DD282512A5

DD282512A5 - Zweistrahl-interferometer

Info

Publication number: DD282512A5
Application number: DD32767689A
Authority: DD
Inventors: Klaus Koerner; Ludorit Nyarsik; Wolfgang Stadthaus; Joachim Puder; Torsten Dolkeit
Original assignee: Akad Wissenschaften Ddr
Priority date: 1989-04-17
Filing date: 1989-04-17
Publication date: 1990-09-12
Also published as: DE4012503A1

Abstract

Die Erfindung betrifft ein Zweistrahl-Interferometer zur Messung der Gestalt, insbesondere ultrapraezisionsbearbeiteter Oberflaechen, nach dem Interferenzprinzip. Erfindungsgemaesz begrenzen am Ausgang eines Interferometers mit einer zur Referenzstrahlenbuendelachse geneigten Prueflingsstrahlenbuendelachse zwei teilverspiegelte Flaechen einen Raum, die im Winkelbereich 1 Grad keilfoermig zueinander angeordnet sind, wobei der Neigungswinkel der Buendelachsen und der Winkel zwischen den beiden teilverspiegelten Flaechen, die die Auszenflaechen eines quer verschiebbaren Glaskeiles bilden koennen, so aufeinander abgestimmt sind, dasz zwischen der zweiten teilverspiegelten Flaeche und einem Objektiv durch eine Zickzack-Reflexion zwischen den beiden teilverspiegelten Flaechen und durch eine Transmission dieser von jeweils einem Teilstrahlenbuendel, Teilstrahlenbuendel-Paare bestehen, die genau aus je einem Teilreferenz-Strahlenbuendel und einem Teilprueflings-Strahlenbuendel gebildet sind. Durch Verschiebung des Glaskeiles wird es moeglich, die Phase im Interferogramm definiert zu verstellen. Durch eine geeignete Teilverspiegelung des Glaskeiles wird ein hoher Kontrast im Interferogramm erreicht. Fig. 1{Interferometer; Oberflaechenpruefung; Ultrapraezisionstechnik; Zweistrahl-Interferometer; Luftkeil; Referenzflaeche; teilverspiegelte Schicht; Phasenkeil; CCD-Empfaenger}

Description

Hierzu 2 Seiten Zeichnungen

Anwendungsgebiet der Erfindung

Die Erfindung betrifft oin Zweistrahl-Interferometer zur Messung der Gestalt insbesondere technischer Oberflächen, vor allem ultrapräzisionsbearbeiteter Oberflächen, nach dem Interferenzprinzip.

Charakteristik des bekannten Standes der Technik

Es sind optische Anordnungen bekannt, bei denen mit Hilfe eines Fizeau-Interferometers die Abweichung einer Prüflingsoberfläche von der Ebenheit bestimmt wird. Um eine reine Zweistrahl-Ini3rferenzverteiiung für die Anwendung des vorteilhaften Phase-Sampling-Verfahrenszu erhalten, ist nach DD-PS 219 565 bekannt, zwischen der Prüfüngsoberfläche und der Teilerplatte des rizeau -Interferometers einen Luftkeil einzujustieren und dem Fiezau-Interforometer ein Keplersches Teleskop folgen zu lassen, in dessen Fokusebene eine Spaltblende die störenden Mehrfachreflexionen tiusblendet, so daß nur ein Referenz-Strahlenbündel und ein einmal an der Prüfüngsoberfläche reflektiertes Strahlerbündel des Teleskop passieren können. In der am Ausgang des Teleskops zur Prüfüngsoberfläche konjugierten Ebene befindet sich ein senkrecht zu seinen Gitterlinien verschiebbares Transmissionsgitter als Phasensteiler.

Nachteilig zum einen ist bei dieser Anordnung jedoch, daß die mittels Teleskop und Spaltblende vor dem Gitter erfolgende Raumfrequenz-Filterung unver?^:chtbar ist, damit zwischen den mehrfachreflektierten Strahlenbündeln und den Strahlenbündeln in den Beugungsordnungen des Gitters in einer dem Gitter nachgeordneten Fokusenene keine Vermischung der Bündel auftritt und so eine Zweistrahl-Interferenz gegeben ist. Dies bedeutet, daß stets zwei Fokussierungen benötigt werden, die mindestens zwei Teleskope bis zur Abbildung auf einem Bildempfänger erforderlich machen.

