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DE10136387A1 - Objektiv, insbesondere Objektiv für die Halbleiter-Lithographie - Google Patents

Objektiv, insbesondere Objektiv für die Halbleiter-Lithographie

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DE10136387A1
DE10136387A1 DE10136387A DE10136387A DE10136387A1 DE 10136387 A1 DE10136387 A1 DE 10136387A1 DE 10136387 A DE10136387 A DE 10136387A DE 10136387 A DE10136387 A DE 10136387A DE 10136387 A1 DE10136387 A1 DE 10136387A1
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mirror
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Hubert Holderer
Werner Lang
Hartmut Brandenburg
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Carl Zeiss SMT GmbH
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Carl Zeiss AG
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Abstract

Bei einem Objektiv, insbesondere einem Objektiv für die Halbleiter-Lithographie, mit optischen Elementen, wie Linsen (16) und Spiegel (11a), ist wenigstens ein Teil der optischen Elemente (16, 11a) mit einer reflektierenden Fläche außerhalb des optisch wirksamen Bereiches als Referenzfläche (12) zur Justierung des optischen Elementes innerhalb des Objektivs (8) versehen.

Description

  • Die Erfindung betrifft ein Objektiv, insbesondere ein Objektiv für die Halbleiter-Lithographie mit optischen Elementen, wie Linsen und Spiegeln.
  • Beim Zusammenbau eines Objektives, insbesondere eines Objektives in der Halbleiter-Lithographie, müssen die einzelnen Objektivteile, wie z. B. Linsen und Spiegel, mit sehr hoher absoluter Genauigkeit sowohl in den Ortskoordinaten als auch in den Winkelkoordinaten zueinander eingerichtet werden.
  • Bisher verwendete optische Elemente, z. B. Fassungen von Linsen, besitzen einen Zentrierbund am Außendurchmesser und eine obere und eine untere Fläche, mit einem Referenz- und Dichtbund, als Referenzen für einen Einbau im Objektiv. Eine Linse wird dabei so ausgerichtet, daß ihre optische Achse senkrecht durch die beiden Referenzflächen der Fassung geht. Hierzu wird die Linse bezüglich ihrer optischen Achse exakt "eingekugelt" und dann mit der Fassung verklebt. Dabei ist jedoch ein Offset zur mechanischen Achse des Flansches bzw. der Fassung nicht zu vermeiden. Aus diesem Grund wird der Versatz der optischen Achse der Linse zum Zentrierbund an der Fassung in Betrag und Winkellage gemessen und dann bei der Montage ins Objektiv entsprechend vorgehalten. Häufig ist dies ausreichend, da jede Fassung im allgemeinen auf der vorherigen aufliegt und dann nur noch lateral zentriert werden muß.
  • Bei einem katadioptrischen Objektiv ist es jedoch erforderlich, über einen größeren Abstand zwischen einem Zentralkörper und den Fassungen die Winkellage der einzelnen Linsengruppen zueinander zu messen. Hierzu können bekannte Meßmaschinen, z. B. Portal- oder Ständermeßmaschinen mit taktilen Meßtasten, verwendet werden, die gegebenenfalls noch mit einem optischen Meßsystem zur absoluten Orts- und Winkelbestimmung versehen sind. Zur Vermessung der Referenzflächen des jeweiligen optischen Elementes werden dabei Planspiegel benützt.
  • Zur Justage von Linsengruppen eines katadioptrischen Objektives in einer Baugruppe, in der die optische Achse wenigstens annähernd horizontal verläuft und mit einer vertikalen Baugruppe, in der die optische Achse in vertikaler Richtung verläuft, ist es vorgesehen, eine Referenzfläche mit Hilfe eines Planspiegels zu justieren. Anschließend muß der Planspiegel gegen die jeweilige Linsengruppe ausgetauscht werden.
  • Nachteilig dabei ist, daß durch den Austausch des bzw. der Planspiegel gegen die jeweilige Linsengruppe nicht nur ein höherer Montageaufwand erforderlich ist, sondern daß darüber hinaus neue Fehlerquellen auftreten können.
  • Der vorliegenden Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, bei einem Objektiv die vorstehend genannten Nachteile zu vermeiden, insbesondere ein Objektiv der eingangs erwähnten Art zu schaffen, durch das die Justage vereinfacht wird, wobei außerdem mögliche Fehlerquellen reduziert werden sollen.
  • Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe durch die im kennzeichnenden Teil von Anspruch 1 genannten Merkmale gelöst.
  • Durch die erfindungsgemäßen Referenzflächen, die an dem optischen Element selbst oder an dessen Fassung angeordnet sind, ist es möglich, eine Linsen- oder Spiegelgruppe direkt zu justieren und zwar ohne den Umweg über Planspiegel und einem daraus resultierenden anschließenden Austauschen, was immer zu Fehlern führen kann.
  • Die in bzw. an dem optischen Element integrierte reflektierende Fläche, z. B. eine Spiegelfläche, kann gleichzeitig mit dem optischen Element oder mit der Fassung hergestellt werden. Nach dem bekannten Einklebevorgang einer Linse kann auch die reflektierende Fläche bei einer entsprechenden Anordnung parallel zu Referenzbünden der Fassung und damit senkrecht zur optischen Achse liegen.
  • Durch die reflektierende Fläche ist es damit möglich, eine exakte Justage des jeweiligen Objektivteiles zu einem oder mehreren bestimmten Referenzpunkten in dem Objektiv vorzunehmen. Dies kann z. B. durch ein optisches Meßsystem mit von einem Interferometer oder einem Autokollimationsfernrohr erzeugten Meßstrahlen erfolgen. Es ist lediglich erforderlich, die Größe der reflektierenden Fläche entsprechend der gewünschten Justiergenauigkeit und der vorhandenen Genauigkeit der Meßmittel auszulegen.
  • Von Vorteil ist auch, daß für eine spätere Kontrolle der Winkellage der eingebauten optischen Elemente die Referenz durch die entsprechenden Referenzflächen, z. B. Spiegelflächen bereits im Objektiv 8 vorhanden ist. Somit ist eine spätere Kontrolle ohne großen Aufwand möglich.
  • Nachfolgend ist ein Ausführungsbeispiel der Erfindung anhand der Zeichnung prinzipmäßig beschrieben.
  • Es zeigt:
  • Fig. 1 eine Prinzipdarstellung einer Meßmaschine zum Vermessen und Justieren von in eine Rahmenstruktur eines Objektives eingebauten optischen Elementen;
  • Fig. 2 einen Halbschnitt durch eine Linse mit der erfindungsgemäßen reflektierenden Fläche an der Fassung; und
  • Fig. 3 eine Prinzipdarstellung eines katadioptrischen Objektives.
  • Eine Meßmaschine 1, z. B. eine Portal-Meßmaschine, bekannter Bauart weist einen Meßtisch 2 als Granitblock auf, der eine vertikale Meßbohrung 3 mit einer Querbohrung 4 im unteren Bereich aufweist. Am Ende der Querbohrung 4 ist ein Autokollimationsfernrohr 5 angeflanscht. Anstelle eines Autokollimationsfernrohrs 5 kann selbstverständlich auch ein Interferometer verwendet werden. An der Stelle, an der sich die Meßbohrung 3 mit der Querbohrung 4 trifft, ist ein Umlenkspiegel 6 angeordnet. Mit Hilfe des Umlenkspiegels 6 und eines Planspiegels (nicht dargestellt), der auf die Oberfläche des Meßtisches 2 über die Meßbohrung 3 gelegt wird, kann das Autokollimationsfernrohr 5 zu Beginn auf die Oberfläche des Meßtisches 2 als Referenzfläche 7 eingeeicht werden. Auf diese Weise ist man dann in der Lage, mit dem Autokollimationsfernrohr 5 zu vermessende Flächen stets absolut zu der Meßfläche 7 zu referenzieren. Vermessen werden soll mit der Meßmaschine 1 der obere Teil eines Objektives 8, wobei die optischen Elemente in eine obere Rahmenstruktur 8a und eine untere Rahmenstruktur 8b eingesetzt werden.
  • Zum Zusammenbau des Objektives 8 bzw. zum Einbau der optischen Teile des Objektives wird in einem ersten Schritt das obere Bauteil des Objektives mit der oberen Rahmenstruktur 8a auf den Meßtisch mit seiner Referenzfläche 7 aufgesetzt. Die Unterseite der Rahmenstruktur 8b dient ebenfalls als Referenzfläche 9.
