CS209838B2 - Valve - Google Patents
Valve Download PDFInfo
- Publication number
- CS209838B2 CS209838B2 CS723366A CS336672A CS209838B2 CS 209838 B2 CS209838 B2 CS 209838B2 CS 723366 A CS723366 A CS 723366A CS 336672 A CS336672 A CS 336672A CS 209838 B2 CS209838 B2 CS 209838B2
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- valve
- ball
- poppet
- valve according
- plate
- Prior art date
Links
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K31/00—Actuating devices; Operating means; Releasing devices
- F16K31/44—Mechanical actuating means
- F16K31/52—Mechanical actuating means with crank, eccentric, or cam
- F16K31/524—Mechanical actuating means with crank, eccentric, or cam with a cam
- F16K31/52408—Mechanical actuating means with crank, eccentric, or cam with a cam comprising a lift valve
- F16K31/52416—Mechanical actuating means with crank, eccentric, or cam with a cam comprising a lift valve comprising a multiple-way lift valve
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K31/00—Actuating devices; Operating means; Releasing devices
- F16K31/44—Mechanical actuating means
- F16K31/52—Mechanical actuating means with crank, eccentric, or cam
- F16K31/524—Mechanical actuating means with crank, eccentric, or cam with a cam
- F16K31/52408—Mechanical actuating means with crank, eccentric, or cam with a cam comprising a lift valve
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/8593—Systems
- Y10T137/86389—Programmer or timer
- Y10T137/86405—Repeating cycle
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/8593—Systems
- Y10T137/86389—Programmer or timer
- Y10T137/86445—Plural, sequential, valve actuations
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/8593—Systems
- Y10T137/86919—Sequentially closing and opening alternately seating flow controllers
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/8593—Systems
- Y10T137/87169—Supply and exhaust
- Y10T137/87233—Biased exhaust valve
- Y10T137/87241—Biased closed
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T74/00—Machine element or mechanism
- Y10T74/18—Mechanical movements
- Y10T74/18056—Rotary to or from reciprocating or oscillating
- Y10T74/18296—Cam and slide
- Y10T74/18304—Axial cam
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Mechanically-Actuated Valves (AREA)
- Multiple-Way Valves (AREA)
- Transmission Devices (AREA)
- Taps Or Cocks (AREA)
- Valve-Gear Or Valve Arrangements (AREA)
Description
(54) Ventil
Předmětem vynálezu je ventil. Mnohé ventily se uvádějí v činnost různými vačkami, které však obvykle mají tu nevýhodu, že křivková dráha vačky se při nepřetržitém používání rychle opotřebuje i vzdor jejímu velmi tvrdému povrchu a mazání.
Jsou známy poháněči mechanismy ventilů používající ve snaze po snížení opotřebení valivých členů například podle belgického patentu č. 521 182, znázorňujícího zařízení opatřené otáčivým členem s částí přidržující kuličku, kterážto část i s kuličkou je upravena pod zvláštním zdvihátkem vlastního ventilu.
Nevýhodou popsaného známého uspořádání je, že osa otáčení otáčivého členu je kolmá k ose zdvihátka a že otáčivý člen se nepohybuje plynule v jednom směru, nýbrž koná oscilační pohyb kolem své osy v rozsahu asi 30°, přičemž do styku se zdvihátkem přichází tatáž část povrchu kuličky.
Dále je známo uspořádání podle německého patentu čís. 347 776, znázorňující zařízení s čelní vačkou působící na kuličku pohánějící ventil. Nevýhodou tohoto uspořádání je, že kulička je ve stálém styku s křivkovou drahou čelní vačky.
Úkolem vynálezu je návrh .ventilu opatřeného poháněcím mechanismem, vykazu2 jícím nejmenší míru opotřebení a odstraňujícím nevýhody známých zařízení.
Úkol byl podle vynálezu vyřešen pro ventil s dříkem uváděným do pohybu za účelem otevření a zavření pohybem zdvihátka a opatřený prostředky pro pohyb zdvihátka z klidu proti síle předpětí, vyznačený tím, že sestává z tělesa ventilu s přívodem opatřeným prvním talířovým ventilem, vývodem opatřeným druhým talířovým ventilem a výfukem spojeným přes druhý talířový ventil s vývodem, přičemž první talířový ventil má první dřík a druhý talířový ventil má druhý dřík, oba dříky jsou upraveny pro zdvih v kinematické vazbě s alespoň jednou kuličkou, uloženou v kruhových otvorech kruhové desky, uspořádané otáčivě v tělese ventilu.
Dále podle vynálezu talířové ventily sestávají z hlav, jejichž dříky jsou vzájemně rovnoběžné a prochází vedeními do komory tělesa ventilu, proti alespoň jedné kuličce.
Rovněž podle vynálezu o hlavy talířových ventilů jsou opřeny tlačné pružiny.
Podle dalšího význaku vynálezu prostor pod prvním talířovým ventilem je spojen s prostorem nad druhým talířovým ventilem kanálem.
Podle ještě dalšího význaku vynálezu kru209838 hováč ' deska je -uložena otočně na čepu- rovnoběžném s dříky, upevněném v tělese . - ventílií; ,
Dalším význakem vynálezu je, že ' - kuličky spočívají na pevné desce, upravené na dolním konci komory tělesa ventilu.
Ještě - dalším - význakem vynálezu je, že pevná deska je tvořena dnem tělesa ventilu.
Dále podle vynálezu kruhová dsska je rovnoběžná s pevnou deskou.
Rovněž podle vynálezu kruhová deska je opatřena na obvodu ozubením v kinematické vazbě s hnacím šroubovým vřetenem.
Ještě dále podle vynálezu kulička je ze skla.
Rovněž podle vynálezu kulička je z oceli.
Konečně podle vynálezu kulička je z materiálu o- tvrdosti 35 - dle Rockwella, kterážto tvrdost je vyšší, než tvrdost materiálu pevné desky a dříků.
Výhodou uspořádání ventilu podle vynálezu je okolnost, že kruhová deska unášející kuličku, se stále plynule otáčí, čímž snižuje opotřebení kuličky, -poněvadž všechny části - jejího povrchu přicházejí do styku s dřívkem ventilu. Další výhodou vynálezu je, že kulička nebo- kuličky jsou zatíženy pouze v okamžiku styku s dříkem ventilu, což nejen prodlužuje životnost kuličky nebo kuliček samých, ale rovněž životnost povrchu, po němž se odvalují.
Rovněž průměr kuličky -a průměr její odvalovací dráhy na kruhové desce je volen tak, aby do- styku s - dříkem ventilu přicházely nejrůznější - části - jejího- povrchu, což zcela plní úkol vynálezu, vytvořit poháněči mechanismus ventilu s prakticky nejmenším' opotřebením.
Dva příklady vzduchových regulačních ventilů budou dále podrobně popsány na příkladech provedení ve vztahu k výkresu, ría němž - značí: obr. 1 schematický nárysný řež· - - prvním provedením vzduchového- regulačního- ventilu, obr. 2 nárysný schematický řez druhým provedením vzduchového regulačního ventilu.
V - obou obrázcích jsou pro sobě odpovídající - části použity stejné vztahové značky.
Vzduchový - regulační ventil má těleso 11 ventilu, - v němž - je upraven přívod 12, vývod 13 a- výfuk 14. Přívod 12 je připojen k - zásobníku například přes vzduchový pojistný - ventil a výstup 13 může být připojen k čerpací jednotce, například -k pístovým čerpadlům podvozkové mazací jednotky. Vstup - 12 je vytvořen - v první zátce 15, opatřené závitem a zašroubované do· tělesa 11 ventilu, přičemž - první vrtání 16 v první zátce 15, je spojeno- s prvním souosým vrtáním 17 v tělese 11 ventilu. Ventilový prvek ve tvaru prvního* talířového ventilu 18 uzavírá -první sedlo 19 v dolní části souosého vrtání 17, přičemž hlava 20 talířového vrtání -se nachází - v souosém vrtání 17 a první dřík 21 prochází prvním sedlem 19. Povrch - hlavy 20 talířového- ventilu, přivrá cený - ke vstupu, má první - osazení 22. Mezi prvním osazením 22 a druhým osazením 24, tvořeným koncem první zátky 15, vzniklým tak, že průměr vrtání 16 je menší, než průměr souosého- vrtání 17, je vložena tlačná pružina 23.
