[go: up one dir, main page]

CZ20022115A3 - Optický systém pro měření dvoudimenzionálního malého úhlu rozptylu rentgenového záření s vysokým tokem a nízkým ruąivým pozadím - Google Patents

Optický systém pro měření dvoudimenzionálního malého úhlu rozptylu rentgenového záření s vysokým tokem a nízkým ruąivým pozadím Download PDF

Info

Publication number
CZ20022115A3
CZ20022115A3 CZ20022115A CZ20022115A CZ20022115A3 CZ 20022115 A3 CZ20022115 A3 CZ 20022115A3 CZ 20022115 A CZ20022115 A CZ 20022115A CZ 20022115 A CZ20022115 A CZ 20022115A CZ 20022115 A3 CZ20022115 A3 CZ 20022115A3
Authority
CZ
Czechia
Prior art keywords
ray
slit
analysis system
focusing
apex
Prior art date
Application number
CZ20022115A
Other languages
English (en)
Inventor
Licai Jiang
Original Assignee
Osmic, Inc.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Osmic, Inc. filed Critical Osmic, Inc.
Publication of CZ20022115A3 publication Critical patent/CZ20022115A3/cs

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/20Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
    • G01N23/201Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials by measuring small-angle scattering
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/20Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
    • G01N23/207Diffractometry using detectors, e.g. using a probe in a central position and one or more displaceable detectors in circumferential positions

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
  • Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)
  • Cold Cathode And The Manufacture (AREA)

