DE1245340B - Verfahren zur Herstellung von Einkristallnadeln aus Siliciumnitrid - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von Einkristallnadeln aus SiliciumnitridInfo
- Publication number
- DE1245340B DE1245340B DEL49128A DEL0049128A DE1245340B DE 1245340 B DE1245340 B DE 1245340B DE L49128 A DEL49128 A DE L49128A DE L0049128 A DEL0049128 A DE L0049128A DE 1245340 B DE1245340 B DE 1245340B
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- silicon
- silicon nitride
- mixture
- needles
- carbon
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B21/00—Nitrogen; Compounds thereof
- C01B21/06—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron
- C01B21/068—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron with silicon
- C01B21/0685—Preparation by carboreductive nitridation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B21/00—Nitrogen; Compounds thereof
- C01B21/06—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron
- C01B21/068—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron with silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B21/00—Nitrogen; Compounds thereof
- C01B21/06—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron
- C01B21/068—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron with silicon
- C01B21/0682—Preparation by direct nitridation of silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B25/00—Single-crystal growth by chemical reaction of reactive gases, e.g. chemical vapour-deposition growth
- C30B25/005—Growth of whiskers or needles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
- C30B29/10—Inorganic compounds or compositions
- C30B29/38—Nitrides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/10—Particle morphology extending in one dimension, e.g. needle-like
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/54—Particles characterised by their aspect ratio, i.e. the ratio of sizes in the longest to the shortest dimension
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/60—Particles characterised by their size
- C01P2004/61—Micrometer sized, i.e. from 1-100 micrometer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/10—Solid density
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T117/00—Single-crystal, oriented-crystal, and epitaxy growth processes; non-coating apparatus therefor
- Y10T117/10—Apparatus
- Y10T117/102—Apparatus for forming a platelet shape or a small diameter, elongate, generally cylindrical shape [e.g., whisker, fiber, needle, filament]
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Description
BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLAND DEUTSCHES 4i07¥W PATENTAMT
Int. Cl.:
COIb
AUSLEGESCHRIFT
COIB -21/0 63 -
Deutsche Kl.: 12 i-21/06
Nummer:
Aktenzeichen:
Anmeldetag:
Auslegetag:
Aktenzeichen:
Anmeldetag:
Auslegetag:
1 245 340
L49128IVa/12i
27. Oktober 1964
27. Juli 1967
L49128IVa/12i
27. Oktober 1964
27. Juli 1967
Die Erfindung betrifft Verfahren zur Herstellung von Einkristallnadeln aus Siliciumnitrid. Derartige
Einkristallnadeln aus Siliciumnitrid dienen in der Hauptsache zur VeiStärkung von polymeren Kunststoffen
bzw. Harzen, wobei der Ausdruck »Nadeln« für alle fadenförmigen Einkristalle angewendet
wird, welche dünner als 0,1 mm sind und deren Länge mindestens hundertmal größei ist als ihre
Dicke.
Es ist bereits ein Verfahren zur Herstellung von Einkristallnadeln aus Siliciumnitrid bekannt, gemäß
welchem Stickstoff übei auf etwa 14000C erhitztes,
pulverförmiges Silicium geleitet wird.
Dieses Verfahren hat jedoch den Nachteil, daß die Ausbeute der auf diesem Weg erzeugten Einkristallnadeln
sehr mager und der Wirkungsgrad sehr schlecht ist, da ein großer Teil des zu verarbeitenden Siliciums
in gekörntes Siliciumnitrid verwandelt wild, welches sich direkt aus dem als Ausgangsstoff verwendeten
Siliciumpulver bildet.
Durch die Erfindung soll die Aufgabe gelöst werden, bei der Herstellung von aus Siliciumnitrid bestehenden
Einkristallnadeln eine große Ausbeute zu erzielen, wobei die Güte des Erzeugnisses durch Schwankungen
in den Verfahrensbedingungen gar nicht oder nur unwesentlich beeinträchtigt werden soll.
