DD282512B5 - Zweistrahl-interferometer - Google Patents

Description

Hierzu 2 Seiten Zeichnungen

Anwendungsgebiet der Erfindung

Die Erfindung betrifft ein Zweistrahl-Interferometer zur Messung der Gestalt insbesondere technischer Oberflächen, vor allem ultrapräzisionsbearbeiteter Oberflächen, nach dem Interferenzprinzip.

Charakteristik des bekannten Standes der Technik

Es sind optische Anordnungen bekannt, bei denen mit Hilfe eines Fizeau-Interferometers die Abweichung einer Prüflingsoberfläche von der Ebenheit bestimmt wird. Um eine reine Zweistrahl-Interfenanzverteilung für die Anwendung des vorteilhaften Phasn-Sampling-Verfahrenszu erhalten, ist nach DD-PS 219565 bekannt, zwischen der Prüflingsoberfläche und der Teilerplatte des Fizeau-Interferometers einen Luftkeil einzujustieren und dem Fiezau-Interferomoter ein Keplersches Teleskop folgen zu lassen, in dessen Fokusebene eine Spaltblende die störenden Mehrfachreflexionen ausblendet, so daß nur ein Referenz-Strahlenbündel und ein einmal an der Prüflingsoberflächc reflektiertes Strahlenbündel des Teleskop passieren können. In der am Ausgang des Teleskops zur Pi üflingsoberfläche konjugierten Ebene befindet sich ein senkrecht zu seinen Gitterlinien verschiebbares Transmissionsgitter als Phasensteller.

Nachteilig zum einen ist bei dieser Anordnung jedoch, daß die mittels Teleskop und Spaltblende vor dem Gitter erfolgende Raumfrequenz-Filterung unverzichtbar ist, damit zwischen den mehrfachreflektierten Strahlenbündeln und den Strahlenbündeln in den Beugungsordnungen des Gitters in einer dem Gitter nachgeordneten Fokusebene keine Vermischung der Bündel auftritt und so eine Zweistrahl-Interferenz gegeben ist. Dies bedeutet, daß stets zwei Fokussierungen benötigt werden, die mindestens zwei Teleskope bis zur Abbildung auf einem Bildempfänger erforderlich machen.

Andererseits ist experimentell nachweisbar, daß es bei diesem Fizeau-Interferometer mit nachgeschaltetem Gitter nicht möglich ist, für Prüflinge mit stark unterschiedlichen Reflexionsgraden wie z. B. einerseits Aluminium- und andererseits Glasflächen gleichermaßen gut sichtbare und damit kontrastreiche Interferenzen zu erhalten. Dies ist darin begründet, daß die Lichtintensität in den verschiedenen Beugungsordnungen des Gitters, z.B. in der nullten und ersten für ein gegebenes Liniengitter nicht optimal an den Reflexionsgrad des Prüflings angepaßt ist. Das Herstellen von Gittern mit jeweils angepaßten Intensitätsverhältnis zwischen nullterund erster Beugungsordnung ist technologisch sehr schwierig, so daß eine Anpassung an Prüflinge mit unterschiedlichen Reflexionsvermögen aufwendig ist.

Bei der Prüfung von Oberflächen mit einem Twyman-Green-Interferometer entsteht immer die benötigte Zweistrahl-Interferenzverteilung und auch die Amplitudenanpassung in den interferierenden Strahlenbündeln aufgrund unterschiedlicher Roflexionsgrade der Prüflinge ist vergleichsweise einfach realisierbar. Jedoch stellen die Twyman-Green-Interferometer bekannterweise stets sehr hohe Anforderungen an die Optik im Prüflingsstrahlengang, da Prüflings- und Referenzstrahlengang völlig voneinander getrennt sind (siehe Merkel u.a. in Feingerätetechnik 37 (1988)8. S.344). Diese Tatsache erklärt die Empfindlichkeit gegenüber dem Einfluß von Vibrationen. Wegen des großen optischen Gangunterschiedes in den beiden Strahlengängen muß ein frequenzstabilisierter Laser verwendet werden (Prospekt Fa. Wyko-Corporation/USA, 1936, Digital-Interferometer-Systems). Bei den nach US-PS 4201437 und US-PS 4594003 bekannten Fizeau-Interferometern sind die für Twymann-Green-Interferometer aufgeführten Nachteile überwunden, jedoch sind keine Maßnahmen getroffen, um störende Mehrfachreflexionen zu Mnierbinden. Diese beeinflussen die für die Phase Sampling-Technik erforderliche Zweistrahl-Struktur besonders bei metallischen Prüflingen sehr wesentlich und provozieren Meßfehler, die z.T. nicht erkannt werden können und auch numerisch nicht zu eliminieren sind.