Andererseits ist experimentell nachweisbar, daß es bei diesem Fizeau-Interferometer mit nachgeschaltetem Gitter nicht mö jlich ist, für Prüflinge mit stark unterschiedlichen Reflexionsgraden wie z. B. einerseits Aluminium- und andererseits Glasflächen gleichermaßen gut sichtbare und damit kontrastreiche Interferenzen zu erhalten. Dies ist dann begründet, daß die Lichtintensität in den verschiedenen Beugungsordnungen des Gitters, z. B. in der nullten und ersten für ein gegebenes Liniengitter niclii optimal an den Reflexionsgrad des Prüflings angepaßt ist. Das Herstellen von Gittern mit jeweils angepaßten Intensitätsverhältnis zwischen nullter und erster Beugungsordnung ist technologisch sehr schwierig, so daß eine Anpassung an Prüflinge mit unterschiedlichen Reflexionsvermögen aufwendig ist.

Bei der Prüfung von Oberflächen mit einem Twyman-Green-Interferometer entsteht immer die benötigte Zweistrahl-Interferenzverteilung und auch die Amplitudenanpassung in den interferierenden Strahlenbündeln aufgrund unterschiedlicher Reflexionsgrade der Prüflinge ist vergleichsweise einfach realisierbar. Jedoch stellen die Twyman-Green-Interferometer bekannterweise stets sehr hohe Anforderungen an die Optik im Prüflingsstrahlengang, da Prüflings- und Referenzstrahlengang völlig voneinander getrennt sind (siehe Merkel u. a. in Feingerätetechnik 37 (1988) 8. S. 344). Diese Tatsache erklärt die Empfindlichkeit gegenüber dem Einfluß von Vibrationen. Wegen des großen optischen Gangunterschiedes in den beiden Strahlengk' gen muß ein frequenzstabilisierter Laser verwendet werden (Prospekt Fa. Wyko-Corporation/USA, 1986, Digital-Interferometer-Systems). Bei den nach US-PS 4201437 und US-PS 4594003 bekannten Fizeau-Interferometern sind die für Twymann-Green-Interferometer aufgeführten Nachteile überwuv ^en, jedoch sind keine Maßnahmen getroffen, um störende Mehrfachreflexionen zu unterbinden. Diese beeinflussen die für die Phase-Sampling-Technik erforderliche Zweistrahl-Struktur besonders bei metallischen Prüflingen sehr wesentlich und provozieren Meßfehler, die z.T. nicht erkannt werden können und auch numerisch nicht zu eliminieren sind.

Das Stellen der Phase mit piezoelektrischen Phasenstellern, z.B. im Mark IV-lnterferometer der Fa. Zygo Corp./USA (Prospekt SB-0132,1986-1186-5 M) direkt im F'zeau-Interferometer erfordert eine besonders hohe Präzision, wenn für die großen optischen Elemente mit z.B. 100mm Durchmesser mehrere Piezosteller, z. B. drei, verwendet werden müssen. Außerdem muß bei diesem Interferometer zur Anpassung an das Reflexionsvermögen des Prüflings die Referenzfläche ausgetauscht werden, so daß z. B. eine 90% aufweisende Referenzfläche bei Metall eingesetzt wird und eine 4%-Referenzfläche bei Glas.

Ziel der Erfindung

Ziel der Erfindung ist es, einen kostengünstigen mechanisch-optischen Aufbau und eine Verbesserung der Meßgenauigkeit bei der Gestaltsmessung technischer Oberflächen zu erreichen.

Darlegung des Wesens der Erfindung

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, das Volumen der Meßanordnung zu verringern und durch die Gewährleistung eines stets hohen Interferenz-Kontrastes für Zweistrahl-Interferenzen weitgehend unabhängig vom Reflexionsgrad des Prüflings die Meßgenauigkeit zu erhöhen.

