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DE1010201B - Verfahren und Vorrichtung zum Bestrahlen von Materie mit einem Elektronenstrahl - Google Patents

Verfahren und Vorrichtung zum Bestrahlen von Materie mit einem Elektronenstrahl

Info

Publication number
DE1010201B
DE1010201B DEH12800A DEH0012800A DE1010201B DE 1010201 B DE1010201 B DE 1010201B DE H12800 A DEH12800 A DE H12800A DE H0012800 A DEH0012800 A DE H0012800A DE 1010201 B DE1010201 B DE 1010201B
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
electron beam
matter
scanning
movement
electron
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DEH12800A
Other languages
English (en)
Inventor
Ernest Alfred Burrill Jun
Denis Morell Robinson
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
High Voltage Engineering Corp
Original Assignee
High Voltage Engineering Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by High Voltage Engineering Corp filed Critical High Voltage Engineering Corp
Publication of DE1010201B publication Critical patent/DE1010201B/de
Pending legal-status Critical Current

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    • AHUMAN NECESSITIES
    • A23FOODS OR FOODSTUFFS; TREATMENT THEREOF, NOT COVERED BY OTHER CLASSES
    • A23BPRESERVATION OF FOODS, FOODSTUFFS OR NON-ALCOHOLIC BEVERAGES; CHEMICAL RIPENING OF FRUIT OR VEGETABLES
    • A23B11/00Preservation of milk or dairy products
    • A23B11/10Preservation of milk or milk preparations
    • A23B11/16Preservation of milk or milk preparations by irradiation, e.g. by microwaves
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A23FOODS OR FOODSTUFFS; TREATMENT THEREOF, NOT COVERED BY OTHER CLASSES
    • A23BPRESERVATION OF FOODS, FOODSTUFFS OR NON-ALCOHOLIC BEVERAGES; CHEMICAL RIPENING OF FRUIT OR VEGETABLES
    • A23B2/00Preservation of foods or foodstuffs, in general
    • A23B2/50Preservation of foods or foodstuffs, in general by irradiation without heating
    • A23B2/503Preservation of foods or foodstuffs, in general by irradiation without heating with corpuscular or ionising radiation, i.e. X, alpha, beta or omega radiation
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/08Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
    • B01J19/081Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing particle radiation or gamma-radiation
    • B01J19/085Electron beams only
    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21KTECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K1/00Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
    • G21K1/08Deviation, concentration or focusing of the beam by electric or magnetic means
    • G21K1/093Deviation, concentration or focusing of the beam by electric or magnetic means by magnetic means
    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21KTECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K5/00Irradiation devices
    • G21K5/10Irradiation devices with provision for relative movement of beam source and object to be irradiated
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
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Description

  • Verfahren und Vorrichtung zum Bestrahlen von Materie mit einem Elektronenstrahl Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Bestrahlen von Materie mit einem Elektronenstrahl zur Erzeugung chemischer Umwandlungen in dieser Matene.
  • Erfindungsgemäß erfolgt eine schnelle Abtastung der Materie mit einem Elektronenstrahl von hoher Energie und hoher Intensität, der zweckmäßig kontinuierlich ist.
  • Verfaihren und Vorrichtung nach der Erfindung sind zum Sterilisieren von Lebensmitteln, Arzneimitteln und anderen Stoffen oder zur Erzielung bestimmter chemischer Umwandlungen in dem Stoff besonders geeignet. Durch die schnelle Abtastung des Stoffes mit einem kontinuierlichen Elektronenstrahl von hoher Energie wird die augenblickliche Ionisationsdichte vergrößert und dadurch eine nachteilige Wirkung auf die Eigenschaften der bestrahlten Stoffe vermieden.
  • Die Erfindung schafft auch die Möglichkeit zur Regelung der Steril i sationswirkung eines Elektronenstrahles kleinen Querschnittes und hoher Ladungsdichte mittels der Abtastbewegung, durch die der Elektronenstrahl veranlaßt wird, schnell zu kippen und dadurch die erforderliche Gesamtdosierung mit der maximalen, augenblicklich auftretenden Ionisationsdichte zu liefern, aber gleichzeitig in den Lebensmitteln, Arzneimitteln oder anderen Substanzen erwünschte Eigenarten des Geschmacks, der Farbe, des Nährwertes und derWirksamkeit zu erhalten. Die Dosis wird in verhältnismäßig kurzer Zeit und mit großer Intensität an einem gegebenen Punkt auf die zu sterilisierende Substanz gestrahlt.
  • Die Erhaltung der genannten Eigenschaften oder Merkmale hinsichtlich Geschmack, Farbe, Nährwert und Wirksamkeit während der Durchführung der erforderlichen Sterilisierung ist ein wesentliches Merkmal der Erfindung. Das Ergebnis besteht darin, daß durch Verwendung eines Elektronenstrahles, der eine äußerst hohe, kurzzeitige Ionisationsdichte an jedem Teil der Substanz hervorruft. das Ausmaß der chlemischen Umwandlungen verringert wird, die zur Veränderung der geschmacklichen, den Nährwert betreffenden oder medizinischen Eigenschaften führen können.
  • Bei der Anwendung der Erfindung wird ein beliebiger konzentrierter Elektronenstrom hoher Energie benutzt. Obgleich in den Zeichnungen, wenn auch mehr oder weniger schematisch, bestimmte Ausführungsformen von Teilen des Van de Graaffschen elektrostatischen Hochspannungsgenerators dargestellt und kurz beschrieben sind, ist die Erfindung keineswegs hinsichtlich der praktischen Durchführung auf die Anwendung dieser Generatoren beschränkt. Das hier erläuterte Abtastverfahren, das eine sogenannte Kippbewegung umfaßt, wird immer mit Vorteil da verwendet, wo Elektronenstrahlen hoher Energie in einem kleinen Querschnitt von beispielsweise 25,4 mm Durchmesser oder weniger erhalten werden können.
  • Das beschriebene Abtastverfahren ist insbesondere vorteilhaft, wenn der Elektronenstrahl einen sehr geringen Querschnitt, beispielsweise einen Durchmesser von 6,35, 3,18 mm oder weniger hat. Außerdem braucht der Elektronenstrahl, der bei der praktischen Durchführung der Erfindung benutzt wird, nicht zeitlich ununterbrochen verfügbar zu sein, d. h. der Strahl kann nur für jede positive Periode einer Welle vorhanden sein, so daß das Abtastverfahren nur während solcher positiver Perioden angewandt wird. Es wird hierbei nicht die Anwendung eines Abtastverfahrens oder einer Abtastbewegung in Geräten erläutert, in denen ein Elektronenstrahl nur in kurzen Impulsen verfügbar ist, die beispielsweise nur den Bruchteil einer Millisekunde dauern.
  • Die Erfindung wird am zweckmäßigsten im Rahmen einer Technik verwendet, die mit Hochspannungsgleichstrom aus konstanten Hochspannungsgleichstromquellen und nicht mit Impulsen oder Spannungsstößen arbeitet.
  • Die Richtungsänderung des austretenden Elektronenstrahles kann in bekannter Weise durch ein elektrostatisches oder magnetisches Feld erreicht werden, bevor der Strahl hoher Intensität durch das Fenster der Beschleunigungsröhre austritt, wobei jedoch beim Gegenstand der Erfindung das Fenster in der Abtastvorrichtung des hochintensiven Elektronenstrahles stark verlängert ist. Ein solches Fenster bildet einen von dünner Aluminiumfolie bedeckten, schmalen Schlitz oder wird als solcher ausgebildet, wobei für Abführung der Wärme gesorgt ist, die durch den Durchgang des Elektronenstrahles durch das Fenster erzeugt wird. Dies wird leichter bewirkt durch Hin-und Herbewegung des Elektronenstrahles längs des Schlitzes, als wenn der Elektronenstrahl ununterbrochen mit der sich ergebenden starken Erwärmung durch die kleine Fensterfläche hindurchgeht. Die Anwendung des Abtastvorganges, bevor der Elektronenstrahl hoher Intensität durch das Fenster der Beschleunigungsröhre aus tritt, unabhängig von der Form und dem Material des Fensters und der Art der Beschleunigungsröhre, und die Form des unteren Endteiles der Beschleunigungsröhre sind ebenso wie die Vorrichtung zur Abkühlung des verlängerten Fensters wesentliche und vorteilhafte Merkmale der weiteren Ausgestaltung der Erfindung.
  • Das Ziel bei der Sterilisierung von Lebens- und Arzneimitteln besteht darin, bestimmte Organismen unwirksam zu machen, ohne jedoch unerwünschte Änderungen des Geschmacks, der den Nährwert betreffenden oder der medizinischen Eigenschaften hervorzurufen. Dies wird erfindungsgemäß am besten erreicht, wenn sich die kleinstmöglichen ionisierenden Wirkungen aus der Anwendung der erforderlichen Sterilisierungsdosis ergeben.
  • Außerdem hat die Anwendung der Erfindung gezeigt, daß viele Änderungen des Geschmacks, des Nährwertes oder der medizinischen Eigenschaften verhindert werden können, wenn die Materialien und die erwähnten Substanzen der Sterillisierungswirkung eines Elektronenstrahles extremer Intensität in Ubereinstimmung mit der Erfindung unterworfen werden. Es werden nicht nur Änderungen des Geschmacks und der Wirksamkeit, sondern gleichzeitig auch die Anforderungen der Bestrahlungsdosis bei wenigstens einigen der Organismen vermindert, die in dem Material und den Substanzen vorhanden sind, die der Sterilisierungswirkung eines Elektronenstrahles extremer Intensität ausgesetzt sind.
  • Die Erfindung ermöglicht auch die Erzielung einer erhöhten oder maximalen Ergiebigkeit chemischer Reaktionen in einer Substanz durch die unmittelbare, ununterbrochene Wirkung eines intensiven Strahles von Hochspannungselektronen. Auf diese Weise gelangt die Gesamtdosierung des Elektronenstrahles in verhältnismäßig kurzer Zeit und mit einer großen Intensität an einen gegebenen Punkt des Materials oder der Substanz, wodurch eine vergrößerte prozentuale Ausbeute der chemischen Reaktionen mit einem Minimum an chemischer Wirkung infolge der mit geringer Energie ioni si erten Teilchen erhalten wird.
  • Bei der Durchfiihrung dieses Verfahrens stoßen einige Hochspannungselektronen unmittelbar mit den inneren, enger gebundenen Elektronen der Atome zusammen, zusätzlich zu dem Bombardement der äußeren oder Valenzelektronen der Atome. Als Ergebnis eines solchen Beschusses werden einige kreisende Elektronen der Atome aus ihren Bahnen geschleudert, so daß solche Atome neue Kombinationen miteinander und mit benachbarten Atomen bilden können. Beispiel weise können zwischenmolekulare Atome gegenseitig voneinander getrennt werden, so daß sie mit anderen benachbarten Atomen wiederum neue Moleküle bilden können.