Das Stellen der Phase mit piezoelektrischen Phasenstellem, z.G. im Mark IV-lnterferometer der Fa. Zygo Corp./USA (Prospekt SB-0132,1986-1186-5 M) direkt im Fizeau-Interferometer erfordert eine besonders hohe Präzision, wenn für die großen optischen Elemente mit z.B. 100 mm Durchmesser mehrere Piezosteller, z.B. drei, verwendet werden müssen. Außerdem muß bei diesem Interferometer zur Anpassung an das Reflexionsvermögen des Prüflings die Referenzfläche ausgetauscht werden, so daß z. B. eine 90% aufweisende Referenzfläche bei Metall eingesetzt wird und eine 4%-Referenzfläche bei Glas.

Ziel der Erfindung

Ziel der Erfindung ist es, einen kostengünstigen mechanisch-optischen Aufbau und eine Verbesserung der Meßgenauigkeit bei der Gestaltsmessung technischer Oberflächen zu erreichen.

-3- 282 512 Darlegung des Wesens der Erfindung

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, das Volumen der Meßanordnung zu verringern und durch die Gewährleistung eines stets hohen Interferenz-Kontrastes für Zweistrahl-lnterfer-.nzen weitgehend unabhängig vom Reflexionsgrad des Prüflings die Meßgenauigkeit zu orhöhen.

Erfindungsgemäß wird dies durch ein Zweistrahl-Interferometer mit einer Prüflingsoberfläche und einer teilverspiegelten Raferenzfläche erreicht, wobei das Interferometer eine monochromatische Lichtquelle besitzt und so ein auf die teilverspiegelte Referenzfläche treffendes Eingangs-Strahlenbündel, ein an dieser reflektiertes Referenzstrahlenbündel und mindestens ein an der Prüflingsoberfläche reflektiertes Prüflings-Strahlenbündel mit zur Referenzstrahlenbündelachse geneigter Achse vorhanden ist, indem am Ausgang des Interferometers zwei voneinander getrennte, teilverspiegelte Flächen einen Raum begrenzen und diese im Winkelbereich < 1 Grad keilförmig zueinander angeordnet sind. Dabei sind der Neigungswinkel zwischen den Achsen von Referenz- und Prüflingsstrahlenbündel und der Winkel zwischen den beiden teilverspiegelten Flächen so aufeinander abgestimmt, daß zwischen der zweiten teilverspiegelten Fläche und einem Objektiv Teilstrahlenbündel-Paare bestehen, die genau aus je einem Teilreferenzstrahlenbündel und einem Teilprüflings-Strahlenbündel gebildet sind, wobei zwischen diesen Parallelität besteht, und dem Objektiv in seiner Brennebene eine Spaltblende nachgeordnet ist, deren Spaltbreite näherungsweise dem Abstand der Foki der Teilstrahlenbündel-Paare in der Fokusebene des Objektivs entspricht.

Zweckmäßigerweise ist der Abstand zwischen den teilversiegelten Flächen variierbar gestaltet. Dadurch ist es möglich, den Abstand so einzustellen, daß die Referenz- und die Prüfungsoberfläche auch bei unterschiedlicher Prüflingslage in eine gemeinsame Ebene abgebildet werden. Außerdem kann hierdurch die Phase im Interferenzsignal verändert und so die vorteilhafte Phase-Sampling-Methode benutzt werden.

Andererseits können die beiden teilverspiegelten Flächen die Außenflächen eines Keiles aus refraktivem Material bilden.

Dadurch ergibt sich eine besonders kompakte Anordnung im optischen Aufbau.

Vorteilhafterweise ist bzw. sind ein oder mehrere Keile aus refraktivem Material quer zur Strahlrichtung verschiebbar angeordnet und der Keil bzw. die Keile mit einem motorischen, steuerbaren Antrieb und einem Rechner verbunden, wobei sich im gemeinsamen Strahlraum jeweils nur ein Keil bzw. ein aus mehreren Keilen ausgewählter Keil befindet. Dabei können die mit dem Antrieb verbundenen Keile untereinander jeweils unterschiedliche Reflexionsgrade der teilverspiegelten Schichten aufweisen.

