[go: up one dir, main page]

CZ305631B6 - Zařízení pro povlakování vnitřních dutin malého příčného průřezu a velkých podélných rozměrů metodou magnetronového naprašování - Google Patents

Zařízení pro povlakování vnitřních dutin malého příčného průřezu a velkých podélných rozměrů metodou magnetronového naprašování Download PDF

Info

Publication number
CZ305631B6
CZ305631B6 CZ2014-436A CZ2014436A CZ305631B6 CZ 305631 B6 CZ305631 B6 CZ 305631B6 CZ 2014436 A CZ2014436 A CZ 2014436A CZ 305631 B6 CZ305631 B6 CZ 305631B6
Authority
CZ
Czechia
Prior art keywords
vacuum chamber
section
small cross
internal cavities
longitudinal dimensions
Prior art date
Application number
CZ2014-436A
Other languages
English (en)
Other versions
CZ2014436A3 (cs
Inventor
Vítězslav Rouček
Jiří Bulíř
Ján Lančok
Michal Novotný
Original Assignee
Tesla Electrontubes S.R.O.
Fyzikální ústav AV ČR, v.v.i.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tesla Electrontubes S.R.O., Fyzikální ústav AV ČR, v.v.i. filed Critical Tesla Electrontubes S.R.O.
Priority to CZ2014-436A priority Critical patent/CZ305631B6/cs
Publication of CZ2014436A3 publication Critical patent/CZ2014436A3/cs
Publication of CZ305631B6 publication Critical patent/CZ305631B6/cs

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

Zařízení pro povlakování vnitřních dutin malého příčného průřezu a velkých podélných rozměrů metodou magnetronového naprašování tvořené vakuovou komorou (1) protáhlého tvaru upevněnou ve stojanu (15) s připojením na vakuový čerpací systém (2). Vakuová komora (1) je opatřena na jednom konci přírubou (4) s elektrickou vakuovou průchodkou (6). V této přírubě (4) je upevňovací přípravek (10) povlakované součásti (9). S vodičem (7) elektrické vakuové průchodky (6) je spojena odprašovaná katoda (8) ve tvaru tyče, souose uložená v dutině povlakované součásti (9). Na druhém uzavřeném konci (17) má vakuová komora (1) otvor přívodu (3) pracovního plynu. Stojan (15) je spojen s pojezdovou dráhou, na níž je posuvně uložen držák (16) prstencového magnetu (13), který je uložen okolo vakuové komory (1).