Im Sinne der Lösung dieser Aufgabe ist ein Verfahren zur Herstellung von Einkristallnadeln aus
Siliciumnitrid gemäß der Erfindung dadurch gekennzeichnet, daß man ein Gemisch aus metallischem
Silicium und Siliciumdioxyd auf eine Temperatur von über 12000C erhitzt, den erhaltenen siliciumhaltigen
Dampf in Gegenwart von Kohlenstoff und einem geringen Anteil an Wasserstoff mit Stickstoff vermischt,
das entstehende Gemisch über einen auf eine Temperatur von mindestens 12000C erhitzten, vorzugsweise
aus Kohlenstoffgewebe, Mullit, Tonerde oder Siliciumcarbid bestehenden Keimboden leitet
und das in Form von Einkristallnadeln gebildete Siliciumnitrid abtrennt.
Unter siliciumhaltigem Dampf ist ein Dampfgemisch zu verstehen, in welchem Silicium in elementarer
und/oder gebundener Form enthalten ist. Im wesentlichen weist das Dampfgemisch Siliciummonoxyd
und eine geringe Menge an elementarem Silicium in verdampfter Form auf.
Vorzugsweise wird gemäß der Erfindung das Gemisch aus metallischem Silicium und Siliciumdioxyd
auf eine Temperatur erhitzt, die etwa zwischen 1200 und 16000C, insbesondere zwischen 1300 und 15000C
liegt, da die Menge des sich bildenden siliciumhaltigen Dampfes mit der Temperatur ansteigt und sich Be-Verfahren
zur Herstellung von Einkristallnadeln
aus Siliciumnitrid
aus Siliciumnitrid
Anmelder:
Der Luftfahrtminister in der Regierung
Ihrer Majestät der Königin
der Vereinigten Königreiche
von Großbritannien und Nordirland, London
Vertreter:
Dipl.-Ing. R. Holzer, Patentanwalt,
Augsburg, Philippine-Welser-Str. 14
Als Erfinder benannt:
Christopher Charles Evans,
Newport, Essex (Großbritannien)
Christopher Charles Evans,
Newport, Essex (Großbritannien)
Beanspruchte Priorität:
Großbritannien vom 28. Oktober 1963 (42 439)
triebstemperaturen zwischen 1300 und 1500cC als
besonders günstig erwiesen haben.
Besonders hohe Ausbeuten an Siliciumnitridnadeln ergeben sich nach einem weiteren Merkmal der Erfindung
dann, wenn der Keimboden, auf welchem sich die Nadeln bilden, auf eine Temperatur erhitzt wird,
die etwa zwischen 1350 und 15000C, insbesondere zwischen 1425 und 145O0C liegt.
Sobald die Temperatur des Keimbodens über 15000C ansteigt, bildet sich in wachsendem Maße
polymorphes Siliciumnitrid, das nicht die gewünschten Eigenschaften der bei niedriger Temperatur gewonnenen
Art aufweist. Hohe Temperaturen fördern auch den Angriff des siliciumhaltigen Dampfes auf den
vorhandenen Kohlenstoff und insbesondere den Angriff auf die normalerweise als Heizelement dienende
Kohlenelektrode. Dies führt zu unerwünschter Bildung von Siliciumcarbid und vermindert den Wirkungsgrad
der zu den Siliciumnitridnadeln führenden Reaktion. Es hat sich ergeben, daß sich die Nadeln insbesondere
dann gut bilden, wenn der Keimboden auf einer Temperatur gehalten, die etwas unterhalb der Gemischtemperatur
von Silicium und Siliciumdioxyd liegt. Ein
709 618/527
i 245 340
Unterschied von etwa 350C ist im allgemeinen ausreichend.
Nach einem weiteren Merkmal der Erfindung enthält das Gemisch aus metallischem Silicium und
Siliciumdioxyd diese Bestandteile in äquimolaren Anteilen.
Dieses Gemisch aus Silicium und Siliciumdioxyd besteht vorzugsweise aus einem innigen Gemenge aus
feinzerkleinertem und verteiltem Silicium und ebenso feinzerkleinertem und verteiltem Siliciumdioxyd.
Das Gemisch aus Silicium und Siliciumdioxyd wird in bekannter Weise zu Kügelchen gepreßt. Dieser
Preßvoigang kann durch Zusatz einei geringen Menge eines Bindemittels zu dem Gemisch, beispielsweise
durch den Zusatz von 5°/0 Zucker, unterstützt werden. Nach dem Ausformen der Kügelchen aus dem Gemisch
werden diese bei einer Temperatur von 300° C gebacken.