  • Es sind bereits Verfahren zum Bestrahlen von Materie mit gebündelten, relativ zum Bestrahlungsgut bewegten Elektronenstrahlen bekanntgeworden, bei denen aber entweder keine schnelle Abtastung mit einem kontinuierlichen Elektronenstrahl von hoher Energie oder aber nur eine mechanisch verschiebbare Elektronenquelle angewandt wird.
  • In einer anderen bekannten Vorrichtung wird ein feingebündelter konzentrierter Elektronenstrahl auf einen spezifischen Teil einer lebenden organischen Zelle gerichtet.
  • Ein besonderer Nachteil der genannten Verfahren und Vorrichtungen, soweit diese nicht überhaupt auf die Lösung einer anderen Aufgabe als die Erfindung gerichtet sind, ist das Auftreten von unerwünschten Nebenwirkungen. Auch ist eine genaue Dosierung der Strahlung schwierig oder überhaupt nicht durchführbar. Diese Nachteile werden durch die Erfindung beseitigt. Außerdem wird durch das Verfahren und die Vorrichtung nach der Erfindung die Ergiebigkeit vieler chemischer Reaktionen erhöht, und örtlich gesteuerte Reaktionen werden ermöglicht. Auch ist die Anwendung von Wärme unnötig, und es sind auch Bestrahlungen bei sehr niedrigen Temperaturen möglich. Die Vermeidung von Wärme stellt einen wesentlichen Faktor für die Beseitigung der unerwünschten Nebenwirkungen dar.
  • Die Vorrichtung nach der Erfindung hat den besonderen Vorteil, daß sie die Bestrahlung gemäß dem Verfahren nach der Erfindung in industriellem Maßstab in wirtschaftlicher und genau; kontrollierbarer Weise ermöglicht.
  • Nachdem nunmehr die Aufgabe sowie die Hauptmerkmale und wesentlichen Vorteile der Erfindung in allgemeiner Weise dargelegt wurden, werden bestimmte Ausführungsbeispiele der Vorrichtungen beschrieben, mit denen das erwähnte Verfahren durchgeführt werden kann. In der Zeichnung zeigt Fig. 1 eine hauptsächlich im Längsschnitt gegebene schematische Darstellung, welche die Lageänderung der Achse eines Elektronenstrahles extremer Intensität veranschaulicht, nachdem dieser als angenähert paralleler Strahl aus dem unteren Ende der Beschleunigungsröhre. einer Ausführungsform eines Van de Graaffschen elektrostatischen Generators ausgetreten ist, der ziemlich schematisch dargestellt ist; dabei erfolgt die Lageänderung der Achse des Strahles mit extremer Geschwindigkeit, beispielsGveise in Form einer Schwingbewegung mit einer Frequenz von etwa 1000 Hz unter der Wirkung von Wechselstromelektromagneten, d. h. mit einer Abtastung, die parallel zu der Ebene der genannten elektromagnetischen Spulen auftritt, wobei durch einen umgebenden Elektromagneten der Elektronenstrahl eingestellt oder ihm die gewünschte Konvergenz innerhalb der Beschleunigungsröhre erteilt wird, was unter Anwendung einer magnetischen Linse, wie dargestellt, nur bei Gleichstrom und im allgemeinen nicht bei pulsierenden oder Impulssp annungswelienformen durchführbar ist, Fig. 1 A einen senkrechten Schnitt der verwendeten Bauart der Van de Graaffschen Beschleunigungsröhre, Fig. 2 eine der Fig. 1 entsprechende schematische Darstellung, die eine entsprechende Abänderung der Achsenstellung eines Elektronenstrahles extremer Intensität durch die Wirkung der parallelen Elektrodenplatten veranschaulicht, die in oder angenähert in der Zeichenebene liegen und an die Wechselstromhochspannung angelegt ist, wobei die Abtastwirkung rechtwinklig zu der ebenen Oberfläche dieser Elektrodenplatte verläuft, Fig. 3 eine teilweise von der Seite und teilweise als senkrechter Mittel schnitt dargestellte Ansicht einer neuen Ausführung der Van de Graaffschen Beschleunigungsröhre, an der aber durch Flansche oder auf andere Weise ein in weitem Maße nach außen erweitertes unteres Ende angebracht ist, um einen Raum zu schaffen, in dem die Abtastwirkung eines Feldes durch die Wirkung eines Paares von Wechselstromelektromagneten auftritt, bevor der Elektronenstrom durch das Fenster austritt, das infolgedessen in Richtung der Ahtastbewegung des Elektronenstrahles wesentlich verlängert ist, Fig. 3 A eine schematische Einzelteilansicht von der Seite und einen senkrechten Schnitt des unteren Teiles einer Beschleunigungsröhre beliebiger gewünschter Bauart, die aber ein nach außen erweitertes unteres Ende hat, das in einem länglichen, schmalen Fenster endet und Kühlvorrichtungen für ein solches Fenster aufweist, Fig. 3 B einen unteren Grundriß des in Fig. 3 dargestellten langen, schmalen Fensters, Fig. 3C eine schematische Darstellung bestimmter Koordinaten, die sich auf das Gerät nach Fig. 3 beziehen, Fig. 4 eine schematische Ansicht des unteren Endes einer Beschleunigungsröhre beliebiger Bauart, die mit einer Vorrichtung zur Abkühlung eines Fensters nahe dessen unterem Ende versehen ist, Fig. 5 eine teilweise als senkrechter Schnitt dargestellte Seitenansicht des unteren Endes der in Fig. 3 dargestellten Ausführungsform der Beschleunigungsröhre, Fig. 6 eine schematische Ansicht zur Veranschaulichung der Abtast- oder Kippbewegung eines Elektronenstrahles quer zu dem Förderband und der Bewegungsrichtung dieses Bandes, das die hierbei nicht dargestellten I,ebensmittel, Arzneimittel oder anderen Materialien trägt, Fig. 7 eine schematische Ansicht, welche die Abtast- oder Kippwirkung des Elektronenstrahles veranschaulicht und zeigt, wie er nicht nur von einer Seite des Förderbandes zur anderen bewegt wird, sondern auch rechtwinklig, d. h. in Richtung der Vorwärtsbewegung des Förderbandes, durch die Wirkung zweier Gruppen rechtwinklig zueinander angeordneter elektromagnetischer Wechselstromspulen, Fig. 8 eine der Fig. 7 entsprechende schematische Ansicht, die aber die Abtastbewegung darstellt, wie sie in den beiden genannten Richtungen rechtwinklig zueinander durch die Wirkung zweier Gruppen paralleler elektrostatischer Ablenkplatten erzeugt wird, die zwei Wechselspannungssignale von unabhängiger Frequenz und Größe erhalten, Fig. 9 eine schematische Ansicht, welche die Verteilung der Elektronenstrahlen darstellt, die an der Oberfläche des Erzeugnisses quer zum Querschnitt des Elektronenstrahies gemessen wird, Fig. 10 eine schematische Darstellung, welche die Ablenkung des Strahles längs der Bewegungsrichtung des Erzeugnisses und auch quer dazu veranschaulicht, Fig. 11 eine schematische Darstellung, welche den geometrischen Ort der Strahlmitte an der Oberfläche des Erzeugnisses darstellt, Fig. 12 eine schematische Darstellung einer Kombination elektrostatischer und elektromagnetischer Ablenkfelder, die so gerichtet sind, daß die entsprechenden Ablenkkräfte aufeinander senkrecht stehen, und Fig. 13 eine in hohem Grade schematische Darstellung eines Methylalkoholmoleküls, wobei die größeren Kreise die Atome, aus denen das Molekül zusammengesetzt ist, die sehr kleinen Kreise einen Wasserstoffkern, einen Kohlenstoffkern bzw. einen Sauerstoffkern und die Punkte atomische Elektronen veranschaulichen; die ausgezogen gezeichneten Pfeile stellen Bahnen bombardierender Elektronen und die gestrichelt gezeichneten Pfeile die sich ergebenden Bahnen der getroffenen Teilchen dar.
  • In den Fig. 1 und 2 ist ein kleiner weggebrochener Teil einer Ausführungsform der Beschleunigungsröhre eines efektrostatischen Van de Graaffschen Generators, auf dessen Anwendung unsere Erfindung jedoch nicht begrenzt ist, mit der Bezugsziffer 1 bezeichnet. Dieser Generator kann einen dünnen Strahl schneller Elektronen erzeugen, deren Energie in der Größenordnung von mehreren Millionen Volt, wie beispielsweise von 5 oder mehr Millionen Volt, liegen kann. Eine neuere Ausführungsform der Beschleunigungsröhre eines elektrostatischen Van de Graaffschen Generators ist in Fig. 1 A dargestellt und wird im folgenden im einzelnen erläutert, obgleich die Wirkung, soweit es die Erfindung betrifft, im wesentlichen dieselbe ist.
  • Der schnelle Elektronenstrahl, der aus der Kathode der Beschleunigungsröhre t emittiert, ist mit 2 bezeichnet. Die Elektronen des Strahles 2 werden durch den Vakuumbereich der Beschleunigungsröhre 1 in einer Weise beschleunigt, die hier keine eingehende Erklärung erfordert. In der in den Fig. 1, 1A und 2 dargestellten Konstruktion verlaufen sie auf einer geraden Linie oder Bahn und treten durch das Fenster 3 an dessen unterem Ende aus, nachdem sie durch den in den Fig. 1 und 2 mit 3 a bezeichneten Einstellmagneten eingestellt oder gebündelt worden sind.
  • Wie aus den Fig. 1 und 2 ersichtlich ist, ist in geeignetem Abstand unterhalb des Fensters 3 der Beschleunigungsröhre 1 eine geeignete Tragstütze 4 vorgesehen, die unbeweglich sein kann oder die, wie in diesem Fall, eine Fördereinrichtung, beispielsweise ein Förderband, sein kann, das mit geeigneter Geschwindigkeit in Vorwärtsrichtung quer zur Achsenrichtung des Elektronenstrahles 2 angetrieben wird.
  • Diese Bewegung ist so dargestellt, als ob sie in Fig. 1 nach links und in Fig. 2 nach rechts verliefe, wie durch die entsprechenden Pfeile gekennzeichnet. Obgleich die Tragstütze 4 in jedem beliebigen geeigneten Abstand unterhalb des Fensters 3 angeordnet sein kann, ist sie in den Konstruktionen nach den Fig. 1 und 2 so dargestellt, als ob sie einen Abstand von 15 bis 40 cm davon hätte. Da aber ein Elektronenstrahl etwas streut, während er durch Luft verläuft, kann die Länge des Luftweges soweit wie möglich vermindert werden, so daß das Material oder Produkt fast in Berührung mit dem Fenster 3 ist.
  • Eine Streuung tritt immer in dem Fenster einer Beschleunigungsröhre auf, durch das die Elektronen hervortreten. Es ist auch eine Streuung auf jeder Bahn oder Gasbahn vorhanden, durch welche die Elektronen auf ihrem Wege zu dem Erzeugnis auf dem Förderband oder auf einer anderen Unterlage verlaufen müssen, und schließlich ist eine sehr beträchtliche Streuung im Erzeugnis selbst vorhanden. All dies ist hauptsächlich eine elastische Kernstreuung.