Hlava 20 prvního talířového ventilu 18 nese v prstencovém sedle O-kroužek 25, z pružně stlačitelného materiálu, například z neopránu, který utěsňuje první sedlo* 19, když je první talířový ventil 18 uzavřen.
Vývod 13 má obdobně druhou zátku 26 s druhým -vrtáním 27, spojeným s - druhým souosým vrtáním 28 v tělese 11 ventilu. V dolní části druhého souosého vrtání 28 se nachází druhé sedlo 29, které se uzavírá ventilovým prvkem ve tvaru druhého talířového- ventilu 30, zavřeného účinkem druhé tlačné -pružiny 33 a -opatřeného druhým dříkem 32.
První vrtání 16 a první souosé vrtání - 17, druhé vrtání 27 a druhé souosé vrtání 28 jsou vzájemně rovnoběžné tak jako i osy prvního- a druhého- talířového ventilu 18, 30. Uspořádání druhého talířového- ventilu 30 je stejné jako prvního talířového- ventilu 18, a proto- nebude dále popisováno. Kanál 31 spojuje prostor pod prvním sedlem 19 protilehlým souosém vrtání 17 s prostorem nad druhým souosým vrtáním 28 na druhým talířovým ventilem 30. Druhé sedlo 29 je spojeno s výfukem 14 na straně protilehlé druhému souosému vrtání 28.
První a druhý talířový ventil 18, 30 jsou uváděny v činnost zvedacími prvky, které zvedají dříky 21, 32, a tím zvedají i talířové - ventily 18, 30 z jejich klidové polohy proti působení první - tlačné pružiny 23 a druhé tlačné pružiny 33. - Tyto zvedací prvky jsou vytvořeny jako- otáčivá kruhová deska 34 s kruhovým -otvorem 43, v němž je uložena kulička 35 ze skla, která se valí po pevné desce 36, uzavírající komoru 37, v níž se nachází kulička 35 a otáčivá deska 34. Kulička je v kruhovém otvoru 43 uložena s vůlí, takže se může volně valit.Ventilové dříky 21, 32 dosahují do komory 37 na straně protilehlé pevné desce 36, přičemž ty části dříků 21, 32, které vyčnívají do komory 37, tvoří zdvihátka. Dříky 21, 32 jsou vedeny vedeními 38, 39 a jsou utěsněny vůči nim O kroužky 40, 41.
. Otáčivá kruhová deska 34 a pevná deska 36 jsou rovnoběžné, ventilové dříky 21, 32 jsou k těmto deskám - kolmé. Otáčivá kruhová deska 34 se nuceně -otáčí kolem' -osy k ní kolmé na čepu 42, který jí prochází, přičemž čep 42 je upraven mezi tělesem 11 ventilu a pevnou deskou 36. Kruhový otvor 43, procházející otáčivou kruhovou deskou unáší kuličku 35 s otáčivou kruhovou deskou 34 při jejím otáčení kolem čepu 42. Kruhový otvor 43 je - umístěn v otáčivé desce 34 tak, že když se deska otáčí, kulička prochází -přímo - pod ventilovými dříky 21, 32 -a jak je patrno- z obr. 1, kulička 35 se nemůže z otvoru 43 vyprostit, protože pevná deska 36 je vzdálena od druhé stěny komory 37 jen o něco více, než je průměr kuličky 35. Ventilové dříky 21, 32 vyčnívají do komory 37 v takové míře, že vzdálenost mezi ' dolním koncem dříku 21, 32 a pevnou deskou 36 je menší, než průměr kuličky 35.
Otáčivá kruhová -deska 34 má na vnějším okraji zuby 44, které ' zabírají s neznázorněným šnekem, poháněným hnacím . šroubovým vřetenem 45.
Funkce vzduchového regulačního ventilu je tato: Hnací . šroubové vřeteno 45 se otáčí, což působí otáčení šneku a zubů 44, čímž se otáčí i otáčivá deska .na čepu 42. Když kulička 35 není . ve styku s žádným z dříků 21, 32, jsou talířové ventily 18, . 30 v uzavřené poloze, v kterémžto případě neprochází vzduch od přívodu 12, ani· nevychází z vývodu 13, nebo k němu.
Když . se kruhová otáčivá deska 34 otáčí, kulička 35 . se pohybuje tak, že prochází mezi pevnou deskou 36 a ventilovým dříkem 21 a zvedne jej proti síle tlačné pružiny 23, protože vzdálenost mezi dříkem 21 a deskou 36 je menší, než průměr kuličky 35. Ačkoliv dolní povrch ventilového dříku 21 klouže .po. povrchu kuličky . 35, nebo. alternativně, plocha pevné desky 36 klouže po povrchu kuličky 35, pak při každém dotyku .kuličky 35 s dříkem 21 dotýká se dříku 21 jiná část povrchu kuličky 35, takže opotřebení se rozděluje po celém povrchu kuličky 35. To je v protikladu s používáním normální vačky, kde se ventilového. dříku dotýká vždy stejná část povrchu vačky, která se proto rychle opotřebuje.
Když je první talířový ventil 18 otevřen, může vzduch procházet od přívodu 12 přes vrtání 16, 17 za .první talířový ventil 18 prvním· sedlem 19 do. kanálu 31 k druhému souosému vrtání 28, druhému vrtání 27 a pak ven vývodem 13, například k podvozkové mazací jednotce.
Když se otáčivá kruhová deska 34 dále otáčí, kulička 35 vyjde ze styku s prvním dříkem 21, .a tak se první talířový ventil 18 uzavře. Je vidět, že k podvozkové mazací jednotce byl připuštěn vzduchový impuls. Otáčivá kruhová deska 34 se otáčí .dále a kulička 35 prochází mezi pevnou deskou 36 a druhým dříkem 32, otevře druhý talířový . ventil 30 zvednutím druhého dříku 32 a posunutím druhého talířového. ventilu' 30 proti účinku druhé tlačné pružiny 33. 0tevření druhého. talířového ventilu 30 umožní, aby vzduch proudil z podvozkové mazací jednotky přes druhé vrtání 27 dru6 hé souosé vrtání 28, druhé sedlo. 29 do výfuku 14.
Otáčivá kruhová deska 34 se otáčí dále tak, že talířové ventily 18, 30 budou střídavě otevírány na krátkou dobu a vytvoří se spojení od přívodu 12 k vývodu 13 a střídavě od vývodu 13 do výfuku 14.
Výhody tohoto. uspořádání byly uvedeny výše, například snížení opotřebení valivých povrchů, poněvadž kulička .35 se stýká . s ventilovými dříky 21, 32 vždy jinou částí povrchu. Další výhodou je, že když se na pevné desce nachází malé množství maziva, toto mazivo se povrchem kuličky 35 nadzdvihuje při jejím otáčení a ukládá se na dřících 21, 32, čímž . jsou dříky 21, 32 mazány při jejích pohybu ve ventilových vedeních 38, 39. Druhý dřík 32 je vytvořen například z mosazi, která je odolná proti opotřebení při nedostatečném· mazání a kulička 35 má známou, spolehlivou povrchové úpravu a povrch velmi tvrdý, který se stykem s dříkem neopotřebovává, a který ani neabso-rbuje drť z opotřebení dříku, což by urychlovalo. celkové opotřebení. Takto však je opotřebení malé.