Erfindungsgemäß wird dies durch ein Zweistrahl-Interferometer mit einer Prüflingsoborfläche und einer teilverspiegelten Referenzfläche erreicht, wobei das Interferometer eine monochromatische Lichtquelle besitzt und so ein auf die teilverspiegelte Referenzfläche treffendes Eingangs-Strahlenbündel, ein an dieser reflektiertes Referenzstrahlenbündel und mindestens ein in der Prüflingsoberfläche reflektiertes Prüflings-Strahlenbündel mit zur Referenzstrahlenbündelachse geneigter Achse vorhanden ist, indem am Ausgang des Interferometers zwei voneinander getrennte, teilverspiegelte Flächen einen Raum begrenzen und diese im Winkeibereich < 1 Grad keilförmig zueinander angeordnet sind. Dabei sind der Neigungswinkel zwischen den Achsen von Referenz- und Prüflingsstrahlenbündel und der Winkel zwischen den beiden teilverspiegelten Flächen so aufeinander abgestimmt, daß zwischen der zweiten teilverspiegelten Fläche und einem Objektiv Teilstrahlenbündel-Paare bestehen, die genau aus je einem Teilreferenzstrahlenbündel und einem Teilprüflings-Strahlenbündel gebildet sind, wobei zwischen diesen Parallelität besteht, und dem Objektiv in seiner Brennebene eine Spaltblende nachgeordnet ist, deren Spaltbreite näherungsweise dem Abstand der Foki der Teilstrahlenbündel-Paare in der Fokusebene des Objektivs entspricht.

Zweckmäßigerweise ist der Abstand zwischen den teilversiegelten Flächen variierbar gestaltet. Dadurch ist es möglich, den Abstand so einzustellen, daß die Referenz- und die Prüfungsoberfläche auch bei unterschiedlicher Prüflingslage in eine gemeinsame Ebene abgebildet werden. Außerdem kann hierdurch die Phase im Interferenzsignal verändert und so die vorteilhafte Phase-Sampling-Methode benutzt werden.

Anderer-eits können die beiden teilverspiegelten Flächen die Außenflächen eines Keiles aus refraktivem Material bilden.

Dadurch ergibt sich eine besonders kompakte Anordnung im optischen Aufbau.

Vorteilhafterweise ist bzw. sind ein odur mehrere Keile aus refraktivem Material quer zur Strahlrichtung verschiebbar angeordnet und der Keil bzw. die Keile mit einem motorischen, steuerbaren Antrieb und einem Rechner verbunden, wobei sich im gemeinsamen Strahlraum jeweils nur ein Keil bzw. ein aus mehreren Keilen ausgewählter Keil befindet. Datsi können die mit dem Antrieb verbundenen Keile i'.itereinander jeweils unterschiedliche Reflexionsgrade der teilverspiegelten Schichten aufweisen.

Eine Verschiebbarkeit des Keils quer zur Strahlrichtung bewirkt, daß so die Phase im Interferenzsignal auf sehr einfache Weise zwischen 0 und 2Pi verstellt und damit das sehr geeignete Phase-Sampling-Verfahren angewendet werden kann.

Der Einsatz von verschiedenen Keilen unterschiedlicher Reflexionsgrade der teilverspiegelten Schichten ermöglicht es, so für den zu untersuchenden Prüfling den Keil mit dem für einen maximalen Kontrast bestangepaßten Reflexionsgrad einsetzen zu können.

Um einen Interferenikontrast nahe 100% für metallische, also hochreflektierende, Prüflinge zu erreichen, sind bei einem Reflexions- und Transmissionsgrad der teilverspiegelten Referenzfläche von jeweils etwa 50% die teilverspiegelten Schichten des Keiles mit jeweils etwa 70% Reflexionsgrad ausgelegt. Dagegen sind für unverspiegelte Glas-Prüflinge dio teilverspiegelten Schichten auf dem Keil mit etwa 15% Reflexionsgrad hergestellt.