Description

Oblast techniky
Vynález se týká aplikace analýzy rentgenovým zářením. Konkrétněji, vynález se týká zařízení a způsobu generování, tvarování a směrování rentgenového paprsku použitého k analýze měřením rentgenového záření.
Dosavadní stav techniky
Obvyklým způsobem používaným pro studium slabě orientovaných struktur, tj. těch struktur, které mají uspořádání na krátkou vzdálenost, avšak postrádají uspořádání na dlouhou vzdálenost, je rozptyl rentgenového záření v malém úhlu. Tento způsob je založen na osvětlení vzorku struktury paprskem rentgenového záření. Část rentgenového záření neprochází přímo strukturou vzorku, některé paprsky se ohýbají nebo rozptylují a vystupují ze vzorku pod různými úhly. Dopadající rentgenové záření prochází po své dráze mezerami mezi atomy struktury nebo je ohýbáno atomy. Protože struktura je uspořádána na krátkou vzdálenost, rozptyl na struktuře vytváří difúzní obrazec v oblasti velmi blízké dráze rentgenového záření přímo strukturou. Tento difúzní obrazec odpovídá atomovému strukturnímu uspořádání vzorku.
Měření malého úhlu rozptylu rentgenového záření se může provádět v jedné nebo ve dvou dimenzích. Měření jednodimenzionálního malého úhlu rozptylu rentgenového záření využívá pro maximalizaci toku rentgenového záření čárový zdroj. Výsledný difúzní obrazec vytvářený čárovým zdrojem poskytuje informaci jen v jedné dimenzi. Měření dvoudimenzionálního rozptylu rentgenového záření využívá bodový zdroj rentgenového záření, což umožňuje získat dvoudimenzionální informaci. Ačkoliv je jako laboratorní bodový zdroj rentgenového záření preferována rotující anoda, jsou možné také jiné generátory rentgenového záření, včetně utěsněných trubic. Ve dvoudimenzionálních aplikacích byl použit, pro svůj dobře kolimovaný paprsek vysoké intenzity, také synchrotron.
Obvykle se rentgenový paprsek použitý pro měření dvoudimenzionálního malého úhlu rozptylu vytváří sérií štěrbin nebo malých dírek pro kolimaci divergentního paprsku a omezení rozptylového efektu štěrbin. Pro vzorky se silným rozptylovým účinkem nebo s velkým rozptylovým úhlem, jako jsou krystaly, může být parazitní rozptyl dírek a zrcadel zanedbán. V takové aplikaci může být použit systém se dvěma dírkami. Pro vzorky s malým rozptylovým účinkem nebo s malým rozptylovým úhlem, jako jsou vzorky uvažované v předloženém vynálezu, se preferuje systém se třemi dírkami. Dosavadní techniky pro měření malého úhlu rozptylu zahrnují použití systému dírek, filtrů a zrcadel s totálním odrazem. Pro omezení radiace Kp nebo jiné radiace ve spojitém spektru se v systému dírek nebo v systému dírek a zrcadel s totálním odrazem používá Ni filtr, grafit nebo jiné krystaly. Se systémem dírek (jak v systému dvou dírek, tak v systému tří dírek) se často používají zrcadla s totálním odrazem jako jsou Kirkpatrick-Beazova nebo křížem spojená zrcadla. V současné době je ohnisko zrcadla s totálním odrazem použitého se systémem dírek nastaveno vždy v poloze detektoru, což vyvolává ztráty toku. Parabolická vícevrstvá optika (Kirkpatrick-Baez nebo křížem spojená), která se také používá v systémech pro měření malého úhlu rozptylu, selhává při potřebě zesílení paprsku v poloze vzorku.