  • In die obere Rahmenstruktur 8a wird ein Prismenkörper 10 eingesetzt. Gleichzeitig wird eine optische Baugruppe 11 mit einem gekrümmten Spiegel 11a und ein oder mehreren Linsen 11b seitlich angeflanscht. Anschließend wird die Unterseite des Prismenkörpers 10 als Hilfsfläche mittels des Autokollimationsfernrohrs 5 ausgerichtet (siehe hierzu den Strahlengang a in Fig. 1). Die Hilfsfläche wird in der Optikfertigung mit einer entsprechenden Mittelgenauigkeit gegenüber den vorderen Flächen des Prismenkörpers 10 hergestellt. Auf diese Weise wird der Prismenkörper 10 innerhalb der horizontalen Ebene mit einer entsprechenden Genauigkeit ausgerichtet.
  • Anschließend wird die Linsengruppe 11 mit dem gewölbten Spiegel 11a zu dem Autokollimationsfernrohr 5 ausgerichtet (siehe Strahlengang b in Fig. 1). Hierzu muß der von dem Autokollimationsfernrohr 5 ausgehende optische Strahl in sich zurückreflektiert werden. Dies wird durch eine Durchmessererweiterung des gekrümmten Spiegels 11a, die sich außerhalb des optisch wirksamen Bereiches befindet, geschaffen, denn auf der Durchmessererweiterung ist eine reflektierte Fläche in Form einer Spiegelfläche als Referenzfläche 12 gebildet. Es ist somit lediglich erforderlich, daß der Strahlengang b so gewählt wird, daß er auf die ringförmige Spiegelfläche 12 trifft. Auf diese Weise läßt sich dann die gesamte optische Baugruppe 11 mit ihren optisch wirksamen Flächen entsprechend genau bezüglich ihrer Winkellage ausrichten.
  • Die erforderliche Justage bzw. die Messung des Abstandes der optischen Baugruppe 11 von der Spitze des Prismenkörpers 10 kann durch einen auf dem Meßtisch 3 entsprechend in Pfeilrichtung verfahrbaren Meßkopf 13 der Meßmaschine 1 und durch bekannte Messungen mit ein oder mehreren taktiven Meßgliedern 14 erfolgen.
  • Zur exakten Verschiebung der optischen Baugruppe 11 an der Außenfläche bzw. einer Interfacefläche der oberen Rahmenstruktur 8a gemäß der durch einen Pfeil dargestellten Wirkrichtung, kann ein separater exakt gesteuerter Hubtisch 15 dienen, der an der Unterseite der optischen Baugruppe 11 angreift und diese entsprechend hebt oder senkt.
  • Anschließend wird eine Linse oder eine Linsengruppe 16 auf die obere Rahmenstruktur 8a aufgelegt. Die Linse 16 bzw. bei einer Linsengruppe, die dem Meßtisch 2 zunächstliegende Linse 16, ist im Bereich ihrer Fassung 17 ebenfalls mit einer Referenzfläche in Form einer Spiegelfläche 12 als reflektierende Fläche versehen. Mittels der Spiegelfläche 12 wird dann die Linse 16 exakt ausgerichtet. Hierzu ist es lediglich erforderlich, den Meßstrahl c entsprechend auf die Spiegelfläche 12 zu richten.
  • Wie ersichtlich, lassen sich auf diese Weise die einzelnen optischen Elemente bzw. die Bauteile des Objektives 8 sowohl im Ort als auch im Winkel absolut mit hoher Genauigkeit vermessen und einrichten. Hierzu dienen in bekannter Weise auch Dicht- und Referenzbünde 18 auf den Unterseiten und den Oberseiten der Fassung 17 von Linsen 16. Gleiches gilt selbstverständlich auch für den gekrümmten Spiegel 11a der Baugruppe 11. Die Referenzbünde 18, die eine sehr hohe Ebenheitsfläche besitzen, liegen exakt senkrecht zur optischen Achse 19. Bei der Verbindung der Linse 16 mit der Fassung 17 ist darauf zu achten, daß das Ein- bzw. Ankleben an Anlageflächen 20 der Fassung 17 so erfolgt, daß die optische Achse 19 senkrecht zu den Referenzflächen 18 liegt. Da die Spiegelfläche 12 auf eine der Referenzbünde 18 aufgebracht worden ist, wozu der entsprechende Referenzbund 18 so stark verbreitert wird, daß sich eine genügend große Ringfläche für eine Reflexion der Meßstrahlen b und c ergibt, liegt die Spiegelfläche 12 somit ebenfalls senkrecht zur optischen Achse 19. Im allgemeinen wird eine Breite der Spiegelfläche 12 von ca. 5 mm ausreichend sein (siehe vergrößerte Darstellung in der Fig. 2). Zur lateralen Verschiebung der Linse 16 für die gewünschte Justage besitzt diese am Außenumfang einen Zentrierbund 21, an dem nicht dargestellte Aktuatoren zur Verschiebung angreifen können.