Eine Verschiebbarkeit des Keils quer zur Strahlrichtung bewirkt, daß so die Phase im Interferenzsignal auf sehr einfache Weise zwischen 0 und 2Pi verstellt und damit das sehr geeignete Phase-Sampling-Verfahren angewendet werden kann.

Der Einsatz von verschiedenen Keilen unterschiedlicher Reflexionsgrade der teilverspiegelten Schichten ermöglicht es, so für den zu untersuchenden Prüfling den Keil mit dem für einen maximalen Kontrast bestangepaßten Reflexionsgrad einsetzen zu können.

Um einen Interferenzkontrast nahe 100% für metallische, also hochreflektierende, Prüflinge zu erreichen, sind bei einem Refjexions- und Transmissionsgrad der teilverspiegelten Referenzfläche von jeweils etwa 50% die teilverspiegelten Schichten des Keiles mit jeweils etwa 70% Reflexionsgrad ausgelegt. Dagegen sind für unverspiegelte Glas-Prüflinge die teilverspiegelten Schichten auf dem Keil mit etwa 15% Reflexionsgrad hergestellt.

Für Prüflinge von entspiegelten Glasflächen mit einem Restreflexionsgrad von 0,5% wird der Keil als unverspiegelter Glaskeil gestaltet. Es ist aber auch möglich, ungleiche Schichten auf die Keile aufzubringen. So kann der Keil für unverspiegelte Glasoberflächen auch eine Nacktfläche mit 4% Reflexionsgrad unu eine mit etwa 40% Reflexionsgrad teilverspiegelte Schicht aufweisen.

Um eine Angleichung der Helligkeit der Interferenzbilder, wie sie bei verschiedenen teilverspiegelten Keilen entstehen, können die hochreflektierenden Schichten mit absorbierenden Teilerschichten versehen sein.

Nach dem Raum, den die teilverspiegelten Flächen bilden, ist vorteilhafterweise ein Objektiv mit einer Spaltblende angeordnet, um durch die Raumfrequenzfilterung der Spaltblende die Zweistrahlinterferenz zu gewährleisten.

Der Spaltblende kann ein Abbildungsobjektiv folgen und diesem ein Bildempfänger, der mit einem Rechner gekoppelt ist.

Das Interferometer ist vorzugsweise ein Fizeau-Interferometer, wobei das auf die Referenzfläche treffende Eingangs-Strahlenbündel als plane oder gekrümmte Wellenfront entsprechend der planen oder gekrümmten Prüflingsoberfläche ausgebildet ist. Die Referenzfläche kann plan ausgeführt und zur Achse des Eingangs-Strahlenbündels leicht gekippt im gemeinsamen Strahlraum angeordnet sein, öo daß ein Luftkei! besteht, oder die Krümmungsmittelpunkte eines sphärischen Eingangs-Strahlenbündels und einer sphärischen Referenzfläche sind dicht zusammengelegt, wobei jedoch keine Koinzidenz besteht.

Die Krümmun.gsmittelpunkte von Prüflingsoberfläche und sphärischem Eingangs-Strahlenbündel sind vorteilhafterweise näherungsweise zur Koinzidenz gebracht bzw. bei einem planen Prüfling näherungsweise senkrecht zur Achse eines planen Eingangs-Strahlenbündels angeordnet. Dies führt dazu, daß das PriHlingsstrahlenbündel unabhängig von der Lage der Prüflingsoberfläche in sich zurückreflektiert wird und so kein unerwünschtes Auswandern der Prüflingsstrahlenbündel auftritt.

Die plane Referenzfläche kann weiterhin am Ausgang eines Kollimator-Objektivs angeordnet sein.

Die gekrümmte Referenzfläche kann als Fläche auf einem Meniskus oder als letzte Linsenfläche eines Fokussierobjektivs sein. So ist der Abstand zwischen der Prüflingsoberfläche und der Referenzfläche ein Miniumum.

Zwischen dem Raum, den die teilverspiegelten Flächen bilden, und der Refarenzfläche, kann eine Abbildungsstufe angeordnet sein, die als Prismenanamorphot oder als Teleskop ausgebildet sein kann. Dadurch wird die Diverge iz zwischen den Aciisendes Prüflings· und Referenzstrahlenbündels dem Winkel des Keils aus refraktivem Material so angepaßt, daß parallele Teilstrahlenbündelpaare bestehen.