φ··· φ Φ·· φ·· φ 1 φ··
Systémy pro měření malého úhlu rozptylu rentgenového záření používané v dosavadním stavu techniky trpí problémem šumu, způsobeného rozptylem na dírkách a omezeným tokem rentgenového záření použitým pro vyvolání rentgenového rozptylového obrazce. Proto v oboru existuje potřeba systému pro měření malého úhlu rozptylu rentgenového záření, který eliminuje difrakční šum a zvýší tok na vzorek.
Podstata vynálezu
Předložený vynález představuje způsob a zařízení pro generování rentgenového paprsku pro aplikace měření malého úhlu rozptylu rentgenového záření. Vynález používá optiku pro zaostření a zvýšení toku rentgenového záření generovaného bodovým zdrojem rentgenového záření a systém štěrbin nebo dírek pro tvarování rentgenového paprsku. Optický systém může být konfigurován buď ve dvoudírkovém systému pro maximální tok nebo ve třídírkovém systému pro minimální šum pozadí a malý minimální dosažitelný úhel.
Cílem vynálezu je omezení divergence rentgenového paprsku použitého pro aplikace měření malého úhlu rozptylu rentgenového záření.
Dalším cílem vynálezu je zvýšení toku rentgenového záření na vzorek při aplikacích měření malého úhlu rozptylu rentgenového záření.
Dalším cílem vynálezu je získání minimálního dosažitelného úhlu.
Přehled obrázků na výkresech
Různé výhody vynálezu budou odborníkovi zřejmé po přečtení následujícího popisu odkazujícího na výkresy, ne kterých představuje:
« · • · • ·· ♦ 4 ···♦ « * • ·· •Λ»·
Obr. 1: schematický obrázek optického schématu podle vynálezu podle výhodného provedení;
Obr. 2: schematický obrázek zasměrovacího mechanismu podle vynálezu podle výhodného provedení; a
Obr. 3: schematický obrázek jiného provedení zasměrovacího mechanismu podle vynálezu.
Příklady provedení vynálezu
Obr. 1 je schematický obrázek optického systému 10 podle vynálezu. Rentgenový paprsek 12 je generován zdrojem 14 rentgenového záření, které je směrováno proti optice 16, například eliptickému zrcadlu, které zaostřuje rentgenový paprsek 12. Optika 16 má odrazivý povrch, který může sestávat ze zakřiveného grafitu, zakřiveného dokonalého krystalu, zrcadla s totálním odrazem, vícevrstvého reflektoru nebo jiného povrchu odrážejícího rentgenové záření, známého v oboru. Optika 16 směruje rentgenový paprsek skrze první štěrbinu (nebo dírku) 18 a druhou štěrbinu (nebo dírku) 20 pro vytvoření a definování koherentního rentgenového paprsku 21. Rozptylový a interferenční obrazec nebo šum vytvářený první štěrbinou 18 je blokován druhou štěrbinou 20. Ohnisko 22 rentgenového paprsku 21 je umístěno mezi druhou štěrbinou 20 a rentgenovým detektorem 30. Komůrka 24, obsahující vzorek struktury 26 která se analyzuje, je opatřena třetí štěrbinou 28 pro eliminaci rozptylového a interferenčního obrazce vytvářeného druhou Štěrbinou 20.