  • Die Streuung in einem Gas ist dem Quadrat der Ordnungszahl proportional. Infolgedessen streuen Wasserstoff oder Helium viel weniger als Luft und würden ein bevorzugtes Gas zwischen den noch zu beschreibenden Fenstern in Fig. 4 sein.
  • Wenn die Abtastwirkung wie in der noch zu beschreibenden Fig. 3 oberhalb des Fensters der Elektronenröhre vor sich geht, befindet sich das Erzeugnis unterhalb und in der Nähte des Fensters, wie hier im besonderen dargestellt wird.
  • Das Erzeugnis, der Stoff oder die Substanz, die sterilisiert werden sollen, sind mit 5 bezeichnet, aber infolge des begrenzten Raumes lediglich schematisch dargestellt.
  • Erfindungsgemäß wird eine Vorrichtung zum Abtasten, Hin- und Herbewegen oder Kippen des Elektronenstrahles 2 offenbart, die mit einer äußerst hohen Geschwindigkeit arbeitet, beispielsweise einer Frequenz von 1000 Hz, in bestimmten Fällen sogar mehr. Es ist eine hohe Abtastfrequenz erforderlich, damit eine gleichmäßige Bestrahlung insbesondere in den nahe der Oberfläche des Produktes liegenden Bereichen erzielt wird. Dieses Abtasten, Hin- und Herbewegen oder Kippen des Elektronenstrahles kann in jeder beliebigen geeigneten oder zuverlässigen Weise geschehen, und es sind zwei verschiedene Vorrichtungen für diesen Zweck und bestimmte Abwandlungen dazu dargestellt. In Fig. 1 ist zu diesem Zweck die Schaffung eines Magnetfeldes gezeigt, das rechtwinklig zur Fortpflanzungsrichtung des Elektronenstrahles 2 gerichtet ist. Dieser veranlaßt die Ablenkung des Elektronenstrahles 2 rechtwinklig zu seiner normalen Bahn und zur Richtung des Magnetfeldes mit einer Schwingungsamplitude, die von der Energie der Elektroden und der Intensität des Magnetfeldes abhängt.
  • Die Ablenkung kann klein sein oder auch 50, 60 oder sogar 900 ausmachen. Die Erfindung ist nicht auf irgendeine bestimmte Amplitude der Abtastung oder einer ähnlichen Bewegung beschränkt. In der in Fig. 1 dargestellten Konstruktion sind zwei Wechselstrommagnetspulen oder Magneten 6,7 vorgesehen. Die Achse des Wechselstrommagnetfeldes wird durch die Linie 8 gekennzeichnet. Das Ausmaß der Ausbreitungs-, Kipp-oder Abtastbewegung des Elektronenstrahl es 2 ist durch zwei Linien 9, 10 dargestellt. In beiden Fig. 1 und 2 ist der Abtastwinkel mit etwa 500 gezeichnet.
  • Der Elektronenstrahl 2 wird in einer zur Ebene der Magnetspulen 6, 7 parallelen Richtung abgetastet.
  • Das Magnetfeld wird von einem Wechselstrom erzeugt, der durch die Magnetspulen 6, 7 verläuft. Der Elektronenstrahl führt Schwingungen aus, d. h. es werden ihm Abtastbewegungen um seine normale Strahl lage mit einer Frequenz gegeben, welche die Frequenz des schwingenden Stromes ist, und mit einer Schwingungsamplitude, die von der Stärke des magnetischen Feldes abhängt und nach Belieben geändert werden kann. Die Lage der Magnetspulen oder Magneten 6, 7 ist lediglich schematisch dargestellt, wobei diese die gewünschte Ablenkung des Elektronenstrahles 2 ergeben. Jeder beliebige Grad der Winkeiverschiebung des Elektronenstrahles 2 in der Nachbarschaft des Magnetfeldes bewirkt eine seitliche Bewegung der Mitte des Elektronenstrahles auf dem Erzeugnis 5, deren Größe, wie erwähnt, von der Stärke des Magnetfeldes sowie von dem Abstand des auf der Tragstütze 4 befindlichen Erzeugnisses 5 von dem Magnetfeld abhängt. Eine oder mehrere Magnetspulen können verwendet werden, um den gewünschten Zweck zu erzielen.
  • Wie in Fig. 2 dargestellt, sind die Beschleunigungsröhre 1, der Elektronenstrahl 2 und das Fenster 3 der Röhre, die Tragstütze 4 und das Erzeugnis 5 so dar- gestellt wie in Fig. 1. Der Elektronenstrahl 2 ist in Fig. 2 schematisch dargestellt, derart, daß er von einem elektrostatischen Wechselfeld rechtwinklig zur Fortpflanzungsrichtung des Elektronenstrahles 2 abgelenkt wird. Zu diesem Zweck ist in Fig. 2 ein Paar paralleler leitender Platten 12, 13 dargestellt, die voneinander gut isoliert sind und denen eine hohe Wechselspannung aufgedrückt ist. Es können aber auch andere in geeigneter Weise geformte und angeordnete Elektroden sein. Wie in dem Fall der in Fig. 1 dargestellten elektromagnetischen Ablenkung hängt die Verschiebungsamplitude der Elektronenstrahlmitte von der Größe der hohen Wechselspannung und von dem Abstand des Erzeugnisses 5 von dem elektrostatischen Feld ab, und es kann in geeigneter Weise die Vers chiebungs amplitude des Elektronenstrahlzentrums im Rahmen der Erfindung geändert werden. Die Achse des Elektronenstrahles in Fig. 2 ist durch die Linie 2 gekennzeichnet. Das Maß der Ausbreitungs-, Kipp- oder Abtastbewegung des Elektronenstrahles ist mit ungefähr 500 durch zwei geneigte Geraden 15, 16 dargestellt. Die Achse des elektrischen Wechselfeldes ist durch die horizontale Linie 14 gekennzeichnet, die sich quer über beide Platten 12 und 13 erstreckt.
  • Mit Bezug auf die Fig. 1 und 2 zeigt die Fig. 1 schematisch die Ausbreitung oder Streuung der Elektronenstrahlachse bei Anwendung eines magnetischen Wechselfeldes und Fig. 2 die Ausbreitung oder Streuung des Elektronenstrahles durch die Wirkung paralleler Platten mit diesen aufgedrückter hoher Wechselspannung.
  • In Fig. 1A ist eine neue Bauart der Beschleunigungsröhre 1 der Van de Graaffschen Ausführungsart dargestellt, die bei der Durchführung der Erfindung verwendet werden kann und zweckmäßig verwendet wird.
  • Es ist hierbei in der Fig. 1A nicht dargestellt, daß eine Anode am unteren Röhrenende vorhanden ist. Es ist selbstverständlich, daß bei Verwendung der in Fig. 1 A dargestellten Ausführungsform der Beschleunigungsröhre die Anode von einem Fenster ersetzt wird, das dem Fenster 3 in den Fig. 1 und 2 entspricht. Auch in Fig. I A kann. ein Fenster in einer länglichen, schmalen oder schlitzartigen Ausführungsform verwendet werden, wie in anderen Figuren erläutert ist und auf die noch im besonderen Bezug genommen wird.
  • Innerhalb des Rahmens der Erfindung kann die Schwingungsfrequenz des Elektronenstrahl es sehr großer Intensität in geeigneter Weise in Übereinstimmung mit den besonderen Erfordernissen eines jeden Falles geändert werden. Auch kann der Charakter der Schwingung abgeändert werden. Sie kann beispielsweise Sägezahnform haben oder in. einer beliebig verwickelten Bahn von Kreisen, Bögen oder Zickzacklinifen verlaufen.
  • Gemäß einem Darstellungsbeispiel kann sie eine Frequenz von 60 Hz haben, wobei 120 Kippschwingungen des hochintensiven Elektronenstrahles je Sekunde erzeugt werden. Der Strahlenkippabstand kann in diesem Beispiel 15 cm ausmachen. Die Bestrahlungszeit für jeden Teil des Erzeugnisses kann in folgender Weise erhalten werden: Lineare Abtastgeschwindigkeit .................. 15.120 cm = 1,80.103 cm . s s Zeitverbrauch durch den Strahl beim Durchqueren einer »Brennflecklänge«, wobei angenommen wird, 1 s daß die »Brennflecklänge« gleich 1 cm ist ...... 1 . s = angenähert 112 10 s.
  • 1,8 102 cm Im Hinblick auf den Begriff »Brennflecklänge« und auf Fig. 6 der Zeichnungen (vor der genauen Beschreibung der Fig. 3 und den anderen Figuren) wurde bei der Beschreibung der Fig. 1 und 2 auf die Tragstütze 4 als einer Fördereinrichtung, beispielsweise eines Bandes, Bezug genommen, das mit geeigneter Geschwindigkeit in Vorwärtsrichtung quer zurAchsenrichtung des Elektronenstrahles 2 angetrieben wird.
  • In Fig. 6 ist die Fördereinrichtung als ein Band 9L dargestellt, welches das Erzeugnis in Richtung des daran angebrachten Pfeiles trägt. Die Abtast- oder Kippwirkung wird von einer Seite zur anderen quer zu dem Band 4 bewirkt, wie durch die darauf befindlichen Querlinien 18 angegeben. Der Elektronenstrahl von der Beschleunigungsröhre 1 oder einer anderen verwendeten Beschleunigungsröhre schließt die Oberfläche des zu sterilisierenden Materials in einem kleinen, mit 19 bezeichneten Kreis ein, dessen Abmessung in Richtung der Abtastbewegung als »Brennflecklänge« und dessen Abmessung in der Bewegungsrichtung des Bandes 4 und des darauf befindlichen Materials als die »Brennfleckbreite« bezeichnet wird.
  • Häufig werden diese beiden Abmessungen gleich sein, was aber nicht unbedingt der Fall sein muß.
  • Unter den Regriff »Brennflecl;länge« wird, wie dargestellt, die Länge der sehr kleinen Fläche in Richtung der Abtastbewegung auf der oberen Fläche des behandelten Erzeugnisses, Stoffes oder Materials, die in einer sehr kurzen Zeitperiode von dem Elektronenstrahl durchdrungen wird, verstanden. Falls die »Brennflecl;länge« nur 1/2 cm ausmacht, würde der Zeitverbrauch durch den Elektronenstrahl bei einem 60-Hz-Wechselfeld 1/4 10-Is anstatt 1/2. 1F3s in dem unmittelbar vorher gegebenen Beispiel ausmachen. Bei Anwendung von einer Frequenz von 1000 Hz, wie sie erfindungsgemäß benutzt werden kann, wird der Zeitverbrauch des Elektronenstrahles zur Durchquerung einer »Brennfleclilänge« von einem Zentimeter des behandelten Erzeugnisses in der Größenordnung von 10-4 bis 10-s sein. Wie dargestellt, kann auch eine etwas höhere Abtastfrequenz benutzt werden.