Die Siliciumnitridnadeln werden erfindungsgemäß vorzugsweise durch kontinuierliche Verfahrensführung
hergestellt, bei welcher die Nadeln kontinuierlich auf dem Keimboden entstehen. Ein solches kontinuierliches
Verfahren ist normalerweise erst dann beendet, wenn die Apparatur, in der die Reaktion stattfindet,
mit den Nadeln gefüllt ist. Bei dem kontinuierlichen Verfahren gemäß der Erfindung ist eine Reaktionszone
vorgesehen, welcher siliciumhaltiger Dampf und Stickstoff kontinuierlich zugeführt und unter Anwesenheit
von Kohlenstoff und Wasserstoff gemischt werden, so daß Siliciumnitridnadeln kontinuierlich
auf der Oberfläche des Keimbodens unmittelbar bei der Reaktionszone entstehen.
Um eine kontinuierliche Verfahrensführung zu erreichen, wird nach einem weiteren Merkmal der Erfindung
ein inertes Gas, insbesondere Argon, durch das Gemisch aus Silicium und Siliciumdioxyd hindurchgeführt,
und der siliciumhaltige Dampf wird mit diesem Gas in die Reaktionszone eingeblasen. Beim
Hindurchströmen nimmt das inerte Gas die siliciumhaltigen Dämpfe von dem erhitzten Gemisch auf.
Der Stickstoff kann in beliebiger Weise direkt in die Reaktionszone eingeleitet werden; er sollte jedoch
nicht durch das erhitzte Gemisch aus Silicium und Siliciumdioxyd hindurchströmen, damit nicht vorzeitige
und unerwünschte Reaktionen stattfinden.
Es hat sich herausgestellt, daß die Anwesenheit von Wasserstoff und Kohlenstoff in der Gasmischstufe für
eine gute Ausbeute an Siliciumnitridnadeln sehr wesentlich ist. Andererseits hat es sich manchmal als
unnötig herausgestellt, im einzelnen Wasserstoff der Gasmischstufe zuzuführen, wenn das erfindungsgemäße
Verfahren unter Anwesenheit von unverbrauchter Kohle abläuft, die nicht vorher in einem
solchen Verfahren Anwendung gefunden hat. Wahrscheinlich rührt die letztgenannte Tatsache daher,
daß unverbrauchter Kohlenstoff Wasserstoff in adsorbiertem Zustand enthält, der sich bei der Erwärmung
des Kohlenstoffs verflüchtigt und an der Reaktion teilnimmt. Es ist also festzustellen, daß das
Herstellungsverfahren von Siliciumnitridnadeln auch unter Verwendung unverbrauchter Kohle duichgeführt
weiden könnte, ohne daß Wasserstoff zugeführt werden müßte. Sobald die Kohle in aufeinanderfolgenden
Verfahr ensschritten gemäß der Erfindung immer wieder benutzt wird, erweist sich die Anwesenheit
von Wasserstoff als unumgänglich, da ansonsten die Ausbeute an Einkristallnadeln erheblich zurückgeht
und tatsächlich manchmal keine Einkristallnadeln gebildet werden. Wenn andererseits gasförmiger
Wasserstoff gerade in geringen Mengen der Mischstufe des Verfahrens vorsichtig zugeführt wird,
erhöht sich die Ausbeute an Einkristallnadeln auch bei Wiederverwendung bereits benutzter Kohle auf dieselbe
Größe wie bei Benutzung von unverbrauchter Kohle.
Demgemäß ist das erfindungsgemäße Verfahren nach einem weiteren Merkmal dadurch gekennzeichnet,
daß die Reaktion in Anwesenheit von Wasserstoff in einer Konzentration von etwa 0,1 bis 10 Volumprozent
des vorhandenen Stickstoffes durchgeführt wird.
Höhere Anteile an Wasserstoff führen zu schnellet und unerwünschter Erosion der vorhandenen Kohle,
was insbesondere dann schwer wiegt, wenn elektrisch beheizte Kohleelektroden zur Erzeugung der für die
Durchführung des Verfahrens notwendigen Temperaturen angewendet werden.
Der Kohlenstoff, dessen Anwesenheit in der Mischstufe der Gase erforderlich ist, kann jede übliche Form
aufweisen; andererseits ist insbesondere ein Kohlegewebe, welches aus verwobenen Kohlefäden besteht,
geeignet, da dieses Gewebe gleichzeitig einen Keimboden darstellt, auf welchem sich die Siliciumnitridnadeln
bilden können.
