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CN1823028A - 新二苯甲酰甲烷基化合物,用作含有它们的可光敏化的防晒剂和化妆品组合物 - Google Patents

新二苯甲酰甲烷基化合物,用作含有它们的可光敏化的防晒剂和化妆品组合物 Download PDF

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CN1823028A
CN1823028A CNA200480020285XA CN200480020285A CN1823028A CN 1823028 A CN1823028 A CN 1823028A CN A200480020285X A CNA200480020285X A CN A200480020285XA CN 200480020285 A CN200480020285 A CN 200480020285A CN 1823028 A CN1823028 A CN 1823028A
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CN
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straight
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CNA200480020285XA
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I·里科-莱特
F·韦茨
C·鲁达布尔
A·德尼斯
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Paul Saba Looz 3 University Body Diagram
BIODERMA LAB
Centre National de la Recherche Scientifique CNRS
Original Assignee
Paul Saba Looz 3 University Body Diagram
BIODERMA LAB
Centre National de la Recherche Scientifique CNRS
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Abstract

本发明涉及式I的二苯甲酰甲烷基化合物,及其盐和溶剂合物,以及制备它们的方法。本发明也涉及式(I)化合物作为保护皮肤或头发免受UV辐射伤害的物质的用途,以及一种化妆品和/或皮肤病产品,其特征是它含有式(I)化合物作为活性要素。

Description

新二苯甲酰甲烷基化合物,用作含有它们的可光敏化的防晒剂和化妆品组合物
本发明涉及一种吸收紫外线辐射能力良好的化合物,它们在光激发下获得一些此种能力,它们的吸收性能是光稳定的。本发明也涉及这些化合物在化妆品制剂中作为UVA遮蔽剂的用途,以及涉及含有这种化合物的化妆品和/或皮肤病组合物。
太阳发出一组光辐射到达地球表面:紫外线、可见光和红外线。总的来说,辐射的特征是它的波长和它的能量,这两个量呈反比例关系。因此短波长对应高能量。在本发明内容中,紫外线是所关心的太阳光谱的一部分。这种辐射大体上不超过地球表面所接受的总能量的5%,但是它对活的生物体的影响非常重要。这些影响中最为共知的是晒斑,最想要的影响是晒黑。
紫外线分为三个主要区域:UVA、UVB和UVC。
UVC射线是波长为190-290nm的射线。它们是高能射线,因此对生物分子的影响力大。而且,在医院里将它们用作杀菌剂。它们基本上被大气层阻止。
UVB射线的波长在290和320nm之间,占到达地球表面的UV射线的2%。它们部分穿入皮肤,仅10-20%到达真皮。传统上认为它们引起日光性红斑,但也引发更严重的损伤,尤其在基因组水平。在这个方面,它们具有致癌性。