  • Auf ähnliche Weise kann der in die untere Rahmenstruktur 8b eingebaute refraktive Teil 22 vermessen und justiert werden. Die Zusammensetzung der beiden Rahmenstrukturen 8a und 8b kann anschließend auf beliebige Weise erfolgen.
  • Obwohl die Verwendung der Spiegelflächen 12 für einen gekrümmten Spiegel 11a und die Fassung 17 einer Linse 16 nur für ein Meßverfahren mit der Meßmaschine 1 geschrieben ist, ist es selbstverständlich klar, daß im Rahmen der Erfindung optische Elemente, die mit der erfindungsgemäßen reflektierenden Fläche, z. B. der Spiegelfläche 12, versehen sind, auch auf andere Weise für eine exakte Justage bzw. Orts- und Winkelbestimmung des jeweiligen optischen Elementes verwendet werden können.
  • Die Spiegelfläche 12 kann z. B. in der Fertigung bereits bei der Herstellung der Fassung 17 und der Linse 16 bzw. des gekrümmten Spiegels 11a entsprechend berücksichtigt werden. So kann die Spiegelfläche 12 z. B. mit einer Beschichtung auf galvanische Weise, z. B. mit Nickel oder Chrom, als eine gut reflektierende Schicht aufgebracht werden (in der Fig. 2 ist aus Übersichtlichkeitsgründen die Beschichtung der Spiegelfläche 12 stark vergrößert dargestellt). Vor Aufbringen der Beschichtung wird man die entsprechende Fläche bzw. einen entsprechenden Bereich der Fassung 17 mechanisch fein bearbeiten, z. B. durch Läppen.
  • Nach Aufbringen der Beschichtung wird die Fläche für eine gute Reflexion poliert. Abschließend werden Linsensitz, untere Referenzfläche 18 und Zentrierbund 21 fertig gedreht. Bei diesem Ablauf ist die Spiegelfläche 12 somit automatisch zur Linsenauflage ausgerichtet.

Claims (8)

1. Objektiv, insbesondere Objektiv für die Halbleiter- Lithographie, mit optischen Elementen, wie Linsen und Spiegel, dadurch gekennzeichnet, daß wenigstens ein Teil der optischen Elemente (16, 11a) jeweils mit einer reflektierenden Fläche außerhalb des optisch wirksamen Bereiches, als Referenzfläche (12) zur Justierung des optischen Elementes innerhalb des Objektives oder innerhalb einer Baugruppe eines Objektives versehen ist.
2. Objektiv nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Referenzfläche (12) senkrecht zur optischen Achse (1a) liegt.
3. Objektiv nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Referenzfläche (12) als Spiegelfläche ausgebildet ist.
4. Objektiv nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß bei einer Linse (16) als optischem Element die Referenzfläche (12) parallel zu einem oder mehreren Referenzbünden (18) der Fassung (17) ausgerichtet ist.
5. Objektiv nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Referenzfläche (12) durch Läppen und Polieren eines Teiles der Fassung gebildet ist.
6. Objektiv nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Referenzfläche (12) durch die Beschichtung wenigstens eines Teiles der Fassung (17) gebildet ist.