Vzduchový regulační ventil podle obr. 2 je ve většině . ohledů podobný regulačnímu vzduchovému ventilu podle obr. 1. Nicméně v tomto. .případě čep 42 je uložen pouze v pevné desce 36 a otáčivá deska 34 místo, aby byla v odstupu od pevné desky 36, nyní na ní spočívá. Tření je zmenšené použitím vhodných materiálů a mazivem v komoře .37.
Jino-u změnou Je, že kulička 35 je z .ocele.
Vynález není omezen na podrobnosti předcházejících příkladů. U jiných aplikací, například může kulička 35 uvádět v činnost pouze jeden ventil nebo alespoň dva ventily za páčku .otáčivé kruhové desky 34. I způsob pohonu otáčivé kruhové desky 34 může být různý, přičemž například otáčivá kruhová deska 34 se pohání přímo, .otáčejícím se hřídelem. U mnoha aplikací nebude potřebné vzájemně spojit talířové ventily . 18, 30 způsobem, znázorněným v tomto příkladu, ale ventily mohou pracovat úplně nezávisle při otevírání a zavírání přidružených vstupních a výstupních otvorů.
Ventily není nutno uvádět v činnost kuličkou působící přímo na dříky, ale lze použít zvláštní zvedákový prvek. I otáčivá deska 34 nemusí být zcela plochá, . ale může mít tvar klece, je přitom pouze nutné, aby měla prvky pro. uchycení kuličky 35 a pro její otáčení kolem osy vzdálené od kuličky 35.
Claims (12)
- předmět1. Ventil s dříkem uváděným do· pohybu pohybem zdvihátka . a opatřený prostředky pro · pohyb zdvihátka z klidu proti síle předpětí, vyznačený tím, že sestává z tělesa (11) ventilu, s přívodem (12) opatřeným prvním talířovým · ventilem (18), vývodem (13) opatřeným druhým talířovým veniilem (30) a výfukem (14) spojeným přes druhý talířový ventil (30) s vývodem (13), přičemž první talířový ventil (18) má první dřík (21) a druhý talířový ventil (30) má druhý dřík (32), kteréžto dříky (21, 32) jsou upraveny pro zdvih v kinematické vazbě s alespoň jednou kuličkou (35), uloženou v kruhových otvorech (43) kruhové desky (34), uspořádané otáčivě v tělese (11) ventilu.
- 2. Ventil podle bodu 1 vyznačený tím, že talířové ventily [18, 30) sestávají z hlav · (20), jejichž dříky (21, 32) jsou vzájemně rovnoběžné a prochází vedeními (38, 39) do komory (37) tělesa (11) ventilu proti alespoň jedné kuličce (35).
- 3. Ventil podle bodů 1 a 2 vyznačený tím, že o hlavy (20) talířových ventilu (18, 30) jsou opřeny tlačné pružiny (23, 33).
- 4. Ventil podle bodů 1 až 3 vyznačený tím, že prostor pod prvním talířovým ventilem· (18) je spojen s prostorem nad druVYNALEZU hým talířovým ventilem (30) kanálem (31).
- 5. Ventil podle bodů 1 až 4 vyznačený tím, že kruhová deska (34) je uložena otočně na čepu (42), rovnoběžném s dříky (21, 32) upevněném v tělese (11) ventilu.
- 6. Ventil podle bodů 1 až ·5 vyznačený tím, že kuličky (35) spočívají na pevné desce (36) upravené na dolním konci komory (37) tělesa (11) ventilu.
- 7. Ventil podle bodů 1 až 6 vyznačený tím, že pevná deska (36) je tvořena dnem tělesa (11) ventilu.
- 8. Ventil podle · bodů 1 až 7 vyznačený tím, že kruhová deska (34) je rovnoběžná s pevnou deskou (36).
- 9. Ventil podle bodů 1 až 8 vyznačený tím, že kruhová deska (34) je •opatřena na obvodu ozubením (44) v kinematické vazbě s hnacím šroubovým vřetenem (45).
- 10. Ventil podle bodů 1 až 9 · vyznačený tím, že kulička (35) je ze skla.
- 11. Ventil podle bodů 1 až 10 vyznačený tím, že kulička (35) je z oceli.
- 12. Ventil podle bodů 1 až 11 vyznačený tím, že kulička (35) je z materiálu o tvrdosti 35 dle Rockwella, kterážto· tvrdost je vyšší, než tvrdost materiálu pevné desky (36) a dříků (21, 32).
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB1530071 | 1971-05-17 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CS209838B2 true CS209838B2 (en) | 1981-12-31 |
Family
ID=10056633
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CS723366A CS209838B2 (en) | 1971-05-17 | 1972-05-17 | Valve |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3814128A (cs) |
JP (1) | JPS549329B2 (cs) |
CA (1) | CA957240A (cs) |
CS (1) | CS209838B2 (cs) |
DE (1) | DE2223687C2 (cs) |
FR (1) | FR2137920B1 (cs) |
GB (1) | GB1337173A (cs) |
IT (1) | IT957871B (cs) |
NL (1) | NL167019C (cs) |
SE (1) | SE382105B (cs) |
Families Citing this family (265)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2644312C2 (de) * | 1976-10-01 | 1978-11-23 | Neiman Gmbh + Co Kg, 5600 Wuppertal | Vorrichtung zur Sperrung eines in gesperrter Lage befindlichen, zylinderschloßbetätigbaren Sperriegels |
JPH041651Y2 (cs) * | 1985-01-14 | 1992-01-21 | ||
US4747424A (en) * | 1986-10-02 | 1988-05-31 | Chapman Leonard T | Hydraulic valve |
NL9001451A (nl) * | 1990-06-25 | 1992-01-16 | Asm Europ | Driewegklep. |
US20130023129A1 (en) | 2011-07-20 | 2013-01-24 | Asm America, Inc. | Pressure transmitter for a semiconductor processing environment |
US10714315B2 (en) | 2012-10-12 | 2020-07-14 | Asm Ip Holdings B.V. | Semiconductor reaction chamber showerhead |
US20160376700A1 (en) | 2013-02-01 | 2016-12-29 | Asm Ip Holding B.V. | System for treatment of deposition reactor |
US11015245B2 (en) | 2014-03-19 | 2021-05-25 | Asm Ip Holding B.V. | Gas-phase reactor and system having exhaust plenum and components thereof |
US10941490B2 (en) | 2014-10-07 | 2021-03-09 | Asm Ip Holding B.V. | Multiple temperature range susceptor, assembly, reactor and system including the susceptor, and methods of using the same |
US10276355B2 (en) | 2015-03-12 | 2019-04-30 | Asm Ip Holding B.V. | Multi-zone reactor, system including the reactor, and method of using the same |
US10458018B2 (en) | 2015-06-26 | 2019-10-29 | Asm Ip Holding B.V. | Structures including metal carbide material, devices including the structures, and methods of forming same |
US10211308B2 (en) | 2015-10-21 | 2019-02-19 | Asm Ip Holding B.V. | NbMC layers |
US11139308B2 (en) | 2015-12-29 | 2021-10-05 | Asm Ip Holding B.V. | Atomic layer deposition of III-V compounds to form V-NAND devices |
US10529554B2 (en) | 2016-02-19 | 2020-01-07 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming silicon nitride film selectively on sidewalls or flat surfaces of trenches |
US10343920B2 (en) | 2016-03-18 | 2019-07-09 | Asm Ip Holding B.V. | Aligned carbon nanotubes |
US10367080B2 (en) | 2016-05-02 | 2019-07-30 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming a germanium oxynitride film |
US11453943B2 (en) | 2016-05-25 | 2022-09-27 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming carbon-containing silicon/metal oxide or nitride film by ALD using silicon precursor and hydrocarbon precursor |
US9859151B1 (en) | 2016-07-08 | 2018-01-02 | Asm Ip Holding B.V. | Selective film deposition method to form air gaps |
US10612137B2 (en) | 2016-07-08 | 2020-04-07 | Asm Ip Holdings B.V. | Organic reactants for atomic layer deposition |
KR102532607B1 (ko) | 2016-07-28 | 2023-05-15 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 가공 장치 및 그 동작 방법 |
US9887082B1 (en) | 2016-07-28 | 2018-02-06 | Asm Ip Holding B.V. | Method and apparatus for filling a gap |
US9812320B1 (en) | 2016-07-28 | 2017-11-07 | Asm Ip Holding B.V. | Method and apparatus for filling a gap |
