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DE1191493B - Verfahren zum Herstellen eines Halbleiter-bauelements mit einer durch eine einen geschlossenen Linienzug bildende Vertiefung in zwei Teile geteilten Zone - Google Patents

Verfahren zum Herstellen eines Halbleiter-bauelements mit einer durch eine einen geschlossenen Linienzug bildende Vertiefung in zwei Teile geteilten Zone

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Publication number
DE1191493B
DE1191493B DES76830A DES0076830A DE1191493B DE 1191493 B DE1191493 B DE 1191493B DE S76830 A DES76830 A DE S76830A DE S0076830 A DES0076830 A DE S0076830A DE 1191493 B DE1191493 B DE 1191493B
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
semiconductor
etching
recess
surface layer
producing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DES76830A
Other languages
German (de)
English (en)
Inventor
Dr Kurt Raithel
Rene Rosenheinrich
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Siemens Corp
Original Assignee
Siemens Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to NL284582D priority Critical patent/NL284582A/xx
Application filed by Siemens Corp filed Critical Siemens Corp
Priority to DES76830A priority patent/DE1191493B/de
Priority to CH1060862A priority patent/CH406437A/de
Priority to FR916175A priority patent/FR1380429A/fr
Priority to GB44706/62A priority patent/GB1018903A/en
Publication of DE1191493B publication Critical patent/DE1191493B/de
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
    • H01L21/302Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
    • H01L21/304Mechanical treatment, e.g. grinding, polishing, cutting
    • H01L21/3043Making grooves, e.g. cutting
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DES76830A 1961-11-25 1961-11-25 Verfahren zum Herstellen eines Halbleiter-bauelements mit einer durch eine einen geschlossenen Linienzug bildende Vertiefung in zwei Teile geteilten Zone Pending DE1191493B (de)

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NL284582D NL284582A (xx) 1961-11-25
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CH1060862A CH406437A (de) 1961-11-25 1962-09-06 Verfahren zur Herstellung einer Halbleiteranordnung
FR916175A FR1380429A (fr) 1961-11-25 1962-11-21 Procédé pour la fabrication d'un dispositif semi-conducteur
GB44706/62A GB1018903A (en) 1961-11-25 1962-11-26 A process for use in the production of a semi-conductor device

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DE1191493B true DE1191493B (de) 1965-04-22

Family

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CH (1) CH406437A (xx)
DE (1) DE1191493B (xx)
GB (1) GB1018903A (xx)
NL (1) NL284582A (xx)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0279949A1 (de) * 1987-02-11 1988-08-31 BBC Brown Boveri AG Verfahren zur Herstellung von Halbleiterbauelementen

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1018455B (de) * 1952-05-01 1957-10-31 Philips Nv Multiplexuebertragungssystem fuer Fernsehsignale
DE1092131B (de) * 1956-08-24 1960-11-03 Philips Nv Transistor und Verfahren zu dessen Herstellung

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Publication number Publication date
CH406437A (de) 1966-01-31
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