7. Objektiv nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Beschichtung Nickel oder Chrom aufweist.
8. Optisches Element, insbesondere Linse oder Spiegel, gekennzeichnet durch eine reflektierende Fläche (12) außerhalb des optische wirksamen Bereiches.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109324382A (zh) * 2018-09-19 2019-02-12 北京空间机电研究所 一种基于经纬仪的高精度平面反射镜装调方法

Family Cites Families (122)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3077958A (en) 1961-09-05 1963-02-19 United Aircraft Corp Zero thermal expansion device
US3802781A (en) 1972-08-15 1974-04-09 D Wright Extensometers
US3837125A (en) 1973-09-04 1974-09-24 Celestron Pacific Method and system for making schmidt corrector lenses
US3917385A (en) 1973-09-19 1975-11-04 Rockwell International Corp Simplified micropositioner
US3879105A (en) 1974-04-04 1975-04-22 Jenoptik Jena Gmbh Telescope with an image reversing system
US4060315A (en) 1975-07-07 1977-11-29 Rockwell International Corporation Precision mirror mount
US4038971A (en) 1975-10-22 1977-08-02 Bezborodko Joseph A I B Concave, mirrored solar collector
US4092518A (en) 1976-12-07 1978-05-30 Laser Technique S.A. Method of decorating a transparent plastics material article by means of a laser beam
US4195913A (en) 1977-11-09 1980-04-01 Spawr Optical Research, Inc. Optical integration with screw supports
US4162120A (en) 1977-12-02 1979-07-24 Ford Aerospace & Communications Corp. Thermal compensator linkage
US4236296A (en) 1978-10-13 1980-12-02 Exxon Research & Engineering Co. Etch method of cleaving semiconductor diode laser wafers
US4277141A (en) 1979-03-28 1981-07-07 Tropel, Inc. Multifaceted mirror and assembly fixture and method of making such mirror
US4202605A (en) 1979-04-05 1980-05-13 Rockwell International Corporation Active segmented mirror
US4268122A (en) * 1979-06-21 1981-05-19 Keeler Brass Company Outside rear view mirror
US4226507A (en) 1979-07-09 1980-10-07 The Perkin-Elmer Corporation Three actuator deformable specimen
US4295710A (en) 1979-09-04 1981-10-20 Rockwell International Corporation Deformable mirror with dither
JPS57624A (en) 1980-06-03 1982-01-05 Nippon Kogaku Kk <Nikon> Albada type reverse-galilean finder
US4380391A (en) 1980-09-30 1983-04-19 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Short pulse CO2 laser for ranging and target identification
US4403421A (en) 1980-11-13 1983-09-13 Shepherd Daniel R Telescopic gun sight
US4408874A (en) 1981-05-07 1983-10-11 Computervision Corporation Projection aligner with specific means for bending mirror
US4389115A (en) 1981-08-06 1983-06-21 Richter Thomas A Optical system
US4537473A (en) * 1982-11-05 1985-08-27 Corning Glass Works Fiducial surfaces
DE3323828C2 (de) 1983-07-01 1986-01-16 Messerschmitt-Bölkow-Blohm GmbH, 8012 Ottobrunn Laserwarnsensor
US4871237A (en) 1983-07-27 1989-10-03 Nikon Corporation Method and apparatus for adjusting imaging performance of projection optical apparatus
JPS60219744A (ja) * 1984-04-17 1985-11-02 Canon Inc 投影露光装置
JP2516194B2 (ja) 1984-06-11 1996-07-10 株式会社日立製作所 投影露光方法
DE3685176D1 (de) 1985-03-01 1992-06-11 Night Vision General Partnersh Kompakte nachtsichtbrille.