US11532757B2 (en) | 2016-10-27 | 2022-12-20 | Asm Ip Holding B.V. | Deposition of charge trapping layers |
US10714350B2 (en) | 2016-11-01 | 2020-07-14 | ASM IP Holdings, B.V. | Methods for forming a transition metal niobium nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related semiconductor device structures |
KR102546317B1 (ko) | 2016-11-15 | 2023-06-21 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기체 공급 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 |
KR102762543B1 (ko) | 2016-12-14 | 2025-02-05 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
US11447861B2 (en) | 2016-12-15 | 2022-09-20 | Asm Ip Holding B.V. | Sequential infiltration synthesis apparatus and a method of forming a patterned structure |
US11581186B2 (en) | 2016-12-15 | 2023-02-14 | Asm Ip Holding B.V. | Sequential infiltration synthesis apparatus |
KR102700194B1 (ko) | 2016-12-19 | 2024-08-28 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
US10269558B2 (en) | 2016-12-22 | 2019-04-23 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming a structure on a substrate |
US11390950B2 (en) | 2017-01-10 | 2022-07-19 | Asm Ip Holding B.V. | Reactor system and method to reduce residue buildup during a film deposition process |
US10468261B2 (en) | 2017-02-15 | 2019-11-05 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a metallic film on a substrate by cyclical deposition and related semiconductor device structures |
US10529563B2 (en) | 2017-03-29 | 2020-01-07 | Asm Ip Holdings B.V. | Method for forming doped metal oxide films on a substrate by cyclical deposition and related semiconductor device structures |
US10770286B2 (en) | 2017-05-08 | 2020-09-08 | Asm Ip Holdings B.V. | Methods for selectively forming a silicon nitride film on a substrate and related semiconductor device structures |
US12040200B2 (en) | 2017-06-20 | 2024-07-16 | Asm Ip Holding B.V. | Semiconductor processing apparatus and methods for calibrating a semiconductor processing apparatus |
US11306395B2 (en) | 2017-06-28 | 2022-04-19 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a transition metal nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related deposition apparatus |
KR20190009245A (ko) | 2017-07-18 | 2019-01-28 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 반도체 소자 구조물 형성 방법 및 관련된 반도체 소자 구조물 |
US10541333B2 (en) | 2017-07-19 | 2020-01-21 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a group IV semiconductor and related semiconductor device structures |
US11374112B2 (en) | 2017-07-19 | 2022-06-28 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a group IV semiconductor and related semiconductor device structures |
US11018002B2 (en) | 2017-07-19 | 2021-05-25 | Asm Ip Holding B.V. | Method for selectively depositing a Group IV semiconductor and related semiconductor device structures |
US10590535B2 (en) | 2017-07-26 | 2020-03-17 | Asm Ip Holdings B.V. | Chemical treatment, deposition and/or infiltration apparatus and method for using the same |
US10692741B2 (en) | 2017-08-08 | 2020-06-23 | Asm Ip Holdings B.V. | Radiation shield |
US10770336B2 (en) | 2017-08-08 | 2020-09-08 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate lift mechanism and reactor including same |
US11139191B2 (en) | 2017-08-09 | 2021-10-05 | Asm Ip Holding B.V. | Storage apparatus for storing cassettes for substrates and processing apparatus equipped therewith |
US11769682B2 (en) | 2017-08-09 | 2023-09-26 | Asm Ip Holding B.V. | Storage apparatus for storing cassettes for substrates and processing apparatus equipped therewith |
US11830730B2 (en) | 2017-08-29 | 2023-11-28 | Asm Ip Holding B.V. | Layer forming method and apparatus |
US11295980B2 (en) | 2017-08-30 | 2022-04-05 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a molybdenum metal film over a dielectric surface of a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures |
KR102491945B1 (ko) | 2017-08-30 | 2023-01-26 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
US11056344B2 (en) | 2017-08-30 | 2021-07-06 | Asm Ip Holding B.V. | Layer forming method |
US10658205B2 (en) | 2017-09-28 | 2020-05-19 | Asm Ip Holdings B.V. | Chemical dispensing apparatus and methods for dispensing a chemical to a reaction chamber |
US10403504B2 (en) | 2017-10-05 | 2019-09-03 | Asm Ip Holding B.V. | Method for selectively depositing a metallic film on a substrate |
US10923344B2 (en) | 2017-10-30 | 2021-02-16 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a semiconductor structure and related semiconductor structures |
US11022879B2 (en) | 2017-11-24 | 2021-06-01 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming an enhanced unexposed photoresist layer |
KR102633318B1 (ko) | 2017-11-27 | 2024-02-05 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 청정 소형 구역을 포함한 장치 |
CN111316417B (zh) | 2017-11-27 | 2023-12-22 | 阿斯莫Ip控股公司 | 与批式炉偕同使用的用于储存晶圆匣的储存装置 |
US10872771B2 (en) | 2018-01-16 | 2020-12-22 | Asm Ip Holding B. V. | Method for depositing a material film on a substrate within a reaction chamber by a cyclical deposition process and related device structures |
WO2019142055A2 (en) | 2018-01-19 | 2019-07-25 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a gap-fill layer by plasma-assisted deposition |
TWI852426B (zh) | 2018-01-19 | 2024-08-11 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 沈積方法 |
US11081345B2 (en) | 2018-02-06 | 2021-08-03 | Asm Ip Holding B.V. | Method of post-deposition treatment for silicon oxide film |
US10896820B2 (en) | 2018-02-14 | 2021-01-19 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a ruthenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process |
CN111699278B (zh) | 2018-02-14 | 2023-05-16 | Asm Ip私人控股有限公司 | 通过循环沉积工艺在衬底上沉积含钌膜的方法 |
US10731249B2 (en) | 2018-02-15 | 2020-08-04 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming a transition metal containing film on a substrate by a cyclical deposition process, a method for supplying a transition metal halide compound to a reaction chamber, and related vapor deposition apparatus |
KR102636427B1 (ko) | 2018-02-20 | 2024-02-13 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 방법 및 장치 |
US10975470B2 (en) | 2018-02-23 | 2021-04-13 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus for detecting or monitoring for a chemical precursor in a high temperature environment |
US11473195B2 (en) | 2018-03-01 | 2022-10-18 | Asm Ip Holding B.V. | Semiconductor processing apparatus and a method for processing a substrate |
US11629406B2 (en) | 2018-03-09 | 2023-04-18 | Asm Ip Holding B.V. | Semiconductor processing apparatus comprising one or more pyrometers for measuring a temperature of a substrate during transfer of the substrate |
US11114283B2 (en) | 2018-03-16 | 2021-09-07 | Asm Ip Holding B.V. | Reactor, system including the reactor, and methods of manufacturing and using same |
KR102646467B1 (ko) | 2018-03-27 | 2024-03-11 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 상에 전극을 형성하는 방법 및 전극을 포함하는 반도체 소자 구조 |