Tok rentgenového paprsku 21 v komůrce 24 a velikost rentgenového paprsku 21 nebo plocha dopadu na rentgenový detektor 30 závisí na tom, kde je umístěno ohnisko 22 optiky 16. Tok skrze druhou štěrbinu 20 a dosažení komůrky 24 je největší, když je ohnisko 22 optiky 16 umístěno ve druhé • ··· • · · ··· .5 ►’· ··· štěrbině 20, a také velikost rentgenového paprsku 21 na rentgenovém detektoru 30 je v této situaci největší. Velikost 21 rentgenového paprsku na rentgenovém detektoru 30 je nejmenší, jestliže je ohnisko 22 optiky 16 umístěno na nebo v rentgenovém detektoru 30, a rozlišovací schopnost systému za použití této polohy ohniska 22 by měla být nejvyšší. Nicméně v tomto případě by byl také nejmenší tok. Poloha ohniska 22 v systému je tedy dána kompromisem mezi intenzitou a rozlišovací schopností rentgenového záření dopadajícího na detektor 30.
V určitých případech, vzhledem k divergenci která je rentgenovému paprsku 21 vlastní, dosahuje rozlišovací schopnost svého limitu v určité poloze ohniska 22. V souladu s tím, posunutí ohniska 22 blíže k rentgenovému detektoru 30 by nezlepšilo rozlišovací schopnost a jenom by snížilo tok. V tom případě by nepřineslo zaostření rentgenového paprsku 21 na rentgenový detektor 30 žádný prospěch. Protože minimální dosažitelný úhel systému je dán konfigurací Štěrbin (dírek), je nezávislý na poloze ohniska.
První a druhá štěrbina 18 a 20 optického systému 10 určují velikost a tvar rentgenového paprsku 21 a třetí štěrbina 28 blokuje parazitní rozptyl. Rentgenový paprsek 21 svou zaostřenou povahou umožňuje koncentrování maximálního toku na struktuře 26 vzorku. Rentgenový detektor 30 je schopný detekovat difúzní obrazec vyvářený malým úhlem rozptylu na struktuře 26 vzorku, v důsledku zvýšeného toku na struktuře 26 vzorku a eliminace divergence a rozptylu. Rentgenový detektor 30 je dále opatřen clonou 32 pro zabránění poškození rentgenového detektoru 30 přímým rentgenovým paprskem a pro zabránění šumu. Přesné umístění ohniska 22 mezi druhou štěrbinou 20 a 'rentgenovým detektorem 30 závisí na požadovaných charakteristikách toku a rozlišovací schopnosti optického systému 10.
• · ···* • ···* -.$** ··· l··
Optický systém 10 podle vynálezu je s výhodou uzavřen ve vakuové dráze či paprskové trubici 27 pro eliminaci rozptylu a absorpce zapříčiněné atmosférickými plyny a částicemi. Paprsková trubice 27 sestává z množství jednotlivých trubic, které mohou být spojeny pro optimalizaci a změnu délky systému.
Štěrbiny 18, 20 a 28 podle výhodného provedení jsou vytvořeny jako dírky, vytvořené jako přesně obrobené kruhové otvory. Kruhové dírky způsobují značné potíže při zasměrování v ose, zvláště když jsou velikosti dírek malé a je použito více dírek. Vynález zahrnuje dírkovou desku 34 opatřenou zasměrovacím oknem 36 s trojúhelníkovým výběžkem 38 směřujícím k dírce 40. Rentgenový detektor se používá jako zpětná vazba pro zjištění, že rentgenový paprsek prochází skrze zasměrovací okno 36. Dírková deska 34 se pak manuálně nebo automaticky pohybuje