DE1235739B - Lichtempfindliche AEtzschutzschicht - Google Patents
Lichtempfindliche AEtzschutzschichtInfo
- Publication number
- DE1235739B DE1235739B DEE21065A DEE0021065A DE1235739B DE 1235739 B DE1235739 B DE 1235739B DE E21065 A DEE21065 A DE E21065A DE E0021065 A DEE0021065 A DE E0021065A DE 1235739 B DE1235739 B DE 1235739B
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- etching
- binder
- light
- layer
- aluminum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/008—Azides
- G03F7/0085—Azides characterised by the non-macromolecular additives
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/115—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having supports or layers with means for obtaining a screen effect or for obtaining better contact in vacuum printing
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/127—Spectral sensitizer containing
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/128—Radiation-activated cross-linking agent containing
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Description
BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLAND
EUTSCHES
PATENTAMT
AUSLEGESCHRIFT
Int. CL:
G(Bc
Deutsche Kl.: '
Nummer: 1 235 739
Aktenzeichen: E 21065 IX a/57 b
Anmeldetag: 10. Mai 1961
Auslegetag: 2. März 1967
C03C
Die Erfindung betrifft eine lichtempfindliche Ätzschutzschicht aus einem Bindemittel und einer lichtempfindlichen
Verbindung oder einem lichtempfindlichen Bindemittel.
Bekannte Bindemittel sind Naturkautschuk, Schellack,
Gelatine, Leim, Polyvinylalkohol, Polyäthylen, Polyamide, Mischpolymerisate aus Styrol und Butadien
oder Mischungen davon. Bekannte lichtempfindliche Verbindungen, durch deren Zusatz die
Bindemittel bei Belichtung unlöslich weiden, sind Kaliumdichromat, das zum Sensibilisieren von Leim,
Schellack und Gelatine verwendet wird oder Arylazide, die in den USA.-Patentschriften 2 848 328 und
2 852 379 beschrieben sind.
Bekannte lichtempfindliche Bindemittel enthalten eine Cinnamoylgruppe oder eine Azidogruppe im
Molekül. Sie werden in den USA.-Patentschriften 2610120, 2801233, 2725372, 2716102, 2716 097,
2566302, 2751296, 2751373, 2708665, 2835656, 2948160 und 3096 331 beschrieben. Die Empfindlichkeit
derartiger lichtempfindlicher Bindemittel kann durch Zusatz von Sensibilisatoren, wie sie in
den USA.-Patentschriften 2670285, 2670286, 2670287 2690966, 2732 301, 2848328, 2940853
und 2870011 beschrieben sind, erhöht werden.
Die bekannten Ätzschutzschichten besitzen den Nachteil, daß sie beim Entwickeln, wobei die unbelichteten
Bildteile durch Behandlung mit einem Lösungsmittel entfernt werden, quellen, daß die
Haftung der Ätzschutzschicht am beschichteten Gegenstand unbefriedigend ist, so daß sich bei der
Behandlung des beschichteten Gegenstandes im Ätzbad auch die Bildteile lösen, die auf dem Gegenstand
haftenbleiben sollen, oder daß die Lichtempfindlichkeit zu wünschen übrig läßt.
Aufgabe der Erfindung ist daher, die Haftung der Ätzschutzschicht an den zu beschichtenden Gegenständen
zu verbessern und die Empfindlichkeit der Ätzschutzschicht zu erhöhen.
Der Gegenstand der Erfindung geht von einer lichtempfindlichen Ätzschutzschicht, bestehend aus
einem Bindemittel und einer lichtempfindlichen Verbindung oder einem lichtempfindlichen Bindemittel
aus und ist dadurch gekennzeichnet, daß die Ätzschutzschicht mindestens ein aus einem Stearat, Glas,
glasartigen Kunststoff, Aluminiumoxyd, Siliziumdioxyd oder Glimmer bestehendes Pigment, dessen
Brechungsindex sich um weniger als 0,02 Index-Einheiten von dem des Bindemittels unterscheidet, enthält.