UVA射线占地球表面接受的UV射线的98%。它们比UVB射线的能量更低,波长范围是320-400nm。400nm以上就开始是可见光区域了。UVA射线比UVB射线穿入皮肤更深。因此20-30%到达真皮中层(middle dermis)。
它们诱导色素的形成,并引起晒黑。长期来看,它们长期具有参与加速皮肤老化的性质,但仅在过去约十年中,人们才认识到它们的致癌可能性。也应注意,第一代防晒剂不含UVA-遮蔽剂,而仅含UVB-遮蔽剂。
在指出UVA射线能够在动物(鱼和小鼠)中诱导皮肤癌的科学论文发表后,引入UVA-遮蔽剂变得势在必行。具体说,在无毛小鼠中诱导鳞状癌(SCC)和基底细胞癌(BCC)的作用谱(de Gruijl F.R.,Sterenborg H.,Forbes P.D.等Cancer Res.1993;53:53-60)显示出最大效能的波长是UVB范围中的310nm区域和UVA范围中的360nm区域。第二大效能比最大效能低10000倍。该论文中出现的值代表给定波长的光子诱导SCC或BCC型损伤的概率。因此,必须进行校正,并考虑阳辐射中各种光子的比例(UVA射线占辐射的98%,UVB射线占2%)。因此,校正后发现,对在小鼠中诱导BCC和SCC癌症而言,UVA射线的效能仅比UVB射线低100倍。这个值实际上有益于引入对UVA射线的低水平保护。
因此,在过去约十年中,对UVA光保护给予了特别关注。
现在,仅有少数分子可用于并允许用于化妆品以提供抗-UVA保护。最常用的化合物之一无需争辩地是Parsol 1789或4-叔丁基-4’-甲氧基二苯甲酰甲烷[CAS:70356-09-1]。该分子在UVA范围中的摩尔消光系数高,其最大吸收效力在约340nm处。然而,它的光稳定性是争论的主题。具体说,该分子在照射下降解并产生苯甲酸衍生物。这种降解也发生在防晒化妆品制剂中,这导致其活性随时间,例如在个体暴露期间丧失。应注意,这种降解是剂量依赖性的。因此,它对光保护的负面影响取决于暴露的持续时间。四小时暴露比两小时暴露降解更多。然而,对长时间暴露而言,无意的擦除、在沙滩上擦掉和连续沐浴也损害,并可能是更大程度地损害保护的完整性。因此,为找到对抗Parsol 1789光降解的方法和含有它的光稳定性制剂进行了研究。
可设计两种方法
-首先是已被广泛采用的方法,包括向制剂中加入可通过各种尚未解释的机制稳定Parsol 1789的分子(例如,各专利:FR 2 768 730 A1、FR 2 747 038 A1、FR 2750 335 A1、WO 02/49598A2、US 6 444 195 B1等)。
-其次是探究较少的方法,化学修饰该分子本身。该修饰需要让分子保持其UV吸收特性,但限制它发生光降解的倾向。
因此,本发明涉及一种吸收UV辐射能力良好的新二苯甲酰甲烷衍生物,这些能力是光稳定的和可部分光敏化的,即仅当所述二苯甲酰甲烷衍生物暴露于UV时,才显示其完全的吸收能力的衍生物。
本发明涉及式I的二苯甲酰甲烷基化合物:
Figure A20048002028500071
其中,
R1、R’1、R2、R’2、R3、R’3、R4和R’4可以相同或不同,各自代表:
-氢原子,
-或含有1-4个碳原子的直链或支链烷基,
-或含有1-4个碳原子的直链或支链链烯基,
-或含有1-4个碳原子的直链或支链炔基,
-或C1-C4烷氧基,
-或卤原子,
-或羟基,
-或氨基,
-或硝基,
-或酰氨基,
-或式-CO-Y的羰基,其中Y代表-OH、-OR或-SR基团(R代表C1-C4烷基)或者卤原子。
R5和R’5不同,各自代表:
-氢原子,
-或含有1-4个碳原子的直链或支链烷基,
-或含有1-4个碳原子的直链或支链链烯基,
-或含有1-4个碳原子的直链或支链炔基,
-或含有5-20个碳原子的直链或支链、饱和或不饱和无环碳基链,
-或含有5-20个碳原子的直链或支链、饱和或不饱和、末端官能化的无环碳基链,
-或含有5-20个碳原子的直链或支链、饱和或不饱和、包含胺或酰胺官能团的氮原子和/或醚或羧基官能团的氧原子的无环碳基链,
以及它们的盐和溶剂合物。
更具体地,本发明涉及上述二苯甲酰甲烷衍生物,其特征是R1、R’1、R2、R’2、R3、R’3、R4和R’4各自代表一个氢原子。
