CN217389132U - 一种内循环二流体蚀刻装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种内循环二流体蚀刻装置，包括蚀刻箱体、两条输送履带和蚀刻组件，两个输送履带分别活动设于蚀刻箱体内壁两侧，蚀刻组件位于两条输送履带之间，蚀刻箱体内壁于输送履带上方设有连接架，连接架内壁设有电磁铁，电磁铁通过弹簧一与连接架活动连接，连接架内壁于电磁铁下方设有强磁铁，连接架外壁设有触点，触点与电磁铁电性连接，电磁铁外壁设有定位块，定位块外壁两侧设有限位块。本实用新型通过设置连接架、电磁铁、弹簧一、强磁铁、触点、定位块和限位块，可自动对正在蚀刻的基板产生限位，保证基板不会因二流体的冲击力太强而偏移，提高蚀刻作业的准确性。

Description

一种内循环二流体蚀刻装置

技术领域

本实用新型涉及蚀刻技术领域，具体为一种内循环二流体蚀刻装置。

背景技术

线路板加工过程中需要使用蚀刻系统，将药水喷淋到基板上，发生化学反应，线路板上非线路部分的铜层会被腐蚀处理掉。

现有中国专利文献，授权公告号为CN212851242U的专利，公开一种内循环二流体蚀刻系统，包括密封机箱、药水管路、高压气体管路和若干喷咀，密封机箱的底部设有储存药水的药水池；药水管路设有药水泵连接药水池；高压气体管路设有高压气泵，高压气泵的进气口位于密封机箱内；若干喷咀并列设置位于密封机箱内，分别连接药水管路和高压气体管路。本实用新型提供的内循环二流体蚀刻系统，采用高压气体和药水混合形成二流体喷出，喷出的喷雾药水颗粒小，更加容易进入微细线路间进行交换蚀刻，而且喷出力度大，有效提高蚀刻效率；高压气体管路形成内循环，有效抑制雾化药水向机箱外泄漏，减少药水的流失；而且设备结构简单，不需要单独的药水回收系统，节省了设备的成本及使用成本。

但是上述专利，在将基板输送至两组喷咀之间进行二流体蚀刻作业时，因二流体的冲击力较强，容易导致基板的位置受冲击力影响产生偏移，从而造成蚀刻位置存在误差。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种内循环二流体蚀刻装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为了解决上述技术问题，本实用新型提供如下技术方案：一种内循环二流体蚀刻装置，包括蚀刻箱体、两条输送履带和蚀刻组件，两个所述输送履带分别活动设于所述蚀刻箱体内壁两侧，所述蚀刻组件位于两条所述输送履带之间，所述蚀刻箱体内壁于所述输送履带上方设有连接架，所述连接架内壁设有电磁铁，所述电磁铁通过弹簧一与所述连接架活动连接，所述连接架内壁于所述电磁铁下方设有强磁铁，所述连接架外壁设有触点，所述触点与所述电磁铁电性连接，所述电磁铁外壁设有定位块，所述定位块外壁两侧设有限位块。

进一步的，所述连接架内壁一侧设有活动连接的丝杆，所述丝杆通过丝杆螺母与一侧的所述限位块连接，一侧的所述限位块通过所述丝杆与所述连接架活动连接，所述连接架内壁于所述丝杆一侧设有活动连接的导向杆，所述导向杆一端与所述限位块连接。

进一步的，所述定位块底部设有活动连接的弹性板，所述弹性板外壁设有若干个弹簧二，所述弹簧二一端与所述定位块连接，可对基板产生缓冲作用，避免二流体的冲击力对基板造成损坏。

进一步的，所述丝杆一端延伸至所述连接架外侧设有转把，所述连接架内壁设有与所述丝杆相匹配的转动孔，所述导向杆与所述丝杆均与同一侧的所述限位块连接，方便快捷的控制丝杆转动，且确保丝杆转动可带动限位块移动。

进一步的，所述蚀刻组件包括药水池、两组喷咀和高压气泵，所述药水池与所述喷咀均设于所述蚀刻箱体内部，所述高压气泵设于所述蚀刻箱体外侧，确保蚀刻组件可进行蚀刻作业。

进一步的，所述药水池与所述高压气泵均分别与所述喷咀贯通，所述喷咀位于所述药水池上方，两组所述喷咀均位于所述两条所述输送履带之间，两组所述喷咀对称分布，产生二流体对基板的上下两面同时进行蚀刻。

与现有技术相比，本实用新型所达到的有益效果是：

1、本实用新型通过设置连接架、电磁铁、弹簧一、强磁铁、触点、定位块和限位块，可自动对正在蚀刻的基板产生限位，保证基板不会因二流体的冲击力太强而偏移，提高蚀刻作业的准确性。