US11230766B2 (en) | 2018-03-29 | 2022-01-25 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus and method |
US11088002B2 (en) | 2018-03-29 | 2021-08-10 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate rack and a substrate processing system and method |
KR102600229B1 (ko) | 2018-04-09 | 2023-11-10 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 지지 장치, 이를 포함하는 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
US12025484B2 (en) | 2018-05-08 | 2024-07-02 | Asm Ip Holding B.V. | Thin film forming method |
TWI843623B (zh) | 2018-05-08 | 2024-05-21 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 藉由循環沉積製程於基板上沉積氧化物膜之方法及相關裝置結構 |
KR102596988B1 (ko) | 2018-05-28 | 2023-10-31 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 방법 및 그에 의해 제조된 장치 |
TWI840362B (zh) | 2018-06-04 | 2024-05-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 水氣降低的晶圓處置腔室 |
US11718913B2 (en) | 2018-06-04 | 2023-08-08 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distribution system and reactor system including same |
US11286562B2 (en) | 2018-06-08 | 2022-03-29 | Asm Ip Holding B.V. | Gas-phase chemical reactor and method of using same |
US10797133B2 (en) | 2018-06-21 | 2020-10-06 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a phosphorus doped silicon arsenide film and related semiconductor device structures |
KR102568797B1 (ko) | 2018-06-21 | 2023-08-21 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 시스템 |
TWI819010B (zh) | 2018-06-27 | 2023-10-21 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用於形成含金屬材料及包含含金屬材料的膜及結構之循環沉積方法 |
WO2020003000A1 (en) | 2018-06-27 | 2020-01-02 | Asm Ip Holding B.V. | Cyclic deposition methods for forming metal-containing material and films and structures including the metal-containing material |
US10612136B2 (en) | 2018-06-29 | 2020-04-07 | ASM IP Holding, B.V. | Temperature-controlled flange and reactor system including same |
US10388513B1 (en) | 2018-07-03 | 2019-08-20 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing silicon-free carbon-containing film as gap-fill layer by pulse plasma-assisted deposition |
US10755922B2 (en) | 2018-07-03 | 2020-08-25 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing silicon-free carbon-containing film as gap-fill layer by pulse plasma-assisted deposition |
US11053591B2 (en) | 2018-08-06 | 2021-07-06 | Asm Ip Holding B.V. | Multi-port gas injection system and reactor system including same |
US11430674B2 (en) | 2018-08-22 | 2022-08-30 | Asm Ip Holding B.V. | Sensor array, apparatus for dispensing a vapor phase reactant to a reaction chamber and related methods |
US11024523B2 (en) | 2018-09-11 | 2021-06-01 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus and method |
KR102707956B1 (ko) | 2018-09-11 | 2024-09-19 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 박막 증착 방법 |
US11049751B2 (en) | 2018-09-14 | 2021-06-29 | Asm Ip Holding B.V. | Cassette supply system to store and handle cassettes and processing apparatus equipped therewith |
CN110970344B (zh) | 2018-10-01 | 2024-10-25 | Asmip控股有限公司 | 衬底保持设备、包含所述设备的系统及其使用方法 |
US11232963B2 (en) | 2018-10-03 | 2022-01-25 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus and method |
KR102592699B1 (ko) | 2018-10-08 | 2023-10-23 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 지지 유닛 및 이를 포함하는 박막 증착 장치와 기판 처리 장치 |
KR102546322B1 (ko) | 2018-10-19 | 2023-06-21 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
KR102605121B1 (ko) | 2018-10-19 | 2023-11-23 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
USD948463S1 (en) | 2018-10-24 | 2022-04-12 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor for semiconductor substrate supporting apparatus |
US11087997B2 (en) | 2018-10-31 | 2021-08-10 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus for processing substrates |
KR102748291B1 (ko) | 2018-11-02 | 2024-12-31 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 지지 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 |
US11572620B2 (en) | 2018-11-06 | 2023-02-07 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for selectively depositing an amorphous silicon film on a substrate |
US11031242B2 (en) | 2018-11-07 | 2021-06-08 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a boron doped silicon germanium film |
US10818758B2 (en) | 2018-11-16 | 2020-10-27 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a metal silicate film on a substrate in a reaction chamber and related semiconductor device structures |
US10847366B2 (en) | 2018-11-16 | 2020-11-24 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a transition metal chalcogenide film on a substrate by a cyclical deposition process |
US12040199B2 (en) | 2018-11-28 | 2024-07-16 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus for processing substrates |
US11217444B2 (en) | 2018-11-30 | 2022-01-04 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming an ultraviolet radiation responsive metal oxide-containing film |
KR102636428B1 (ko) | 2018-12-04 | 2024-02-13 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치를 세정하는 방법 |
US11158513B2 (en) | 2018-12-13 | 2021-10-26 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a rhenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures |
JP7504584B2 (ja) | 2018-12-14 | 2024-06-24 | エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー | 窒化ガリウムの選択的堆積を用いてデバイス構造体を形成する方法及びそのためのシステム |
TWI866480B (zh) | 2019-01-17 | 2024-12-11 | 荷蘭商Asm Ip 私人控股有限公司 | 藉由循環沈積製程於基板上形成含過渡金屬膜之方法 |
KR102727227B1 (ko) | 2019-01-22 | 2024-11-07 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
CN111524788B (zh) | 2019-02-01 | 2023-11-24 | Asm Ip私人控股有限公司 | 氧化硅的拓扑选择性膜形成的方法 |
KR102626263B1 (ko) | 2019-02-20 | 2024-01-16 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 처리 단계를 포함하는 주기적 증착 방법 및 이를 위한 장치 |
JP7603377B2 (ja) | 2019-02-20 | 2024-12-20 | エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー | 基材表面内に形成された凹部を充填するための方法および装置 |
KR20200102357A (ko) | 2019-02-20 | 2020-08-31 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 3-d nand 응용의 플러그 충진체 증착용 장치 및 방법 |
TWI845607B (zh) | 2019-02-20 | 2024-06-21 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用來填充形成於基材表面內之凹部的循環沉積方法及設備 |
TWI842826B (zh) | 2019-02-22 | 2024-05-21 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 基材處理設備及處理基材之方法 |
KR102782593B1 (ko) | 2019-03-08 | 2025-03-14 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | SiOC 층을 포함한 구조체 및 이의 형성 방법 |
KR102762833B1 (ko) | 2019-03-08 | 2025-02-04 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | SiOCN 층을 포함한 구조체 및 이의 형성 방법 |
KR20200108242A (ko) | 2019-03-08 | 2020-09-17 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 실리콘 질화물 층을 선택적으로 증착하는 방법, 및 선택적으로 증착된 실리콘 질화물 층을 포함하는 구조체 |
KR20200116033A (ko) | 2019-03-28 | 2020-10-08 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 도어 개방기 및 이를 구비한 기판 처리 장치 |
KR20200116855A (ko) | 2019-04-01 | 2020-10-13 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 반도체 소자를 제조하는 방법 |