Als besonders vorteilhaft hat es sich erwiesen, wenn die Ätzschutzschicht ein Pigment enthält, des-Lichtempfindliche
Ätzschutzschicht
Anmelder:
Eastman Kodak Company,
Rochester, N. Y. (V. St. A.)
Vertreter:
Dr.-Ing. W. Wolff und H. Bartels, Patentanwälte, München 22, Thierschstr. 8
Als Erfinder benannt:
Frederick Joseph Rauner,
Joseph James Murray,
Rochester, N. Y. (V. St. A.)
Frederick Joseph Rauner,
Joseph James Murray,
Rochester, N. Y. (V. St. A.)
Beanspruchte Priorität:
V. St. v. Amerika vom 19. Mai 1960 (30 100) - -
sen Brechungsindex sich um 0,005 bis 0,01 Index-Einheiten
von dem Bindemittel der Ätzschutzschicht unterscheidet. Der Brechungsindex der Pigmente
wird mit Licht eines Wellenlängenbereichs gemessen, für den die betreffende Ätzschutzschicht empfindlich
ist.
Zwecks Erzielung einer guten Auflösung dürfen die Pigmentteilchen nicht zu groß sein. Als zweckmäßig
haben sich Teilchengrößen von 6 bis 60, als besonders vorteilhaft von 6 bis 17 Nanometer erwiesen.
Die Pigmentteilchen sind ferner von dem Bindemittel der Ätzschutzschicht benetzbar und in
dem zum Entwickeln der belichteten Ätzschutzschichten verwendeten Lösungsmittel unlöslich.
Als besonders vorteilhafte Pigmente haben sich Calzium- und Aluminiumstearat erwiesen. Als Glimmer
sind natürlich vorkommende Mineralien wie auch künstliche Produkte geeignet. Besonders geeignet
sind Fluormagnesiumglimmer. Als glasartige Kunststoffe sind Polymethacrylsäuremethylester oder
Celluloseacetat geeignet.
Die Auswahl der Bindemittel und Pigmente hängt von der gewünschten Empfindlichkeit der zu beschichtenden
Oberfläche und den gewünschten Eigenschaften des Ätzschutzschichtbildes ab. Die Ätzschichten
der Erfindung können auf Glas, keramische Massen und Metalle, wie Aluminium und Zink, aufgebracht
werden.
Die Gewichtsmengen der Pigmente in den Ätzschutzschichten betragen 0,3 bis 3,0, vorzugsweise
0,7 bis 2,0 Gewichtsteile, bezogen auf das Bindemittel.
Es hat sich gezeigt, daß die Empfindlichkeit der Ätzschutzschicht um so mehr zunimmt, je größer
die Konzentration des Pigmentes in der Schicht ist. Die Pigmente werden den Bindemitteln durch einfaches
Vermischen oder auch durch Vermählen in einer Kugelmühle zugesetzt. Die Mischungen aus
Bindemittel und Pigment werden in bekannter Weise, z. B. durch Aufschleudern oder Aufgießen, auf den
Schichtträger aufgebracht. Nach dem Trocknen werden die Ätzschutzschichten auf bekannte Weise bildmäßig
mit Strahlung, d. h. sichtbarer und/oder Ultraviolettstrahlung belichtet. Nach der Belichtung werden
die Ätzschutzschichten dann in bekannter Weise mit einem Lösungsmittel behandelt, wodurch die
nicht belichteten Bildteile entfernt werden. Auf diese Weise erhält man eine mit einem Ätzschutzschichtbild
beschichtete Druckplatte.
Als Bindemittel für die Ätzschutzschichten der Erfindung haben sich mit Schwefel vulkanisierbarer
Naturkautschuk, zyklisierter Naturkautschuk, wie er in der USA.-Patentschrift 2 371 736 beschrieben ist,
oxydierter Kautschuk, wie er in der USA.-Patentschrift 2132 809 beschrieben ist, künstliche Kautschukarten
aus 1,3-Dioleflnen oder kautschukähnliche
Kunststoffe besonders zweckmäßig erwiesen. Durch die pigmentierten Ätzschutzschichten wird erreicht,
daß sich die Belichtungszeit um das 4- bis lOfache verkürzt. Außerdem besitzen sie eine verbesserte
Quellbeständigkeit in Entwicklerlösungen und haften bedeutend besser als die bekannten Ätzschutzschichten
auf dem Schichtträger.