本发明也涉及上述二苯甲酰甲烷衍生物,其特征是不相同的R5和R’5各自代表:
-氢原子,
-或含有1-4个碳原子的直链或支链烷基,
-或含有5-20个碳原子的直链或支链、饱和或不饱和无环碳基链。
本发明也涉及上述二苯甲酰甲烷衍生物,其特征是:
R1、R’1、R2、R’2、R3、R’3、R4和R’4各自代表一个氢原子,
不相同的R5和R’5各自代表:
-氢原子,
-或含有1-4个碳原子的直链或支链烷基,
-或含有5-20个碳原子的直链或支链、饱和或不饱和无环碳基链。
本发明也涉及式I的二苯甲酰甲烷基化合物:
Figure A20048002028500091
其中,
R1、R’1、R2、R’2、R3、R’3、R4和R’4可以相同或不同,各自代表:
-氢原子,
-或含有1-4个碳原子的直链或支链烷基,
-或含有1-4个碳原子的直链或支链链烯基,
-或含有1-4个碳原子的直链或支链炔基,
-或C1-C4烷氧基,
-或卤原子,
-或羟基,
-或氨基,
-或硝基,
-或酰氨基,
-或式-CO-Y的羰基,其中Y代表-OH、-OR或-SR基团(R代表C1-C4烷基)或者卤原子。
R5和R’5可以相同或不同,各自代表:
-含有1-4个碳原子的直链或支链烷基,
-或含有1-4个碳原子的直链或支链链烯基,
-或含有1-4个碳原子的直链或支链炔基,
-或含有5-20个碳原子的直链或支链、饱和或不饱和无环碳基链,
-或含有5-20个碳原子的直链或支链、饱和或不饱和、末端官能化的无环碳基链,
-或含有5-20个碳原子的直链或支链、饱和或不饱和、包含胺或酰胺官能团的氮原子和/或醚或羧基官能团的氧原子的无环碳基链,
以及它们的盐和溶剂合物。
更具体地,本发明涉及上述二苯甲酰甲烷衍生物,其特征是R1、R’1、R2、R’2、R3、R’3、R4和R’4各自代表一个氢原子。
本发明也涉及上述二苯甲酰甲烷衍生物,其特征是可以相同或不同的R5和R’5各自代表:
-含有1-4个碳原子的直链或支链烷基,
-或含有5-20个碳原子的直链或支链、饱和或不饱和无环碳基链。
本发明也涉及上述二苯甲酰甲烷衍生物,其特征是:
R1、R’1、R2、R’2、R3、R’3、R4和R’4各自代表一个氢原子,
可以相同或不同的R5和R’5各自代表:
-含有1-4个碳原子的直链或支链烷基,
-或含有5-20个碳原子的直链或支链、饱和或不饱和无环碳基链。
总的来说,可以从任选取代的二苯甲酰甲烷,经过根据类似于Marzinzik和Felder(Tetrahedron Letters,第37卷,第7期,第1003-1006页,1996)以及Clark和Miller(J.C.S.Perkin I,第1743-1745页,1977)所述的方案进行的烷化反应得到这些二苯甲酰甲烷衍生物。
这包括进行两个连续步骤:第一,制备卤化二苯甲酰甲烷/烷基铵,例如卤化四丁基铵的复合物,然后进行实际烷化。
所用的卤化烷基铵是氟化烷基铵、氯化烷基铵、溴化烷基铵或碘化烷基铵,优选氟化四丁基铵。卤化四丁基铵可以在水溶液或四氢呋喃(THF)溶液中。结果是,在含水介质或在有机介质中,优选在THF中进行二苯甲酰甲烷/卤化四丁基铵复合物的制备。
在有机溶剂如四氢呋喃(THF)、乙腈或氯仿,优选THF中进行实际烷化。在室温或在回流中,优选回流2-24小时,优选8小时,搅拌反应介质。
烷化剂可以是卤代烷,例如氟代烷、氯代烷、溴代烷或碘代烷,优选溴代烷,含有1-20个,优选10个碳原子。
可以通过已知的合成方法,例如克莱森缩合(参见《有机反应》(OrganicReactions),第VIII卷,John Wiley and Sons,1954),即在通式为AR-X和AR’-Y的化合物之间缩合,其中可以相同或不同的AR和AR’各自代表任选地单取代或多取代的苯基,不相同的X和Y各自代表甲氧基羰基或乙酰基,来制备任选取代的起始二苯甲酰甲烷衍生物,即其中R5和R’5各自代表一个氢原子的式I化合物。此缩合反应适宜在强碱、存在惰性溶剂的情况下进行。
本发明也涉及上述式(I)化合物的制备方法,其特征是该方法包括:
-在含水或有机介质中,在(a)和(b)之间形成复合物的步骤:
(a)通式(I)的分子,其中R1、R’1、R2、R’2、R3、R’3、R4和R’4各自代表权利要求1-4中任一项所述的基团,相同的R5和R’5各自代表一个卤原子,和
(b)卤化烷基铵;然后
-在有机介质中通过通式为R5X和R’5X的至少一种卤化物的作用,取代R5和R’5代表的至少一个氢原子的步骤,其中R5和R’5可以相同或不同,各自代表上述基团。
更具体地,本发明涉及上述方法,其特征是取代R5和R’5代表的至少一个氢原子的步骤是通过通式为R5X和R’5X的至少一种烷化剂的作用进行的烷化反应,其中R5和R’5可以相同或不同,各自代表含有1-20个碳原子的直链或支链、饱和或不饱和无环碳基链。
因此得到的二苯甲酰甲烷衍生物具有与上述参比化合物,即Parsol 1789或4-叔丁基-4’-甲氧基二苯甲酰甲烷类似的共轭系统,因此具有紫外线吸收能力。
作为对这些紫外线吸收能力的说明,根据本发明对两种二苯甲酰甲烷衍生物进行了测定:
-对于通式(I)化合物,其中R1、R’1、R2、R’2、R3、R’3、R4、R’4和R’5各自代表一个氢原子,R5代表含有10个碳原子的饱和的直链无环碳基链而言,最大吸收是(在乙腈溶液中)在263nm处,摩尔消光系数是20000I·cm-1·mol-1。以下将该化合物称为化合物C10;
对于式(I)化合物,其中R1、R’1、R2、R’2、R3、R’3、R4、R’4和R5各自代表一个氢原子,R’5代表含有10个碳原子的饱和的直链无环碳基链而言,最大吸收是(在乙腈溶液中)在302nm处,摩尔消光系数是17000I·cm-1·mol-1
以下将该化合物称为化合物O10;
化合物O10显示强烈的溶剂化变色,这使有机化溶剂(例如十二烷基硫酸钠的胶束溶液)在UVA中最大吸收范围在约360nm处。化合物C10的情况与之相同。而且,在有机化介质中,这两种化合物暴露于紫外辐射后,它们的最大吸收波长从UVB漂移到UVA,从而引起与该体系有机化相同的效果。结果是,通过在照射下将这些化合物置于有机化介质中,得到吸收带向UVA的最大漂移,正如防晒化妆品制剂在其正常使用条件下的情况。制剂辐射放大了化合物存在于介质中诱导的现象。因此,有两种遮蔽分子存在于有机化介质中,仅当它们暴露于紫外线时,才显示其完全的吸收能力。因此,含有它们的制剂的保护能力在暴露期间应该增加,而不是降低,而这是仅含Parsol 1789作为UV遮蔽剂的制剂的情况。这种在暴露开始时的吸光度增加使它可能更久地维持最大水平的保护。而且,当吸光度达到最大时,化合物C10和O10比Parsol 1789对太阳辐射的光稳定性高得多:该制剂的吸光度降低得比含有Parsol 1789的制剂慢得多。
因此,本发明的二苯甲酰甲烷衍生物可有利地用于化妆品和/或皮肤病制剂,作为防晒剂。
因此,本发明也涉及一种化妆品和/或皮肤病组合物,其特征是它含有上述如权利要求1-4中所述的式(I)化合物的至少一种,或其盐或溶剂合物,作为活性要素。
本发明也涉及上述组合物,其特征是它也包含另一种活性要素。
更具体说,本发明涉及上述组合物,其特征是其它活性要素是选自Parsol 1789、2,4,6-三[对(2’-乙基己基-1’-氧基羰基)苯胺基]-1,3,5-三嗪、4-叔丁基-4’-甲氧基二苯甲酰甲烷、2-羟基-4-甲氧基二苯甲酮和3-(4’-甲基苯亚甲基)樟脑的遮蔽剂。
更具体说,本发明涉及本发明组合物,其特征是相对于组合物总重,它含有0.5%-30%,优选1%-10重量%的所述活性要素。
本发明组合物也可含有标准的化妆品佐剂,尤其选自常用于化妆品的,尤其用于生产乳液形式的防晒组合物的脂肪物质、有机溶剂、离子或非离子增稠剂、软化剂、抗氧化剂、不透明剂、稳定剂、润肤剂、硅酮、防沫剂、增湿剂、维生素、香料、防腐剂、表面活性剂、填充料、矿物或有机颜料、螯合剂、聚合物、推进剂、酸化或碱化剂、染料或任何其它成分。
它也可含有一种或多种额外的亲水性或亲脂性UVA-活性和/或UVB-活性防晒剂。
本发明也涉及本发明式(I)化合物或其盐或溶剂合物作为保护皮肤或头发免受UV辐射伤害的物质的用途。