US11447864B2 (en) | 2019-04-19 | 2022-09-20 | Asm Ip Holding B.V. | Layer forming method and apparatus |
KR20200125453A (ko) | 2019-04-24 | 2020-11-04 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기상 반응기 시스템 및 이를 사용하는 방법 |
KR20200130118A (ko) | 2019-05-07 | 2020-11-18 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 비정질 탄소 중합체 막을 개질하는 방법 |
KR20200130121A (ko) | 2019-05-07 | 2020-11-18 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 딥 튜브가 있는 화학물질 공급원 용기 |
KR20200130652A (ko) | 2019-05-10 | 2020-11-19 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 표면 상에 재료를 증착하는 방법 및 본 방법에 따라 형성된 구조 |
JP7612342B2 (ja) | 2019-05-16 | 2025-01-14 | エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー | ウェハボートハンドリング装置、縦型バッチ炉および方法 |
JP7598201B2 (ja) | 2019-05-16 | 2024-12-11 | エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー | ウェハボートハンドリング装置、縦型バッチ炉および方法 |
USD975665S1 (en) | 2019-05-17 | 2023-01-17 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor shaft |
USD947913S1 (en) | 2019-05-17 | 2022-04-05 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor shaft |
USD935572S1 (en) | 2019-05-24 | 2021-11-09 | Asm Ip Holding B.V. | Gas channel plate |
USD922229S1 (en) | 2019-06-05 | 2021-06-15 | Asm Ip Holding B.V. | Device for controlling a temperature of a gas supply unit |
KR20200141002A (ko) | 2019-06-06 | 2020-12-17 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 배기 가스 분석을 포함한 기상 반응기 시스템을 사용하는 방법 |
KR20200141931A (ko) | 2019-06-10 | 2020-12-21 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 석영 에피택셜 챔버를 세정하는 방법 |
KR20200143254A (ko) | 2019-06-11 | 2020-12-23 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 개질 가스를 사용하여 전자 구조를 형성하는 방법, 상기 방법을 수행하기 위한 시스템, 및 상기 방법을 사용하여 형성되는 구조 |
USD944946S1 (en) | 2019-06-14 | 2022-03-01 | Asm Ip Holding B.V. | Shower plate |
USD931978S1 (en) | 2019-06-27 | 2021-09-28 | Asm Ip Holding B.V. | Showerhead vacuum transport |
KR20210005515A (ko) | 2019-07-03 | 2021-01-14 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치용 온도 제어 조립체 및 이를 사용하는 방법 |
JP7499079B2 (ja) | 2019-07-09 | 2024-06-13 | エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー | 同軸導波管を用いたプラズマ装置、基板処理方法 |
CN112216646A (zh) | 2019-07-10 | 2021-01-12 | Asm Ip私人控股有限公司 | 基板支撑组件及包括其的基板处理装置 |
KR20210010307A (ko) | 2019-07-16 | 2021-01-27 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
KR20210010820A (ko) | 2019-07-17 | 2021-01-28 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 실리콘 게르마늄 구조를 형성하는 방법 |
KR20210010816A (ko) | 2019-07-17 | 2021-01-28 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 라디칼 보조 점화 플라즈마 시스템 및 방법 |
US11643724B2 (en) | 2019-07-18 | 2023-05-09 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming structures using a neutral beam |
KR20210010817A (ko) | 2019-07-19 | 2021-01-28 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 토폴로지-제어된 비정질 탄소 중합체 막을 형성하는 방법 |
TWI839544B (zh) | 2019-07-19 | 2024-04-21 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 形成形貌受控的非晶碳聚合物膜之方法 |
CN112309843A (zh) | 2019-07-29 | 2021-02-02 | Asm Ip私人控股有限公司 | 实现高掺杂剂掺入的选择性沉积方法 |
CN112309899A (zh) | 2019-07-30 | 2021-02-02 | Asm Ip私人控股有限公司 | 基板处理设备 |
CN112309900A (zh) | 2019-07-30 | 2021-02-02 | Asm Ip私人控股有限公司 | 基板处理设备 |
KR20210015655A (ko) | 2019-07-30 | 2021-02-10 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 및 방법 |
US11587814B2 (en) | 2019-07-31 | 2023-02-21 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical batch furnace assembly |
US11227782B2 (en) | 2019-07-31 | 2022-01-18 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical batch furnace assembly |
US11587815B2 (en) | 2019-07-31 | 2023-02-21 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical batch furnace assembly |
KR20210018759A (ko) | 2019-08-05 | 2021-02-18 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 화학물질 공급원 용기를 위한 액체 레벨 센서 |
KR20210018761A (ko) | 2019-08-09 | 2021-02-18 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 냉각 장치를 포함한 히터 어셈블리 및 이를 사용하는 방법 |
USD965524S1 (en) | 2019-08-19 | 2022-10-04 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor support |
USD965044S1 (en) | 2019-08-19 | 2022-09-27 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor shaft |
JP2021031769A (ja) | 2019-08-21 | 2021-03-01 | エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. | 成膜原料混合ガス生成装置及び成膜装置 |
USD979506S1 (en) | 2019-08-22 | 2023-02-28 | Asm Ip Holding B.V. | Insulator |
USD930782S1 (en) | 2019-08-22 | 2021-09-14 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distributor |
USD949319S1 (en) | 2019-08-22 | 2022-04-19 | Asm Ip Holding B.V. | Exhaust duct |
KR20210024423A (ko) | 2019-08-22 | 2021-03-05 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 홀을 구비한 구조체를 형성하기 위한 방법 |
USD940837S1 (en) | 2019-08-22 | 2022-01-11 | Asm Ip Holding B.V. | Electrode |
US11286558B2 (en) | 2019-08-23 | 2022-03-29 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a molybdenum nitride film on a surface of a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures including a molybdenum nitride film |
KR20210024420A (ko) | 2019-08-23 | 2021-03-05 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 비스(디에틸아미노)실란을 사용하여 peald에 의해 개선된 품질을 갖는 실리콘 산화물 막을 증착하기 위한 방법 |
KR20210029090A (ko) | 2019-09-04 | 2021-03-15 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 희생 캡핑 층을 이용한 선택적 증착 방법 |
KR102733104B1 (ko) | 2019-09-05 | 2024-11-22 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
US11562901B2 (en) | 2019-09-25 | 2023-01-24 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing method |
CN112593212B (zh) | 2019-10-02 | 2023-12-22 | Asm Ip私人控股有限公司 | 通过循环等离子体增强沉积工艺形成拓扑选择性氧化硅膜的方法 |
KR20210042810A (ko) | 2019-10-08 | 2021-04-20 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 활성 종을 이용하기 위한 가스 분배 어셈블리를 포함한 반응기 시스템 및 이를 사용하는 방법 |
TWI846953B (zh) | 2019-10-08 | 2024-07-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 基板處理裝置 |
TWI846966B (zh) | 2019-10-10 | 2024-07-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 形成光阻底層之方法及包括光阻底層之結構 |
US12009241B2 (en) | 2019-10-14 | 2024-06-11 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical batch furnace assembly with detector to detect cassette |
TWI834919B (zh) | 2019-10-16 | 2024-03-11 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 氧化矽之拓撲選擇性膜形成之方法 |
US11637014B2 (en) | 2019-10-17 | 2023-04-25 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for selective deposition of doped semiconductor material |
KR20210047808A (ko) | 2019-10-21 | 2021-04-30 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 막을 선택적으로 에칭하기 위한 장치 및 방법 |
KR20210050453A (ko) | 2019-10-25 | 2021-05-07 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 표면 상의 갭 피처를 충진하는 방법 및 이와 관련된 반도체 소자 구조 |
US11646205B2 (en) | 2019-10-29 | 2023-05-09 | Asm Ip Holding B.V. | Methods of selectively forming n-type doped material on a surface, systems for selectively forming n-type doped material, and structures formed using same |
KR20210054983A (ko) | 2019-11-05 | 2021-05-14 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 도핑된 반도체 층을 갖는 구조체 및 이를 형성하기 위한 방법 및 시스템 |
