CN220325935U - 一种蚀刻装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及蚀刻设备的技术领域,公开了一种蚀刻装置,包括输送机构、第一喷淋机构、第二喷淋机构、吸气机构及吹气机构;第一喷淋机构及吸气机构均设置于输送机构的上方,且第一喷淋机构与吸气机构沿输送机构的输送方向错开,第一喷淋机构用于对待蚀刻物体的上表面喷淋蚀刻剂,吸气机构用于吸取待蚀刻物体的上表面的蚀刻剂,第二喷淋机构和吹气机构均设置于输送机构的下方,且第二喷淋机构与吹气机构沿输送机构的输送方向错开,第二喷淋机构用于对待蚀刻物体的下表面喷淋蚀刻剂,吹气机构用于向待蚀刻物体的下表面吹气。本申请主要解决PCB线路板在蚀刻的过程中上表面由于存在水池效应和下表面由于水膜效应引起蚀刻均匀性差的技术问题。
Description
技术领域
本实用新型涉及蚀刻设备的技术领域,尤其涉及一种蚀刻装置。
背景技术
PCB线路板在前端制作时需要经过蚀刻工艺,以去除PCB线路板上不需要的铜,目的是使PCB线路板能够留下所需的导电线路,目前蚀刻工艺仍存在上表面水池效应和下表面水膜效应的问题,水池效应是指在喷涂蚀刻剂时,蚀刻剂在PCB线路板的上表面积聚引起的现象,此将成为蚀刻均匀性的障碍,使PCB线路板上表面的中心位置比侧面更难蚀刻。水膜效应是指在喷淋蚀刻时,下表面的蚀刻液由于液体表面张力的作用,会在蚀刻面上形成一层薄薄的水膜,影响药水交换和蚀刻均匀性。当喷涂单块PCB线路板时,在蚀刻剂接触到铜的那一刻,它就变得不那么有效,因为它已经发生了反应,在PCB线路板的中部,这种累积会很快发生,因为蚀刻剂很难从中心向外流出,因此,如果没有任何措施来辅助蚀刻,PCB线路板上表面的中央位置得到的蚀刻比边缘要少,如果PCB线路板的尺寸更大,则这种水池效应的情况将会变得更加显著,目前水池效应和水膜效应是蚀刻工艺最大的障碍,在关于蚀刻均匀性的讨论中,往往集中在如何克服这种水池效应和水膜效应。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种蚀刻装置,主要解决PCB线路板在蚀刻的过程中由于存在水池效应和水膜效应而导致蚀刻均匀性较差的技术问题。
为达此目的,本实用新型采用以下技术方案:
一种蚀刻装置,包括输送机构、第一喷淋机构、第二喷淋机构、吸气机构和吹气机构;
所述输送机构用于驱动待蚀刻物体运输前进;
所述第一喷淋机构及所述吸气机构均设置于所述输送机构的上方,且所述第一喷淋机构与所述吸气机构沿所述输送机构的输送方向错开布置,所述第一喷淋机构用于对位于所述输送机构上的待蚀刻物体的上表面喷淋蚀刻剂,所述吸气机构用于吸取位于所述输送机构上的待蚀刻物体的上表面的蚀刻剂;
所述第二喷淋机构和所述吹气机构均设置于所述输送机构的下方,且所述第二喷淋机构与所述吹气机构沿所述输送机构的输送方向错开布置,所述第二喷淋机构用于对位于所述输送机构上的待蚀刻物体的下表面喷淋蚀刻剂,所述吹气机构用于向位于所述输送机构上的待蚀刻物体的下表面吹气。
在其中一个技术方案中,所述吸气机构的数量为多个,多个所述吸气机构沿所述输送机构的输送方向依次间隔布置。
在其中一个技术方案中,所述吹气机构的数量为多个,多个所述吹气机构沿所述输送机构的输送方向依次间隔布置。
在其中一个技术方案中,所述第一喷淋机构包括第一基座及安装于所述第一基座上的多排第一喷嘴,多排所述第一喷嘴沿所述输送机构的输送方向依次布置,相邻两排所述第一喷嘴之间的位置设置有所述吸气机构。