Die folgenden Beispiele sollen die Erfindung näher veranschaulichen.
11g Polyvinylalkohol wurden über Nacht auf einem Dampfbad mit 100 cm3 Pyridin erhitzt. Darauf
wurden 100 cm3 Pyridin zugesetzt und die Suspension auf 50° C abgekühlt. Dann wurden unter Rühren
50 g technisches Cinnamoylchlorid zugegeben, wobei Wärme entwickelt wurde und ein Niederschlag
entstand. Das Reaktionsgemisch wurde am Rückflußkühler mit Calciumchloridröhrchen auf 50° C
erhitzt. Nach 4 Stunden, in welcher Zeit die Suspension gelegentlich gerührt wurde, wurde eine viskose
Masse erhalten. Die Masse wurde mit Aceton verdünnt, filtriert und in Wasser gegossen. Das ausgefallene
Polyvinylcinnamat wurde durch ausgiebiges Waschen mit Wasser bis zur Chloridfreiheit gereinigt
und dann getrocknet. Dann wurden 3,5 g des PoIyvinylcinnamats in 50 cm3 Methyläthylketon gelöst.
In diese Lösung wurden daraufhin 5 g Calciumstearat eingerührt. Nach 24stündigem Vermählen in
einer Kugelmühle wurde die Mischung auf eine Glasplatte aufgegossen und in nahezu senkrechter Lage
bei Raumtemperatur getrocknet.
Zu Vergleichszwecken wurde eine zweite Glasplatte in gleicher Weise mit einer Mischung beschichtet,
die kein Calciumstearat enthielt.
Die erhaltenen Ätzschutzschichten besaßen eine durchschnittliche Stärke von 0,102 mm.
Die Glasplatten wurden 3 Minuten lang durch eine gerasterte negative Kopiervorlage mit einer 91,4 cm
entfernten 35-Ampere-Kohlenbogenlampe belichtet. Anschließend wurde durch starkes Besprühen mit
Trichloräthylen entwickelt. Die Glasplatten, die ein positives Ätzschutzschichtbild aufwiesen, wurden
dann in einem üblichen Ätzbad mit 48°/o Fluorwasserstoffsäure geätzt.
Die mit der calciumstearathaltigen Ätzschutzschicht überzogene Glasplatte war von 0,0762 bis zu
einer Tiefe von 0,279 mm geätzt. Das Ätzschutzschichtbild haftete an allen Stellen fest an der Glasplatte.
Die mit der calciumstearatfreien Ätzschutzschicht überzogene Glasplatte war nur von 0,0254
bis zu einer Tiefe von 0,051 mm geätzt und löste
ίο sich leicht von der Glasplatte ab.
Eine Lösung A wurde durch Auflösen von 30 g cyclisiertem Naturkautschuk und 0,06 g 4,4-Diazidostilben
in Xylol hergestellt. Zu 100 cm3 der Lösung A wurden dann 23 g Glasperlen einer Teilchengröße
von 9 bis 30 Nanometer zugegeben. Die Mischung wurde anschließend auf mit Bimsstein abgeriebene
Aluminiumplatten aufgegossen und in nahezu vertikaier Lage bei Raumtemperatur getrocknet.
Zu Vergleichszwecken wurde eine gleiche Aluminiumplatte mit einer Lösung B beschichtet, die keine
Glasperlen enthielt.