US11501968B2 (en) | 2019-11-15 | 2022-11-15 | Asm Ip Holding B.V. | Method for providing a semiconductor device with silicon filled gaps |
KR20210062561A (ko) | 2019-11-20 | 2021-05-31 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판의 표면 상에 탄소 함유 물질을 증착하는 방법, 상기 방법을 사용하여 형성된 구조물, 및 상기 구조물을 형성하기 위한 시스템 |
CN112951697A (zh) | 2019-11-26 | 2021-06-11 | Asm Ip私人控股有限公司 | 基板处理设备 |
US11450529B2 (en) | 2019-11-26 | 2022-09-20 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for selectively forming a target film on a substrate comprising a first dielectric surface and a second metallic surface |
CN112885693A (zh) | 2019-11-29 | 2021-06-01 | Asm Ip私人控股有限公司 | 基板处理设备 |
CN112885692A (zh) | 2019-11-29 | 2021-06-01 | Asm Ip私人控股有限公司 | 基板处理设备 |
JP7527928B2 (ja) | 2019-12-02 | 2024-08-05 | エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー | 基板処理装置、基板処理方法 |
KR20210070898A (ko) | 2019-12-04 | 2021-06-15 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
KR20210078405A (ko) | 2019-12-17 | 2021-06-28 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 바나듐 나이트라이드 층을 형성하는 방법 및 바나듐 나이트라이드 층을 포함하는 구조 |
KR20210080214A (ko) | 2019-12-19 | 2021-06-30 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 상의 갭 피처를 충진하는 방법 및 이와 관련된 반도체 소자 구조 |
TW202142733A (zh) | 2020-01-06 | 2021-11-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 反應器系統、抬升銷、及處理方法 |
KR20210089077A (ko) | 2020-01-06 | 2021-07-15 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 가스 공급 어셈블리, 이의 구성 요소, 및 이를 포함하는 반응기 시스템 |
US11993847B2 (en) | 2020-01-08 | 2024-05-28 | Asm Ip Holding B.V. | Injector |
KR20210093163A (ko) | 2020-01-16 | 2021-07-27 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 고 종횡비 피처를 형성하는 방법 |
KR102675856B1 (ko) | 2020-01-20 | 2024-06-17 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 박막 형성 방법 및 박막 표면 개질 방법 |
CN113284789A (zh) | 2020-02-03 | 2021-08-20 | Asm Ip私人控股有限公司 | 形成包括钒或铟层的结构的方法 |
KR20210100010A (ko) | 2020-02-04 | 2021-08-13 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 대형 물품의 투과율 측정을 위한 방법 및 장치 |
US11776846B2 (en) | 2020-02-07 | 2023-10-03 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing gap filling fluids and related systems and devices |
KR20210103956A (ko) | 2020-02-13 | 2021-08-24 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 수광 장치를 포함하는 기판 처리 장치 및 수광 장치의 교정 방법 |
US11781243B2 (en) | 2020-02-17 | 2023-10-10 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing low temperature phosphorous-doped silicon |
TW202203344A (zh) | 2020-02-28 | 2022-01-16 | 荷蘭商Asm Ip控股公司 | 專用於零件清潔的系統 |
US11876356B2 (en) | 2020-03-11 | 2024-01-16 | Asm Ip Holding B.V. | Lockout tagout assembly and system and method of using same |
KR20210116240A (ko) | 2020-03-11 | 2021-09-27 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 조절성 접합부를 갖는 기판 핸들링 장치 |
KR102775390B1 (ko) | 2020-03-12 | 2025-02-28 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 타겟 토폴로지 프로파일을 갖는 층 구조를 제조하기 위한 방법 |
US12173404B2 (en) | 2020-03-17 | 2024-12-24 | Asm Ip Holding B.V. | Method of depositing epitaxial material, structure formed using the method, and system for performing the method |
KR102755229B1 (ko) | 2020-04-02 | 2025-01-14 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 박막 형성 방법 |
TW202146689A (zh) | 2020-04-03 | 2021-12-16 | 荷蘭商Asm Ip控股公司 | 阻障層形成方法及半導體裝置的製造方法 |
TW202145344A (zh) | 2020-04-08 | 2021-12-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用於選擇性蝕刻氧化矽膜之設備及方法 |
US11821078B2 (en) | 2020-04-15 | 2023-11-21 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming precoat film and method for forming silicon-containing film |
KR20210128343A (ko) | 2020-04-15 | 2021-10-26 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 크롬 나이트라이드 층을 형성하는 방법 및 크롬 나이트라이드 층을 포함하는 구조 |
US11996289B2 (en) | 2020-04-16 | 2024-05-28 | Asm Ip Holding B.V. | Methods of forming structures including silicon germanium and silicon layers, devices formed using the methods, and systems for performing the methods |
TW202143328A (zh) | 2020-04-21 | 2021-11-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用於調整膜應力之方法 |
TW202208671A (zh) | 2020-04-24 | 2022-03-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 形成包括硼化釩及磷化釩層的結構之方法 |
KR20210132600A (ko) | 2020-04-24 | 2021-11-04 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 바나듐, 질소 및 추가 원소를 포함한 층을 증착하기 위한 방법 및 시스템 |
TW202200505A (zh) | 2020-04-24 | 2022-01-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用於穩定釩化合物之方法及設備 |
KR20210132605A (ko) | 2020-04-24 | 2021-11-04 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 냉각 가스 공급부를 포함한 수직형 배치 퍼니스 어셈블리 |
CN113555279A (zh) | 2020-04-24 | 2021-10-26 | Asm Ip私人控股有限公司 | 形成含氮化钒的层的方法及包含其的结构 |
JP2021181612A (ja) | 2020-04-29 | 2021-11-25 | エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー | 固体ソースプリカーサ容器 |
KR20210134869A (ko) | 2020-05-01 | 2021-11-11 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | Foup 핸들러를 이용한 foup의 빠른 교환 |
TW202147543A (zh) | 2020-05-04 | 2021-12-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 半導體處理系統 |
KR20210137395A (ko) | 2020-05-07 | 2021-11-17 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 불소계 라디칼을 이용하여 반응 챔버의 인시츄 식각을 수행하기 위한 장치 및 방법 |
US11626308B2 (en) | 2020-05-13 | 2023-04-11 | Asm Ip Holding B.V. | Laser alignment fixture for a reactor system |
TW202146699A (zh) | 2020-05-15 | 2021-12-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 形成矽鍺層之方法、半導體結構、半導體裝置、形成沉積層之方法、及沉積系統 |
KR20210143653A (ko) | 2020-05-19 | 2021-11-29 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
KR20210145079A (ko) | 2020-05-21 | 2021-12-01 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판을 처리하기 위한 플랜지 및 장치 |
KR20210145078A (ko) | 2020-05-21 | 2021-12-01 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 다수의 탄소 층을 포함한 구조체 및 이를 형성하고 사용하는 방법 |
KR102702526B1 (ko) | 2020-05-22 | 2024-09-03 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 과산화수소를 사용하여 박막을 증착하기 위한 장치 |
US11767589B2 (en) | 2020-05-29 | 2023-09-26 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing device |
TW202212620A (zh) | 2020-06-02 | 2022-04-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 處理基板之設備、形成膜之方法、及控制用於處理基板之設備之方法 |
TW202218133A (zh) | 2020-06-24 | 2022-05-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 形成含矽層之方法 |
KR20220002123A (ko) | 2020-06-30 | 2022-01-06 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 방법 |
KR102707957B1 (ko) | 2020-07-08 | 2024-09-19 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 방법 |
TWI864307B (zh) | 2020-07-17 | 2024-12-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用於光微影之結構、方法與系統 |
TW202204662A (zh) | 2020-07-20 | 2022-02-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用於沉積鉬層之方法及系統 |
KR20220011092A (ko) | 2020-07-20 | 2022-01-27 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 전이 금속층을 포함하는 구조체를 형성하기 위한 방법 및 시스템 |
KR20220021863A (ko) | 2020-08-14 | 2022-02-22 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 방법 |