Zwischen dem Raum, den die beiden teilverspiegelten Flächen bilden, und der Referenzfläche kann eine teilverspiegelte Schicht angeordnet sein. Dies dient entweder zur Einkopplung des Eingangs-Strahlenbündels oder zur Auskopplung von Referenz- und Prüflingsstrahlenbündeln, um diese vom Ausgangs-Strahlenbündel zu trennen.

Ausf Uhrungsbeispiele

Die Erfindung soll nachstehend an Ausführungsbeispielen näher erläutert werden. Die zugehörigen Zeichnungen zeigen:

Fig. 1: ein Fizeau-Interferometer mit streifendem Lichteinfall und einjustiertem Luftkeil und Abbildungssystem für Bildempfänger

Fig. 2 a: wie Fig. 1, aber mit um 90° gedrehtem Luftkeil Fig. 2 b: eine Draufsicht aut das Meßprisma der Fig. 2 a

Fig. 3: ein Fizeau-Interferometer mit senkrechtem Lichteinfall und einjustiertem Luftkeil Fig. 4: den Strahlenverlauf im Phasenkeil

1. In diesem Ausführungsbeispiel wird ein Interferometer dargestellt, welches besonders für die Prüfung technischer Oberflächen wie z. B. von diamantbearbeiteten Präzisionsoberflächen geeignet ist.

Ein Eingangs-Strahlenbündel 1 einer hier nicht näher dargestellten monochromatischen Lichtquelle durchsetzt ein Meßprisma 2 mit einer teilverspiegelten Referenzfläche 3 und wird hierbei in bekannter Weise in ein Referenzstrahlenbündel R und ein erstes Prüflingsstrahlenbündel P aufgespalten, welches an einer der Referenzfläche 3 gegenüberliegenden Prüflingsoberfläche 4 reflektiert wird. Zwischen der Referenzfläche 3 und der Prüflingsoberfläche 4 ist ein Luftkeil 5 von 0,5 Grad einjustiert. Beide Strahlenbündel R und P durchsetzen zueinander geneigt, unter Verkleinerung ihres Querschnittes und Vergrößerung ihres Neigungswinkels zueinander eine Abbildungsstufe 6, hier als anamorphotisches Abbildungssystem ausgeführt, und treten in einen quer verschiebbaren Phasenkeil 7 aus Glas ein, dessen Begrenzungsflächen teilverspiegelt und keilförmig zueinander angeordnet sind. Dabei durchsetzen das Referenzstrahienbündel R und das Prüflingsstrahlenbündel P den Phasenkeil 7 und erfahren dabei Zickzack-Reflexionen, wobei Teilstrahlenbündel entstehen. Der ein justierte Luftkeil 5 von 0,5 G rad und der Winkel zwischen den beiden teilverspiegelten Flächen 8; 9 des Phasenkeils 7 sind so aufeinander abgestimmt, daß zwischen der zweiten teilverspiegelten Fläche 9 und einem Objektiv 10 Teilstrahlenbündel-Paare bestehen, die genau aus je einem Teilreferenz-Strahlenbündel und einem Teilprüflings-Strahlenbündel gebildet sind, z.B.ausden Teilstrahlenbündeln R1 und PO, welche sich parallel zueinander ausbreiten. Dem Objektiv 10 ist eine Spaltblende 11 nachgeordnet, deren Spaltbreite so bemessen ist, daß nur die Foki der Teilstrahlenbündel R1 und PO hindurch gelassen werden. Alle übrigen Teilstrahlenbündel werden durch die Spaltblende 11 gesperrt.

Durch ein Abbildungsobjektiv 12 wird die Prüfl^:ngsoberfläche4 auf einen Bildempfänger 13 Γη Form einer CCD-Kamera abgebildet, der mit einem kompletten Rechner 14 verbunden ist

Der Phasenkeil 7 wird durch einen Antrieb 15, vom Rechner 14 gesteuert, definiert bewegt (Fig. 1).

2. Fig.2a zeigt, daß der Luftkeil 5 um 90 Grad gedreht einjustiert sein kann, wodurch gleichfalls der Phasenkeil 7 mit den nachfolgenden Abbildungselementen um 90 Grad gedreht ist.