Die Aluminiumplatten wurden dann mit einer 91,4 cm entfernten 35-Ampere-Kohlenbogenlampe
durch eine gerasterte negative Kopiervorlage belichtet. Die Entwicklung erfolgte durch Aufsprühen
einer Xylol-Stoddard-Lösungsmittelmischung (Stoddard
Solvent, s. Römpp, Chemie-Lexikon, 3. Auflage, S. 1727). Bei der mit der Lösung A beschichteten
Aluminiumplatte wurde mit einer Belichtungszeit von 45 Sekunden ein gutes Bild erhalten. Bei
der mit der Lösung B beschichteten Aluminiumplatte löste sich die Ätzschutzschicht bei der Entwicklung
von der Aluminiumplatte ab. Es zeigte sich, daß Ätzschutzschichten, die zwei Teile Glasperlen auf
einen Teil Bindemittel enthielten, eine Empfindlichkeit besaßen, die 4- bis lOmal so groß war wie die
Empfindlichkeit von Ätzschutzschichten ohne Glasperlen.
20 g Aluminiumstearat in 100 cm3 Xylol wurden in einer Kugelmühle zu einer kolloidartigen Dispersion
vermählen. Dann wurden zwei Gewichtsteile Xylol zugesetzt. 2 Gewichtsteile dieses Zusatzes D
wurden zu 2 Gewichtsteilen der im Beispiel 2 beschriebenen Lösung A gegeben. Die erhaltene Mischung
C wurde daraufhin auf eine Glasplatte in einer Dicke von 0,0254 mm aufgebracht und in
nahezu vertikaler Lage vorgetrocknet. Anschließend wurde die Glasplatte zur Entfernung des restlichen
Lösungsmittels 5 Minuten lang in einem Ofen auf 120° C erhitzt. Zu Vergleichszwecken wurde eine
Glasplatte mit einer Mischung E, die kein Aluminiumstearat enthielt, beschichtet.
Die Glasplatten wurden dann 5 Minuten lang bildmäßig mit einer 91,4 cm entfernten 35-Ampere-Kohlenbogenlampe
belichtet. Die belichteten Glasplatten wurden daraufhin unter Verwendung einer
Mischung von Xylol und Stoddard-Lösungsmittel (Stoddard Solvent, s. Römpp, Chemie-Lexikon,
3. Auflage, S. 1727) entwickelt. Die freigelegten Bildteile wurden dann mit einer 48°/oigen Fluorwasserstoffsäure
geätzt.
Bei der Glasplatte ohne Aluminiumstearat traten bei einer Ätztiefe von 0,102 mm ausgefranste Kanten
und Poren auf, während bei der Glasplatte mit Alu-
miniumstearat bei einer Ätztiefe von 0,381 mm ausgezeichnete
Ätzbilder erhalten wurden.
In Xylol wurden 30 g natürlicher cyclisierter Kautschuk
und 0,06 g 4,4'-Diazidostilben gelöst. Zu dieser Lösung wurden 100 cm3 Xylol und 20 g eines
synthetischen Fluormagnesiumglimmers gegeben. Die Masse wurde dann auf eine Glasplatte aufgebracht,
getrocknet, belichtet und wie im Beispiel 3 entwickelt. Daraufhin wurde mit einer 48fl/oigen Fluorwasserstoffsäure
14 Minuten lang geätzt, wodurch ein Ätzbild mit einer Tiefe von 0,381 mm erhalten
wurde.
Bei einer Glasplatte mit einer Ätzschutzschicht ohne Fluormagnesiumglimmer löste sich die Ätzschutzschicht
im Ätzbad innerhalb von 2 Minuten ab.
Es wurde eine Lösung F durch Auflösen von 7,0 g Poly(vinylacetat-p-azido-benzoat) in 100 cm3 N-Butylacetat
hergestellt. Zur Lösung F wurden dann 20 cm3 einer 20% Aluminiumstearat-Dispersion in
Xylol zugegeben. Die Mischung wurde auf eine saubere Glasplatte aufgegossen und in nahezu vertikaler
Lage bei Raumtemperatur trocknen gelassen. Eine Glasplatte wurde auf dieselbe Weise mit einer
Ätzschutzschicht ohne Aluminiumstearat hergestellt. Die Glasplatten wurden dann eine Minute lang mit
einer 91,4 cm entfernten 35-Ampere-Kohlenbogenlampe
belichtet und danach mit Trichloräthylen entwickelt.