  • Bei der praktischen Durchführung der Erfindung svird eine Kippfrequenz quer zu dem das Erzeugnis tragenden Band in einem solchen Verhältnis zu der »Brennflec!ibreite« gezählt, daß bei Vorwärtsbewegung des Erzeugnisses jeder Teil des Erzeugnisses mit Elektronen beliefert wird.
  • Bei der Abtastung braucht es sich, wie bereits erwähnt, nicht um einen genauen Schwingungs- oder Wech selschwingungsvorgang zu handeln. Beispielsweise ist es möglich, daß der Elektronenstrahl nur in einer Richtung abtastet, etwa von links nach rechts quer zu dem Band oder einer anderen Fördereinrichtung, und daß er von einem anderen Alechanismus während der Zeit abgeschaltet wird, in der die Ableiikvorrichtung für den Elektronenstrahl in ihren Anfangszustand zurückkebrt, und der Elektronenstrahl kann wie erwähnt, die Substanz oder das Material in jeder beliebigen, verwickelten Bahn überstreichen.
  • Wichtige Merkmale der Erfindung sind, daß erstens die erforderliche Gesamtdosierung mit der größten, augenblicklich auftretenden Ionisationsdichte geliefert und zweitens diese erforderliche Dosierung nacheinander in allen Teilen des Materials durch eine Abtastwirkung erzeugt wird.
  • In Fig. 3 und in der Seitenansicht nach Fig. 5 ist bei 20 der untere Endteil einer neuen Bauart einer Bescbl eunigungsröhre eines elektrostatischen Van de Graaftschen Generators dargestellt. Diese Beschleunigungsröhre kann sonst der Röhre nach den Fig. l und 2 oder 1 A mit der Ausnahme entsprechen, daß das untere Ende der Beschleunigungsröhre 20 als bei 21 merklich nach außen in Fig. 3 nach links und rechts, d. h. in zwei entgegengesetzten Richtungen erweitert dargestellt ist, so daß es in der einen Richtung einen Querschnitt stark verlängerter Längsausdehnung hat, wie dargestellt, aber die Breite des erweiterten Teiles ungefähr dieselbe ist wie der normale Durchmesser der Beschleunigungsröhre oberhalb des erweiterten Teiles; er kann aber auch geringer sein. Der erweiterte Teil 21 endet an seinem äußeren, unteren Ende in einem Fenster 22, das als langer schmaler Schlitz ausgebildet und mit einer dünnen Aluminiumfolie bedeckt ist. Ein solches Fenster muß den atmosphärischen Druck auf der Außenseite gegen das Vakuum auf der Innenseite abstützen. Dies wird durch die Schmalheit des Schlitzes und die Auflage gewährleistet, die von den in geringem Abstand voneinander befindlichen Längsseiten des Rahmens gebildet wird.
  • Die Länge des Fensters 22 ist vorzugsweise so gez. ählt, daß dem Elektronenstrahl innerhalb des erweiterten Teiles 21 eine Abtast- oder Kippbewegung erteilt werden kann, die sich über 500 oder mehr, im Bedarfsfall bis zu 900, erstreckt. Zu diesem Zweck werden Magnetspulen 23 und 24 in der Art der Spulen 6 und 7 der Fig. 1 oder parallele leitende Platten entsprechend den Platten 12 und 13 in Fig. 2 oder andere geeignet ausgebildete Elektroden verwendet. Vorzugsweise werden die magnetischen Spulen oder leitenden Platten so klein ausgebildet, daß sie in geeigneter Weise innerhalb des erweiterten Teiles 21 angeordnet werden können. Dadurch ergibt sich eine enge Kupplung mit dem Elektronenstrahl, und demgemäß vermindert sich die erforderliche AblenL-kraft. Auch dient das Material der Vakuumwand auf diese Weise als eine Abschirmung gegen äußere Streufelder.
  • Doch kann, wie in den Fig. 3 und 5 dargestellt, die n?agnetisdle Rblenkung- durch Anordnung voll onMagnetspulen und/oder Eisenkernen 23 oder 24 oder parallele leitende Platten vorgenommen werden, die sich gänzlich außerhalb der Vakuumkammer der Beschleunigungsröhre befinden. In Fig.3C, die nur das ohere Ende des erweiterten Teiles 21 zeigt, divergieren die drei Pfeile X, Y, Z von einem Punkt aus, um die üblichen drei zueinander senkrechten Koordinaten darzustellen. Der Elektronenstrahl muß durch die vorher erläuterte Vorrichtung in einer dünnen Linie längs der Achse eingestellt und abgelenkt werden und hat eine sehr kleine Ausdehnung in Richtung der Z-Achse.
  • Der Elektronenstrahl bewegt sich längs der X-Achse uild somit quer zur Richtung des SIagnetfeldes, das längs der Z-Achse vorgesehen ist, und der »Brennileck« (vgl. Fig. 6) wird in Vor- und Rückwärtsrichtung längs der Achse abgelenkt.
  • Es ist lediglich erforderlich, daß das magnetische Feld über einem ausreichenden Teil der Beschleunigungsröhre vorhanden ist, d. h. jiber dem Teil, der sich unterhalb der zylindrischen Wand befindet, die aus metallischen Elektrodenscheiben und Isolierungen zusammengesetzt ist. Bevorzugt hestehen die Seitenwände, welche das erweiterte untere Ende der Beschlennigungsröbre bilden, aus nichtmagnetischem '.laierial, beispielsweise Aluminium, und die Polflächen der Eisenkern falls solche verwendet werden, hefinden sich so dicht wie möglich an den beiden einander gegenüberliegenden Flächen des erweiterten unteren Endes 21 der Beschleulligungsröllre 1. Um Wirbelstromverluste in den Seitenwänden des erweiterten unteren Endteiles 21 der Beschleunigungsröhre 1 zu vermindern, kann der dem magnetischen Fluß unterworfene Querschnitt oder Teil der Be schleunigungsröhre aus einem Kunststoff hergestellt werden, der vakuumdicht angebracht wird. Solange der Elektronenstrahl durch das magnetische Feld verläuft, vergrößert sich seine Ablenkung aus der ursprünglichen Richtung ständig. Nach dem Heraustreten aus diesem Feld verläuft der Elektronenstrahl auf einer geraden Bahn, die eine Verlängerung seiner Bahn an dem Austrittspunkt aus dem magnetischen Feld ist. Um die gewünschte Wirkung ohne große Spulen oder Eisenkern zu erhalten, wird vorzugsweise ein verhältnismäßig schwaches Magnetsystem verwendet, derart jedoch, daß der Elektronenstrahl eine Weglänge innerhalb des Magnetfeldes erhält, die zur Erzielung der erforderlichen Ablenkung ausreicht.
  • Bei einer solchen Anordnung ist es ohne weiteres möglich, einen Abtastwinkel von 50 oder sogar 90° innerhalb des erweiterten Längsteiles 21 der Beschleunigungsröhre 1 zu erreichen.
  • In der gerade beschriebenen Konstruktion oder Anordnung ist das in den Fig. 3 und 5 mit 25 bezeichnete Förderband dicht unterhalb des Fensters 22 angeordnet, das sich an der äußeren unteren Kante dieses erweiterten Teiles 21 befindet.
  • Innerhalb des erweiterten unteren Endteiles 21 der B eschleunigungsröhre wird der Abtastvorgang bewirkt, bevor irgendeine Streuung stattfindet. Auf diese Weise wird der Elektronenstrahl beeinflußt, solange die Elektronenoptik noch wirksam ist. In diesem Zusammenhang ist es wichtig, darauf hinzuweisen, daß die Elektronenoptik der Van de Graaffschen Bauart der Beschleunigungsröhre für Beschleuniger mit konstantem Potential sehr günstig und mit der Genauigkeit des Elektronenmikroskops praktisch vergleichbar ist.
  • Wie bereits auseinandergesetzt, kann die Abtastwirkung angewandt werden, bevor der Elektronenstrahl durch das Fenster 22 der Beschleunigungsröhre austritt, wie in den Fig. 3, 3 B und 5 dargestellt. In einem solchen Fall muß das Fenster 22 in Richtung der Abtastbewegung des Elektronenstrahles lang sein.
  • Es ist deshalb als langer, schmaler Schlitz ausgebildet, der von einer dünnen Aluminiumfolie bedeckt wird.
  • Ein solches Fenster ist auch, wie bereits erwähnt, insofern vorteilhaft, als es die Hitze ableitet, die beim Durchgang des Elektronenstrahles darin erzeugt wird.
  • Dies ist auf diese Weise leichter möglich, als wenn der Elektronenstrahl ununterbrochen durch dieselbe kleine Fläche verläuft. Der Abfluß der erzeugten Wärme kann weiterhin dadurch vergrößert werden, daß der Rahmen des Fensters 22 aus einem Material guter Wärmeleitfähigkeit hergestellt wird oder flüssigkeitsgekühlt ist. Die Schmalheit des schlitzartigen Fensters 22 und die Tragstütze, die von den in geringem Abstand voneinander verlaufenden Längsseiten des Rahmens an dem äußeren unteren erweiterten Ende 21 der Beschleunigungsröhre 1 gebildet wird, gewährleisten, daß das Fenster den atmosphärischen Druck auf der Außenseite gegen das Vakuum auf der Innenseite aushält.
  • Sowohl wenn das Fenster in Form eines langen Schlitzes ausgebildet ist. wie im Zusammenhang mit den Fig.3, 3 B und 5 dargelegt, wie auch wenn es praktisch kreisförmigen Querschnitt hat, wie es in der Konstruktion gemäß den Fig. 1, 1 A und 2 der Fall sein kann, können zweckmäßigervveise Vorrichtungen, die eine andere Form oder Bauart des Fensters oder Rahmens haben, verwendet werden, um das Fenster zu kühlen, etwa durch Anblasen der atmosphärischen Oberfläche mit einem Gasgebläse oder mit feinen Sprühstrahlen aus flüssigem oder festem Stoff.
  • In den Fig. 3 A und 4 ist eine Vorrichtung für diesen Zweck dargestellt; Fig. 4 zeigt eine solche Vorrichtung, die an dem unteren Ende einer Beschleunigungsröhre angebracht ist, wobei die gesamte Röhre kreisförmigen oder praktisch kreisförmigen Querschnitt hat. Fig.3A zeigt die gleiche oder eine entsprechende Vorrichtung, die an dem unteren erweiterten Ende einer Beschleunigungsröhre angebracht ist, die so ausgebildet ist, wie in den Fig. 3 und 5 dargestellt.
  • In beiden Fig. 3 A und 4 ist der untere Endteil einer Beschleunigungsröhre der Van de Graaffschen oder einer anderen Bauart schematisch dargestellt und mit 27 bezeichnet.