Eine weitere Maßnahme zur Sicherstellung dessen, daß die notwendigen Mengen an Kohlenstoff und
Wasserstoff in der Gasmischstufe des Verfahrens zur Herstellung von Siliciumnitridnadeln vorhanden sind,
besteht darin, eine flüchtige, Kohlenstoff und Wasserstoff enthaltende Verbindung, beispielsweise einen
Kohlenwasserstoff in die gasförmige Mischung des siliciumhaltigen Dampfes und des Stickstoffes einzuleiten.
Die Kohlenwasserstoffverbindung kann auf jede zweckmäßige Art zusammen mit dem StickstofF-strom
der Reaktionszone zugeführt werden.
Bei dem Verfahren gemäß der vorliegenden Erfindung wird eine große Ausbeute an Einkristallnadeln
aus Siliciumnitrid erzielt und eine Reaktion mit hohem Wirkungsgrad eingeleitet, aus der bis zu 60% der
Ausgangsmenge des Siliciums als Siliciumnitridnadeln hervorgehen. Die Güte des Produkts wird hierbei
durch geringe Schwankungen in den Verfahrensbedingungen nur unwesentlich beeinträchtigt, und die
zu erzeugende Produktmenge ist im wesentlichen lediglich durch die Aufnahmefähigkeit der Apparatur
begrenzt, in welcher die Reaktion stattfindet.
Die zur Bildung der Siliciumnitridnadeln führenden chemischen Reaktionen sind bei dem erfindungsgemäßen
Verfahren äußerst verwickelt und verlaufen möglicherweise in verschiedenen Stufen. Wie bereits
beschrieben, hat sich die Anwesenheit von Kohlenstoff, Wasserstoff, Stickstoff und siliciumhaltigen
Dämpfen, welche vorwiegend aus Siliciummonoxyd bestehen, für die ergiebige Herstellung von Siliciumnitridnadeln
als wesentlich erwiesen. Vorangehende Untersuchungen haben ergeben, daß sich während der
Bildung der Einkristallnadeln Wasserstoff an vorhandenen Kohlenstoff bindet und eine Verbindung
bildet, die mit dem Siliciummonoxyddampf reagiert. Dann tritt eine Reaktion ein, aus der Siliciumnitrid
in Form von Einkristallnadeln hervorgeht und bei welcher der Sauerstoff des Siliciummonoxydes sich
offensichtlich mit dem vorhandenen Kohlenstoff verbindet und Kohlenmonoxyd bildet. Es ist nachgewiesen
worden, daß das gebildete Kohlenmonoxyd in direktem stöchiometrischem Verhältnis zu dem ver-
brauchten Siliciummonoxyd steht, und die Minimalmenge
des Kohlenstoffs, welche bei dem Verfahren zur Bildung der Einkristallnadeln vorhanden sein
sollte, ist demgemäß proportional gleichwertig dei Menge an zugeführtem Silicium.
Gemäß der Erfindung können Einkristalle aus Siliciumnitrid zweckmäßigerweise auf folgende, allgemeine
Art hergestellt werden:
Ein Bett von aufgeschütteten Silicium-Siliciumdioxyd-Kügelchen ist in einem Ofen für hohe Temperaturen
angeordnet, und ein inertes Gas wird durch dieses Bett hindurchgeleitet, so daß der aus dem Bett
entstehende, siliciumhaltige Dampf in das Innere des Ofens gelangt. Stickstoff wird direkt in das Innere des
Ofens eingeleitet und mischt sich mit dem siliciumhaltigen Dampf unter Anwesenheit von Kohlenstoff
und Wasserstoff, welche beide in dem Ofen vorhanden sind. Einkristallnadeln aus Siliciumnitrid bilden sich
dann auf geeigneten Keimböden innerhalb des Ofens.
Ein Ofen und seine Verwendung für die Herstellung von Einkristallnadeln aus Siliciumnitrid gemäß der
Erfindung wird im folgenden mit Bezug auf die Zeichnung beispielsweise beschrieben, welche einen Vertikalschnitt
durch den Ofen darstellt. Dei Ofen weist eine große, heiße Reaktionszone auf, in der sich Siliciumnitridnadeln
bilden können, und ist in jeder beliebigen Größe auslegbar. Die in der Zeichnung dargestellte
heiße Zone ist zylindrisch und hat ein Volumen von etwa 711.