2、本实用新型通过设置丝杆和导向杆，可调节两个限位块之间的距离，从而使此装置可适用于不同规格的基板，增加此装置的适用性。

附图说明

附图用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的限制。在附图中：

图1是本实用新型整体的主视图；

图2是本实用新型定位块的侧视图；

图3是本实用新型限位块的侧视剖面图；

图4是本实用新型图1中A处的放大剖面图；

图中：1、蚀刻箱体；2、输送履带；3、蚀刻组件；4、连接架；5、电磁铁；6、弹簧一；7、强磁铁；8、触点；9、定位块；10、限位块；11、丝杆；12、导向杆；13、弹性板；14、弹簧二；15、转把；16、药水池；17、喷咀；18、高压气泵。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-4，本实用新型提供技术方案：一种内循环二流体蚀刻装置，包括蚀刻箱体1、两条输送履带2和蚀刻组件3，两个所述输送履带2分别活动设于所述蚀刻箱体1内壁两侧，所述蚀刻组件3位于两条所述输送履带2之间，所述蚀刻组件3包括药水池16、两组喷咀17和高压气泵18，所述药水池16与所述喷咀17均设于所述蚀刻箱体1内部，所述高压气泵18设于所述蚀刻箱体1外侧，确保蚀刻组件3可进行蚀刻作业，所述药水池16与所述高压气泵18均分别与所述喷咀17贯通，所述喷咀17位于所述药水池16上方，两组所述喷咀17均位于所述两条所述输送履带2之间，两组所述喷咀17对称分布，产生二流体对基板的上下两面同时进行蚀刻，所述蚀刻箱体1内壁于所述输送履带2上方设有连接架4，所述连接架4内壁设有电磁铁5，所述电磁铁5通过弹簧一6与所述连接架4活动连接，所述连接架4内壁于所述电磁铁5下方设有强磁铁7，所述连接架4外壁设有触点8，所述触点8与所述电磁铁5电性连接，所述电磁铁5外壁设有定位块9，所述定位块9底部设有活动连接的弹性板13，所述弹性板13外壁设有若干个弹簧二14，所述弹簧二14一端与所述定位块9连接，定位块9移动是会带动弹性板13移动的，最终使弹性板13与基板直接接触，对基板产生定位，当底部的二流体的冲击力较强时，会导致基板向上移动，此时基板带动弹性板13向上移动，使弹簧二14压缩，弹簧二14压缩会产生反弹力，与基板所受的冲击力抵消，从而对基板产生缓冲作用，避免二流体的冲击力对基板造成损坏，所述定位块9外壁两侧设有限位块10。

具体实施方式为：使用时，将基板放置在输送履带2上，启动输送履带2，输送履带2会带动基板移动，将基板移动至两组喷咀17之间，当基板移动至便于进行蚀刻的位置时，会触碰到触点8，触点8会启动电磁铁5，使电磁铁5通电产生磁性，电磁铁5与强磁铁7之间会产生强吸引力，由于强磁铁7固定不动，因此电磁铁5因吸力作用会向下移动，电磁铁5会带动定位块9移动，定位块9会带动限位块10移动，使限位块10与输送履带2接触时，由于此时两侧的限位块10之间的距离是与基板的宽度相适配的，因此两侧的限位块10会对基板的水平位置进行限位，使基板无法水平移动，且定位块9会对基板的垂直位置产生限位，从而保证基板的位置准确，便于进行蚀刻作业，此时可同时启动药水池16内的水泵和高压气泵18，从而可使蚀刻药水与高压气体混合形成二流体通过喷咀17喷洒至基板的上下两面，对基板进行蚀刻作业，此时限位板与定位板可保证基板不会因二流体的冲击力太强而发生偏移，避免降低蚀刻效率，蚀刻完成后，输送履带2启动时电磁铁5断电，此时电磁铁5与强磁铁7之间的吸力小时，并通过弹簧一6拉伸产生的反弹力带动电磁铁5回移，从而带动定位块9与限位块10移动至基板上面，确保不会影响输送履带2继续带动基板移动至下一工序，通过连接架4、电磁铁5、弹簧一6、强磁铁7、触点8、定位块9和限位块10，可自动对正在蚀刻的基板产生限位，保证基板不会因二流体的冲击力太强而偏移，提高蚀刻作业的准确性。