vertikálně a horizontálně ve směru k dírce £0. Jestliže rentgenový detektor při pootočení zasměrovacího okna 36 vzhledem k rentgenovému paprsku nedetekuje rentgenový paprsek, posune se dírková deska 34 do předchozí polohy a pootočí se vertikálně nebo horizontálně opačně. Tímto způsobem je stále známa poloha rentgenového paprsku a je možno posunovat rentgenový paprsek k vrcholu 37 trojúhelníka 38. Rentgenový paprsek sleduje, vzhledem k tvaru, výřez zasměrovacího okna 36 dokud nedosáhne vrcholu 37 trojúhelníka 38. Ve vrcholu 37 trojúhelníka 38 další pohyb v obou vertikálních směrech a také horizontální pohyb ve směru k dírce 40 blokuje nebo redukuje paprsek. Když je dosaženo těchto podmínek, je paprsek ve vrcholu 37 trojúhelníka 38.
Dírka 40 je ve známé pevné vzdálenosti od vrcholu 37 trojúhelníka 38. Když se rentgenový paprsek nachází ve vrcholu 37 trojúhelníka 38, může se dírková deska 34 nebo rentgenový paprsek přesně posunout o tuto známou vzdálenost do dírky 40, což zajišťuje přesné zasměrování rentgenového • ··· • · * ···· paprsku s dírkou 40. V souladu s tím je pak známa poloha rentgenového paprsku.
Podle prvního provedení se dírková deska 34 manuálně posune vzhledem k rentgenového paprsku 21 za použití přesné rentgenové desky. Operátor čte výstup detektoru 30 a pohybuje dírkovou deskou 21· Podle jiného provedení pohybuje operátor rentgenovým paprskem vzhledem k dírkové desce 34.
Podle druhého provedení vynálezu se dírková deska 34 pohybuje za použití automatického servomotoru nebo lineárního ovládacího systému. Zpětná vazba detektoru 30 se přenáší na počítač, který řídí pootáčení rentgenového paprsku nebo dírkové desky 34 ve směrech x-y. V odpověď na zpětnou vazbu z detektoru 30 počítač dává ovládacímu systému polohové povely pro správné zasměrování rentgenového paprsku 21 a dírkové desky 34.
Na obr. 3 je znázorněno jiné vytvoření dírkové desky 34' podle vynálezu. Dírková deska 34', stejně jako v prvním vytvoření deska 34, je opatřena zasměrovacím oknem 36' s trojúhelníkovým výběžkem 38' majícím vrchol 3ý7ý- Otáčivá perforovaná deska 42, mající množství otvorů 44, se otáčí kolem bodu 46 ve směru šipky 48. Otáčející se perforace 42 umožňuje použít podle vynálezu množství otvorů 44 majících různé průměry. Každý otvor 44 se může otáčet kolem bodu 46 do polohy se známým odsazením od vrcholu 37' výběžku 38' trojúhelníkového tvaru. Střed každého otvoru 44 otáčivé perforované desky 42 je ve stejné radiální vzdálenosti od bodu 4 6, což umožňuje správné odsazení každého otvoru 44 od vrcholu 37' výběžku 38' trojúhelníkového tvaru. Pro přesné polohování otvorů 44 vzhledem k vrcholu 37' výběžku 38' trojúhelníkového tvaru je možno použít zařízení pro odezvu polohy otočeni, například kódovací matrici nebo manuální západku.
• ·
-Λ, * ··♦ : i
Φ ' ··· φ
····
Je zřejmé, že vynález není omezen na přesnou konstrukci popsanou výše, ale bez opuštění myšlenky a rozsahu vynálezu jak je definován následujícími nároky jsou možné různé změny a modifikace.