US4969726A (en) 1985-06-03 1990-11-13 Northrop Corporation Ring laser gyro path-length-control mechanism
US4672439A (en) 1985-09-04 1987-06-09 Texas Instruments Incorporated FLIR imager with hybrid optical/electronic processor
DE3544429A1 (de) 1985-12-16 1987-06-19 Juwedor Gmbh Verfahren zur galvanoplastischen herstellung von schmuckwaren
US4953965A (en) 1985-12-26 1990-09-04 Toshiba Machine Company, Ltd. High-accuracy traveling table apparatus
US4705369A (en) 1986-03-21 1987-11-10 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Mirror mount
US4722592A (en) 1986-12-29 1988-02-02 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Motorized-axis-angular fine adjustment prism mount
US4740276A (en) 1987-05-08 1988-04-26 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Fabrication of cooled faceplate segmented aperture mirrors (SAM) by electroforming
US4849668A (en) 1987-05-19 1989-07-18 Massachusetts Institute Of Technology Embedded piezoelectric structure and control
AT393925B (de) 1987-06-02 1992-01-10 Ims Ionen Mikrofab Syst Anordnung zur durchfuehrung eines verfahrens zum positionieren der abbildung der auf einer maske befindlichen struktur auf ein substrat, und verfahren zum ausrichten von auf einer maske angeordneten markierungen auf markierungen, die auf einem traeger angeordnet sind
US4932778A (en) 1987-06-22 1990-06-12 Pioneer Data Processing, Inc. Autokinesis free optical instrument
US4865454A (en) 1987-11-24 1989-09-12 Kaman Aerospace Corporation Adaptive optical system with synchronous detection of wavefront phase
US4826304A (en) 1988-04-11 1989-05-02 Gte Government Systems Corporation Adjustable optical mounting assembly
US4932770A (en) 1988-12-20 1990-06-12 Caravaty Raymond D Dual plane rear vision mirror
US5026977A (en) 1989-04-05 1991-06-25 The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. Wavefront sensing and correction with deformable mirror
AU629648B2 (en) * 1989-06-13 1992-10-08 Nippon Telegraph & Telephone Corporation Hermetically coated optical fiber and production of the same
US4959531A (en) 1989-09-29 1990-09-25 Eastman Kodak Company Alignment sensing and correcting assembly for an optical element
FR2656079B1 (fr) 1989-12-20 1994-05-06 Etat Francais Delegue Armement Lunette episcopique modulable et reconfigurable.
US5074654A (en) 1990-08-22 1991-12-24 Litton Systems, Inc. Hydraulic actuators for optical systems
US5079414A (en) 1990-10-09 1992-01-07 Gte Government Systems Corporation Tracking telescope using an atomic resonance filter
NL9100421A (nl) 1991-03-08 1992-10-01 Asm Lithography Bv Ondersteuningsinrichting met een kantelbare objecttafel alsmede optisch lithografische inrichting voorzien van een dergelijke ondersteuningsinrichting.
US5132979A (en) 1991-08-16 1992-07-21 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Laser frequency modulator for modulating a laser cavity
US5428482A (en) 1991-11-04 1995-06-27 General Signal Corporation Decoupled mount for optical element and stacked annuli assembly
US5157555A (en) 1991-12-04 1992-10-20 General Electric Company Apparatus for adjustable correction of spherical aberration
US5210650A (en) 1992-03-31 1993-05-11 Eastman Kodak Company Compact, passively athermalized optical assembly
US5438451A (en) 1992-09-25 1995-08-01 Schweizer; Bruno Linearly fine-adjustable stage
US5400184A (en) 1992-10-29 1995-03-21 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Kinematic high bandwidth mirror mount
US5414557A (en) 1992-11-30 1995-05-09 Itt Corporation Reticle apparatus for night vision devices
US6252334B1 (en) 1993-01-21 2001-06-26 Trw Inc. Digital control of smart structures
US5485053A (en) 1993-10-15 1996-01-16 Univ America Catholic Method and device for active constrained layer damping for vibration and sound control
