CN216639701U - 一种电化学抛光液循环过滤装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开一种电化学抛光液循环过滤装置，包括过滤槽，其包括相连接的未过滤抛光液槽和过滤抛光液槽，未过滤抛光液槽的一端具有进液端口，进液端口与抛光液存储槽连接，过滤抛光液槽的一端具有出液端口，出液端口与抛光槽连接，抛光液存储槽和所述抛光槽之间也连接；过滤机构，连接于未过滤抛光液槽和过滤抛光液槽之间；循环机构设于出液端口与抛光槽之间；过滤槽、过滤机构、循环机构、抛光液存储槽和抛光槽构成循环连接。能够稳定的控制抛光液电压，进而稳定抛光电压等抛光生产工艺中的各项参数，可以除掉抛光液中的金属盐，除掉基带表面麻点，降低粗糙度值，提高了基带性能。

Description

一种电化学抛光液循环过滤装置

技术领域

本实用新型属于第二代高温超导带材哈氏合金基带中电化学抛光技术领域，具体涉及一种用于电化学抛光液抛光过程中电化学抛光液循环过滤装置。

背景技术

电化学抛光也称电解抛光，在电化学抛光工艺中，将被抛光金属工件作为阳极，不溶性金属板作为阴极，两极同时浸入到电解槽中，电解槽通入抛光液，通以直流电而产生有选择性的阳极溶解，从而达到工件表面光亮度增大的效果。电化学抛光可以非常有效的去除表面的氧化层和应力层。与传统的机械抛光相比，电化学抛光具有生产效率高、成本低廉和均匀性好等优点。

哈氏合金基带电化学抛光基本原理：被抛光哈氏合金基带置于阳极，惰性电极作为阴极，在一定温度、电流电压条件下，强酸性电解质溶液中发生氧化还原反应的过程(一定浓度的强酸性电解质溶液即抛光液)。影响哈氏合金基带抛光生产工艺稳定性的主要因素：抛光电流，抛光速度，抛光液流速，抛光电压，抛光温度，抛光液特性等。从而抛光后的哈氏合金基带表面粗糙度、一致性、平整性等特性，均会随之发生细微变化。为此，高效控制抛光电压，抛光温度，抛光液特性等工艺参数对合金基带抛光工艺稳定性至关重要。

电化学抛光液在使用和存放过程中往往会因浓硫酸或浓磷酸对空气中水分的吸收，从而使抛光液中主体成分含量下降；同时，随着抛光工艺不断地行，抛光过程中，产生金属离子在抛光溶液中的浓度发生剧增，经过一段时间后，抛光液中会析出一些金属盐颗粒，化学抛光液的进一步使用会受到一定的影响，均会造成超导基带表面的缺陷，进一步影响到超导基带性能。

对于如何高效控制抛光液中金属盐颗粒物，从而稳定抛光电压，抛光液特性等工艺参数，从而解决超导合金基带抛光表面缺陷问题，例如基带表面麻点，目前在本领域还是空白。

实用新型内容

针对上述存在的技术问题，本实用新型目的是：提供一种电化学抛光液循环过滤装置，除掉抛光液中的金属盐，除掉基带表面麻点，降低粗糙度值，提高了基带性能。

本实用新型的技术方案是：

本实用新型的目的在于提供一种电化学抛光液循环过滤装置，包括：

过滤槽，其包括相连接的未过滤抛光液槽和过滤抛光液槽，所述未过滤抛光液槽的一端具有进液端口，所述进液端口与抛光液存储槽连接，所述过滤抛光液槽的一端具有出液端口，所述出液端口与抛光槽连接，所述抛光液存储槽和所述抛光槽之间也连接；

过滤机构，连接于所述未过滤抛光液槽和过滤抛光液槽之间；

循环机构，设于所述出液端口与所述抛光槽之间；

所述过滤槽、过滤机构、循环机构、抛光液存储槽和抛光槽构成循环连接。

与现有技术相比，本实用新型的优点是：

本实用新型的电化学抛光液循环过滤装置，通过设置过滤槽、过滤机构、循环机构，将过滤装置与抛光槽和抛光液存储槽构成一个循环系统，使用过滤后的抛光液对基带进行抛光处理，在抛光处理完成后将使用的抛光液循环经过过滤机构过滤后再次使用，能够稳定的控制抛光液电压，进而稳定抛光电压等抛光生产工艺中的各项参数，除掉抛光液中的金属盐，除掉基带表面麻点，降低粗糙度值，提高了基带性能，而且可以大大节省抛光液的配置使用成本。该过滤装置结构简单，实用性强。

