DE1207507B - Verfahren zur Herstellung eines flaechenhaften, aus Germanium oder Silizium bestehenden Legierungstransistors - Google Patents
Verfahren zur Herstellung eines flaechenhaften, aus Germanium oder Silizium bestehenden LegierungstransistorsInfo
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- 239000000956 alloy Substances 0.000 title claims description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 title claims description 7
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 5
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 title description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 title description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 title description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 12
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 10
- 229910000927 Ge alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910000676 Si alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 210000001520 comb Anatomy 0.000 claims description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 claims description 2
- 230000000284 resting effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000007669 thermal treatment Methods 0.000 claims description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 2
- 238000010410 dusting Methods 0.000 claims 1
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 6
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 3
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KAPYVWKEUSXLKC-UHFFFAOYSA-N [Sb].[Au] Chemical compound [Sb].[Au] KAPYVWKEUSXLKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D99/00—Subject matter not provided for in other groups of this subclass
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
- Bipolar Transistors (AREA)
Priority Applications (10)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL250053D NL250053A (nl) | 1956-03-23 | ||
NL215555D NL215555A (nl) | 1956-03-23 | ||
NL110415D NL110415C (nl) | 1956-03-23 | ||
DES48077A DE1207507B (de) | 1956-03-23 | 1956-03-23 | Verfahren zur Herstellung eines flaechenhaften, aus Germanium oder Silizium bestehenden Legierungstransistors |
FR1166785D FR1166785A (fr) | 1956-03-23 | 1957-02-15 | Procédé pour la fabrication en particulier de transistors en alliage et dispositifs conformes à ceux fabriqués d'après ce procédé |
CH348208D CH348208A (de) | 1956-03-23 | 1957-03-19 | Verfahren zur Herstellung von Halbleiteranordnungen |
GB9555/57A GB849447A (en) | 1956-03-23 | 1957-03-22 | Improvements in or relating to semi-conductor devices and processes for their manufacture |
CH359791D CH359791A (de) | 1956-03-23 | 1960-03-29 | Verfahren zum Herstellen eines Transistors |
GB11598/60A GB926280A (en) | 1956-03-23 | 1960-04-01 | Improvements in or relating to semi-conductor devices and methods of manufacturing these devices |
FR823515A FR77446E (fr) | 1956-03-23 | 1960-04-04 | Procédé pour la fabrication de transistors en alliage et dispositifs conformes à ceux obtenus d'après ce procédé |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DES48077A DE1207507B (de) | 1956-03-23 | 1956-03-23 | Verfahren zur Herstellung eines flaechenhaften, aus Germanium oder Silizium bestehenden Legierungstransistors |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1207507B true DE1207507B (de) | 1965-12-23 |
DE1207507C2 DE1207507C2 (nl) | 1966-07-14 |
Family
ID=37198682
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DES48077A Granted DE1207507B (de) | 1956-03-23 | 1956-03-23 | Verfahren zur Herstellung eines flaechenhaften, aus Germanium oder Silizium bestehenden Legierungstransistors |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
CH (1) | CH348208A (nl) |
DE (1) | DE1207507B (nl) |
FR (1) | FR1166785A (nl) |
GB (1) | GB849447A (nl) |
NL (1) | NL215555A (nl) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1279199C2 (de) * | 1961-12-15 | 1975-08-07 | Semikron, Gesellschaft für Gleichrichterbau und Elektronik mbH, 8500 Nürnberg | Verfahren zum gleichzeitigen herstellen einer groesseren anzahl von halbleitergleichrichter-anordnungen |
JP5305993B2 (ja) | 2008-05-02 | 2013-10-02 | キヤノン株式会社 | 容量型機械電気変換素子の製造方法、及び容量型機械電気変換素子 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE137800C (nl) * | ||||
US2597028A (en) * | 1949-11-30 | 1952-05-20 | Bell Telephone Labor Inc | Semiconductor signal translating device |
AT181629B (de) * | 1950-09-14 | 1955-04-12 | Western Electric Co | Einrichtung zur Signalumsetzung mit einem Körper aus halbleitendem Material und Verfahren zur Herstellung derselben |
US2721965A (en) * | 1952-12-29 | 1955-10-25 | Gen Electric | Power transistor |
-
0
- NL NL215555D patent/NL215555A/xx unknown
-
1956
- 1956-03-23 DE DES48077A patent/DE1207507B/de active Granted
-
1957
- 1957-02-15 FR FR1166785D patent/FR1166785A/fr not_active Expired
- 1957-03-19 CH CH348208D patent/CH348208A/de unknown
- 1957-03-22 GB GB9555/57A patent/GB849447A/en not_active Expired
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE137800C (nl) * | ||||
US2597028A (en) * | 1949-11-30 | 1952-05-20 | Bell Telephone Labor Inc | Semiconductor signal translating device |
AT181629B (de) * | 1950-09-14 | 1955-04-12 | Western Electric Co | Einrichtung zur Signalumsetzung mit einem Körper aus halbleitendem Material und Verfahren zur Herstellung derselben |
US2721965A (en) * | 1952-12-29 | 1955-10-25 | Gen Electric | Power transistor |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CH348208A (de) | 1960-08-15 |
DE1207507C2 (nl) | 1966-07-14 |
FR1166785A (fr) | 1958-11-14 |
GB849447A (en) | 1960-09-28 |
NL215555A (nl) |
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