Description

Zařízení pro povlakování vnitřních dutin malého příčného průřezu a velkých podélných rozměrů metodou magnetronového naprašování
Oblast techniky
Řešení se týká zařízení k vytváření tenkých povlaků v dutinách malých příčných průřezů.
Dosavadní stav techniky
Pro vytváření tenkých povlaků se používají různá zařízení a technologie. Nejstarší známou technologií je galvanizace. Galvanizace je hojně užívaná metoda, protože nevyžaduje nákladné zařízení. Na druhou stranu však neumožňuje přesné nanášení tenkých homogenních vrstev. Tím dochází k nadměrné spotřebě povlakového kovu a ke značnému prodražování výroby. Nelze také zaručit přesnou opakovatelnost výroby. Galvanizace také výrazně zatěžuje životní prostředí.
Z fyzikálních metod vytváření rovnoměrných tenkých povlaků jsou používané metody založené na principech napařování a naprašování.
Známá zařízení k napařování a naprašování splňují požadavky na homogennost a rovnoměrnost deponované vrstvy. Žádné z nich však neumožňuje nanášení tenkých homogenních vrstev do dutin malých příčných rozměrů. Totéž se týká i zařízení pro iontové implantování a dalších podobných technologií.
Zařízení pro naprašování dutin je prezentováno v CS248804, vykazuje však zásadní technologické omezení dané homogenitou přiloženého elektrického pole, která je určující pro poměr délky a příčného průřezu naprašované dutiny. Homogenita elektrického pole je dána uspořádáním elektrod, kde anody jsou umístěny na bocích povlakované dutiny a katodu tvoří tyč v ose povlakované dutiny. Pro naprašování dutin velkých podélných rozměrů o malém příčném průřezu je z tohoto důvodu uvedené řešení nepoužitelné.
Podstata vynálezu
Zařízení pro povlakování vnitřních dutin malého příčného průřezu a velkých podélných rozměrů metodou magnetronového naprašování je určeno k vytváření tenkých vrstev na vnitřních plochách výrobků s dutinami malých příčných průřezů. Zařízení je tvořeno protáhlou vakuovou komorou, kterou obepíná prstencový magnet. Tento magnet je uložen posuvně ve směru osy komory. V dutině vakuové komory je symetricky upevněna odprašovaná katoda ve tvaru tyče. V uzavírací přírubě vakuové komory je upevněn dutý předmět, na jehož vnitřním povrchu má být vytvořen tenký povlak tak, že odprašovaná katoda je v ose jeho dutiny. Tento naprašovaný dutý předmět může také tvořit sám o sobě vakuovou komoru.
Příruba uzavírající vakuovou komoruje opatřena elektrickou vakuovou průchodkou, ve které je upevněna odprašovaná katoda připojená ke zdroji vysokého napětí. Tato příruba je připevněna k tomu konci vakuové komory, do něhož je vyústěn přívod od vakuového čerpacího systému. Uzávěr druhého konce vakuové komory je opatřen otvorem pro přívod pracovního plynu.
Vakuová komora je upevněna na stojanu, jehož součástí je pojezdová dráha pro držák magnetu. Součástí vakuového čerpacího systému je zařízení na měření tlaku ve vakuové komoře.
Tímto zařízením jsou odstraněny nedostatky známých zařízení k vytváření tenkých povlaků v dutinách. Podstatnou výhodou je možno vytvoření homogenní depozice vrstvy s požadovanou tloušťkou.
- 1 CZ 305631 B6
Objasnění výkresu
Na přiloženém výkrese je podélný řez zařízením pro povlakování vnitřních dutin malého příčného průřezu a velkých podélných rozměrů metodou magnetronového naprašování.
Příklad uskutečnění vynálezu
Ke stojanu 15 zařízení je připojený vakuový čerpací systém 2. Tento vakuový čerpací systém 2 je otvorem propojen s vakuovou komorou 1 protáhlého tvaru, která je prostřednictvím vakuového čerpacího systému 2 upevněna na stojanu 15 zařízení. Propojení vakuového čerpacího systému 2 s vakuovou komorou 1 je v blízkosti konce vakuové komory 1, který je uzavřen přírubou 4 utěsněnou těsněním 5. Vakuová komora 1 je opatřena elektrickou vakuovou průchodkou 6, k jejímuž vodiči 7 je upevněna odprašovaná katoda 8 ve tvaru tyče tak, aby byla v ose vakuové komory 1. Na opačném konci 17 je vakuová komora 1 uzavřena pevně nebo druhou přírubou s otvorem pro přívod 3 pracovního plynu. Tento přívod 3 je připojen k zařízením na regulaci a měření množství přiváděného pracovního plynu. Příruba 4 je opatřena upevňovacím přípravkem 10, v němž je za svůj vnější povrch upevněna povlakovaná součást 9. Taje upevněna tak, aby odprašovaná katoda 8 byla v ose její dutiny. Pro zajištění souososti může být k upevňovacímu přípravku 10 připevněn izolační distanční držák J_J_. Druhý konec povlakované součásti 9 je v případě její větší délky upevněn v izolačním držáku 12, jímž takto prochází i odprašovaná katoda 8, což zajišťuje jejich vzájemnou souosost. U velmi dlouhých povlakovaných součástí 9 může být tento izolační držák 12 fixován na konec 17 vakuové komory 1. Na vakuové komoře 1 je instalováno čidlo pro měření tlaku pracovního plynu uvnitř komory 1. Odprašovaná katoda 8 je prostřednictvím vodiče 7 elektrické vakuové průchodky 6 připojena na zdroj vysokého napětí.
Stojan 15 zařízení je opatřen pojezdovou dráhou vedenou ve směru osy vakuové komory 1. Na této pojezdové dráze je posuvně uložen držák 16 prstencového magnetu 13 napojený na poháněči jednotku 14 s regulací rychlosti jeho posuvu. Prstencový magnet 13 obepíná vakuovou komoru 1 a má s ní společnou osu. V příkladném provedení je prstencový magnet 13 elektromagnet.
Po upevnění povlakované součásti 9 do vakuové komory 1 je komora 1 hermeticky uzavřena přírubou 4. Potom je komora 1 evakuována. Následně se otevře ventil přívodu 3 pracovního plynu, kterým může být například argon, na požadovaný průtok. Ve vakuové komoře 1 je nastaven tlak v rozmezí jednotek až desítek pascalů v závislosti na požadovaném výsledku. Připojením napětí na vodič 7 elektrické vakuové průchodky 6, řádově stovek voltů, je ve vakuové komoře 1 spuštěn výboj. Současně se přivede proud na prstencový magnet 13, kterým je v tomto provedení elektromagnet, a je spuštěn motor poháněči jednotky 14 pro plynulý posun držáku 16 s prstencovým magnetem 13 s rychlostí nastavenou v závislosti na požadované tloušťce povlaku. Zařízení dále pracuje bez zásahu obsluhy a vypne se po dojezdu prstencového magnetu 13 na konec.
Výsledná tloušťka povlaku je dána rychlostí posuvu prstencového magnetu j_3, napětím na odprašované katodě 8, velikostí magnetického pole a tlakem ve vakuové komoře 1.
Alternativní provedení zařízení má místo prstencového elektromagnetu prstencový permanentní magnet. V případě vytváření povlaků v dutinách většího množství tvarově obdobných předmětů mohou tyto předměty být opatřeny přírubami a po připojení k vakuovému čerpacímu systému 2 se samy stanou vakuovou komorou 1.
-2CZ 305631 B6
Průmyslová využitelnost
Zařízení je určeno k vytváření tenkých povlaků v dlouhých dutinách malých příčných rozměrů. Uplatní se pro úpravu součástek pro mikrovlnnou techniku, zdravotnictví, leteckou techniku, chemický průmysl, potravinářský průmysl a další obory.