本发明也涉及本发明式(I)化合物或其盐或溶剂合物用于制备化妆品和/或皮肤病组合物以保护皮肤或头发免受UV辐射伤害的用途。
更具体说,本发明涉及本发明式(I)化合物或其盐或溶剂合物作为可光敏化防晒剂的用途。
本发明也涉及本发明式(I)化合物或其盐或溶剂合物用于制备化妆品和/或皮肤病组合物以保护皮肤或头发免受UV辐射伤害,其作用可光敏化和/或长期的用途。
本发明也涉及一种化妆品和/或皮肤病产品,其特征是它包含本发明式(I)化合物或其盐或溶剂合物,作为活性要素。
以下实施例说明了本发明的各个方面:
实施例:
制备式(I)的二苯甲酰甲烷衍生物,其中R1、R’1、R2、R’2、R3、R’3、R4和R’4各自代表一个氢原子,不相同的R5和R’5各自代表:
-氢原子,
-或含有10个碳原子的饱和的直链无环碳基链。
生产3-(4-叔丁基苯基)-3-癸氧基-1-(4-甲氧基苯基)丙-2-烯-1-酮(化合物O10)和3-(4-叔丁基苯基)-2-癸基(decanyl)-1-(4-甲氧基苯基)丙烷-1,3-二酮(化合物C10)
实施例1:
将1-(4-甲氧基苯基)-3-(4-叔丁基苯基)丙烷-1,3-二酮(Parsol1789)[CAS:70356-09-1](1.60×10-3摩尔;0.50克)溶解于氟化四丁基铵(TBAF)的1M四氢呋喃(THF)溶液(3.20×10-3摩尔;3毫升;2当量)中。室温下磁力搅拌该混合物3小时。然后将本身溶解在2毫升无水THF中的烷化剂1-溴癸烷(C10H21Br)(3.20×10-3摩尔;0.71克;0.7毫升;2当量)加入混合物。对反应介质维持室温磁力搅拌26小时。过滤和蒸发溶剂后得到粘性橙色残余物。
然后制备一系列开放柱,以去除过量试剂(烷化剂,C10H21Br和TBAF)和分离介质中存在的三种分子:未反应的起始分子;R5是含有10个碳原子的饱和的直链无环碳基链,R1、R’1、R2、R’2、R3、R’3、R4、R’4和R’5是H的分子以及R’5是含有10个碳原子的饱和的直链无环碳基链,R1、R’1、R2、R’2、R3、R’3、R4、R’4和R5是H的分子。
用约40克二氧化硅60凝胶(0.063-0.200毫米)为1.0-1.5克待分离粗产物制备开放柱,洗脱剂是二氯甲烷。
0.50克Parsol 1789产生0.15克化合物C10和0.10克化合物O10,即产率分别是21%和14%。
实施例2:
将1-(4-甲氧基苯基)-3-(4-叔丁基苯基)丙烷-1,3-二酮(Parsol1789)[CAS:70356-09-1](16.11×10-3摩尔;5.00克)溶解于75w/w%的氟化四丁基铵(TBAF)水溶液(24.60×10-3摩尔;9毫升;1.5当量)中。然后,在旋转蒸发仪上让该化合物在80℃蒸发3小时,产生粘性亮黄色混合物。然后将该介质溶解于40毫升无水THF中,向其中加入烷化剂1-溴癸烷(C10H21Br)(33.0×10-3摩尔;7.46克;7毫升;2当量)。在磁力搅拌下让反应介质回流8小时。过滤和蒸发溶剂后得到粘性橙色残余物。
然后制备一系列开放柱,以去除过量试剂(烷化剂,C10H21Br和TBAF)和分离介质中存在的三种分子:未反应的起始分子;R5是含有10个碳原子的饱和的直链无环碳基链,R1、R’1、R2、R’2、R3、R’3、R4、R’4和R’5是H的分子以及R’5是含有10个碳原子的饱和的直链无环碳基链,R1、R’1、R2、R’2、R3、R’3、R4、R’4和R5是H的分子。
与上述方法相同地制备开放柱。
HPLC分离;C18柱;洗脱剂:5%水/95%乙腈;流速:6毫升/分钟。
5.00克Parsol 1789产生2.59克化合物C10和2.47克化合物O10,即产率分别是34%和36%。
所获产物的特征:
用Bruker ARX 400MHz机器获得NMR谱。在HP 8452 A二极管阵列分光光度计上获得UV吸收光谱。在Perkin-Elmer 1760 X机器上获得红外光谱。
化合物C10:
TLC:Rf(CH2Cl2)=0.40。