  • Wie aus Fig. 4 ersichtlich, ist in einem geeigneten Abstand über dem äußeren unteren Ende der Beschleunigungsröhre 27 ein Aluminiumfenster 28 vorgesehen, und an dem äußeren unteren Ende der Röhre 27 ist ein sehr dünnes Fenster 29, das vorzugsweise aus dünner Aluminiumfolie besteht, vorhanden, wie für die vorher beschriebenen Fenster 3 und 22. Der Abstand zwischen den beiden Fenstern28,29 ist bevorzugt mit Heliumgas unter atmosphärischem Druck gefüllt. In geeigneter Weise außerhalb der Beschleunigungsröhre 27 montiert ist eine Pumpe 31, die mit der Heliumkammer 30 auf ihrer Einlaßseite durch ein Rohr 32 und auf ihrer Auslaßseite durch ein Rohr 33 verbunden ist, das in einer eine Düse bildenden Offnung 34 endet, durch welche das Heliumgas zwangläufig von der Pumpe 31 gegen die untere Fläche des Aluminiumfensters 28 ausgestoßen wird. Das Gas kann durch geeignete Kühlspulen oder einen Wärmeaustauscher gekühlt werden, bevor es gegen das Fenster ausgestoßen wird.
  • Die Ablenk- oder Abtastwirkung wurde hier so erläutert, als ob sie unterhalb des unteren Endteiles mit einer Beschleunigungsröhre auftritt, und dieser untere Endteil der Röhre wurde so dargestellt, daß er in beträchtlicher Weise überhängt, wie bei 26, um eine Abtastamplitude von 50, 60 oder sogar 900 zu ermöglichen. Falls der untere Endteil der Beschleunigungsröhre nicht nach außen erweitert ist, wird die Amplitude der Abtastbewegung natürlich kleiner sein.
  • \orzugsweise wird die Beschleunigungsröhre so ausgebildet, daß eine große Amplitude der Abtastbewegung ermöglicht wird. Die Erfindung ist jedoch in dieser Hinsicht nicht beschränkt.
  • Die Abienk- oder Abtastwirkung bildet, ob sie nun dem Elektronenstrahl innerhalb der Beschleunigungsröhre oder jenseits des äußeren Endes oder teilweise innerhalb und teilweise jenseits des äußeren Endes der Röhre erteilt wird, ein wesentliches Merkmal der Erfindung, wobei die Art der Abtastung geändert werden kann, wie im vorhergehenden ausgeführt.
  • Die Erfindung hat gezeigt, daß es zur Zeit im allgemeinen nicht möglich ist, einen Kathode oder Elektronenstrahl zu erhalten, dessen Elektronendichte über den Querschnitt des Strahles gleichmäßig ist.
  • Infolgedessen werden erfindungsgemäß aufeinanderfolgende Abtastungen vorgenommen, die übereinanderliegend zur Erzielung einer gleichmäßigen Ionisierung ausreichen, insbesondere in den Bereichen oder Teilen des Erzeugnisses nahe dessen Oberfläche.
  • Diese tSberdeckung aufeinanderfolgender Abtastungen wird durch geeignete Steuerung der Abtastvorrichtung unabhängig von deren Ausffihrungsform bewirkt.
  • Man wird bemerken, daß bei Verwendung einer Überdeckung aufeinanderfolgender Abtastungen das Erzeugnis nicht durch eine im wesentlichen augenhlicksweise Dosis von Kathodenstrahlen oder Elektronen bestrahlt wird, sondern durch eine Reihe solcher zeitlichen Abstand aufweisenden Dosen.
  • Wenn große Abtastwinkel verwendet werden, wie hier vorgeschlagen wird, so ist die Eindringtiefe der Strahlung dem Kosinus des Abtastwinkels proportional. Es ist infolgedessen erforderlich, daß entweder die Schichtdicke des Bestrahlungsgutes demgemäß geändert wird, oder daß die Ablenkgeschwindigkeit des Elektronenstrahles proportional zum I(osinus des Abtastwinkels geändert wird. Es wurde jedoch gefunden, daß die Ionisierung bei gleichmäßiger Schichtdicke des Bestrahlungsgutes die erforderliche Dosis in den Teilen des Bestrahlungsgutes an den Kanten des tragenden Bandes nicht erreichen kann, falls das Verhältnis Schichtdicke des Bestrahlungsgutes Kosinus des größten Winkels größer ist als die Eindringtiefe.
  • In Übereinstimmung mit der Erfindung kann entweder die Schichtdicke des Bestrahlungsgutes oder die Ablellkgeschwindigkeit des Elektronenstrahles verändert werden, um die mit dem Wirkungsgrad zusammenhängende Kompensation zu erhalten, wenn große Abtastwinkel verwendet werden. Es wird jedoch ein kleiner Abtastwinkel, beispielsweise 80, auf jeder Seite der Senkrechten bevorzugt, so daß der Kosinus des maximalen Winkels angenähert 1 ist.
  • Das Bestrahlungsgut kann, wie bei 5 in den Fig. 1 und 3 dargestellt, verpackt sein, oder es kann eine unverpackte Masse von beliebiger räumlicher Ausdehnung und Form sein. Eine solche unverpackte Masse kann von einem laufenden Band oder einer anderen Unterlage getragen werden wie in den Fig. 1 und 2, oder sie kann unbeweglich sein und eine beliebige, geeignete Schichtdicke und Flächenerstreckung haben. Es kann bevorzugt in atmosphärischer Luft dicht an dem Ausgangsfenster der Beschleunigungsröhre oder des sonstigen Beschleunigungsgefäßes angeordnet sein, worin der Hochspannungselektronenstrahl erzeugt und zu seiner Verwendungsstelle beschleunigt wird.
  • Das erläuterte Verfahren ist dadurch vorteilhaft, daß es die erforderliche Umwandlung in einem chemischen Verfahren mit einem Minimum an unerwünschten Nebenwirkungen bewirkt. Auf diese Weise schafft ciie Erfindung ein Verfahren zur Vergrößerung der gewünschten Ergiebigkeit in einem chemischen Verfahren durch Verwendung von Elektronenstrahlen hoher Energie und Intensität, um die Substanz sehr schnell abzutasten, so daß die augenblicklich auftretende Ionisierungsdichte erhöht wird. Die Erfindung gibt auch die Möglichkeit zur Bestrahlung eines Materials, bei dem es erforderlich ist, eine chemische Änderung durch ein direktes Ionisationsverfahren zu erzeugen, und bei dem es gleichzeitig erwünscht ist, unerwünschte chemische Nebenprozesse, die von der indirekten lonisationswirkung hervorgerufen werden, auf ein Minimum zu beschränken. Ein solches Verfahren besteht infolgedessen in der Bestrahlung des Materials mit einem Elektronenstrahl kleiner Querschnittsfläche und hoher Ladungsdichte und bewirkt, daß ein solcher Elektronenstrahl schnell kippt und dadurch die erforderliche Gesamtdosierung mit der maximalen augenblicklichen Ionisierungsdichte liefert.
  • Die Abtastbewegung des Elektronenstrahles kann nicht nur auf einer Bahn, die quer zu der Bahn der Vorwärtsbewegung der Bandfördereinrichtutg (d. h. quer zur Bandfördereinrichtung, wie mit Bt auf die Fig. 1, 2, 3, 5 und 6 beschriehen) liegt, sondern auch in der Richtung der Vorwärtsbewegung dieser Bandfördereinrichtung erfolgen (nämlich in einer Richtung rechtwinklig zu der, die als die Hauptabtastrichtung bezeichnet werden kann). Der Zweck der Schaffung von zwei Gruppen von Abtastbewegungen besteht darin, irgendeine erforderliche Bewegung des Elektronenstrahles in der Bewegungsrichtung des Erzeugnisses zu erzielen, damit das Material, auf das der Elektronenstrahl einwirkt, vollständig und wirksam abgetastet werden kann.
  • In Fig. 7 sind zum Zweck der Erzielung zweier Abtastblewegungen des Elektronenstrahles 36 rechtwinklig oder in einem beliebigen anderen Winkel zueinander zwei Gruppen von Magnetspulen 37,38,39, 40 dargestellt, die rechtwinklig zueinander angeordnet sind. Die Elektronenstrahlachse ist mit 41 und deren Ausbreitung oder Streuung mit 42 bezeichnet. Die Streuung kann größer sein, als in dieser Figur angegeben.
  • In Fig. 8 ist der Elektronenstrahl mit 43, die Achse dieses Strahles mit 44 und die Streuung oder Ausbreitung des Strahles mit 45 bezeichnet. Die beiden Gruppen paralleler Platten oder Elektroden sind mit 46, 47, 48 und 49 bezeichnet. Auch hier kann die Streuung größer sein, als aus dieser Figur ersichtlich ist.
  • Bei Verwendung von zwei Gruppen wechselweise angeordneter magnetischer Spulen, die miteinander rechte Winkel bilden, oder zweier entsprechender Gruppen paralleler elektrostatischer Ablenkelektroden werden zwei Wechselstromzeichen unabhängiger Frequenz und Größe benutzt, um einen Elektronenstraht eines beliebigen gewünschten Querschnittmusters zu erzeugen, wie beispielsweise eine Ellipse, ein Rechteck oder eine andere geometrische Figur.
  • Ein bestimmter Verschiebungsbetrag der Mittellinie des Elektronenstrahles mit Bezug auf die Mittellinie der Beschieunigungsröhre kann durch mechanische Verschiebung der Kathode relativ zur Beschleunigungsröhrenachse erhalten werden. Es sind jedoch bestimmte Begrenzungen vorhanden, die von einer mechanischen Schwingung der Kathode abhängen.
  • Der anfängliche Elektronenstrahl kann nicht über den Innendurchinesser der Beschleunigungsröhre hinaus verschoben werden. Dieses Verfahren der Streuung oder Ausbreitung des Elektronenstrahles erscheint gegenwärtig nicht als vollständig geeignet für solche Beschleuniger wie das Betatron oder das Synchrotron, die nicht mit hohen Spannungen arbeiten, sondern die Elektronen durch andere Vorrichtungen beschleunigen.
  • Ein solches Verfahren und eine solche Vorrichtung dafür liegen jedoch innerhalb des Rahmens der Erfindung.
  • Die Kathode der Beschleunigungsröhre kann in verschiedener Weise in Schwingungen versetzt werden.
  • Bei einer bevorzugten Ausführungsform ist ein isolierendes, mechanisches Gelenksystem zwischen der Kathode und dem geerdeten Ende des Elektronenbeschleunigers angebracht, wodurch die erforderliche Schwingung erhalten werden kann. Dieses Betriebsverfahren ist auf die Übertragung einer verhältnismäßig einfachen Bewegungsform begrenzt. Es ist nicht für einige der verwickelteren Schwingungsvorgänge geeignet, auf die im folgenden Bezug genommen wird. Die Kathode kann mittels einer Anordnung in Schwingungen versetzt werden, die ihre Energie von derselben Quelle erhält wie der Kathodenheizdraht selbst. Es kann auch eine Ferusteuereinrichtung verwendet werden, das geeignete Schwingungsverfahren für die besondere Art des zu sterilisierenden Erzeugrisses zu wählen.