Fig. 2 b zeigt eine Draufsicht auf das Meßprisma 2 und die Prüflingsoberfläche 4 gemäß Fig. 2 a. Diese Anordnung ist vorteilhaft, wenn der Prüfling spaltförmig ausgeleuchtet wird.

3. Fig.3 zeigt ein Fizeau-Interferometer mit senkrechtem Lichteinfall.

Ein tingangs-Strahlen'oündel 1 durchsetzt einen Teilerwürfel 16 und wird durch ein Teleskop 17, bestehend aus den Objektiven 17a und 17 b, auf die Größe des Prüflings aufgeweitet. Es gelangt auf eine Referenzfläche 19, an der das Referenzstrahlenbündel R reflektiert wird. Das hindurchgelassenen Strahlenbündel trifft auf die Prüflingsoberfläche 4 und es entsteht das Prüflingsstrahlenbündc! P. Beide Strahlenbündel Rund P passieren das Teleskop 17, wobei durch Zickzack-Reflexion entstehende Strahlenbündel durch eine Spaltblende 18 gesperrt werden.

Über den Teilerwürfel 16 werden das Referenzstrahlenbündel R und das Prüflingsstrahlenbündel P ausgekoppelt. Diese gelangen auf den verschiebbaren Phasenkeil 7 mit den-teil verspiegelten Begrenzungsflächen 8 und 9, wobei der Phasenkeil 7 mit seiner teilverspiegelten Schicht näherungsvyeise in einer zur Prüflingsoberfläche 4 konjugierten Ebene steht. Dia übrige Gestaltung entspricht dem Ausführungsbeispiel 1.

In Fig.4 ist der Phasenkeil 7 mit dem auftreffenden Prüflingsstrahlenbündel P und dem auftreffenden Referenzstrahlenbündel R dargestellt, wobei das Prüflingsstrahlenbündel P die beiden teilverspiegelten Flächen 8 und 9 als PO passiert und das Referenzstrahlenbündel R die teilverspiegelte Fläche 8 passiert, anschließend an den teilverspiegelten Flächen 9 und 8 eine Zickzack-Reflexion erfährt und die teiiverspiegelte Schicht 9 als R1 passiert, wodurch sich das Teilreferenz- und das Teilprüflingsstrahlenbündel R1 und PO parallel zueinander ausbreiten und ein Teilstrahlenbündel-Paar R1PO bilden. Die weiteren vielfach auftretenden Teilstrahlenbündel z.B. R2, R3... und P1, P2... werden durch die nachfolgende Spaltblende 11, wie in Fig.3 dargestellt, gesperrt.

Claims (16)

1. Zweistrahl-Inferferometer mit einer Prüflingsoberfläche und einer teilverspiegelten Referenzfläche, wobei das Interferometei eine monochromatische Lichtquelle besitzt, ein auf die teilverspiegelte Referenzfläche treffendes Eingangs-Strahlenbündel, ein an dieser reflektiertes Referenzstrahlenbündel (R) und mindestens ein an der Prüflingsoberflächo reflektiertes Prüflings-Strahlenbündel (P) mit zur Referenzstrahlenbündelachse geneigter Achse vorhanden ist, gekennzeichnet dadurch, daß am Ausgang dos Interferometers zwei vonainander getrennte, teilverspiegelte Flächen (8; 9) einen Raum begrenzen und diese im Winkelbereich < 1 Grad keilförmig zueinander angeordnet sind, wobei der Neigungswinkel zwischen den Achsen von Referenz- und Prüflingsstrahlenbündel und der Winkel zwischen den beiden teilverspiegelten Flächen (8; 9) so aufeinander abgestimmt sind, daß zwischen der zweiten teilverspiegelten Fläche (8) und einem Objektiv (10) Teilstrahlenbündel-Paare bestehen, die genau aus je einem Teilreferenz-Strahlenbündel (R, + ^) und einem Teilprüflings-Strahlenbündel (P,) gebildet sind, wobei zwischen diesen Parallelität besteht, und dem Objektiv (10) in seiner Brennebene eine Spaltblende (11) nachgeordnet ist, deren Spaltbreite näherungsweise dem Abstand der Foki der Teilstrahlenbündel-Paare in der Fokusebene des Objektivs (10) entspricht.

2. Zweistrahl-Interferorneter nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Abstand zwischen den beiden teilverspiegelten Flächen (8; 9) variierbar ist.