Der Ofen weist ein Gehäuse auf, welches aus einem Zylinder 1 und zwei Stirnplatten 2 und 3 besteht. Die
Innenflächen des Gehäuses sind mit wärmeisolierendem Material 4 belegt. Ein Eintrittsrohr 5 und ein
Austrittsrohr 6 führen durch die Wand des Gehäuses und leiten Gase in das Innere des Ofens und aus diesem
heraus.
An dem Gehäuse ist außerdem ein Behälter angeordnet, der aus einer Röhre 7 besteht und über eine
Zuführungsleitung 8 nach außen Verbindung hat. Es können bei einer Apparatur mehrere solche Behälter
vorgesehen sein, durch welche das Fassungsvermögen der Apparatur ansteigt.
Tn dem Gehäuse ist eine Heizelektrode 9 aus Kohle gehaltert, und Kupferrohre 10, 11, 12 und 13 sind um
die Enden dieser Elektrode geschlungen und bilden die Anschlußleitungen für den durch die Kohleelektrode
9 fließenden elektrischen Strom. Gleichzeitig kann durch die Kupferrohre Kühlwasser fließen und
die Enden der Elektrode kühlen. Zusätzlich zu der Kohleelektrode können auch hilfsweise weitere Heizelemente
den an dem Gehäuse angeordneten Behältern zugeordnet sein, wodurch eine Regelung der
Temperatur in den Behältern möglich ist.
Die innerhalb des Gehäuses auftretenden Temperaturen können durch ein Thermoelement 14 kontinuierlich
gemessen werden. Das aus den Einkristallen bestehende Produkt ist aus der Apparatur dadurch zu
entnehmen, daß die als Deckel ausgebildete Stirnplatte 2 abgenommen wild.
Ein typisches Beispiel eines Verfahrens zur Herstellung von Einkristallen aus Siliciumnitrid wird nachfolgend
beschrieben:
120 g eines äquimolaren Gemisches aus Silicium und Siliciumdioxyd werden in den Behälter 7 eingefüllt
und bilden ein Bett 15. Außerdem fließt ein elektrischer Strom von großer Stromstärke durch die
Kohleelektrode 9 und heizt diese auf eine Temperatur von etwa 15500C auf. Damit erwärmen sich der
Innenraum des Gehäuses und das Bett 15 auf eine Temperatur von etwa 144O0C. Dann wild eine Menge
von etwa 11 pro Minute Argongas durch die Zuführungsleitung
8 dem auf etwa 14750C erwärmten Bett zugeführt. Das Argongas eiwärmt sich vor dem
Durchströmen des Bettes 15 an Kohlekörnern 16, welche zwischen der Zuführungsleitung 8 und dem
Bett 15 angeordnet sind. Wie vorangehend beschrieben, kann Wasserstoff oder ein Kohlenwasserstoff zusammen
mit dem Stickstoffstrom durch das Bett 15 geleitet werden. Eine Durchflußmenge von etwa
30 Milliliter pro Minute Wasserstoff entspricht etwa einem Gehalt von l°/o Wasserstoff in der Atmosphäre
des Ofens.
Die in dem Bett 15 entstehenden siliciumhaltigen Dämpfe werden durch das Argongas in die von dem
Gehäuse umschlossene Reaktionszone getragen, in welcher sie sich unter Abwesenheit von Kohlenstoff
und einer geringen Menge an Wasserstoff mit Stickstoff vermischen, der direkt über das Eintrittsrohr 5
in die Reaktionszone eingeleitet wird. Die Menge des eingeleiteten Stickstoffes beträgt etwa 3 1 pro Minute.