在其中一个技术方案中,所述第二喷淋机构包括第二基座及安装于所述第二基座上的多排第二喷嘴,多排所述第二喷嘴沿所述输送机构的输送方向依次布置,相邻两排所述第二喷嘴之间的位置设置有所述吹气机构。
在其中一个技术方案中,所述输送机构包括驱动模块、多个沿第一方向依次间隔布置的第一滚轮模块及多个沿第一方向依次间隔布置的第二滚轮模块;
所述第一滚轮模块布置在所述第二滚轮模块的下方,所述驱动模块分别连接所述第一滚轮模块及所述第二滚轮模块,并用于驱动多个所述第一滚轮模块及多个所述第二滚轮模块转动,所述第一滚轮模块及所述第二滚轮模块之间具有用于供待蚀刻物体进入的间隙,所述第一滚轮模块及所述第二滚轮模块在转动时用于共同驱动所述间隙处的待蚀刻物体运输前进。
在其中一个技术方案中,所述吸气机构包括相连的吸气主体及吸气管,所述吸气主体内具有吸气腔,所述吸气主体的下端开设有连通至所述吸气腔的吸气孔,所述吸气管的内孔与所述吸气腔相连通,所述吸气主体设有所述吸气孔的下端插入至两相邻的所述第二滚轮模块之间的空隙处。
在其中一个技术方案中,所述吹气机构包括相连的风刀主体及吹气管,所述风刀主体内具有吹气腔,所述风刀主体的顶部开设有连通至所述吹气腔的吹气孔,所述吹气管的内孔与所述吹气腔相连通,所述风刀主体设有所述吹气孔的上端插入至两相邻的所述第一滚轮模块之间的空隙处。
在其中一个技术方案中,所述驱动模块包括驱动杆、主动轮、第一从动轮及第二从动轮;多个所述主动轮分别套设在所述驱动杆上并与所述驱动杆固定连接,各所述第一滚轮模块的端部都套设有所述第一从动轮,各所述第二滚轮模块的端部均套设有所述第二从动轮,所述主动轮与对应一个所述第一从动轮啮合传动,所述第二从动轮与下方对应的一个所述第一从动轮啮合传动。
与现有技术相比,本实用新型提供的蚀刻装置至少具有以下的有益效果:
工作时,由输送机构驱动待蚀刻物体(如PCB线路板)运输前进,待蚀刻物体在运输前进的过程中,第一喷淋机构对待蚀刻物体的上表面喷淋蚀刻剂,第二喷淋机构对待蚀刻物体的下表面喷淋蚀刻剂,使物体的两个面都能够去除不需的铜,以使物体的两个面都能保留实际所需的导电线路,物体在被喷淋蚀刻剂的同时,吸气机构对物体的上表面残留药液进行吸取,吹气机构向物体的下表面吹气,吹走多余残留药液,通过设置吸气机构,使物体上表面聚集的且失效的蚀刻剂能够及时被吸出,确保物体的上表面的各个位置能够和更多有效的蚀刻剂相接触,以解决由于水池效应而导致物体的上表面蚀刻均匀性差的问题,而吹气机构能够破坏物体下表面由于液体的表面张力而形成的水膜,确保物体的下表面的各个位置也能够和更多有效的蚀刻剂相接触,即,采用本技术方案,能够同时提高物体上表面和下表面蚀刻的均匀性,提高蚀刻工艺的合格率。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其它的附图。
图1为本申请实施例提供的蚀刻装置的结构示意图;
图2为图1中A处的局部放大图;
图3为本申请实施例提供的蚀刻装置在另一角度下的结构示意图;
图4为本申请实施例提供的吸气机构的结构示意图;
图5为本申请实施例提供的吹气机构的结构示意图。
其中,图中各附图标记:
10、输送机构;101、驱动模块;1011、驱动杆;1012、主动轮;1013、第一从动轮;1014、第二从动轮;102、第一滚轮模块;103、第二滚轮模块;
20、第一喷淋机构;201、第一基座;202、第一喷嘴;
30、第二喷淋机构;301、第二基座;302、第二喷嘴;
40、吸气机构;401、吸气主体;4011、吸气孔;402、吸气管;