3. Zweistrahl-Interferometer nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die beiden teilverspiegelten Flächen (8; 9) die Außenflächen eines Keiles (7) aus refraktivem Material bilden.

4. Zweistrahl-Interferometer nach Anspruch 1 und 3, dadurch gekennzeichnet, daß ein oder mehrere Keile (7) aus refraktivsm Material quer zur Strahlrichtung verschiebbar angeordnet ist/sind und der Keil oderdie Keile (7) mit einem motorischen, steuerbaren Antrieb (1f) und einem Rechner (14) verbunden ist/sind, wobei sich im gemeinsamen Strahlraum jeweils nur ein Keil (7) bzw. ein aus mehreren Keilen (7) ausgewählter Keil (7) befindet.

5. Zweistrahl-Interferometer nach Anspruch 1,3 und 4, dadurch gekennzeichnet, daß die mit dem Antrieb (15) verbundenen Keile (7) untereinander jeweils unterschiedliche Reflexionsgrade der teilverspiegelten Schichten (8; 9) aufweisen.

6. Zweistrahl-Interferometer nach Anspruch 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß nach dem Raum, den die teilverspiegelten Flächen (8; 9) bilden, ein Objektiv (10) mit einer Spaltblende (11) angeordnet ist.

7. Zweistrahl-Interferometer nach Anspruch 1 und 6, dadurch gekennzeichnet, daß der Spaltblende (11) ein Abbildungsobjektiv (12) folgt und diesem ein Bildempfänger (13), der mit einem Rechner gekoppelt ist, nachgeordnet ist.

8. Zweistrahl-Interferometer nach Anspruch 1 und 7, dadurch gekennzeichnet, daß das Interferometer ein Fizeau-Interferometer ist und daß das auf die Referenzfläche (3) treffende Eingangs-Strahlenbündel (1) bei einer planen Prüflingsoberfläche (4) als plane und bei einer gekrümmten Prüflingsoberfläche (4) als gekrümmte Wellenfront ausgebildet ist.

9. Zweistrahl-Interferometer nach Anspruch 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Referenzfläche (3) bei einer planen Prüflingsoberfläche (4) plan, bei einer konvexen Prüflingsoberfläche (4) konkav und bei einer konkaven Prüflingsoberfläche (4) l.onvex ausgeführt ist.

10. Zweistrahl-Interferometer nach Anspruch 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß die plane Referenzfläche (3) zur Achse des Eingangs-Strahlenbünde's (1) leicht gekippt im gemeinsamen Strahlraum angeordnet isi, so daß ein Luftkeil (5) besteht oder die Krümmungsmittelpunkte eines sphärischen Eingangs-Strahlenbündels (1) und einer sphärischen Referenzfläche (7) dicht zusammengelegt sind, wobei jedoch keine Koinzidenz besteht.

11. Zweistrahl-Interferometer nach Anspruch 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Krümmimgsmittelpunkte von Prüflingsoberfläche (4) und einem sphärischen Eingangs-Strahlenbündel (1) näherungsvveisezur Koinzidenz gebracht sind, bzw. bei einem planen Prüfling dieser näherungsweise senkrecht zur Achse eines planen Eingangs-Strahlenbündels angeordnet ist.

12. Zweistrahl-Interferometer nach Anspruch 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß die plane Referenzfläche am Ausgang eines Kollimator-Objektivs angeordnet ist.

13. Zweistrahl-Interferometer nach Anspruch 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß die gekrümmte Referenzfläche (3) als Fläche auf einem Meniskus oder als Linsenfläche eines Fokussierobjektivs ausgebildet ist.

14. Zweistrahl-Interferometer nach Anspruch 1 bis 13, dadurch gekennzeichi et, daß sich jwipchan dem Raum, den die teilverspiegelten Flächen (8; 9) bilden und der Referenzfläche (3) eine Abbildungsstufe (6) angeordnet ist.

15. Zweistrahl-Interferometer nach Anspruch 1 bis 14, dadurch gekennzeichnet, daß die Abbildungsstufe (6) als Prismenanamorphot oder als Teleskop ausgebildet ist.

16. Zweistrahl-Interferometer nach Anspruch 1 bis 15, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen dem Raum, den die beiden teilverspiegelten Flächen (8; 9) bilden und der Referenzfläche (3) eine teilverspiegelte Schicht angeordnet ist.