Bei der Entwicklung wurde festgestellt, daß die Empfindlichkeit der aluminiumstearathaltigen Ätzschutzschicht
größer ist als die der ohne Aluminiumstearat. Die Glasplatten wurden dann in einem Ätzbad
mit 48%iger Fluorwasserstoffsäure geätzt. Im Ätzbad wurde die Ätzschutzschicht ohne Aluminiumstearat
20 bis 30 Sekunden abgelöst. Die Glasplatte mit der Ätzschutzschicht nach der Erfindung konnte
von 0,0762 bis zu einer Tiefe von 0,1524 mm geätzt werden.
Durch Lösen von 7,0 g Polyvinyl-Benzalacetophenon
in 100 cm3 Cyclohexanol wurde die Lösung G hergestellt. Zu 2 Teilen der Lösung G wurde 1 Teil
einer 2O°/oigen Dispersion von Aluminiumstearat in
Xylol unter Bildung der Mischung H zugegeben. Die Mischung H wurde dann auf eine mit Bimsstein
abgeriebene Aluminiumplatte aufgegossen und in nahezu vertikaler Lage bei Raumtemperatur getrocknet.
Zu Vergleichszwecken wurde eine Aluminiumplatte mit einer Mischung beschichtet, die kein
Aluminiumstearat enthielt. Die Aluminiumplatten wurden dann zwei Minuten lang mit einer 91,4 cm
entfernten 35-Ampere-Kohlenbogenlampe belichtet und dann in einem Dampfentfetter mit Trichloräthylen
entwickelt. Bei der Entwicklung zeigte sich, daß die Empfindlichkeit der mit der Mischung H
beschichteten Aluminiumplatte größer ist als die der Aluminiumplatte ohne Aluminiumstearat. Die Aluminiumplatten
wurden dann in einem Ferrichlorid-Ätzbad von 42n Baume geätzt. Die Ätzschutzschicht
ohne Aluminiumstearat wurde zerstört, bevor eine Ätztiefe von 0,254 mm erreicht war. Die Aluminiumstearat
enthaltende Ätzschutzschicht ermöglichte zufriedenstellende Ätztiefen von 0,508 mm.
Auf eine glasierte Keramikfliese wurde die im
ίο Beispiel 3 beschriebene Mischung C aufgebracht. Die
Keramikfliese wurde dann in nahezu vertikaler Richtung zum Vortrocknen aufgestellt. Anschließend
wurde die Platte, wie im Beispiel 3 beschrieben, getrocknet und darauf durch eine negative Halbtonkopiervorlage
4 Minuten lang mit einer 91,4 cm entfernten 35-Ampere-Kohlenbogenlampe belichtet. Die
belichtete Keramikfliese wurde schließlich durch Aufsprühen einer Entwicklerlösung aus Xylol und
Stoddard - Lösungsmittel (Stoddard Solvent, s.
Römpp, Chemie-Lexikon 3. Auflage, S. 1727) entwickelt.
Zu Vergleichszwecken wurde eine Fliese mit einer Ätzschutzschicht ohne Aluminiumstearat hergestellt.
Nach der Entwicklung wurden die Fliesen mit Leitungswasser von 21 bis 27° C abgewaschen.
Beim Abwaschen löste sich die Schutzschicht der Vergleichsfliese teilweise ab, so daß die Fliese nicht
weiter verarbeitet werden konnte. Die mit der aluminiumstearathaltigen Ätzschutzschicht überzogene
Keramikfliese war einwandfrei und wurde von einer 48°/oigen Fluorwasserstoffsäure bis zu einer Tiefe
von 0,0762 mm geätzt.
In den Beispielen wurde die Zunahme der Empfindlichkeit der Ätzschutzschichten dadurch ermittelt,
daß sie durch einen Stufenkeil belichtet wurden, worauf die unbelichteten Anteile mit einem Lösungsmittel
abgewaschen wurden.