50、吹气机构;501、风刀主体;5011、吹气孔;502、吹气管。
具体实施方式
为了使本申请所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本申请进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本申请,并不用于限定本申请。
需要说明的是,当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件,它可以直接在另一个元件上或者间接在该另一个元件上。当一个元件被称为是“连接于”另一个元件,它可以是直接连接到另一个元件或间接连接至该另一个元件上。
需要理解的是,术语、“上”、“下”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。
此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本申请的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本实用新型进行进一步详细说明。
请一并参阅图1至图5,本实施例提供了一种蚀刻装置,包括输送机构10、第一喷淋机构20、第二喷淋机构30、吸气机构40和吹气机构50。
其中,输送机构10用于驱动待蚀刻物体沿X轴方向运输前进,输送机构10具体包括驱动模块101、多个第一滚轮模块102和多个第二滚轮模块103,多个第一滚轮模块102的沿着X轴方向依次间隔布置,多个第二滚轮模块103设置在第一滚轮模块102的上方,且多个第二滚轮模块103也是沿着X轴方向依次间隔布置,驱动模块101同时连接所有的第一滚轮模块102和所有的第二滚轮模块103,驱动模块101用于驱动所有的第一滚轮模块102和所有的第二滚轮模块103转动,第一滚轮模块102和第二滚轮模块103的转轴轴线指向水平方向,第一滚轮模块102转动的方向和第二滚轮模块103转动的方向相反,第一滚轮模块102和第二滚轮模块103在竖直方向上的间隙用于容置待蚀刻物体,当第一滚轮模块102和第二滚轮模块103转动时,能够驱动待蚀刻物体沿着X轴的方向运输前进。
驱动模块101具体包括驱动杆1011、主动轮1012、第一从动轮1013和第二从动轮1014。其中,驱动杆1011上固定有多个主动轮1012,主动轮1012为伞型齿轮,驱动杆1011的轴向指向X轴方向,而各个第一滚轮模块102的端部都套设有一个第一从动轮1013,各个第二滚轮模块103的端部都套设有一个第二从动轮1014,每个主动轮1012都和对应的一个第一从动轮1013啮合传动,每个第一从动轮1013都和上方对应一个第二从动轮1014啮合传动,驱动杆1011可由电机来驱动,当驱动杆1011在电机的驱动下转动时,多个主动轮1012将跟随驱动杆1011的转动而转动,多个主动轮1012带动多个第一从动轮1013转动,从而带动第二从动轮1014转动,进而带动多个第一滚轮模块102和多个第二滚轮模块103作方向相反的转动。
其中,第一喷淋机构20设置在输送机构10的上方,第一喷淋机构20用于对输送机构10处的待蚀刻物体的上表面喷淋蚀刻剂,从而去除待蚀刻物体上表面不需的铜,以保留物体上表面所需的导电线路。具体的,第一喷淋机构20包括第一基座201和多排第一喷嘴202,多排第一喷嘴202沿着X轴的方向依次间隔布置,多排第一喷嘴202正对物体的上表面,并用于向待蚀刻物体的上表面喷淋蚀刻剂。相邻两排第一喷嘴202之间的位置都设置有上述的吸气机构40,即,本实施例采用了多个吸气机构40,多个吸气机构40沿着X轴方向依次间隔布置,且吸气机构40相对于各排第一喷嘴202在X轴方向上错开,以避让第一喷嘴202向物体的上表面喷淋蚀刻剂。