Claims (7)

  1. PATENTOVÉ NÁROKY
    1. Zařízení pro povlakování vnitřních dutin malého příčného průřezu a velkých podélných rozměrů metodou magnetronového naprašování, tvořené vakuovou komorou upevněnou ve stojanu s připojením na vakuový čerpací systém, odprašovanou katodou s připojením ke zdroji vysokého napětí a magnetem, vyznačující se tím, že vakuová komora (1) protáhlého tvaru je opatřena na jednom konci přírubou (4) s alespoň jednou elektrickou vakuovou průchodkou (6), v níž je upevňovací přípravek (10) pro souosé uložení povlakované součásti (9) a odprašované katody (8) ve tvaru tyče, přičemž s vodičem (7) elektrické vakuové průchodky (6) je spojena právě jen odprašovaná katoda (8), a současně na druhém uzavřeném konci (17) má vakuová komora (1) otvor přívodu (3) pracovního plynu, přičemž stojan (15) je spojen s pojezdovou dráhou, na níž je posuvně uložen držák (16) prstencového magnetu (13) spojený s poháněči jednotkou (14) pro postupné povlakování celé délky vnitřního průměru, přičemž prstencový magnet (13) je uložený souose okolo vakuové komory (1).
  2. 2. Zařízení pro povlakování vnitřních dutin malého příčného průřezu a velkých podélných rozměrů metodou magnetronového naprašování podle nároku 1, vyznačující se tím, že druhý konec odprašované katody (8) a povlakované součásti (9) jsou upevněny v izolačním držáku (12) pro zajištění souososti i v případě větší délky povlakované součásti (9).
  3. 3. Zařízení pro povlakování vnitřních dutin malého příčného průřezu a velkých podélných rozměrů metodou magnetronového naprašování podle nároku 1 nebo 2, vyznačující se tím, že prstencový magnet (13) je elektromagnet.
  4. 4. Zařízení pro povlakování vnitřních dutin malého příčného průřezu a velkých podélných rozměrů metodou magnetronového naprašování podle nároku 1 nebo 2, vyznačující se tím, že prstencový magnet (13) je permanentní magnet.
  5. 5. Zařízení pro povlakování vnitřních dutin malého příčného průřezu a velkých podélných rozměrů metodou magnetronového naprašování podle nároku 3 nebo 4, vyznačující se tím, že izolační držák (12) je připevněn k uzavřenému konci (17) vakuové komory (1).
  6. 6. Zařízení pro povlakování vnitřních dutin malého příčného průřezu a velkých podélných rozměrů metodou magnetronového naprašování podle nároku 3 nebo 4 nebo 5, vyznačující se tím, že upevňovací přípravek (10) má izolační distanční držák (11) odprašované katody (8).
  7. 7. Zařízení pro povlakování vnitřních dutin malého příčného průřezu a velkých podélných rozměrů metodou magnetronového naprašování podle některého z nároků 1 až 6, vyznačující se tím, že těleso povlakované součásti (9) tvoří vakuovou komoru (1).
CZ2014-436A 2014-06-25 2014-06-25 Zařízení pro povlakování vnitřních dutin malého příčného průřezu a velkých podélných rozměrů metodou magnetronového naprašování CZ305631B6 (cs)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CZ2014-436A CZ305631B6 (cs) 2014-06-25 2014-06-25 Zařízení pro povlakování vnitřních dutin malého příčného průřezu a velkých podélných rozměrů metodou magnetronového naprašování