  • Die Kathode der Beschleunigungsröhre kann auf einem geeigneten Zapfen angebracht sein. Durch irgendein geeignetes, mechanisches Gelenksystem kann die Kathode auf ihrem Zapfen in dem beschriebenen Ausmaß zum Schwingen gebracht werden.
  • Das Bestrahlungsgut auf dem Förderband oder -tisch oder einer anderen Tragstütze, der durch den Elektronenbeschleuniger austretende Elektronenstrahl oder die Beschleunigungsröhre selbst können verschoben werden, oder der Elektronenstrahl und das Erzeugnis können gleichzeitig derart verschoben werden, daß der Elektronenstrahl wirksam quer zur Oberfläche des Erzeugnisses abtastet. Die Beschleunigungsröhre selbst kann in Schwingungen versetzt oder leicht hin- und herbewegt werden, wodurch dieSchwingung des Elektronenstrahles infolge der Schwingung der Beschleunigungsröhre verursacht wird, sogar dann, wenn der Elektronenstrahl selbst nicht in Schwingungen versetzt oder auf andere Art im Hinblick auf die Beschleunigungsröhre selbst beeinflußt wird, die in dem erwähnten Beispiel der Gegenstand ist, der in Schwingungen versetzt oder anderweitig bewegt wird.
  • Für die erwähnte Betriebsart (d. h. Schwingung oder Bewegung des Förderbandes oder -tisches oder Schwingung oder Bewegung des Elektronenbeschleunigers selbst oder gleichzeitige Bewegung des Förderbandes oder -tisches und des Elektronenbeschleunigers) ist die wirksame Vorrichtung zur Hervorrufung der Schwingung oder Bewegung mit Bezug auf die vorliegenden mechanischen Probleme ganz einfach aufgebaut.
  • In der schematischen Darstellung der Fig. 9 stellt die Kurve a die Verteilung der Elektronenstrahlung dar, die an der Oberfläche des Bestrahlungsgutes quer über den Querschnitt des Elektronenstrahles gemessen wird. Zwischen aufeinanderfolgenden Abtastungen oder Abtastbewegungen bewegt sich das Bestrahlungsgut um die Entfernung d, so daß die gesamte Bestrahlung an seiner Oberfläche durch Summierung einer Reihe von Kurven erhalten wird, die mit der Kurve( identisch und jeweils um den Abstand d verschoben sind. Der Uberdeckungsgrad wird durch die Abtastfrequenz und durch die Gesch-Nz indigheit des Bestrahlungsgutes bestimmt, wobei einer dieser Faktoren oder beide verändert werden können, um einen beliebigen Gleichförmiglieitsgrad zu erzielen. Man wird erkennen, daß ein Punkt des Bestrahlungsgutes, der dem Punkt p der Fig. 9 entspricht, drei praktisch augenblicklich auftretende Zunahmen der Bestrahlung aufnimmt. Die Zahl der in irgendeinem gegebenen Teil aufgenommenen Zunahmen hängt von dem Überdeckungsgrad ab. Obgleich die Kurve ct nur beispielsweise gegeben ist, sind aie im Hinblick auf die Fig. 9 gemachten Feststellungen auf jede praktisch erhältliche Verteilung anwendbar. Falls der Elektronenstrahl längs der Bewegungsrichtung des Bestrahlungsgutes ebenso wie quer zu dieser abgelenkt wird, wird die wirksame Verteilung so vorgenommen, wie in Fig. 10 dargestellt, wobei die Kurve a' die Verteilung der an der Oberfläche des Bestrahlungsgutes gemessenen Elektronenstrahlung darstellt.
  • In Fig.11 ist das Förderband mit 50 bezeichnet und bewegt sich in Richtung des Pfeiles. Der geometrische Ort des Strahlenmittelpunktes ist mit 51 bezeichnet.
  • Die Überdeckung des Elektronenstrahles an der Oberfläche des Bestrahlungsgutes, wenn der Elektronen- strahl längs der Bewegungsrichtung des Bestrahlungsgutes und auch quer dazu abgelenkt wird, wird hauptsächlich zwischen aufeinanderfolgenden Abtastungen oder Abtastbewegungen längs der Bewegungsrichtung des Bestrahlungsgutes auftreten, und die Zeit und die Anzahl der im wesentlichen augenblicklichen Zunahme der an einen Punkt der Oberfläche des Bestrahlungsgutes gelieferten Bestrahlung wird durch die Abtastfrequenz gesteuert.
  • Als Vorrichtung zur Bewirkung der Ablenk- oder Abtastbewegung des Elektronenstrahles wurde entweder a) die Schaffung eines Magnetfeldes, das durch die Anwendung zweier Wechselstrommagnetspulen oder Magneten 6, 7 rechtwinklig zur Fo rtpflanzungsrichtung des Elektronenstrahles gerichtet ist, oder b) die Wirkung eines elektrostatischen Wechselfeldes beschrieben, das rechtwinklig zur Fortpflanzungsrichtung des Elektronenstrahles liegt, wobei dies durch ein Paar paralleler leitender Platten 12, 13 bewirkt wird, denen eine hohe Wechselspannung aufgedrückt wird.
  • Zur Erzielung der hier beschriebenen Abtastbewegung kann auch eine Kombination elektrostatischer und elektromagnetischer Ablenkfeldtr verwendet werden, die so gerichtet sind, daß die entsprechenden Ablenkkräfte zueinander senkrecht liegen. Eine solche I(ombination ist in Fig. 12 dargestellt, in der ein Paar paralleler leitender Platten 52, 53 und ein Paar Magnetspulen odler Magneten 54,55 dargestellt ist.
  • Die Achse des Elektronenstrahles ist mit 56, die elektrische Feldachse mit 57, die magnetische Feldablenkkraft mit 58 und die sich ergebende Musterform an der Elektronenstrahlachse mit 59 bezeichnet.
  • Die Verwendung eines abgelenkten, kontinuierlichen Strahles von Elektronen hoher Energie ist bei der Elektronensterilisierung besonders vorteilhaft, da beispielsweise unerwünschte Nebenwirkungen verringert werden können. Wenn eine Substanz den ionisierenden Strahlen unterworfen wird, werden viele Ionen geringer Energie erzeugt. Diese Ionen würden eventuell miteinander Verbindungen bilden, können aber in der Zwischenzeit unerwünschte Nebenwirkungen auslösen. Solche unerwünschten Nebenwirkungen werden verringert, falls die Geschwindigkeit der Verhinduiigsbildung vergrößert wird. Falls die lonisieruugsdichte d ist, ist die Geschwindigkeit der Verbindungsbildung proportional d2, so daß durch Anwachsen der Ionisierungsdichte die Geschwindigkeit der Verbindungsbildung noch mehr vergrößert wird.
  • Der abtastende Strahl, der im vorhergehenden erwähnt wurde, bewirkt diese Zunahme der Ionisierungsdichte.
  • Falls die von dem zu sterilisierenden Erzeugnis aufgenommene Dosierung nich'c durchgängig gleichmäßig ist, ist es außerdem erforderlich, daß einige Teile des Erzeugnisses eine übermäßige Dosierung aufnehmen können, so daß alle seine Teile die kleinste zur Sterilisierung erforderliche Dosierung erhalten.
  • Die übermäßige Dosis wird irgendwelche unerwünschten Nebenwirkungen vergrößern und auch den Wirkungsgrad des Vorganges vermindern, so daß die Betriebskosten vergrößert werden. Der im vorhergehenden eingehender beschriebene, abgelenkte Strahl liefert die Dosierung an das Bestrahlungsgut verhältnismäßig gleichmäßig über dessen Oberfläche, so daß die unerwünschten Nebenwirkungen yermindert und die zusätzlichen Unkosten, die sich aus der übermäßigen Dosierung ergeben, verringert werden.
  • Zur maximalenWirksarukeit des abgelenkten Strahles muß die Bahn des Hochspannungselektronenstrahles durch die atmosphärische Luft so kurz wie möglich gemacht werden, indem das zu bestrahlende Erzeugnis dicht an dem Fenster der Beschleunigungsröhre angeordnet oder angebracht wird. Dies verringert die Streuwirkung der atmosphärischen Luft und dient dazu, daß der Elektronenstrahl auf das Bestrahlungsgut mit kleiner Querschnittsfläche auftrifft und aus Elektronen gleichmäßiger Energie zusammengesetzt ist.
  • Durchgängig in der Wissenschaft und Industrie ist die Hauptquelle der Energie zur Begünstigung chemischer Reaktionen im allgemeinen die Wärme. Die Wärme ist in der Lage, Energie durchgängig durch die reagierenden Stoffe zu liefern und dadurch die aufleren Valenzelektronen der Atome in solchen Stoffen zu verdrängen. Da die Atome in den Molekülen durch diese Valenzelektronen gebunden sind, sucht deren Verdrängung die molekulare Struktur der reagierenden Stoffe zu zerstören, so daß sie sich in die molekulare Struktur des gewünschten Reaktionsproduktes umwandeln.
  • Jedoch kann die Wärme keine Energie an d e inneren, dichter gebundenen Elektronen der Atome in so ausreichender Menge liefern, daß diese verdrängt werden. Infolgedessen schafft die Wärme eine verhältnismäßig geringe Ergiebigkeit bei einigen chemischen Reaktionen, und andere chemische Reaktionen können durch Wärme überhaupt nicht hervorgerufen werden.
  • Neuerdings ist die Möglichkeit der Verwendurlg verschiedener Formen ionisierender Strahlen erforscht worden, einschließlich der Röntgenstrahlen, der Kathoden-, Neutronen-, Alphateilchen-, Betateilchen- und Gammastrahlen. Ionisierende Strahlungen erzeugen chemische Reaktionen durch ein Verfahren, das von dem Wärmeverfahren gänzlich verschieden ist und Energie an die inneren, dichter gebundenen Elektronen der Atome liefern kann, so daß viel Icräftigere chemaische Änderungen möglich sind.
  • Jedoch sind nicht alle Formen der ionisierenden Strahlen für die Förderung chemischer Reaktionen geeignet. Die Strahlung radioaktiver Stoffe ist schwer zu steuern. Die Eindringung der Alphateilchen in den Stoff ist gering. da sie bereits durch ein Blatt Papier aufgehalten werden. Die Gammastrahlen sind äußerst durchdringend, so daß eine starke Abschirmung bei deren Verwendung erforderlich ist. Betateilchen radioaktiver Quellen haben eine verhältnismäßig geringe Energie. Außerdem werden die Betateilchen von jeder beliebigen Quelle mit veränderlicher Energie ausgesandt, so daß eine Veränderung der Wirkungen in der bestrahlten Substanz erzeugt werden kann, einschließ lich einiger Wirkungen, die unerwünscht sein können.