其中,吸气机构40包括相连的吸气主体401和吸气管402,吸气主体401内具有吸气腔(图中未示出),吸气主体401的下端开设有吸气孔4011,吸气孔4011呈一字型水平延伸且和吸气腔连通,吸气管402的内孔和吸气腔连通,吸气主体401在设置有吸气孔4011的一端插入至两个相邻的第二滚轮模块103之间的空隙处,使得吸气孔4011能够靠近待蚀刻物体的上表面,当吸气管402处于吸气状态时,吸气孔4011能够将待蚀刻物体上表面聚集的且失效的蚀刻剂向外吸出。
其中,第二喷淋机构30设置在输送机构10的下方,第二喷淋机构30用于对输送机构10处的待蚀刻物体的下表面喷淋蚀刻剂,从而去除待蚀刻物体下表面不需的铜,以保留物体下表面所需的导电线路。具体的,第二喷淋机构30包括第二基座301和多排第二喷嘴302,多排第二喷嘴302沿着X轴的方向依次间隔布置,多排第二喷嘴302正对物体的下表面,并用于向待蚀刻物体的下表面喷淋蚀刻剂。相邻两排第二喷嘴302之间的位置都设置有上述的吹气机构50,即,本实施例采用了多个吹气机构50,多个吹气机构50沿着X轴方向依次间隔布置,且吹气机构50相对于各排第二喷嘴302在X轴方向上错开,以避让第二喷嘴302向物体的下表面喷淋蚀刻剂。
其中,吹气机构50包括相连的风刀主体501和吹气管502,风刀主体501内具有吹气腔(图中未示出),风刀主体501的顶端开设有吹气孔5011,吹气孔5011呈一字型水平延伸且和吹气腔连通,吹气管502的内孔和吹气腔连通,风刀主体501在设置有吹气孔5011的一端插入至两个相邻的第一滚轮模块102之间的空隙处,使得吹气孔5011能够靠近待蚀刻物体的下表面,当向吹气管502内泵入气体时,吹气孔5011能够向待蚀刻物体的下表面吹气,从而能够破坏待蚀刻物体下表面由于液体张力而形成的水膜。
本实施例的蚀刻装置的工作原理可总结为如下:
工作时,由输送机构10驱动待蚀刻物体(如PCB线路板)运输前进,待蚀刻物体在运输前进的过程中,第一喷淋机构20对待蚀刻物体的上表面喷淋蚀刻剂,第二喷淋机构30对待蚀刻物体的下表面喷淋蚀刻剂,使物体的两个面都能够去除不需的铜,以使物体的两个面都能保留实际所需的导电线路,物体在被喷淋蚀刻剂的同时,吸气机构40对物体的上表面进行吸取,吹气机构50向物体的下表面吹气,通过设置吸气机构40,使物体上表面聚集的且失效的蚀刻剂能够及时被吸出,确保物体的上表面的各个位置能够和更多有效的蚀刻剂相接触,以解决由于水池效应而导致物体的上表面蚀刻均匀性差的问题,而吹气机构50能够破坏物体下表面由于液体的表面张力而形成的水膜,确保物体的下表面的各个位置也能够和更多有效的蚀刻剂相接触。
综上所述,本技术方案对待蚀刻物体采用了吸气和吹气相互结合的方式,在不影响待蚀刻物体正常运输前进的前提下,能够同时提高物体上表面和下表面蚀刻的均匀性,均匀程度能够从原本的95%提升至97%,提高蚀刻工艺的合格率。
以上仅为本实用新型的较佳实施例而已,仅具体描述了本实用新型的技术原理,这些描述只是为了解释本实用新型的原理,不能以任何方式解释为对本实用新型保护范围的限制。基于此处解释,凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进,及本领域的技术人员不需要付出创造性的劳动即可联想到本实用新型的其他具体实施方式,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (9)