Für Prüflinge von entspiegelten Glasflächen mit einem Restreflexionsgrad von 0,5% wird der Keil als unverspiegelter Glaskeil gestaltet. Es ist aber auch möglich, ungleiche Schichten auf die Keile aufzubringen. So kann der Keil für unverspiegelte Glasoberflächen auch eine Nacktfläche mit 4% Reflexionsgrad und eine mit etwa 40% Reflexionsgrad teilverspiegelte Schicht aufweisen.

Um eine Angleichung der Helligkeit der Interferenzbilder, wie sie bei verschiedenen teilverspiegelten Keilen entstehen, können die hochreflektierenden Schichten mit absorbierenden Teilerschichten versehen sein.

Nach dem Raum, den die teilverspiegelten Flächen bilden, ist vorteilhafterweise ein Objektiv mit einer Spaltblende angeordnet, um durch die Raumfrequenzfilterung der Spaltblende die Zweistrahlinterferenz zu gewährleisten.

Der Spaltblende kann ein Abbildungsobjektiv folgen und diesem ein Bildempfänger, der mit einem Rechner gekoppelt ist.

Das Interferometer ist vorzugsweise ein Fizeau-Interferometer, wobei das auf die Referenzfläche treffende Eingangs-Strahlenbündel als plane oder gekrümmte Wellenfront entsprechend der planen oder gekrümmten Prüflingsoberfläche ausgebildet ist. Die Referenzfläche kann plan ausgeführt und zur Achse des Eingangs-Strahlenbündels leicht gekippt im gemeinsamen Strahlraum angeordnet sein, so daß ein Luftkeil besteht, oder die Krümmungsmittelpunkte eines sphärischen Eingangs-Strahlenbündels und einer sphärischen Referoni'fläche sind dicht zusammengelegt, wobei jedoch keine Koinzidenz besteht.

Die Krümmungsmittelpunkte von Prüflinpsoberfläche und sphärischem Eingangs-Strahienbündel sind vorteilhafterweise näherungsweise zur Koinzidenz gebrach; ozw. bei einem planen Prüfling näherungsweise senkrecht zur Achse eines planen Eingangs-Strahlenbündels angeordnet. Dies führt dazu, daß das Prüflingsstrahlenbündel unabhängig von der Lage der Prüflingsoberfläche in sich zurückreflektiert wird und so kein unerwünschtes Auswandern der Prüflingsstrahlenbündel auftritt.

Die plane Referenzfläche kann weiterhin am Ausgang eines Kollimator-Objektivs angeordnet sein.

Die gekrümmte Referenzfläche kann als Fläche auf einem Meniskus oder als letzte Linsenfläche eines Fokussierobjektivs sein. So ist der Abstand zwischen der Prüflingsoberfläche und der Referenzfläche ein Miniumum.

Zwischen dem Raum, den die teilverspiegelten Flächen bilden, und der Referenzfläche, kann eine Abbildungsstufe angeordnet sein, die als Prismenanamorphot oder als Teleskop ausgebildet sein kann. Dadurch wird die Divergenz zwischen den Achsen des Prüflings- und Referenzstrahlenbündels dem Winkel des Keils aus refraktivem Material so angepaßt, daß parallele Teilstrahlenbündelpaare bestehen.

Zwischen dem Raum, den die beiden te! /erspiegelten Flächen bilden, und der Referenzfläche kann eine teilverspiegelte Schicht angeordnet sein. Dies dient entweder zur Einkopplung des Eingangs-Strahlenbündels oder zur Auskopplung von Referenz- und Prüflingsstrahlenbündeln, um diese vom Ausgangs-Strahlenbündel zu trennen.