US5537262A (en) 1993-10-19 1996-07-16 Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha Rotational torque setting apparatus for screw mechanism
JP2891074B2 (ja) 1993-12-10 1999-05-17 三菱電機株式会社 反射鏡固定装置
US6154000A (en) 1994-09-07 2000-11-28 Omnitek Research & Development, Inc. Apparatus for providing a controlled deflection and/or actuator apparatus
US5529277A (en) 1994-09-20 1996-06-25 Ball Corporation Suspension system having two degrees of rotational freedom
DE69529442T2 (de) 1994-09-22 2003-11-20 Ricoh Co., Ltd. Informationsaufzeichnungsverfahren und -vorrichtung
US6341006B1 (en) 1995-04-07 2002-01-22 Nikon Corporation Projection exposure apparatus
US5870133A (en) 1995-04-28 1999-02-09 Minolta Co., Ltd. Laser scanning device and light source thereof having temperature correction capability
US5724017A (en) 1995-07-31 1998-03-03 General Electric Company Electrical transformer with reduced core noise
JPH09152505A (ja) 1995-11-30 1997-06-10 Sharp Corp 変形可能ミラー及びその製造方法及び光学装置並びに記録再生装置
US5694257A (en) 1996-05-06 1997-12-02 New Focus, Inc. Rotary beamsplitter prism mount
JPH1020197A (ja) * 1996-06-28 1998-01-23 Nikon Corp 反射屈折光学系及びその調整方法
US5894370A (en) * 1996-07-26 1999-04-13 Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha Inclination monitoring system
JPH1054932A (ja) * 1996-08-08 1998-02-24 Nikon Corp 投影光学装置及びそれを装着した投影露光装置
US6144511A (en) 1996-08-26 2000-11-07 Fujitsu Denso Ltd. Optical device fixing device
JP3695494B2 (ja) 1996-11-13 2005-09-14 セイコーエプソン株式会社 光変調デバイス、その製造方法および表示装置
US5891317A (en) 1997-02-04 1999-04-06 Avon Products, Inc. Electroformed hollow jewelry
US6128122A (en) 1998-09-18 2000-10-03 Seagate Technology, Inc. Micromachined mirror with stretchable restoring force member
JPH10282392A (ja) * 1997-04-08 1998-10-23 Asahi Optical Co Ltd プラスチックレンズ
JP4534260B2 (ja) 1997-07-22 2010-09-01 株式会社ニコン 露光方法、露光装置、その製造方法及び光洗浄方法
DE19735831A1 (de) 1997-08-18 1999-02-25 Zeiss Carl Fa Galvanoplastische Optik-Fassung
US6208407B1 (en) * 1997-12-22 2001-03-27 Asm Lithography B.V. Method and apparatus for repetitively projecting a mask pattern on a substrate, using a time-saving height measurement
US6054784A (en) 1997-12-29 2000-04-25 Asm Lithography B.V. Positioning device having three coil systems mutually enclosing angles of 120° and lithographic device comprising such a positioning device
JPH11224839A (ja) 1998-02-04 1999-08-17 Canon Inc 露光装置とデバイス製造方法、ならびに該露光装置の光学素子クリーニング方法
JP3278407B2 (ja) 1998-02-12 2002-04-30 キヤノン株式会社 投影露光装置及びデバイス製造方法
DE19807120A1 (de) 1998-02-20 1999-08-26 Zeiss Carl Fa Optisches System mit Polarisationskompensator
US6108121A (en) 1998-03-24 2000-08-22 The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University Micromachined high reflectance deformable mirror
DE19825716A1 (de) 1998-06-09 1999-12-16 Zeiss Carl Fa Baugruppe aus optischem Element und Fassung
US5986795A (en) 1998-06-15 1999-11-16 Chapman; Henry N. Deformable mirror for short wavelength applications
AU4061099A (en) 1998-06-17 2000-01-05 Nikon Corporation Exposure method and exposure apparatus
US5986827A (en) 1998-06-17 1999-11-16 The Regents Of The University Of California Precision tip-tilt-piston actuator that provides exact constraint
TWI242113B (en) 1998-07-17 2005-10-21 Asml Netherlands Bv Positioning device and lithographic projection apparatus comprising such a device
FR2783055B1 (fr) 1998-09-04 2000-11-24 Essilor Int Support pour lentille optique, et son procede de mise en oeuvre
US6521892B2 (en) 1998-10-09 2003-02-18 Thomson-Csf Optronics Canada Inc. Uncooled driver viewer enhancement system
US6856392B1 (en) * 1998-11-09 2005-02-15 Canon Kabushiki Kaisha Optical element with alignment mark, and optical system having such optical element
US6296811B1 (en) 1998-12-10 2001-10-02 Aurora Biosciences Corporation Fluid dispenser and dispensing methods