US12040177B2 (en) | 2020-08-18 | 2024-07-16 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a laminate film by cyclical plasma-enhanced deposition processes |
TW202228863A (zh) | 2020-08-25 | 2022-08-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 清潔基板的方法、選擇性沉積的方法、及反應器系統 |
US11725280B2 (en) | 2020-08-26 | 2023-08-15 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming metal silicon oxide and metal silicon oxynitride layers |
TW202229601A (zh) | 2020-08-27 | 2022-08-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 形成圖案化結構的方法、操控機械特性的方法、裝置結構、及基板處理系統 |
TW202217045A (zh) | 2020-09-10 | 2022-05-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 沉積間隙填充流體之方法及相關系統和裝置 |
USD990534S1 (en) | 2020-09-11 | 2023-06-27 | Asm Ip Holding B.V. | Weighted lift pin |
KR20220036866A (ko) | 2020-09-16 | 2022-03-23 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 실리콘 산화물 증착 방법 |
USD1012873S1 (en) | 2020-09-24 | 2024-01-30 | Asm Ip Holding B.V. | Electrode for semiconductor processing apparatus |
TW202218049A (zh) | 2020-09-25 | 2022-05-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 基板處理方法 |
US12009224B2 (en) | 2020-09-29 | 2024-06-11 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus and method for etching metal nitrides |
KR20220045900A (ko) | 2020-10-06 | 2022-04-13 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 실리콘 함유 재료를 증착하기 위한 증착 방법 및 장치 |
CN114293174A (zh) | 2020-10-07 | 2022-04-08 | Asm Ip私人控股有限公司 | 气体供应单元和包括气体供应单元的衬底处理设备 |
TW202229613A (zh) | 2020-10-14 | 2022-08-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 於階梯式結構上沉積材料的方法 |
KR20220050048A (ko) | 2020-10-15 | 2022-04-22 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 반도체 소자의 제조 방법, 및 ether-cat을 사용하는 기판 처리 장치 |
KR20220053482A (ko) | 2020-10-22 | 2022-04-29 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 바나듐 금속을 증착하는 방법, 구조체, 소자 및 증착 어셈블리 |
TW202223136A (zh) | 2020-10-28 | 2022-06-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用於在基板上形成層之方法、及半導體處理系統 |
TW202229620A (zh) | 2020-11-12 | 2022-08-01 | 特文特大學 | 沉積系統、用於控制反應條件之方法、沉積方法 |
TW202229795A (zh) | 2020-11-23 | 2022-08-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 具注入器之基板處理設備 |
TW202235649A (zh) | 2020-11-24 | 2022-09-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 填充間隙之方法與相關之系統及裝置 |
KR20220076343A (ko) | 2020-11-30 | 2022-06-08 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치의 반응 챔버 내에 배열되도록 구성된 인젝터 |
US12255053B2 (en) | 2020-12-10 | 2025-03-18 | Asm Ip Holding B.V. | Methods and systems for depositing a layer |
TW202233884A (zh) | 2020-12-14 | 2022-09-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 形成臨限電壓控制用之結構的方法 |
US11946137B2 (en) | 2020-12-16 | 2024-04-02 | Asm Ip Holding B.V. | Runout and wobble measurement fixtures |
TW202242184A (zh) | 2020-12-22 | 2022-11-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 前驅物膠囊、前驅物容器、氣相沉積總成、及將固態前驅物裝載至前驅物容器中之方法 |
TW202226899A (zh) | 2020-12-22 | 2022-07-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 具匹配器的電漿處理裝置 |
TW202231903A (zh) | 2020-12-22 | 2022-08-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 過渡金屬沉積方法、過渡金屬層、用於沉積過渡金屬於基板上的沉積總成 |
USD1023959S1 (en) | 2021-05-11 | 2024-04-23 | Asm Ip Holding B.V. | Electrode for substrate processing apparatus |
USD981973S1 (en) | 2021-05-11 | 2023-03-28 | Asm Ip Holding B.V. | Reactor wall for substrate processing apparatus |
USD980814S1 (en) | 2021-05-11 | 2023-03-14 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distributor for substrate processing apparatus |
USD980813S1 (en) | 2021-05-11 | 2023-03-14 | Asm Ip Holding B.V. | Gas flow control plate for substrate processing apparatus |
USD990441S1 (en) | 2021-09-07 | 2023-06-27 | Asm Ip Holding B.V. | Gas flow control plate |
USD1060598S1 (en) | 2021-12-03 | 2025-02-04 | Asm Ip Holding B.V. | Split showerhead cover |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE521182A (cs) * | ||||
DE458776C (de) * | 1927-03-15 | 1928-04-20 | Louis Rouanet | Verfahren zur Herstellung von Kugelkaefigen fuer Lager |
US2289783A (en) * | 1939-12-23 | 1942-07-14 | Joyce Cridland Co | Valve mechanism |
FR1257466A (fr) * | 1959-05-26 | 1961-03-31 | Bahco Ab | Soupape de changement de marche |
US3278155A (en) * | 1962-01-24 | 1966-10-11 | Werner F Jehn | High thrust valve actuator |
GB1063667A (en) * | 1964-12-18 | 1967-03-30 | Westinghouse Brake & Signal | Fluid control valve |
GB1205960A (en) * | 1967-10-27 | 1970-09-23 | Wild A G & Co Ltd | Improvements in valves |
-
1971
- 1971-05-17 GB GB1530071*[A patent/GB1337173A/en not_active Expired
-
1972
- 1972-05-15 US US00253553A patent/US3814128A/en not_active Expired - Lifetime
- 1972-05-15 IT IT50257/72A patent/IT957871B/it active
- 1972-05-16 CA CA142,291A patent/CA957240A/en not_active Expired
- 1972-05-16 SE SE7206367A patent/SE382105B/xx unknown
- 1972-05-16 FR FR727217390A patent/FR2137920B1/fr not_active Expired
- 1972-05-16 DE DE2223687A patent/DE2223687C2/de not_active Expired
- 1972-05-16 NL NL7206576.A patent/NL167019C/xx not_active IP Right Cessation
- 1972-05-17 JP JP4903772A patent/JPS549329B2/ja not_active Expired
- 1972-05-17 CS CS723366A patent/CS209838B2/cs unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL167019C (nl) | 1981-10-15 |
DE2223687A1 (de) | 1972-11-30 |
FR2137920B1 (cs) | 1973-07-13 |
JPS4917520A (cs) | 1974-02-16 |
IT957871B (it) | 1973-10-20 |
SE382105B (sv) | 1976-01-12 |
FR2137920A1 (cs) | 1972-12-29 |
US3814128A (en) | 1974-06-04 |
DE2223687C2 (de) | 1981-12-24 |
CA957240A (en) | 1974-11-05 |
JPS549329B2 (cs) | 1979-04-24 |
AU4222872A (en) | 1973-11-15 |
GB1337173A (en) | 1973-11-14 |
NL7206576A (cs) | 1972-11-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CS209838B2 (en) | Valve | |
EP1725744B1 (en) | Switching finger follower assembly | |
US4848285A (en) | Valve operating apparatus for an internal combustion engine | |
US20060021189A1 (en) | Door closer | |
KR20080070011A (ko) | 듀얼 리프트 로커 암 래치 메커니즘 및 그의 액추에이션장치 | |
US4871143A (en) | Gate valve with supplemental actuator | |
US4200081A (en) | Valve selector | |
US5463988A (en) | Valve actuating mechanism for an internal combustion engine | |
WO2006094213A1 (en) | Valve actuator assembly | |
EP0336259A1 (en) | Operating arrangement for internal combustion engine poppet valves and the like | |
US4921207A (en) | Actuated gate valve with manual override | |
US5615651A (en) | Valve gear device for internal combustion engines | |
JPH10115206A (ja) | カムシャフトとバルブ間の力の流れを遮断する構成 | |
US4336775A (en) | Valve selector | |
EP3527792A1 (en) | Switchable rocker arm with lash adjustment | |
EP0384607A2 (en) | Actuated gate valve with manual override | |
CA2002747A1 (en) | Gate valve with supplemental actuator | |
EP0199569A2 (en) | Oil supply system in an internal combustion engine | |
US2579982A (en) | Fluid control valve | |
US6027098A (en) | Rotary valve | |
JP3746786B2 (ja) | カム機構 | |
JPH0333412A (ja) | 単気筒エンジンの可変バルブタイミング装置 | |
US2532346A (en) | Mechanical silent tappet | |
JPH07103344A (ja) | 仕切弁 | |
EP2198129B1 (en) | Desmodromic variable valve actuation |