Ausführungsbeispiele

Die Erfindung soll nachstehend an Ausführungsbeispielen näher erläutert werden. Die zugehörigen Zeichnungen zeigen:

Fig. 1: ein Fizeau-Interferometer mit streifendem Lichteinfall und einjustiertem Luftkeil und Abbildungssystem für Bildempfänger

Fig. 2 a: wie Fig. 1, aber mit um 90" gedrehtem Luftkeil Fig. 2 b: eine Draufsicht auf das Meßprisma der Fig. 2 a

Fig. 3: ein Fizeau-Interferometer mit senkrechtem Lichteinfall und einjustiertem Luftkeil Fif 4: den Strahlenverlauf im Phasenkeil

1. In diesem Ausführungsbeispiel wird ein Interferometer dargestellt, welches besonders für die Prüfung technischer Oberflächen wie z. B. von diamantbearbeiteten Präzisionsoberflächen geeignet ist.

Ein Eingangs-Strahlenbündel 1 einer hier nicht näher dargestellten monochromatischen Lichtquelle durchsetzt ein Meßprisma 2 mit einer teilverspiegelten Referenzfläche 3 und wird hierbei in bekannter Weise in ein Referenzstrahlenbündel R und ein erstes Prüflingsstrahlenbündel P aufgespalten, welches an einer der Referenzfläche 3 gegenüberliegenden Prüflingsoberfläche 4 reflektiert wird. Zwischen der Referenzfläche 3 und der Prüflingsoberfläche 4 ist ein Luftkeil 5 von 0,5 Grad einjustiert. Beide Strahlenbündel R und P durchsetzen zueinander geneigt, unter Verkleinerung ihres Querschnittes und Vergrößerung ihres Neigungswinkels zueinander eine Abbildungsstufe 6, hier als anamorphotisches Abbildungssystem ausgeführt, und treten in einen quer verschiebbaren Phasenkeil 7 aus Glas ein, dessen Begrenzungsflächen teilverspiegelt und keilförmig zueinander angeordnet sind. Dabei durchsetzen das Referenzstrahlenbündel R und das Prüflingsstrahlenbündel P den Phasenkeil 7 und erfahren dabei Zickzack-Reflexionen, wobei Teilstrahlenbündel entstehen. Dereinjustierte Luftkeil 5 von 0,5 Grad und der Winkel zwischen den beiden teilverspiegelten Flächen 8; 9 des Phasenkeils 7 sind so aufeinander abgestimmt, daß zwischen derzweiten teilverspiegelten Fläche 9 und einem Objektiv 10 Teilstrahlenbündel-Paare bestehen, die genau aus je einem Teilreferenz-Strahlenbündel und einem Teilprüflings-Strahlenbündel gebildet sind, z. B. aus den Teilstrahlenbündeln R1 und PO, welche sich parallel zueinander ausbreiten. Dem Objektiv 10 ist eine Spaltblende 11 nachgeordnet, deren Spaltbreite so bemessen ist, daß nur die Foki der Teilstrahlenbündel R1 und PO hindurch gelassen werden. Alle übrigen Teilstrahlenbündel werden durch die Spaltblende 11 gesperrt.

Durch ein Abbildungsobjektiv 12 wird die Prüflingsoberfläche 4 auf einen Bildempfänger 13 Γη Form einer CCD-Kamera abgebildet, der mit einem kompletten Rechner 14 verbunden ist

Der Phasenkeil 7 wird durch einen Antrieb 15, vom Rechner 14 gesteuert, definiert bewegt (Fig. 1).

2. Fig.2a zeigt, daß der Luftkeil 5 um 90 Grad gedreht einjustiert sein kann, wodurch gleichfalls der Phasenkeil 7 mit den nachfolgenden Abbildungselementen um 90 Grad gedreht ist.

Fig. 2 b zeigt eine Draufsicht auf das Meßprisma 2 und die Prüflingsoberfläche 4 gemäß Fig. 2 a. Diese Anordnung ist vorteilhaft, wenn der Prüfling spaltförmig ausgeleuchtet wird.