Claims (4)
1. Lichtempfindliche Ätzschutzschicht, bestehend aus einem Bindemittel und einer lichtempfindlichen
Verbindung oder einem lichtempfindlichen Bindemittel, dadurchgekennz eich net, daß sie mindestens ein aus einem
Stearat, Glas, glasartigen Kunststoff, Aluminiumoxyd, Siliciumdioxyd oder Glimmer bestehendes
Pigment, dessen Brechungsindex sich um weniger als 0,02, vorzugsweise um 0,005 bis 0,015 Index-Einheiten
von dem des Bindemittels unterscheidet, enthält.
2. Ätzschutzschicht nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie, bezogen auf das Bindemittel,
0,3 bis 3,0 Gewichtsteile Pigment enthält.
3. Ätzschutzschicht nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie das Pigment in Form
von Teilchen einer durchschnittlichen Größe von 6 bis 60 Nanometer enthält.
4. Ätzschutzschicht nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie als lichtempfindliches
Bindemittel Polyvinylacetat - ρ - Azidobenzoat, Polyvinylbenzophenon oder Polyvinylcinnamat
enthält.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US30100A US3148064A (en) | 1960-05-19 | 1960-05-19 | Light sensitive photographic composition containing aluminum stearate as a translucent pigment |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1235739B true DE1235739B (de) | 1967-03-02 |
Family
ID=21852497
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DEE21065A Pending DE1235739B (de) | 1960-05-19 | 1961-05-10 | Lichtempfindliche AEtzschutzschicht |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3148064A (de) |
BE (1) | BE603930A (de) |
DE (1) | DE1235739B (de) |
GB (1) | GB991605A (de) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL267991A (de) * | 1960-08-10 | |||
US3271151A (en) * | 1965-02-08 | 1966-09-06 | Eastman Kodak Co | Photographic relief printing plate |
US3533791A (en) * | 1967-01-06 | 1970-10-13 | Philco Ford Corp | Process for fabricating multicolor image screens |
US3856529A (en) * | 1967-05-26 | 1974-12-24 | Kalle Ag | Method and materials for making half tone prints |
GB1233883A (de) * | 1968-01-22 | 1971-06-03 | ||
US3647454A (en) * | 1970-02-09 | 1972-03-07 | Eastman Kodak Co | Title-backed photosensitive microfiche |
JPS50125805A (de) * | 1974-03-19 | 1975-10-03 | ||
US4168979A (en) * | 1974-03-19 | 1979-09-25 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Light-sensitive printing plate with matt overlayer |
JPS5660432A (en) * | 1979-10-23 | 1981-05-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosolubilizing composition |
DE3374450D1 (en) * | 1982-04-22 | 1987-12-17 | Du Pont | Photosensitive coatings containing crosslinked beads |
US4601970A (en) * | 1982-04-22 | 1986-07-22 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Dry photosensitive film containing crosslinked beads |
US4668604A (en) * | 1982-04-22 | 1987-05-26 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Positive-working photosensitive elements containing crosslinked beads and process of use |
US4551415A (en) * | 1982-04-22 | 1985-11-05 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive coatings containing crosslinked beads |
DE3417645A1 (de) * | 1984-05-12 | 1985-11-14 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial fuer die herstellung von flachdruckplatten |
JPS61162501A (ja) * | 1985-01-10 | 1986-07-23 | Nippon Paint Co Ltd | 高エネルギ−線硬化樹脂組成物 |
JPH0746224B2 (ja) * | 1986-06-27 | 1995-05-17 | 日本ペイント株式会社 | 感光性フレキソ印刷版 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB645954A (en) * | 1948-01-30 | 1950-11-15 | Ilford Ltd | Improvements in or relating to matt colloid layers |
US2506537A (en) * | 1948-10-22 | 1950-05-02 | Gen Aniline & Film Corp | Reversible gel composition |
US2852381A (en) * | 1953-10-13 | 1958-09-16 | Eastman Kodak Co | Photographic emulsions containing polymeric color formers |