附图说明

下面结合附图及实施例对本实用新型作进一步描述：

图1为本实用新型实施例的电化学抛光液循环过滤装置（省略了抛光液存储槽和抛光槽）的结构示意图；

图2为本实用新型实施例的电化学抛光液循环过滤装置的无纺布过滤网袋的结构示意图。

其中：1、未过滤抛光液槽；2、过滤抛光液槽；3、过滤机构；31、连接板；32、连接件；4、进液导管；5、出液导管；6、隔板。

具体实施方式

为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚明了，下面结合具体实施方式并参照附图，对本实用新型进一步详细说明。应该理解，这些描述只是示例性的，而并非要限制本实用新型的范围。此外，在以下说明中，省略了对公知结构和技术的描述，以避免不必要地混淆本实用新型的概念。

实施例：

参见图1至图2，本实施例的一种电化学抛光液循环过滤装置，包括过滤槽、过滤机构3和循环机构（未示出）。过滤槽包括相连接的未过滤抛光液槽1和过滤抛光液槽2，未过滤抛光液槽1的一端具有进液端口（未示出），进液端口与抛光液存储槽（未示出）连接，过滤抛光液槽2的一端具有出液端口（未示出），出液端口与抛光槽（未示出）连接，抛光液存储槽和抛光槽之间也连接，其中抛光槽是用于接收过滤抛光液槽经过过滤装置过滤后的抛光液用以对带材进行抛光工艺的槽体。过滤机构3连接于未过滤抛光液槽1和过滤抛光液槽2之间。循环机构设于出液端口与抛光槽之间。过滤槽、过滤机构3、循环机构、抛光液存储槽和抛光槽构成循环连接。也就是说，当需要对待抛光处理带材比如哈氏合金基带或不锈钢基带或镍-钨合金基带进行抛光处理时，在抛光液存储槽中存储有抛光液（主要为磷酸和硫酸以及一些添加剂），开启循环机构，打开阀门，循环机构将抛光液存储槽中的抛光液抽至未过滤抛光液槽1中，经过过滤机构3过滤后进入到过滤抛光液槽2中，过滤后的抛光液经出液端口抽入到抛光槽内，关闭循环机构，将待抛光处理的带材放入到抛光槽内进行抛光处理，抛光处理完成后，重新开启循环机构，打开阀门，将抛光槽内的使用的抛光液回流至抛光液存储槽内，之后再次使用时可过滤后再次使用。

如图1所示，未过滤抛光液槽1和过滤抛光液槽2呈上下分布，两者之间通过一个水平的隔板6隔开，在隔板6上开有四个通孔（未示出），每个通孔上安装一个过滤机构3，四个过滤机构3平行排列。需要说明的是，通孔和过滤机构3的数量还可以为其他数量，比如一个、两个、三个、五个等等。上下排布设置的目的可以更方便过滤，利用重力作用，使得未过滤抛光液槽内的抛光液在重力作用下通过过滤机构3后落入至过滤抛光液槽2内。作为可替换的实施例，未过滤抛光液槽1和过滤抛光液槽2之间还可以为其他方式布置，比如左右排布。对于隔板6而言，也可以不为水平隔板，比如为竖直隔板或倾斜隔板等。

过滤机构3可选为现有技术中常规的无纺布过滤网袋，比如聚丙烯工业液体过滤网袋，目数可选为1250目-2500目，也即精度可选为5um-10um。无纺布过滤网袋与隔板6连接的一端具有连接板31，连接板31上开有若干连接孔，连接板31通过连接件32穿设于连接孔内而固定在隔板6的通孔处，对应地，在通孔处的隔板6上也开有对应的连接孔（未示出）。如图2所示，连接板31为圆形连接板，中间镂空，连接板31上沿周向开有多个连接孔，连接件32为螺钉，对应地，隔板6上的连接孔为螺纹孔。

对于循环机构而言，为现有技术中常规的循环泵。具体结构和工作原理在此不做详细描述和限定。

抛光液存储槽与未过滤抛光液槽1的进液端口之间通过进液导管4相连。抛光槽与过滤抛光液槽2的出液端口之间通过出液导管5相连。抛光槽与抛光液存储槽之间通过连接导管（未示出）相连。在进液导管4、出液导管5和连接导管上均设有阀门（未示出）。通过阀门控制各槽之间的连通或关闭。