  • Außerdem wird die Strahlung radioaktiver Stoffe nach allen Richtungen ausgesandt. Infolgedessen mull die radioaktive Quelle von der zu bestrahlenden Substanz umgeben sein, um eine solche Strahlung wirksam anwenden zu können. Diese Bedingung zusätzlich zu der Tatsache, daß eine solche Strahlung keine gleichmäßige Energie aufweist, macht die Bestrahlung durch radioaktive Stoffe schwer steuerbar, so daß eine kommerzielle Anwendung eines solchen Verfahrens zur Erzeugung chemischer Reaktionen auf Schwierigkeiten stößt. Die gewöhnlichen Verfahren zur künstlichen Erzeugung einer ionisierenden Strahlung sind auch für kommerzielle Vorgänge ungeeignet. Die Röntgenstrahlen und die Neutronen werden durch Beschuß eines Zieles mit einem primären Teilchenstrahl erzeugt. Sehr wenig Energie des primären Strahles wird in die gewünschte Strahlung umgewandelt, so daß die Erzeugung durch Röntgenstrahlen oder Neutronen einen geringen Wirkungsgrad hat. Außerdem schaffen die Neutronen eine induzierte Radioaktivität.
  • Eine gewöhnliche elektrische Entladung durch Luft ist ebenfalls ungeeignet, um die Ergiebigkeit einer chemischen Reaktion zu vergrößern. Trotz der Tatsache, daß eine Hochspannungs- oder Hochfrequenzentladung eine hohe Energie als Ganzes haben kann, kann kein einzelnes Ion oder Elektron eine ausreichende Energie in der Luft erwerben, um die Innenelektronen des Atoms zu erreichen und loszureißen.
  • In einem Elektronenstrahl, wie er in Übereinstimmung mit der Erfindung verwendet wird, hat jedes einzelne Elektron eine hohe Geschwindigkeit. Ein schnelles Elektron hat eine hohe Energie und kann infolgedessen in eine größere Tiefe des Bestrahlungsgutes eindringen. Zweitens ist ein Elektron hoher Geschwindigkeit wirksamer in seiner Einwirkung auf ein getroffenes Atom des Bestrahlungsgutes, da seine hohe Energie es manchmal in die Lage versetzt, die das Atom umgebende Elektronenwolke zu durchdringen, so daß die Innentelichen ebensogut wie dessen Außenteilchen erreicht werden. Schließlich benötigt ein schnelles Elektron weniger als 10-17 Sekunden in der wirksamen Nachbarschaft eines Atoms. Auf diese Weise können bestimmte erwünschte chemische Änderungen durch die Strahlung in wesentlich geringerer Zeit bewirkt werden, als es durch die Anwendung von Wärme auf die Körper erforderlich ist. Diese Wirkungen der Elektronen hoher Geschwindigkeit können mit Elektronen niedriger Geschwindigkeit erreicht werden, sogar dann, wenn die langsamen Elektronen ein Teil einer Hochspannungs- oder Hochfrequenzentladung sind.
  • Durch dlas Verfahren nach der Erfindung wird eine Ouelle ionisierender Strahlen geschaffen, die in weitem .Alaße geregelt werden kann. so daß ihre kommerzielle Verwendung möglich ist. Durch Verwendung von Hochspannungselektroden kann die Materie durchdrungen werden, und es können zusätzlich, aber nicht ausschließlich die inneren, enger gebundenen Elektronen der Atome erreicht werden, wodurch die Ergiebigkeit chemischer Reaktionen im gewünschten Sinne vergrößert wird. Durch Verwendung eines gut eingestellten, gerichteten Strahles kann die Energie auf einen beliebigen Punkt des bestrahlten Stoffes gerichtet werden Durch \Verwendung eines kontinuierlichen Strahles gleichmäßiger Energie wird die Wirkung der Strahl;en steuerbar. Durch Abtastung der zu bestrahlenden Substanz mit einem hochintensiven Strahl kann die erforderliche Dosis mit der maximalen augenblicklichen Ionisierungsdichte geliefert werden. wodurch unerwünschte Nebenwirkungen verringert werden.
  • Durch das Verfahren nach der Erfindung können in kommerziellem Rahmen viele chemische Reaktionen mit einer vergrößerten oder maximalen Ergiebigkeit erzeugt werden. Zum Zweck der Veranschaulichung werden nun einige der chemischen Reaktionen aufgezählt.
  • Zuerst können stark endothermische chemische Reaktionen gefördert werden, die leicht durch gewöhnliche Mittel, wie etwa Wärme, erzeugt werden können.
  • Dies ist besonders wichtig bei der Erzeugung teurer Produkte, wo nur eine kleine Menge des Reaktionserzeugnisses erforderlich ist, dessen Herstellung aber große Energieinengen in konzentrierter Form erfordert.
  • Zweitens können viele chemische Reaktionen mittels eines Auslösemechanismus gefördert werden, der eine I(ettenreaktion auslöst. Auf diese Weise regt eine kleine Energiemenge, die in konzentrierter Form durch den Elektronenstrahl vorgesehen ist, eine exothermische chemische Reaktion an. Die Reaktion selbst schafft dann die erforderliche Energie für das weitere Fortschreiten.
  • Beispielsweise kann eine schnelle Polymerisation hervorgerufen werden. Der bei der Schuhherstellung verwendete Kitt benötigt normalerweise ungefähr 1 Stunde zur Härtung. Durch Elektronenbestrahlung findet die Polymerisation rasch statt, so daß der Kitt in wenigen Minuten härtet.
  • Auch können rermicltelte Moleküle einfach und schnell synthetisch gebildet werden, sogar in Fällen, wo dies sonst nicht möglich sein würde.
  • Drittens kann mit dem Verfahren nach der Erundung bewirkt werden, daß chemische Reaktionen an Stellen stattfinden und auf diese Weise ein Reaktionserzeugnis dort ausbilden, wo die Reaktion durch andere Verfahren nicht erzeugt werden und das Reaktionsprodulit nicht eingeführt werden könnte.
  • Beispielsweise kann ein katalytischer Stoff an bestimmte Stelle (in situ) erzeugt werden. Falls die reagierenden Substanzen die Katalysatorquelle einschließen, erzeugt die Elektronenbestrahlung den Katalysator gerade an der Stelle, an der er von größtem Nutzen ist.
  • Auch kann die gewiinschte chemische Umwandlung an bestimmter Stelle (in situ) vorgenommen werden.
  • Bei der Behandlung eines an Lungenentzündung leidenden Patienten kann es erwünscht sein, ein bazillentötendes Mittel, wie etwa Wasserstoffperoxyd. in die Lungen einzuführen, wo die Bakterien auftreten.
  • Sogar eine kleine Menge Wasserstoffperoxyd würde bereits wirksam sein; sie kann aber in der Lunge durch die bekannten Verfahren nicht erzeugt und auch nicht in die Lunge eingeführt werden. Es kann aber durch Bestrahlung Wasserstoffperoxyd aus dem Wasser gebildet werden, das sich in der Lunge befindet. Auf diese Weise wird der bakterientötende Stoff direkt an der Stelle des Sitzes der Bazillen erzeugt.
  • Auch können erwünschte chemische Umwandlungen in vitro hervorgerufen werden, wobei tierisches Geliebe unter aseptischen Bedingungen am Leben erhalten wird. Das erwünschte chemische Erzeugnis kann in dem Gewebe nicht durch Wärme hervorgerufen werden, da diese das Gewebe selbst ebenso wie die darin befindlichen Bakterien beeinflussen würde.
  • Es kann nicht durch Öffnen des Behälters eingeführt werden, da es schwierig sein würde, sich zu vergewisserin, ob das chemische Erzeugnis tatsächlich in das Gewebe eintritt. Durch Bestrahlung des Gewebe. durch den Behälter kann das chemische Produkt direkt im Gewebe erzeugt werden.
  • Viertens kann eine gewünschte chemische Umwanfllung ohne Wärme erzielt werden. Häufig kann es erwünscht sein, eine chemische Reaktion bei sehr niedriger Temperatur hervorzurufen, um Nebenwirkungen zu verringern. Bei dem Verfahren nach der Erfindung ist nicht nur die Amvendung- von Wärme unnötig, sondern die Substanzen können auch bei sehr niedrigen Temperaturen bestrahlt werden.
  • In Fig. 13 der Zeichnung ist eine stark schematische Darstellung ein es Methylalkoholmofeküls gegeben. Die sechs großen Kreise veranschaulichen die sechs Atome, aus denen das Molekül zusammengesetzt ist, nämlich vier Wasserstoffatome, die jeweils mit H bezeichnet sind, ein mit C bezeichnetes Kohlenstoffatom und ein mit 0 bezeichnetes Sauerstoffatom. In der Mitte innerhalb eines jeden der vier Wasserstoffatome ist ein kleiner Kreis vorhanden, der als H-Kern bezeichnet ist und jeweils einen Wasserstoffkern einesWasserstoffatoms charakterisiert. In der Mitte des Wohlen- stoffatoms befindet sich der C-Kern und in der Mitte des Sauerstoffatoms der O-IVern. An einer Anzahl von Stellen jeden Atoms befindet sich ein Punkt, der jeweils ein atomisches Elektron oder ein Teilchen darstellt.
  • Es sind fünf ausgezogene Pfeile gezeichllet, welche die Bezugszahlen 1, 2 3, 4 bzw. 5 tragen. Jeder Pfeil veranschaulicht die Bahn eines bombardierenden Elektrons des Hochspannungsstrahles, der an der Kathode der hier beschriebenen Beschleunigungsröhre geschaffen wird, durch die Länge der Röhre beschleunigt wird durch das Fenster an deren Ende austritt und unmittelbar auf die Substanz oder das Material auftrifft, von dem ein einzelnes l>lolekül schematisch in der Fig. 13 dargestellt ist. Die punktiert gezeichneten Pfeife veranschaulichen die sich ergebenden Bahnen der beeinflußten atomischen Elektronen oder Teilchen.
  • Der Pfeil 3 zeigt ein bombardierendes Elektron, das durch das gesamte Molekül verläuft, ohne mit irgendeinem Teilchen zusammenzustoßen. Der Pfeil 5 kennzeichnet die Bahn eines schnellen Elektrons durch einen Teil des Moleküls, wobei es mit einem Valenzelektron zusammenstößt, aber nicht ausreichend genau, um dem Valenzelektron genug Energie zur Herauslösung aus den Molekül zu erteilen. Jedoch wird dem gretroffenen Elektron genug Energie erteilt, um eine Verschiebung seiner Lage zu bewirken und ihm Erregungsenergie zu geben, so daß eine Änderung der molekularen Struktur hervorgerufen wird. Der Pfeil 1 zeigt ein Valenzelektron, das getroffen und aus seinem Atom herausgeschleudert ist. Der Pfeil 2 zeigt ein inneres Schalenelektron, das zusammengeprallt und aus seinem Atom gelöst ist. In einigen Fällen können Elektronen aus dem Atom mit beträchtlicher Energie herausgeschleudert werden. In solchen Fällen kaml das losgerissene Elektron in der Lage sein, viele andere Atome auf seiner Bahn zu ionisieren. und wird dann Deltastrahl genannt.