US2831767A (en) * | 1954-04-29 | 1958-04-22 | Eastman Kodak Co | Water-dispersible protein polymer compositions and silver halide emulsions containing same |
US2852379A (en) * | 1955-05-04 | 1958-09-16 | Eastman Kodak Co | Azide resin photolithographic composition |
BE549814A (de) * | 1955-07-29 | |||
US2849427A (en) * | 1955-08-15 | 1958-08-26 | Phillips Petroleum Co | Foam suppression of hot latex emulsions during recovery of monomers therein |
US2892716A (en) * | 1955-10-03 | 1959-06-30 | Du Pont | Photopolymerizable composition comprising an unsaturated vinyl polymer and a sheet support coated therewith |
US2985608A (en) * | 1958-09-23 | 1961-05-23 | Exxon Research Engineering Co | Method of improving processing of low unsaturation rubbery compositions |
US3011984A (en) * | 1957-06-14 | 1961-12-05 | Exxon Research Engineering Co | Oxonation of butyl rubber and covulcanization products of same with natural rubber or butadiene-styrene copolymer |
-
0
- BE BE603930D patent/BE603930A/xx unknown
-
1960
- 1960-05-19 US US30100A patent/US3148064A/en not_active Expired - Lifetime
-
1961
- 1961-05-10 DE DEE21065A patent/DE1235739B/de active Pending
- 1961-05-19 GB GB18356/61A patent/GB991605A/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB991605A (en) | 1965-05-12 |
BE603930A (de) | |
US3148064A (en) | 1964-09-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE1235739B (de) | Lichtempfindliche AEtzschutzschicht | |
DE1622301C2 (de) | Mit Alkali entwickelbare Kopierschicht | |
DE3689692T2 (de) | "Silicon-resist"-Materialien, die Polysiloxane Verbindungen enthalten. | |
DE1447919B2 (de) | Beschichtungslösung und damit hergestelltes lichtempfindliches Kopiermaterial | |
EP0135026B1 (de) | Lichthärtbares Gemisch und daraus hergestelltes lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial | |
DE1447021A1 (de) | Vorsensibilisierte positiv-wirkende Druckplatte | |
DE2641624C3 (de) | Verfahren zur Herstellung eines positiven Resistbildes unter Anwendung von Elektronenstrahlen | |
DE2324525A1 (de) | Mutterplatte und verfahren zur herstellung von druckplatten | |
CH644211A5 (de) | Verfahren zur herstellung von lichtempfindlichem material fuer die gerbende entwicklung. | |
DE2729173A1 (de) | Lichtempfindliche diazomasse | |
DE1299661B (de) | Verfahren zur Verbesserung der hydrophilen Eigenschaften der Traeger von fuer Flachdruckverfahren geeigneten Druckplatten | |
DE3445276A1 (de) | Strahlungsempfindliches gemisch, daraus hergestelltes lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung einer flachdruckform | |
DE1186744B (de) | Photographisches Reproduktionsverfahren | |
DE2932035A1 (de) | Bildaufzeichnungsmaterial | |
DE1572046B2 (de) | Negativ arbeitendes kopiermaterial | |
DE1572060C3 (de) | Lichtempfindliche Kopierschicht | |
DE1447913B2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Druckformen | |
DE3486283T2 (de) | Lagerungsbeständiger lichtempfindlicher Gegenstand und Zusammensetzung. | |
DE2461515A1 (de) | Lichtempfindliche planographische druckplatte | |
EP0224162B1 (de) | Lichtempfindliches, Diazoniumgruppen enthaltendes Polykondensationsprodukt, Verfahren zu seiner Herstellung und lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial, das dieses Polykondensationsprodukt enthält | |
DE2346378C3 (de) | Flachdruckfolie und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
DE1522495C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von Druckformen | |
DE2007995C3 (de) | Elektrophotographisches Verfahren zur Herstellung von Gelatinebildern | |
DE1193363B (de) | Photoleitfaehige Schicht fuer elektro-photographische Zwecke | |
DE1572066C3 (de) | Lichtempfindliche Schicht zur Herstellung von Druckformen |