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CZ2014-436A CZ305631B6 (cs) 2014-06-25 2014-06-25 Zařízení pro povlakování vnitřních dutin malého příčného průřezu a velkých podélných rozměrů metodou magnetronového naprašování

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CZ2014436A3 CZ2014436A3 (cs) 2016-01-13
CZ305631B6 true CZ305631B6 (cs) 2016-01-13

Family

ID=55080330

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CZ2014-436A CZ305631B6 (cs) 2014-06-25 2014-06-25 Zařízení pro povlakování vnitřních dutin malého příčného průřezu a velkých podélných rozměrů metodou magnetronového naprašování

Country Status (1)

Country Link
CZ (1) CZ305631B6 (cs)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019210891A1 (en) 2018-05-02 2019-11-07 Fyzikalni Ustav Av Cr, V.V.I. Method of low-temperature plasma generation, method of an electrically conductive or ferromagnetic tube coating using pulsed plasma and corresponding devices

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CS248804B1 (cs) * 1984-10-03 1987-02-12 Jindrich Musil Způsob vytváření tenkého nemagnetického povlaku na vnitřním povrchu dutého tělesa magnetronovým rozprašováním a zařízení k provádění tohoto způsobu
US5334302A (en) * 1991-11-15 1994-08-02 Tokyo Electron Limited Magnetron sputtering apparatus and sputtering gun for use in the same
DE4305748A1 (de) * 1993-02-25 1994-09-01 Leybold Ag Vorrichtung zum Beschichten und/oder Ätzen von Substraten in einer Vakuumkammer
DE4333825C1 (de) * 1993-09-28 1995-02-23 Mat Gmbh Vorrichtung zum Beschichten von langgestreckten biegsamen Erzeugnissen
US5437778A (en) * 1990-07-10 1995-08-01 Telic Technologies Corporation Slotted cylindrical hollow cathode/magnetron sputtering device
US6689254B1 (en) * 1990-10-31 2004-02-10 Tokyo Electron Limited Sputtering apparatus with isolated coolant and sputtering target therefor
DE102004015230A1 (de) * 2004-03-29 2005-10-20 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren und Vorrichtung zum Intensivieren einer gepulsten Magnetronentladung
EP1609880A1 (de) * 2004-06-22 2005-12-28 Applied Films GmbH & Co. KG Zerstäubungskatode für Beschichtungsprozesse
EP2017367A1 (en) * 2007-07-18 2009-01-21 Applied Materials, Inc. Sputter coating device and method of depositing a layer on a substrate
US20140076718A1 (en) * 2012-09-14 2014-03-20 Vapor Technologies, Inc. Remote Arc Discharge Plasma Assisted Processes