Claims (20)

  1. PATENTOVÉ NÁROKY
    1. Systém pro analýzu měřením rentgenového záření zahrnuj ící:
    laboratorní bodový zdroj rentgenového záření pro generování rentgenového paprsku;
    zaostřovací optiku pro zaostřování rentgenového paprsku do ohniska;
    první štěrbinu opticky spojenou s uvedenou zaostřovací optikou;
    druhou štěrbinu opticky spojenou s první štěrbinou; a rentgenový detektor, přičemž ohnisko je umístěno mezi druhou štěrbinou a rentgenovým detektorem.
  2. 2. Systém pro analýzu měřením rentgenového záření podle nároku 1, zahrnující dále třetí ochrannou štěrbinu opticky spojenou s druhou štěrbinou pro blokování parazitního rozptylu od druhé štěrbiny.
  3. 3. Systém pro analýzu měřením rentgenového záření podle nároku 1, kde uvedená zaostřovací optika je Braggův reflektor.
  4. 4. Systém pro analýzu měřením rentgenového záření podle nároku 3, kde uvedený Braggův reflektor je vícevrstvý.
  5. 5. Systém pro analýzu měřením rentgenového záření podle nároku 4, kde uvedený Braggův reflektor je hloubkově odstupňovaný.
  6. 6. Systém pro analýzu měřením rentgenového záření podle nároku 1, kde uvedený Braggův reflektor je stranově odstupňovaný.
    jř.-.
    • ·♦« ··* ·* ····
  7. 7. Systém pro analýzu měřením rentgenového záření podle nároku 1, kde uvedená zaostřovací optika je zrcadlo s totálním odrazem.
  8. 8. Systém pro analýzu měřením rentgenového záření podle nároku 1, kde uvedená zaostřovací optika má eliptický povrch.
  9. 9. Systém pro analýzu měřením rentgenového záření podle nároku 1, kde uvedená zaostřovací optika je Kirkpatrick-Baezova optika side-by side.
  10. 10. Systém pro analýzu měřením rentgenového záření podle nároku 2, kde první, druhá a třetí štěrbina jsou dírky.
  11. 11. Způsob snížení difrakčního šumu v systému pro analýzu měřením rentgenového záření zahrnující:
    úpravu rentgenového paprsku pomocí čočky,směrování rentgenového paprsku skrze první otvor;
    směrování rentgenového paprsku skrze druhý otvor; a zaostřování rentgenového paprsku pomocí uvedené čočky do bodu za výstupem z druhého otvoru.
  12. 12. Způsob podle nároku 11, dále zahrnující krok směrování rentgenového paprsku skrze strukturu vzorku.
  13. 13. Způsob podle nároku 12, dále zahrnující krok detekování rentgenového paprsku po výstupu ze struktury vzorku.
  14. 14. Zařízení pro tvarování rentgenového paprsku zahrnuj ící:
    desku;
    ···* •Jí-.
    • ·*· •š .· výřez vytvořený v této desce, který má obrys sbíhající se do vrcholu;
    otvor vytvořený v uvedené desce ve známé vzdálenosti od uvedeného vrcholu;
    rentgenový detektor použitý jako zpětná vazba při orientování rentgenového paprsku;
    přičemž rentgenový paprsek je polohován tak, že prochází uvedeným výřezem do rentgenového detektoru, přičemž rentgenový paprsek a výřez se navzájem posouvají, rentgenový paprsek se posouvá do uvedeného vrcholu za použití zpětné vazby rentgenového detektoru, a přičemž rentgenový paprsek se posouvá o uvedenou známou vzdálenost do otvoru.
  15. 15. Zařízení podle nároku 14, kde uvedený výřez má trojúhelníkově tvarovanou koncovou část sbíhající se do vrcholu.
  16. 16. Zařízení podle nároku 14, dále zahrnující otáčivou perforovanou desku mající množství otvorů.
  17. 17. Zařízení podle nároku 16, kde každý z uvedených otvorů má jinou velikost.
  18. 18. Způsob směrování rentgenového paprsku skrze otvor, zahrnuj ící:
    polohování rentgenového paprsku pro procházení výřezem vytvořeným v desce, přičemž výřez má obrys který se sbíhá do vrcholu;
    pozorování rentgenového paprsku pomocí rentgenového detektoru poskytujícího zpětnou vazbu pro stanovení, zda rentgenový paprsek prochází výřezem;
    pootáčení rentgenového paprsku vzhledem k výřezu dokud rentgenový paprsek nedosáhne vrcholu výřezu; a přemístění rentgenového paprsku o známou vzdálenost do otvoru.
    to* ·*·· • z·*··.. ···· ··· ,:Λ.
  19. 19. Systém pro analýzu měřením rentgenového záření zahrnující:
    zaostřovací optiku pro zaostřování rentgenového paprsku do ohniska;
    první štěrbinu opticky spojenou s uvedenou zaostřovací optikou;
    druhou štěrbinu opticky spojenou s první štěrbinou pro vytvoření a definování rentgenového paprsku ve spojení s první štěrbinou;
    třetí štěrbinu opticky spojenou s druhou štěrbinou pro blokování rozptylu od druhé štěrbiny;
    pouzdro pro vzorek pro přidržování vzorku pro ozařování rentgenovým paprskem; a rentgenový detektor pro detekování rozptylového obrazce vytvářeného ozařováním vzorku, přičemž ohnisko je umístěno mezi druhou štěrbinou a rentgenovým detektorem.
  20. 20. Systém pro analýzu měřením rentgenového záření podle nároku 18, přičemž uvedená zaostřovací optika je Braggův reflektor.
CZ20022115A 1999-12-17 2000-12-18 Optický systém pro měření dvoudimenzionálního malého úhlu rozptylu rentgenového záření s vysokým tokem a nízkým ruąivým pozadím CZ20022115A3 (cs)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US09/466,261 US6330301B1 (en) 1999-12-17 1999-12-17 Optical scheme for high flux low-background two-dimensional small angle x-ray scattering