请参阅图2-3，本实用新型提供技术方案：一种内循环二流体蚀刻装置，还包括活动设于所述连接架4内壁一侧的丝杆11，所述丝杆11通过丝杆11螺母与一侧的所述限位块10连接，一侧的所述限位块10通过所述丝杆11与所述连接架4活动连接，所述连接架4内壁于所述丝杆11一侧设有活动连接的导向杆12，所述导向杆12一端与所述限位块10连接，所述丝杆11一端延伸至所述连接架4外侧设有转把15，所述连接架4内壁设有与所述丝杆11相匹配的转动孔，所述导向杆12与所述丝杆11均与同一侧的所述限位块10连接，转动转把15，转把15带动丝杆11转动，丝杆11通过转动孔在连接架4内壁转动，可方便快捷的控制丝杆11转动，丝杆11转动会对限位块10产生传动力，而导向杆12可确保限位块10不会随着丝杆11转动，而只沿着丝杆11水平移动。

具体实施方式为：使用时，根据需要蚀刻的基板的宽度不同，可转动丝杆11，丝杆11转动会带动丝杆11螺母移动，丝杆11螺母会带动限位块10移动，由于一侧的限位块10是活动的，而另一侧的限位块10是固定的，而丝杆11只与活动的限位块10连接，因此只会带动活动的限位块10移动，从而可调节两个限位块10之间的距离，使其适用于不同规格的基板，触点8设于靠近固定的限位块10一侧，丝杆11正向转动可增加两个限位块10之间的距离，丝杆11反正转动可缩短两个限位块10之间的距离，限位块10移动时会带动导向杆12移动，导向杆12通过活动孔在连接架4内壁水平移动，从而对限位块10产生导向作用，确保丝杆11转动可带动限位块10移动，通过丝杆11和导向杆12，可调节两个限位块10之间的距离，从而使此装置可适用于不同规格的基板，增加此装置的适用性。

本实用新型的工作原理：

参照说明书附图1-4，本实用新型通过设置连接架4、电磁铁5、弹簧一6、强磁铁7、触点8、定位块9和限位块10，可自动对正在蚀刻的基板产生限位，保证基板不会因二流体的冲击力太强而偏移，提高蚀刻作业的准确性。

进一步的，参照说明书附图2-3，本实用新型通过设置丝杆11和导向杆12，可调节两个限位块10之间的距离，从而使此装置可适用于不同规格的基板，增加此装置的适用性。

需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。

最后应说明的是：以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种内循环二流体蚀刻装置，包括蚀刻箱体(1)、两条输送履带(2)和蚀刻组件(3)，其特征在于：两个所述输送履带(2)分别活动设于所述蚀刻箱体(1)内壁两侧，所述蚀刻组件(3)位于两条所述输送履带(2)之间，所述蚀刻箱体(1)内壁于所述输送履带(2)上方设有连接架(4)，所述连接架(4)内壁设有电磁铁(5)，所述电磁铁(5)通过弹簧一(6)与所述连接架(4)活动连接，所述连接架(4)内壁于所述电磁铁(5)下方设有强磁铁(7)，所述连接架(4)外壁设有触点(8)，所述触点(8)与所述电磁铁(5)电性连接，所述电磁铁(5)外壁设有定位块(9)，所述定位块(9)外壁两侧设有活动连接的限位块(10)。

2.根据权利要求1所述的一种内循环二流体蚀刻装置，其特征在于：所述连接架(4)内壁一侧设有活动连接的丝杆(11)，所述丝杆(11)通过丝杆螺母与一侧的所述限位块(10)连接，一侧的所述限位块(10)通过所述丝杆(11)与所述连接架(4)活动连接，所述连接架(4)内壁于所述丝杆(11)一侧设有活动连接的导向杆(12)，所述导向杆(12)一端与所述限位块(10)连接。

3.根据权利要求1所述的一种内循环二流体蚀刻装置，其特征在于：所述定位块(9)底部设有活动连接的弹性板(13)，所述弹性板(13)外壁设有若干个弹簧二(14)，所述弹簧二(14)一端与所述定位块(9)连接。

4.根据权利要求2所述的一种内循环二流体蚀刻装置，其特征在于：所述丝杆(11)一端延伸至所述连接架(4)外侧设有转把(15)，所述连接架(4)内壁设有与所述丝杆(11)相匹配的转动孔，所述导向杆(12)与所述丝杆(11)均与同一侧的所述限位块(10)连接。

5.根据权利要求1所述的一种内循环二流体蚀刻装置，其特征在于：所述蚀刻组件(3)包括药水池(16)、两组喷咀(17)和高压气泵(18)，所述药水池(16)与所述喷咀(17)均设于所述蚀刻箱体(1)内部，所述高压气泵(18)设于所述蚀刻箱体(1)外侧。

6.根据权利要求5所述的一种内循环二流体蚀刻装置，其特征在于：所述药水池(16)与所述高压气泵(18)均分别与所述喷咀(17)贯通，所述喷咀(17)位于所述药水池(16)上方，两组所述喷咀(17)均位于所述两条所述输送履带(2)之间，两组所述喷咀(17)对称分布。

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