gemäss der Erfindung dadurch erreicht wird, dass der an sich bekannten, lichtempfindlichen Substanz Naphtochinon - (1,2) diazid - (2) sul.fonsäure - (5) Chlorid ein Harz, welches über freie Amingruppen verfügt,'als stabilisierende Substanz beigegeben wird: Hierzu kann u:. a: das im Handel unter der Bezeichnung Plastopal H erhältliche Aminoplast dienen.
  • Bin nach diesem Verfahren hergestellter Photolack weist eine wesentlich längere Lagerfähigkeit auf. Wenn die damit beschichteten Platten dunkel gelagert werden, so lässt sich die Aufbewahrungszeit nochmals verlängern.
  • Der erfindungsgemässe Photolack kann z.B. folgendermassen zusammengesetzt sein:
    3,5 Gew. Teile Naphthochinon - (1,2) diazid - (2) Sulfonsäure
    - (5) Chlorid
    1 Gew. Teil Plastopal H.
    loo Vol. Teile Ätlji>englykolmonomethyläther
    o,2 Gew. Teile 8 17 Vinnapas
    1o Gew. Teile Alnovol 429 K
    Als Entwickler ist dann eine o,8 prozentige Na OH-Lösung geeignet.
  • Die Bezeichnungen B 17 Vinnapas und Alnovol 429 3C-beziehen sich wieder auf Chemikalien, die im Handel unter diesem Namen geführt werden.
  • Es ist selbstverständlich, dass die Konzentration des Aminoplastes verändert werden kann. Z.B. lässt sich auch ein Lack mit folgender Zusammensetzung, der in einer 1,2 %-igen NaOH-Lösung entwickelt werden kann, gut verwenden:
    3,5 Gew. Teile Naphthochinondiazidsulfonsäureohlorid
    o,1,Gew. Teil Äthylendiamin
    löo Vol. Teile Äthylenglykolmonomethyläther
    o,2 Gew. Teile B 17 Vinnapas .
    2 Gew. Teile Plastopal H
    1o Gew. Teile Alnovol 429 K

Claims (1)

  1. P a t e n t -a n a p r ü c h e 1) erfahren zur Herstellung von Photokopierlacken nach dem Hauptpatent DBP e:....:. (Anmeldung St 24 605 IXa 57 d), d a d u r c,h g e k e nn -z e i e h n e t , dass der an sich bekannten lichtempfindlichen ,Substanz Naphthochinon - (1,2) diazid - (2) sulfonsäure - (5)'chlorid ein. Harz, welches über freie Aminogruppen verfügt, als stabilisierende Substanz beigegeben wird. 2) Verfahren nach Anspruch 1, d a d u" r o h g e k e n n z e 3 c h n e t , dass der Photokopierlack wie folgt zusammengesetzt wird: ' 3,5 Gew. Teile Naphthochnon - (1,2) diazid - (2) Sulfonsäure - (5) Chlorid- 1 Gew: Teil PlastöpalI !ob Vol. Teile Äthylenglykolmonoraethyläther . 02 Cew. Teile B 17 Vnnapas - . -1o GeW. Teile Alriovol 429 K.
    3) Verfahren nach Ansprach 1,- d a d ü r c. h g e k en n z e i a h :n e t , dass der Aufbereitung folgende Zusammensetzung zugrundeliegt:. 3,5 Gew: Teile Naphthochinon ._ (1,2) diazid- (2) Sulfonsäure -,(5) Chlorid o1 Gew. Teil Äthyylendiamizi loo Vol. Teile Äthylenglykolmonomethyläther _ , . o,2 Gew. Teile B 17 Yinnapas - 2 Gew. Teile Plastopal H 1o Gew. Teile . Alnovol 429 IE
DE19661522527 1966-03-24 1966-03-24 Verfahren zur Herstellung von Photokopierlacken Pending DE1522527A1 (de)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0164248A2 (de) * 1984-06-01 1985-12-11 Rohm And Haas Company Lichtempfindliche Beschichtungszusammensetzung, aus diesem hergestellte thermisch stabile Beschichtungen und Verfahren zur Herstellung von thermisch stabilen Polymerbildern

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0164248A2 (de) * 1984-06-01 1985-12-11 Rohm And Haas Company Lichtempfindliche Beschichtungszusammensetzung, aus diesem hergestellte thermisch stabile Beschichtungen und Verfahren zur Herstellung von thermisch stabilen Polymerbildern
EP0164248A3 (en) * 1984-06-01 1987-06-03 Rohm And Haas Company Photosensitive coating compositions, thermally stable coatings prepared from them, and the use of such coatings in forming thermally stable polymer images

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