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CZ20022115A3 true CZ20022115A3 (cs) 2003-01-15

Family

ID=23851101

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CZ20022115A CZ20022115A3 (cs) 1999-12-17 2000-12-18 Optický systém pro měření dvoudimenzionálního malého úhlu rozptylu rentgenového záření s vysokým tokem a nízkým ruąivým pozadím

Country Status (9)

Country Link
US (1) US6330301B1 (cs)
EP (1) EP1238266B1 (cs)
JP (3) JP2003517603A (cs)
AT (1) ATE328273T1 (cs)
AU (1) AU2436601A (cs)
CA (1) CA2395293C (cs)
CZ (1) CZ20022115A3 (cs)
DE (1) DE60028412T2 (cs)
WO (1) WO2001044793A2 (cs)

Families Citing this family (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6870896B2 (en) 2000-12-28 2005-03-22 Osmic, Inc. Dark-field phase contrast imaging
US6804324B2 (en) * 2001-03-01 2004-10-12 Osmo, Inc. X-ray phase contrast imaging using a fabry-perot interferometer concept
US6510200B1 (en) 2001-06-29 2003-01-21 Osmic, Inc. Multi-layer structure with variable bandpass for monochromatization and spectroscopy
US6643353B2 (en) 2002-01-10 2003-11-04 Osmic, Inc. Protective layer for multilayers exposed to x-rays
JP3717115B2 (ja) 2002-06-12 2005-11-16 株式会社リガク 伝播線を用いた解析方法及びその装置
JP3674006B2 (ja) * 2002-06-19 2005-07-20 株式会社リガク イオン交換膜の評価方法及び有機物の評価方法
JP3666862B2 (ja) * 2002-06-19 2005-06-29 株式会社リガク イオン交換膜の評価方法及び有機物の評価方法
JP3757199B2 (ja) * 2002-09-03 2006-03-22 株式会社リガク X線小角散乱光学系
US6751288B1 (en) * 2002-10-02 2004-06-15 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Small angle x-ray scattering detector
US7245699B2 (en) 2003-02-28 2007-07-17 Osmic, Inc. X-ray optical system with adjustable convergence
US6956928B2 (en) * 2003-05-05 2005-10-18 Bruker Axs, Inc. Vertical small angle x-ray scattering system
US7280634B2 (en) * 2003-06-13 2007-10-09 Osmic, Inc. Beam conditioning system with sequential optic
JP5392982B2 (ja) * 2003-06-13 2014-01-22 オスミック、インコーポレイテッド ビーム調整システム
RU2239178C1 (ru) 2003-08-22 2004-10-27 Общество с ограниченной ответственностью "Институт рентгеновской оптики" Способ определения наличия упругих деформаций в монокристаллических пластинах и устройство для его осуществления
DE102004052350B4 (de) * 2004-10-28 2008-01-10 Bruker Axs B.V. Röntgendiffraktometer mit Wechselapertur
US7139366B1 (en) 2005-05-31 2006-11-21 Osmic, Inc. Two-dimensional small angle x-ray scattering camera
US7406151B1 (en) * 2005-07-19 2008-07-29 Xradia, Inc. X-ray microscope with microfocus source and Wolter condenser
WO2007026461A1 (ja) * 2005-08-29 2007-03-08 Rigaku Corporation 縦横小角x線散乱装置及び小角x線散乱の測定方法
EP1947448B1 (en) * 2007-01-19 2013-07-03 Panalytical B.V. X-ray diffraction equipment for X-ray scattering
US7706503B2 (en) * 2007-11-20 2010-04-27 Rigaku Innovative Technologies, Inc. X-ray optic with varying focal points
US7848483B2 (en) * 2008-03-07 2010-12-07 Rigaku Innovative Technologies Magnesium silicide-based multilayer x-ray fluorescence analyzers
JP5033712B2 (ja) * 2008-05-28 2012-09-26 株式会社日立ハイテクノロジーズ 表面検査装置
DE102008050851B4 (de) * 2008-10-08 2010-11-11 Incoatec Gmbh Röntgenanalyseinstrument mit verfahrbarem Aperturfenster
US20110158379A1 (en) * 2009-12-24 2011-06-30 Wonkwang University Center for Industry Academy Cooperation Computed tomography system having nano-spatial resolution
US8406374B2 (en) * 2010-06-25 2013-03-26 Rigaku Innovative Technologies, Inc. X-ray optical systems with adjustable convergence and focal spot size
DE102010063122B3 (de) * 2010-12-15 2012-05-24 Technische Universität Dresden Röntgendiffraktometersystem mit Anordnung zur gezielten Auswahl und Anregung von Einzelkristalliten in polykristallinen Kristallkörpern
CA2875680A1 (en) * 2012-06-08 2013-12-12 Rigaku Innovative Technologies, Inc. Dual mode small angle scattering camera
KR101608669B1 (ko) 2015-10-19 2016-04-05 테크밸리 주식회사 빔스토퍼장치
CN107941827B (zh) * 2017-12-26 2023-10-20 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 一种icf靶丸内爆压缩过程分阶段高精度成像装置
CN112654861B (zh) * 2018-07-05 2024-06-11 布鲁克科技公司 小角度x射线散射测量
US11181489B2 (en) * 2018-07-31 2021-11-23 Lam Research Corporation Determining tilt angle in patterned arrays of high aspect-ratio structures by small-angle x-ray scattering
CN110243848B (zh) * 2019-06-20 2022-04-01 中国科学院上海高等研究院 一种x射线光束挡光器及其使用方法