Hierbei bilden sich Einkristallnadeln aus Siliciumnitrid. Sie können an der inneren Oberfläche des
Gehäuses wachsen, sofern die innere Oberfläche mit einem geeigneten Keimboden, beispielsweise aus Kohle
und insbesondere aus Kohlegeweben, belegt ist; die Siliciumnitridnadeln wachsen jedoch vorzugsweise auf
einer oder mehreren Mullitflächen 17, welche in der Reaktionszone angeordnet sind. Die verbrauchten
Gase strömen über das Austrittsrohr 6 nach außen.ab. Nach einer Reaktionszeit von 60 Stunden sind etwa
70 g eines aus Siliciumnitridnadeln bestehenden Produkts zu entnehmen. Dieses Produkt hat das Aussehen
einer weißen, fädigen Masse und besteht im wesentlichen aus Siliciumnitridnadeln, deren. Dicke
zwischen etwa 1 und 2 Mikron schwankt und deren Länge bis zu etwa 7 cm beträgt. Das aus Einkristallen
bestehende Produkt hat eine sehr geringe Dichte, und 1 ecm davon wiegt etwa x/soo B- Es witd betont, daß
70 g an Einki istallen eine sehr hohe Ausbeute darstellen, insbesondere im Hinblick auf bekannte Veifahren,
bei welchen bei eits eine Ausbeute von V10 g
als sehr befriedigend angesehen wuide.
Claims (6)
1. Verfahren zur Herstellung von Einkristallnadeln aus Siliciumnitrid, dadurchgekennzeichnet,
daß man ein Gemisch aus metallischem Silicium und Siliciumdioxyd auf eine Temperatur von über 12000C erhitzt, den erhaltenen
siliciumhaltigen Dampf in Gegenwart von Kohlenstoff und einem geringen Anteil an Wasserstoff
mit Stickstoff vermischt, das entstehende Gemisch über einen auf eine Temperatur von
mindestens 12000C erhitzten, vorzugsweise aus
Kohlenstoffgewebe, Mullit, Tonerde oder Siliciumcarbid bestehenden Keimboden leitet und das in
Form von Einkristallnadeln gebildete Siliciumnitrid abtrennt.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Gemisch aus metallischem
Silicium und Siliciumdioxyd auf eine Temperatur erhitzt wird, die etwa zwischen 1200 und 16000C,
insbesondere zwischen 1300 und 15000C liegt.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Keimboden auf eine
Temperatur erhitzt wird, die etwa zwischen 1350 und 15000C, insbesondere 1425 und 14500C
liegt.
4. Verfahren nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Gemisch aus metallischem
Silicium und Siliciumdioxyd diese Bestandteile in äquimolaren Anteilen enthält.
5. Verfahren nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß ein inertes Gas, insbesondere
Argon, durch das Gemisch aus Silicium und Siliciumdioxyd hindurchgeführt und der siliciumhaltige
Dampf mit diesem Gas in die Reaktionszone eingeblasen wird.
6. Verfahren nach Anspruch 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Reaktion in Anwesenheit
von Wasserstoff in einer Konzentration von etwa 0,1 bis 10 Volumprozent des vorhandenen Stickstoffs
durchgeführt wird.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB42439/63A GB1121293A (en) | 1963-10-28 | 1963-10-28 | Improvements in the manufacture of silicon nitride |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1245340B true DE1245340B (de) | 1967-07-27 |
Family
ID=10424426
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DEL49128A Pending DE1245340B (de) | 1963-10-28 | 1964-10-27 | Verfahren zur Herstellung von Einkristallnadeln aus Siliciumnitrid |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US3394991A (de) |
DE (1) | DE1245340B (de) |
GB (1) | GB1121293A (de) |
NL (1) | NL6412557A (de) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5238500A (en) * | 1975-09-22 | 1977-03-25 | Toshiba Corp | Production of alpha-silicon nitride powder |
JPS6047202B2 (ja) * | 1976-01-13 | 1985-10-21 | 東北大学金属材料研究所長 | 超硬高純度の配向多結晶質窒化珪素 |
JPS5673603A (en) * | 1979-11-14 | 1981-06-18 | Toshiba Corp | Manufacture of silicon nitride |
US4388255A (en) * | 1981-03-27 | 1983-06-14 | Boeing Aerospace Co. (A Division Of The Boeing Company) | Method for producing pre-shaped α-silicon nitride whisker compacts and loose whiskers for composite material reinforcement |
JPS60221398A (ja) * | 1984-04-18 | 1985-11-06 | Toshiba Ceramics Co Ltd | キラを原料とするβ型窒化けい素ウイスカ−の製造方法 |