1.一种蚀刻装置,其特征在于,包括输送机构、第一喷淋机构、第二喷淋机构、吸气机构和吹气机构;
所述输送机构用于驱动待蚀刻物体运输前进;
所述第一喷淋机构及所述吸气机构均设置于所述输送机构的上方,且所述第一喷淋机构与所述吸气机构沿所述输送机构的输送方向错开布置,所述第一喷淋机构用于对位于所述输送机构上的待蚀刻物体的上表面喷淋蚀刻剂,所述吸气机构用于吸取位于所述输送机构上的待蚀刻物体的上表面的蚀刻剂;
所述第二喷淋机构和所述吹气机构均设置于所述输送机构的下方,且所述第二喷淋机构与所述吹气机构沿所述输送机构的输送方向错开布置,所述第二喷淋机构用于对位于所述输送机构上的待蚀刻物体的下表面喷淋蚀刻剂,所述吹气机构用于向位于所述输送机构上的待蚀刻物体的下表面吹气。
2.如权利要求1所述的蚀刻装置,其特征在于,所述吸气机构的数量为多个,多个所述吸气机构沿所述输送机构的输送方向依次间隔布置。
3.如权利要求1所述的蚀刻装置,其特征在于,所述吹气机构的数量为多个,多个所述吹气机构沿所述输送机构的输送方向依次间隔布置。
4.如权利要求2所述的蚀刻装置,其特征在于,所述第一喷淋机构包括第一基座及安装于所述第一基座上的多排第一喷嘴,多排所述第一喷嘴沿所述输送机构的输送方向依次布置,相邻两排所述第一喷嘴之间的位置设置有所述吸气机构。
5.如权利要求3所述的蚀刻装置,其特征在于,所述第二喷淋机构包括第二基座及安装于所述第二基座上的多排第二喷嘴,多排所述第二喷嘴沿所述输送机构的输送方向依次布置,相邻两排所述第二喷嘴之间的位置设置有所述吹气机构。
6.如权利要求1所述的蚀刻装置,其特征在于,所述输送机构包括驱动模块、多个沿第一方向依次间隔布置的第一滚轮模块及多个沿第一方向依次间隔布置的第二滚轮模块;
所述第一滚轮模块布置在所述第二滚轮模块的下方,所述驱动模块分别连接所述第一滚轮模块及所述第二滚轮模块,并用于驱动多个所述第一滚轮模块及多个所述第二滚轮模块转动,所述第一滚轮模块及所述第二滚轮模块之间具有用于供待蚀刻物体进入的间隙,所述第一滚轮模块及所述第二滚轮模块在转动时用于共同驱动所述间隙处的待蚀刻物体运输前进。
7.如权利要求6所述的蚀刻装置,其特征在于,所述吸气机构包括相连的吸气主体及吸气管,所述吸气主体内具有吸气腔,所述吸气主体的下端开设有连通至所述吸气腔的吸气孔,所述吸气管的内孔与所述吸气腔相连通,所述吸气主体设有所述吸气孔的下端插入至两相邻的所述第二滚轮模块之间的空隙处。
8.如权利要求6所述的蚀刻装置,其特征在于,所述吹气机构包括相连的风刀主体及吹气管,所述风刀主体内具有吹气腔,所述风刀主体的顶部开设有连通至所述吹气腔的吹气孔,所述吹气管的内孔与所述吹气腔相连通,所述风刀主体设有所述吹气孔的上端插入至两相邻的所述第一滚轮模块之间的空隙处。
9.如权利要求6所述的蚀刻装置,其特征在于,所述驱动模块包括驱动杆、主动轮、第一从动轮及第二从动轮;多个所述主动轮分别套设在所述驱动杆上并与所述驱动杆固定连接,各所述第一滚轮模块的端部都套设有所述第一从动轮,各所述第二滚轮模块的端部均套设有所述第二从动轮,所述主动轮与对应一个所述第一从动轮啮合传动,所述第二从动轮与下方对应的一个所述第一从动轮啮合传动。
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