3. Fig.3 zeigt ein Fizeau-Interferometer mit senkrechtem Lichteinfall.

Ein Eingangs-Strahlenbündel 1 durchsetzt einen Teilerwürfel 16 und wird durch ein Teleskop 17, bestehend aus den Objektiven 17a und 17 b, auf die Größe des Prüflings aufgeweitet. Es gelangt auf eine Referenzfläche 19, an der das Referenzstrahlenbündel R reflektiert wird. Das hindurchgelassenen Strahlenbündel trifft auf die Prüflingsoberfläche 4 und es entsteht das Prüflingsstrahlenbündel P. Beide Strahlenbündel R und P passieren dasTeleskop 17, wobei durch Zickzack-Reflexion entstehende Strahlenbündel durch eine Spaltblende 18 gesperrt werden.

Über den Teilerwürfel 16 werden das Referenzstrahlenbündel R und das Prüflingsstrahlenbündel P ausgekoppelt. Diese gelangen auf den verschiebbaren Phasenkeil 7 mit den-teil verspiegelten Begrenzungsflächen 8 und 9, wobei der Phasenkeil 7 mit seiner toilverspiegeiten Schicht näherungsweise in einer zur Prüflingsoberfläche 4 konjugir 3n Ebene steht. Die übrige Gestaltung entspricht dem Ausführungsbeispiel 1.

In Fig.4 ist der Phasenkeil 7 mit dem auftreffenden Prüflingsstrahlenbündel P unc¹ dem auftreffenden Referenzstrahlenbündel R dargestellt, wobei das Prüflingsstrahlenbündel P die beiden tei verspiegelten Flächen 8 und 9 als PO passiert und das Referenzstrahlenbündel R die teilverspiegelte Fläche 8 passiert, anschließend an den teilverspiegelten Flächen 9 und 8 eine Zickzack-Reflexion erfährt und die teilverspiegelte Schicht 9 als R1 passiert, wodurch sich das Teilrefersnz- und das Teilprüflingsstrahlenbündel R1 und PO parallel zueinander ausbreiten und ein Teilstrahlenbündel-Paar R1PO bilden. Die weiteren vi Mfach auftretenden Teilstrahlenbündel z.B. R2, R3... undP1, P2 .. werden durch die nachfolgende Spaltblende 11, wie in Fig. 3 dargestellt, gesperrt.

Claims

1. Zweisirahl-Inferferometer mit einer Prüflingsoberfläche und einer teilverspiegelten Referenzfläche, wobei das Interferometer eine monochromatische Lichtquelle besitzt, ein auf die tailverspiegelte Referenzfläche treffendes Eingangs-Strahlenbündel, ein an dieser reflektiertes Referenzstrahlenbündel (R) und mindestens ein an der Prüflingsoberfläche reflektiertes Prüflings-Strahlenbündel (P) mit zur R^ferenzstrahlenbündelachse geneigter Achse vorhanden ist, gekennzeichnet dadurch, daß am Ausgang des Interferometers zwei voneinander getrennte, teilverspiegelte Flächen (8; 9) einen Raum begrenzen und diese im Winkelbereich < 1 Grad keilförmig zueinander angeordnet sind, wobei der Neigungswinkel zwischen den Achsen von Referenz- und Prüflingsstrahlenbündel und der Winkel zwischen den beiden teilverspiegelten Flächen (8; 9) so aufeinander abgestimmt smd, daß zwischen der zweiten teilverspiegelten Fläche (8) und einem Objektiv (10) Teilstrahlenbündel-Paare bestehen, die genau aus je einem Teilreferenz-Strahlenbündel (R, + _}) und einem Teilprüflings-Strahlenbündel (P,) gebildet sind, wobei zwischen diesen Parallelität besteht, und dem Objektiv (10) in seiner Brennebene eine Spaltblende (11) nachgeordnet ist, deren Spaltbreite näherungsweise dem Abstand der Foki der Teilstrahlenbündel-Paare in der Fokusebene des Objektivs (10) entspricht.

2. Zweistrahl-Interferometer nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Abstand zwischen den beiden teilverspiegelten Flächen (8; 9) variierbar ist.

3. Zweistrahl-Interferometer nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die beiden teilverspiegelten Flächen (8; 9) die Außenflächen eines Keiles (7) aus refraktivem Material bilden.