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5565921A (en) * 1978-11-10 1980-05-17 Nec Corp Special filter device
JPS60256036A (ja) * 1984-06-01 1985-12-17 Densoku Kogyo Kk 螢光x線膜厚測定及び分析装置におけるコ−リ−メ−タ
JPS62159035A (ja) * 1985-12-31 1987-07-15 ノ−ス・アメリカン・フイリツプス・コ−ポレ−シヨン 長波長x線回折計
JPH0541440Y2 (cs) * 1988-02-09 1993-10-20
US5151750A (en) * 1989-04-14 1992-09-29 Nikon Corporation Alignment apparatus
JP2867523B2 (ja) * 1990-01-13 1999-03-08 株式会社島津製作所 X線回折装置
JPH04164239A (ja) * 1990-10-26 1992-06-09 Natl Inst For Res In Inorg Mater 粉末x線回折計
JPH05215898A (ja) * 1992-02-03 1993-08-27 Hitachi Ltd X線コリメータ
JPH05256800A (ja) * 1992-03-13 1993-10-05 Nippon Steel Corp 塗膜下x線回折強度測定法
JP2783070B2 (ja) * 1992-07-28 1998-08-06 日本電気株式会社 光ヘッド装置のピンホール板及びメインビーム検出器
JP3256286B2 (ja) * 1992-08-25 2002-02-12 住友電気工業株式会社 光コネクタのコア偏心測定方法及び光コネクタ製造方法
JPH06258260A (ja) * 1993-03-05 1994-09-16 Seiko Instr Inc X線回折装置
JP2526409B2 (ja) * 1994-02-18 1996-08-21 工業技術院長 X線レンズ
US5646976A (en) * 1994-08-01 1997-07-08 Osmic, Inc. Optical element of multilayered thin film for X-rays and neutrons
JPH09101267A (ja) * 1995-10-03 1997-04-15 Nikon Corp 異物検査装置
US6041099A (en) * 1998-02-19 2000-03-21 Osmic, Inc. Single corner kirkpatrick-baez beam conditioning optic assembly
JP3465136B2 (ja) * 1998-05-28 2003-11-10 理学電機工業株式会社 円筒結晶型分光装置とこれを用いたx線分析装置

Also Published As

Publication number Publication date
AU2436601A (en) 2001-06-25
CA2395293A1 (en) 2001-06-21
DE60028412D1 (de) 2006-07-06
CA2395293C (en) 2009-12-29
EP1238266B1 (en) 2006-05-31
WO2001044793A3 (en) 2002-03-21
JP2003517603A (ja) 2003-05-27
JP2006071651A (ja) 2006-03-16
DE60028412T2 (de) 2006-10-12
ATE328273T1 (de) 2006-06-15
JP2006250952A (ja) 2006-09-21
WO2001044793A2 (en) 2001-06-21
EP1238266A2 (en) 2002-09-11
US6330301B1 (en) 2001-12-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CZ20022115A3 (cs) Optický systém pro měření dvoudimenzionálního malého úhlu rozptylu rentgenového záření s vysokým tokem a nízkým ruąivým pozadím
EP1324023B1 (en) X-ray diffraction apparatus comprising different beam paths for a divergent X-ray beam and a parallel X-ray beam
JP4860418B2 (ja) X線光学系
US7983388B2 (en) X-ray analysis instrument with adjustable aperture window
JP3284198B2 (ja) 蛍光x線分析装置
US7158608B2 (en) X-ray diffraction apparatus
JPS6333093B2 (cs)
EP0325158A2 (en) X-ray irradiation apparatus provided with irradiation range monitor
JP4532478B2 (ja) 収束を調整可能なx線光学システム
JP3830908B2 (ja) 高光度の平行ビーム生成装置
JP4868660B2 (ja) 多層鏡及び射出コリメータが設けられるx線分析装置
US7983389B2 (en) X-ray optical element and diffractometer with a soller slit
CN110308168B (zh) X射线衍射装置
JP5103583B2 (ja) X線ナノビーム強度分布の精密測定方法及びその装置
JP2005127908A (ja) マッピング測定装置
CN111449672B (zh) 一种x射线平行束光源系统及x射线准直器
JP3197104B2 (ja) X線解析装置
CN115389538B (zh) X射线分析装置及方法
CN221634001U (zh) 一种便于调节的多毛细管透镜一体式光源设备
JP3978710B2 (ja) X線回折測定装置およびx線回折測定方法
JP2001083105A (ja) X線回折装置および回折x線の測定方法
JP2000146870A (ja) 全反射x線分析装置及びそれの調整方法
JPH0572149A (ja) X線測定装置