DE19859634A1 (de) 1998-12-23 2000-06-29 Zeiss Carl Fa Optisches System, insbesondere Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie
JP2001044116A (ja) 1999-01-20 2001-02-16 Asm Lithography Bv 光学補正板、およびリソグラフィ投影装置でのその応用
DE19904152A1 (de) 1999-02-03 2000-08-10 Zeiss Carl Fa Baugruppe aus einem optischen Element und einer Fassung
JP2000234906A (ja) 1999-02-15 2000-08-29 Koji Masutani 反射部材移動装置および前記反射部材移動装置を使用する光路長周期的増減装置
DE19908554A1 (de) 1999-02-27 2000-08-31 Zeiss Carl Fa Verstellbare Baugruppe
DE19910947A1 (de) 1999-03-12 2000-09-14 Zeiss Carl Fa Vorrichtung zum Verschieben eines optischen Elementes entlang der optischen Achse
EP1041588B1 (de) 1999-03-29 2002-05-29 ABB T&amp;D Technologies Ltd. Geräuscharmer Transformator
US6594204B1 (en) 1999-03-31 2003-07-15 Sony Corporation Lens holder, method for manufacturing lens holder, metal die for producing lens holder and objective lens device
US6428173B1 (en) 1999-05-03 2002-08-06 Jds Uniphase, Inc. Moveable microelectromechanical mirror structures and associated methods
US6246822B1 (en) 1999-05-18 2001-06-12 The Boeing Company Fiber-coupled receiver and associated method
US6160628A (en) * 1999-06-29 2000-12-12 Nikon Corporation Interferometer system and method for lens column alignment
DE19930643C2 (de) 1999-07-02 2002-01-24 Zeiss Carl Baugruppe aus einem optischen Element und einer Fassung
TW442783B (en) 1999-07-09 2001-06-23 Ind Tech Res Inst Folding mirror
JP2001110710A (ja) 1999-10-08 2001-04-20 Nikon Corp 露光装置、露光方法、および半導体デバイスの製造方法
US6478434B1 (en) 1999-11-09 2002-11-12 Ball Aerospace & Technologies Corp. Cryo micropositioner
JP4482990B2 (ja) 1999-12-10 2010-06-16 株式会社ニコン レンズ保持枠及びレンズ鏡筒
TW522460B (en) 2000-03-30 2003-03-01 Nikon Corp Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
US6411426B1 (en) 2000-04-25 2002-06-25 Asml, Us, Inc. Apparatus, system, and method for active compensation of aberrations in an optical system
DE10026541A1 (de) 2000-05-27 2001-11-29 Zeiss Carl Vorrichtung zur präzisen Positionierung eines Bauteils, insbesondere eines optischen Bauteiles
DE10030005A1 (de) 2000-06-17 2001-12-20 Zeiss Carl Objektiv, insbesondere Projektionsobjektiv in der Halbleiter-Lithographie
KR100493151B1 (ko) 2000-07-19 2005-06-02 삼성전자주식회사 멀티폴디스 스프링을 이용한 다축 구동을 위한싱글스테이지 마이크로 구동기
US6566627B2 (en) 2000-08-11 2003-05-20 Westar Photonics, Inc. Laser method for shaping of optical lenses
AU2001277758A1 (en) 2000-08-18 2002-03-04 Nikon Corporation Optical element holding device
JP4019160B2 (ja) 2000-08-21 2007-12-12 富士フイルム株式会社 遠隔操作システム
US6537479B1 (en) 2000-08-24 2003-03-25 Colbar Art, Inc. Subsurface engraving of three-dimensional sculpture
DE10048188A1 (de) 2000-09-28 2002-04-11 Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh Selbstverriegelnde Schaltungsanordnung
DE10051706A1 (de) 2000-10-18 2002-05-02 Zeiss Carl Vorrichtung zur Lagerung eines optischen Elementes
DE10053899A1 (de) 2000-10-31 2002-05-08 Zeiss Carl Vorrichtung zur Lagerung eines optischen Elementes
DE10115914A1 (de) 2001-03-30 2002-10-02 Zeiss Carl Vorrichtung zur Lagerung eines optischen Elementes in einer Optik
DE10200366A1 (de) 2002-01-08 2003-07-17 Zeiss Optronik Gmbh Mehrkanalempfängersystem für winkelaufgelöste Laserentfernungsmessung
US6729062B2 (en) 2002-01-31 2004-05-04 Richard L. Thomas Mil.dot reticle and method for producing the same

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109324382A (zh) * 2018-09-19 2019-02-12 北京空间机电研究所 一种基于经纬仪的高精度平面反射镜装调方法
CN109324382B (zh) * 2018-09-19 2021-03-26 北京空间机电研究所 一种基于经纬仪的高精度平面反射镜装调方法

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Publication number Publication date
JP2004537074A (ja) 2004-12-09
WO2003012529A3 (de) 2004-01-08
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WO2003012529A2 (de) 2003-02-13
US7123427B2 (en) 2006-10-17

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