US4717693A (en) * | 1986-10-24 | 1988-01-05 | Gte Products Corporation | Process for producing beta silicon nitride fibers |
US4915924A (en) * | 1987-08-12 | 1990-04-10 | Alcan International Limited | Method of preparing whiskers of silicon carbide and other materials |
US5248483A (en) * | 1991-03-28 | 1993-09-28 | Phillips Petroleum Company | Apparatus and methods for producing ceramic products |
US5538675A (en) * | 1994-04-14 | 1996-07-23 | The Dow Chemical Company | Method for producing silicon nitride/silicon carbide composite |
US5814290A (en) * | 1995-07-24 | 1998-09-29 | Hyperion Catalysis International | Silicon nitride nanowhiskers and method of making same |
US5935705A (en) * | 1997-10-15 | 1999-08-10 | National Science Council Of Republic Of China | Crystalline Six Cy Nz with a direct optical band gap of 3.8 eV |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2636828A (en) * | 1948-02-26 | 1953-04-28 | Carborundum Co | Silicon nitride-bonded refractory oxide bodies and method of making |
US3089788A (en) * | 1959-05-26 | 1963-05-14 | Ibm | Epitaxial deposition of semiconductor materials |
US3199954A (en) * | 1962-05-31 | 1965-08-10 | Corning Glass Works | Method of manufacturing fibers containing silicon crystals |
-
1963
- 1963-10-28 GB GB42439/63A patent/GB1121293A/en not_active Expired
-
1964
- 1964-10-23 US US406127A patent/US3394991A/en not_active Expired - Lifetime
- 1964-10-27 DE DEL49128A patent/DE1245340B/de active Pending
- 1964-10-28 NL NL6412557A patent/NL6412557A/xx unknown
-
1970
- 1970-11-27 US US93428A patent/US3677713A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB1121293A (en) | 1968-07-24 |
NL6412557A (de) | 1965-04-29 |
US3677713A (en) | 1972-07-18 |
US3394991A (en) | 1968-07-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE69123894T2 (de) | Verfahren für die Synthese von Diamant-Einkristallen von hoher Wärmeleitfähigkeit | |
DE69500993T2 (de) | Verfahren zur herstellung von metallcarbidpulvern | |
DE2159847B2 (de) | Verfahren zur Behandlung von geschmolzenem Aluminium | |
DE2736861C3 (de) | Polykohlenstofffluoride und Verfahren zur Herstellung derselben | |
DE1176103B (de) | Verfahren zur Herstellung von reinem Silicium in Stabform | |
DE1245340B (de) | Verfahren zur Herstellung von Einkristallnadeln aus Siliciumnitrid | |
DE3000463A1 (de) | Hochreines siliziumnitrid-pulver und verfahren zu seiner herstellung | |
DE2742303C2 (de) | ||
DE3003915A1 (de) | Verfahren zum herstellen von stahl | |
DE2833909C2 (de) | Verfahren zur Herstellung von aktivem Borcarbid enthaltendem Siliziumcarbidpulver | |
DE1201315B (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung feinstkoernigen, insbesondere feuerfesten Materials | |
DE3650539T2 (de) | Verfahren zum Erzeugen von Siliciumkarbid-Teilchen und von einem Siliciumkarbid-Sinterkörper | |
DE1226548B (de) | Verfahren zur Herstellung von Boriden | |
DE2461821C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von hexagonalem Bornitrid | |
DE2129167A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von SiIi ciumcarbid Whiskern | |
DD207938A5 (de) | Verfahren zur herstellung von galliumphosphid-einkristallen | |
DE3339490C2 (de) | Verfahren zur plasmachemischen Gewinnung eines feindispersen Pulvers | |
DE1204122B (de) | Verbesserter Sinterwerkstoff fuer elektrische Widerstandsheizung | |
DE1264414B (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Metall- oder Metalloidoxyden durch Gasphasenoxydation | |
DE2441298C3 (de) | Verfahren zum Herstellen weicher hexagonaler Bornitridkristalle | |
DE2930847C2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines gesinterten Siliziumcarbidproduktes | |
EP0242678A2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Phosphorpentoxid mit verminderter Reaktivität | |
AT152283B (de) | Gesinterte, bis zu 20% Hilfsmetalle enthaltende Hartlegierung. | |
AT246437B (de) | Gesinterte Legierung | |
DE1222024B (de) | Verfahren zur Herstellung von Kohlenoxysulfid aus Kohlenmonoxid und dampffoermigem Schwefel |