  • Der Pfeil 4 zeigt den O-Kerll des »getroffeiien« SauerstoTatoms und die Gestalt des Pfeiles 4 zeigt das boml>ardierende Elektron (negative Ladung das rings um den »getroffenen« Kern (positive Ladung) verläuft. Ein solcher I(ern kann dadurch aus seinem NIIolchül »herausgeschleudert« werden und trägt gewöhnlich die meisten der ihn umgebenden Elektronen mit sich. Dies veranschaulicht die Tatsache, daß ein bombardierendes Elektron in einigen Fällen rings um einen Kern in kometenähnlicher Bahn verlaufen und den Kern aus seinem Molekül herausstoßen kann.
  • Zusammenfassend kann gesagt werden. daß Elektronen hoher Geschwindigkeit in der Lage sind, Materie zu durchdringen und in ihrem Innern viele Arten von Umwandlungen hervorzurufen, wobei keine Wärme. sondern fundamentale atomische Mechanismen verwendet werden, die ihrem Wesen nach grundsätzlich von der Wärme verschieden sind. Beispiele für die Umwandlungen, die in der Materie durch Elektronen hoher Geschwindigkeit hervorgerufen werden können, sind die Sterilisierung und die Erzeugung chemischer Umwandlungen. Die Tatsache, daß die Elektronen hoher Geschwindigkeit beispielsweise Sterilisierung durch einen von der Wärme grundsätzlich verschiedenen Mechanismus hervorrufen können. ermöglicht in vielen Fällen die Sterilisierung von Stoffen, ohne gleichzeitig in diesen unerwünschte Nebenwirkungen zu erzeugen, wie sie bei der Anwendung von Wärme auftreten würden. Beispiele unerwünschter Nebenwirkungen können bei Nahrungsmitteln die Änderung des Geschmacks oder des Aussehens und bei Impfstoffen der Verlust an immunisierender Kraft seine.
  • Bisher ist keine geeignete Quelle schneller Elek-.ronen verfügbar gewesen, die in der Lage ist, die obenerwähnten Verfahren in großem industriellem WIaßstal) durchzuführen. Die unmittelbare Bedeutung dieser N> erfahren auf eine in großem Rahmen durchgeffihrte, industrielle Sterilisierung von Dii7ahrungsmitteln und biologischen Stoffen ebenso wie mögliche chemische Anwendungen ergibt sich aus den dargelegten Betri el)sversuchen mit einem elektrostatischen Beschleuniger für 3 MeV und 4 mm. Die 12-kW-Strahlungsleitung dieser Maschine wurde durch Anwendung der Abtastung wirksam und gleichmäßig mit einer Dosis von 2000000 r (dies ist die Menge ionisXerender Energie. die der Absorption von 83 Erg pro Gramm I,uft entspricht) zur vollständigen Sterilisierung eines Erzeugnisses benutzt, das sich unter der Maschine mit einem Vorschub von 1633 k,,/h auf einem ununterbrochen laufenden Förderband vorbeil)eu egt. Die Ahtasthreite betrug etwa 37,5 cm und die Nbtastfrequenz ungefähr 200 Hz. Das Förderband wurde mit einer kontinuierlichen Geschwindigkeit von 9>14 m/min bewegt.
  • Die dargestellte Ausführung dieses Beschleunigers bat somit den Vorteil bei der Anwendung von riochspaniiungselektroneii zur quantitativen und regelbaren industriellen Sterilisierung von Lebensmitteln und anderen Materialien überzeugend veranschaulicht, und sie zeigt auch wirksam die Anwendungen auf dem Gebiet der Chemie.

Claims (30)

  1. PATENTANSPRÜCHE 1. Verfahren zum Bestrahlen von Materie mit einem Elektronenstrahl zur Erzeugung chemischer Umwandlungen in dieser Materie, gekennzeichnet durch schnelle Abtastung der Materie mit einem Elektronenstrahl von hoher Energie und hoher Intensität.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch Verwendung eines kontinuierlichen Elektronenstrahles.
  3. 3. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Materie in atmosphärischer Luft dem Elektronenstrahl in einem nur geringen Abstand von dem Austrittspunkt des Strahles aus einer Beschleunigungsröhre unterworfen wird.
  4. 4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennbezeichnet, daß die Materie dem Elektronenstrahl als offene Masse oder in verpackter Form ausgesetzt wird.
  5. 5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daPJ wenigstens einige der inneren enger gebundenen Elektronen der Atome der zu behandelnden Materie von ihren Schalenbahnen durch das Elektronenbombardement herausgeschleudert werden und eine vergrößerte oder maximale prozentuale Ergiebigkeit der chemischen Reaktion infolge der Einwirkung eines solchen Bombardements und der darauffolgenden Wechselwirkung solcher Atome mit anderen, benachbarten Atomen erhalten wird.
  6. 6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß ein Elektronenstrahl von kleiner Querschnittsfläche verwendet wird.
  7. 7. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Elektronenstrahl durch ein Magnetfeld abgelenkt wird.
  8. 8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch geisennzeichnet, daß der Elektronenstrahl durch ein elektrostatisches Feld abgelenkt wird.
  9. 9. Verfahren nach Anspruch 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Größe der Ablenkung des Elektronenstrahles durch die Wahl der Feldstärke und des Abstandes zwischen dem Ort der zu bestrahlellden Materie und dem Ort der Einwirkung des ablenkenden Feldes bestimmt wird und daß die Schwinguugsfrequenz des Elektronenstrahles in Übereinstimmung mit den besonderen Erfordernissen der zu behandelnden Materie geändert wird.
  10. 10. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Elektronenstrahl durch die Wirkung eines Wechselstromes in Schwingungen versetzt wird.
  11. 11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß der Elektronenstrahl mit einer Frequenz von ungefähr 200 Hz in Schwingungen versetzt wird.
  12. 12. Verfahren nach einem der Ansprüche 9 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Gesamtamplitude der Schwingungen in der Größenordnung von 160 liegt.
  13. 13. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Elektronenstrahl gleichzeitig auf zwei Bahnen bewegt wird, die zueinander winklig, bevorzugt rechtwilllslig, verlaufen.
  14. 14. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Materie während ihrer Bestrahlung bewegt und der Elektronenstrahl quer zu dieser Bewegung und auch, falls gewiinscht, in Richtung dieser Bewegung bewegt wird und daß die Kippfrequenz der Abtastlwewegung oder -bewegungen so gewählt ist, daß jeder Teil der Materie dem Elektronenstrahl ausgesetzt ist.
  15. 15. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Bestrahlungswirkung auf eine der beiden einander entgegengesetzten Bewegungsrichtungen des Elektronenstrahles beschränkt ist.
  16. 16. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch die Erzeugung eines gewünschten Abtastmusters durch zwei Wechselstroinwirkungen auf den Elektronenstrahl von unabhängiger Frequenz und Größe.
  17. 17. Verfahren nach einem der vorhergehende Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß auf einanderfolgende Al)tastbelvegungen des Elektronenstrahles veranlaßt werden, sich zu überdecken.
  18. 18. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß gleichmäßige Ionisierung auch bei großer Länge der überstrichenen- Strecke, d. h. bei großem Abtastwinkel, dadurch erreicht wird, daß die Eindringtiefe des Elektronenstrahles in die bestrahlte Materie eingestellt oder die Ablenkgeschwindigkeit des Elektronenstrahles geändert wird.
  19. 19. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß 5 Substanzen behandelt werden, die zur Aufnahme durch den menschlichen oder tierischen Körper bestimmt sind.
  20. 20. Verfahren nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, daß der Elektronenstrahl verwendet wird, um ein Nahrungs- oder Arzneimittel zu behandeln, derart daß es sterilisiert wird, wobei nachteilige Wirkungen auf dessen Geschmack, Farbe, Nährwert und Wirksamkeit verringert werden.
  21. 21. Vorrichtung zum Bestrahlen von Materie durch das Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch Mitte1 zur Schaffung eines Elektronenstrahles von hoher Energie und hoher Intensität, Mittel zum Tragen der Materie in der Bahn des Strahles und Mittel, die den Strahl veranlassen, bezüglich der zu bestrahlenden Materie eine schnelle Abtast- oder Schwingungsbewegung auszuführen.
  22. 22. Vorrichtung nach Anspruch 21, gekennzeichnet durch eine den Strahl elektromagnetisch oder elektrostatisch ablenkende Vorrichtung, die zwischen der Ursprungsfläche des Elektronenstrahles und der zu bestrahlenden Materie angeordnet und so eingerichtet ist, daß sie durch einen Wechselstrom betätigt wird.
  23. 23. Vorrichtung nach Anspruch 21 oder 22, gekennzeichnet durch Einrichtungen zur Ablenkung des Elektronenstrahles auf zwei Bahnen.
  24. 24. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 21 bis 23, dadurch gekennzeichnet, daß die zu behandelnde Materie von einer beweglichen Fördereinrichtung getragen wird.
  25. 25. Vorrichtung nach Anspruch 24, dadurch gekennzeichnet, daß die Bewegung des Elektronenstrahles quer zur Bewegungsbahn der Fördereinrichtung bewirkt wird.
  26. 26. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 21 bis 25, dadurch gekennzeichnet, daß der Elek- tronenstrahl von einer Beschleunigungsröhre erzeugt wird.
  27. 27. Vorrichtung nach Anspruch 26, dadurch gekennzeichnet, daß die Beschleunigungsröhre in einem nach außen erweiterten Teil endet, der in ein verlängertes, schmales Ausgangsfenster übergeht, um sich der Abtastbewegung des Strahles anzupassen.
  28. 28. Vorrichtung nach Anspruch 27, dadurch gekennzeichnet, daß die Vorrichtung zur Ablenkung des Strahles in dem nach außen erweiterten Teil der Beschleunigungsröhre angeordnet ist.
  29. 29. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 27 und 28, dadurch gekennzeichnet, daß die Beschleunigungsröhre ein zweites Fenster aufweist, das von dem Austrittsfenster einen merklichen Abstand hat und hinter diesem liegt, wobei der Raum zwischen den Fenstern mit einem Gas gefüllt ist, und daß die Einlaß- und Auslaßkanäle einer Pumpe für dieses Gas in Verbindung mit diesem Raum sind, wobei der Auslaßkanal in eine Düse nahe dem zweiten Fenster mündet.
  30. 30. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 21 bis 29, dadurch gekennzeichnet, daß aufeinanderfolgende Abtastbewegungen des Elektronenstrahles veranlaßt werden, sich zu überdecken.
    In Betracht gezogene Druckschriften: Deutsche Patentschriften Nr. 541 710, 682 932; USA.-Patentschrift Nr. 2 429 217; Journal of Appli)ed - Physics, Bd. 19, 1948, S. 599 bis 604.
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