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CS248804B1 (cs) * 1984-10-03 1987-02-12 Jindrich Musil Způsob vytváření tenkého nemagnetického povlaku na vnitřním povrchu dutého tělesa magnetronovým rozprašováním a zařízení k provádění tohoto způsobu
US5437778A (en) * 1990-07-10 1995-08-01 Telic Technologies Corporation Slotted cylindrical hollow cathode/magnetron sputtering device
US6689254B1 (en) * 1990-10-31 2004-02-10 Tokyo Electron Limited Sputtering apparatus with isolated coolant and sputtering target therefor
US5334302A (en) * 1991-11-15 1994-08-02 Tokyo Electron Limited Magnetron sputtering apparatus and sputtering gun for use in the same
DE4305748A1 (de) * 1993-02-25 1994-09-01 Leybold Ag Vorrichtung zum Beschichten und/oder Ätzen von Substraten in einer Vakuumkammer
DE4333825C1 (de) * 1993-09-28 1995-02-23 Mat Gmbh Vorrichtung zum Beschichten von langgestreckten biegsamen Erzeugnissen
DE102004015230A1 (de) * 2004-03-29 2005-10-20 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren und Vorrichtung zum Intensivieren einer gepulsten Magnetronentladung
EP1609880A1 (de) * 2004-06-22 2005-12-28 Applied Films GmbH & Co. KG Zerstäubungskatode für Beschichtungsprozesse
EP2017367A1 (en) * 2007-07-18 2009-01-21 Applied Materials, Inc. Sputter coating device and method of depositing a layer on a substrate
US20140076718A1 (en) * 2012-09-14 2014-03-20 Vapor Technologies, Inc. Remote Arc Discharge Plasma Assisted Processes

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019210891A1 (en) 2018-05-02 2019-11-07 Fyzikalni Ustav Av Cr, V.V.I. Method of low-temperature plasma generation, method of an electrically conductive or ferromagnetic tube coating using pulsed plasma and corresponding devices

Also Published As

Publication number Publication date
CZ2014436A3 (cs) 2016-01-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10357920B2 (en) Gas phase integrated multimaterial printhead for additive manufacturing
CZ307842B6 (cs) Způsob generování nízkoteplotního plazmatu, způsob povlakování vnitřního povrchu dutých elektricky vodivých nebo feromagnetických trubic a zařízení pro provádění těchto způsobů
CZ305631B6 (cs) Zařízení pro povlakování vnitřních dutin malého příčného průřezu a velkých podélných rozměrů metodou magnetronového naprašování
EP2431995A1 (en) Ionisation device
CN105793976A (zh) 多磁控管装置
Zhukeshov et al. A plasma formation in pulsed coaxial gun at continuously filling regime
TWI806983B (zh) 原子線產生裝置、接合裝置、表面改質方法及接合方法
CA3103016C (en) Single beam plasma source
JP6031725B2 (ja) 合金薄膜生成装置
US20190168257A1 (en) Practical method and apparatus of plating substrates with carbon nanotubes (CNT)
RU192230U1 (ru) Устройство для вакуумно-плазменого нанесения покрытий
RU159075U1 (ru) Устройство для получения многокомпонентных многослойных покрытий
JP6657422B2 (ja) 電荷量を調整できるプラズマ工程装置
Kalandiia et al. Cleaning substrates and subsequent deposition of coatings with coaxial magnetron discharge
JP2009114482A (ja) 電子ビームによる金属表面の処理方法及び装置
RU2816980C1 (ru) Устройство для вакуумного нанесения упрочняющего покрытия на поверхность изделий
KR102025917B1 (ko) 증착 소스, 진공 증착 장치, 및 그 동작 방법들
Serov et al. Current-pressure characteristics of dc magnetron discharge for high-rate sputtering
CN109913830B (zh) 一种多功能真空镀膜机
Chen et al. Fast mechanical shutter for pulsed ion beam generation
RU2560898C2 (ru) Установка для обработки нанокомпозитов в водородной плазме
RU2390579C2 (ru) Способ нанесения покрытия на внутреннюю поверхность трубы
TWI659445B (zh) 射頻(rf)-濺鍍沉積源、沉積設備及其之組裝方法
RU141916U1 (ru) Натекатель газа для установки вакуумного напыления
CH702969A2 (de) Segmentierte Anode.

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Patent lapsed due to non-payment of fee

Effective date: 20190625