对于抛光液存储槽和/或抛光槽而言，可选为U型槽。也即顶部开口的槽。

需要说明的是，过滤槽可耐受抛光液腐蚀具体为耐酸碱腐蚀。抛光槽可以设置在抛光液存储槽及过滤装置的上方，具体为由上而下设置为抛光槽、过滤装置和抛光液存储槽。当抛光处理完成后，打开抛光槽与抛光液存储槽之间的阀门，抛光槽内的抛光液在重力作用下直接回落至抛光液存储槽内。

本实用新型实施例的电化学抛光液循环过滤装置，通过设置过滤槽、过滤机构3、循环机构，将过滤装置与抛光槽和抛光液存储槽构成一个循环系统，使用过滤后的抛光液对基带进行抛光处理，在抛光处理完成后将使用的抛光液循环经过过滤机构过滤后再次使用，能够稳定的控制抛光液电压，进而稳定抛光电压等抛光生产工艺中的各项参数，可以除掉抛光液中的金属盐，除掉基带表面麻点，降低粗糙度值，提高了基带性能，而且可以大大节省抛光液的配置使用成本。该过滤装置结构简单，实用性强。

值得注意的是，本实用新型实施例中未作详细描述的内容属于本领域专业技术人员公知的现有技术。

综上所述，本实用新型实施例所提供的方法及装置能进行一种基于高温超导铠装带材的温度冲击实验，该实验能分析不同条件下的温度冲击对高温超导铠装带材超导性能的影响，验证高温超导铠装带材包覆的密封性，对高温超导铠装带材的包覆工艺改善具有一定的参考价值。

本具体实施例中的指定方向仅仅是为了便于表述各部件之间位置关系以及相互配合的关系。以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，本发明的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本发明的保护范围。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。

Claims (10)

1.一种电化学抛光液循环过滤装置，其特征在于，包括：

过滤槽，其包括相连接的未过滤抛光液槽和过滤抛光液槽，所述未过滤抛光液槽的一端具有进液端口，所述进液端口与抛光液存储槽连接，所述过滤抛光液槽的一端具有出液端口，所述出液端口与抛光槽连接，所述抛光液存储槽和所述抛光槽之间也连接；

过滤机构，连接于所述未过滤抛光液槽和过滤抛光液槽之间；

循环机构，设于所述出液端口与所述抛光槽之间；

所述过滤槽、过滤机构、循环机构、抛光液存储槽和抛光槽构成循环连接。

2.根据权利要求1所述的电化学抛光液循环过滤装置，其特征在于，所述未过滤抛光液槽和过滤抛光液槽呈上下排布。

3.根据权利要求1或2所述的电化学抛光液循环过滤装置，其特征在于，所述未过滤抛光液槽和过滤抛光液槽之间具有隔板，所述隔板上开设有通孔，所述过滤机构设置在所述通孔处。

4.根据权利要求3所述的电化学抛光液循环过滤装置，其特征在于，所述过滤机构为无纺布过滤网袋。

5.根据权利要求4所述的电化学抛光液循环过滤装置，其特征在于，所述无纺布过滤网袋与所述隔板连接的一端具有连接板，所述连接板上开有若干连接孔，所述连接板通过连接件穿设于所述连接孔内而固定在所述隔板的通孔处。

6.根据权利要求4或5所述的电化学抛光液循环过滤装置，其特征在于，所述过滤机构的数量为四个，沿所述隔板的长度方向间隔分布。

7.根据权利要求4所述的电化学抛光液循环过滤装置，其特征在于，所述无纺布过滤网袋为聚丙烯工业液体无纺布过滤网袋。

8.根据权利要求4或7所述的电化学抛光液循环过滤装置，其特征在于，所述无纺布过滤网袋的网孔目数为1250目-2500目。

9.根据权利要求1所述的电化学抛光液循环过滤装置，其特征在于，所述循环机构为循环泵。

10.根据权利要求1所述的电化学抛光液循环过滤装置，其特征在于，所述抛光液存储槽与所述未过滤抛光液槽的进液端口之间通过进液导管相连；

所述抛光槽与所述过滤抛光液槽的出液端口之间通过出液导管相连；

所述抛光槽与所述抛光液存储槽之间通过连接导管相连；

在所述进液导管、出液导管和连接导管上均设有阀门。

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