<*. Zweistrahl-Interferometer nach Anspruch 1 und 3, dadurch gekennzeichnet, daß ein oder mehrere Keile (7) aus refraktivem Material quer zur Strahlrichtung verschiebbar angeordnet ist/sind und der Keil oder die Keile (7) mit einem motoriscl ien, steuerbaren Antrieb (15) und einem Rechner (14) verbunden ist/sind, wobei sich im gsmeinsamen Strahlraurr ieweils nur ein Keil (7) bzw. ein aus mehreren Keilen (7) ausgewählter Keil (7) befindet.

5. Zweistrahl-Interferometer nach Anspruch 1,3 und 4, dadurch gekennzeichnet, daß die mit dem Antrieb 05) verbundenen Keile (7) untereinander jeweils unterschiedliche Reflexionsgrade der teilverspiegelten Schichten (8; 9) autweisen.

6. Zweistrahl-Interferometer nach Anspruch 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß nach dem Raum, den die teilverspiegelten Flächen (8; 9) bilden, ein Objektiv (10) mit einer Spaltblende (11) ar.'v ordnet ist.

7. Zweistrahl-Interferometer nach Anspruch 1 und 6, dadurch gekennzeichnet, daß der Spaltblende (11) ein Abbildungsobjektiv (12) folgt und diesem ein Bildempfänger (13), der mit einem Rechner gekoppelt ist, nachgeordnet ist.

8. Zweistrahl-Interferometer nach Anspruch 1 und 7, dadurch gekennzeichnet, daß das Interferometer ein Fizeau-Interferometer ist und daß das auf die Referenzfläche (3) treffende Eingangs-Strahlent ündel (1) bei einer planen Prüflingsoberfläche (4) als plane und bei einer gekrümmten Prüflinasoberfläche (4) als gekrümmte Wellenfront ausgebildet ist.

9. Zweistrahl-Interferometer nach Anspruch 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Referenzfläche (3) bei einer planen Prüflingsoberfläche (4; plan, bei einer konvexen Prüflingsoberfläche (4) konkav und bei einer konkaven Prüflingsoberfläche (4) konvex ausgeführt ist.

10. Zweistrahl-Interferometer nach Anspruch 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß die plane Referenzfläche (3) zur Achse des Eingangs-Strahlenbündels (1) leicht gekippt im gemeinsamen Strahlraum angeordnet ist, so daß ein Luftkeil (5) besteht oder die Krümmungsmittelpunkte eines sphärischen Eingangs-Strahlenbündels (1) und einer sphärischen Referenzfläche (7) dicht zusammengelegt sind, wobei jedoch keine Koinzidenz besteht.

11. Zweistrahl-Interferometer nach Anspruch 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Krümmungsmittelpunkte von Prüflingsoberfläche (4) und einem sphärischen Eingangs-Strahlenbündel (1) näherungsweise zur Koinzidenz gebracht sind, bzw. bei einem planen Prüfling dieser näherungsweise senkrecht zur Achse eines planen Eingangs-Strahienbündels angeordnet ist.

12. Zweistrahl-Interferometer nach Anspruch 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß die plane Referenzfläche am Ausgang eines Kollimator-Objektivs angeordnet ist.

13. Zweistrahl-Interferometer nach Anspruch 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß die gekrümmte Referenzfläche (3) als Fläche auf einem Meniskus oder als Linsenfläche eines Fokussierobjektivs ausgebildet ist.

14. Zweistrahl-Interferometer nach Anspruch 1 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß sich zwischen dem Raum, den die teilverspiegelten Flächen (8; 9) bilden und der Referenzfläche (3) eine Abbildungsstufe (6) angeordnet ist.

15. Zweistrahl-Interferometer nach Anspruch 1 bis 14, dadurch gekennzeichnet, daß die Abbildungsstufe (6) als Prismenanamorphot oder als Teleskop ausgebildet ist.

16. Zweistrahl-Interferometer nach Anspruch 1 bis 15, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen dem Raum, den die beiden teilverspiegelten Flächen (8; 9) bilden und der Referenzfläche (3) eine teilverspiegelte Schicht angeordnet ist.