1H NMR(400MHz,CDCl3),δppm,JHZ:8.00(d+d,2H,J=8.8和8.8;H7);7.93(d+d,2H,J=8.4和8.4;H8);7.46(d+d,2H,J=8.4和8.4;H9);6.94(d+d,2H,J=8.8和8.8;H10);5.11(t,1H,J=6.6;H11);3.87(s,3H,H12);2.12(m,2H,H18);1.34(s,9H,H14);1.28(m,16H,H16和H17);0.89(t,3H,J=6.7;H15)。
13C NMR(100MHz,CDCl3),δppm:195.9(C2);194.9(C1);163.8(C3);157.1(C4);133.7(C5);131.0(C10);129.3(C6);128.8(C9);125.8(C8);114.1(C7);57.5(C11);55.5(C12);35.2(C13);31.9(C18);31.1(C14);29.7-28.5(C17);22.7(C16);14.2(C15)。
IR(KBr沉淀),vcm -1:2924;1692;1663;1602-1464;1262;1171;844。
UV/vis:二氯甲烷:λmax=266nm;ε=23000I·cm-1·mol-1。乙腈:λmax=263nm;ε=20000I·cm-1·mol-1
MS(FAB,MeOH,阳性模式)m/z=451[MH+];
MS(ES,MeOH,阳性模式)m/z=451[MH+]。
化合物O10:
主要                               次要
TLC:Rf(CH2Cl2)=0.35。
1H NMR(400MHz,CDCl3),δppm,JHZ:7.90(d+d,2H,J=8.4和8.4;H7);7.42(d+d,2H,J=8.2和8.2;H8);7.35(d+d,2H,J=8.2和8.2;H9);6.89(d+d,2H,J=8.4和8.4;H10);6.46(s,1H;H11次要);6.16(s,1H;H11主要);4.13(t,2H,J=6.02;H18 次要);4.07(t,2H,J=6.02;H18主要);3.86(s,3H,H12次要);3.84(s,3H,H12主要);1.86(m,2H,H19);1.34(s,9H,H14);1.28(m,14H,H16和H17);0.90(t,3H,J=6.7;H15)。
13C NMR次要(100MHz,CDCl3),δppm:188.0(C1);169.6(C2);163.0(C3);155.0(C4);133.5(C5);133.4(C6);130.8(C7);129.0(C8);124.9(C9);113.7(C10);102.8(C11);74.5(C18);55.6(C12);35.01(C13);32.1(C18);31.4(C14);29.8-26.1(C17和C19);22.9(C16);14.3(C15)。
13C NMR主要(100MHz,CDCl3),δppm:189.8(C1);170.6(C2);162.8(C3);153.0(C4);133.0(C5);132.8(C6);130.8(C7);129.0(C8);124.9(C9);113.6(C10);98.7(C11);69.5(C18);55.6(C12);35.01(C13);32.1(C18);31.4(C14);29.8-26.1(C17和C19);22.9(C16);14.3(C15)。
IR(CaF2载玻片),vcm -1:2925;1655;1603-1464;1252;1173。
UV/vis:乙腈:λmax=302nm;ε=17000I·cm-1·mol-1
MS(FAB,MeOH,阳性模式)m/z=451[MH+];
MS(ES,MeOH,阳性模式)m/z=451[MH+]。
实施例3:
对UV辐射稳定性的测试
作为示范,将含有在上述实施例中得到的化合物,即化合物C10和化合物O10的碱制剂(油包水乳液)在辐射下的改变与含有Parsol 1789(各遮蔽剂的质量%相等)的相同制剂的改变作比较。
作为示范,所选制剂可包含:
Glycasil L 0.19%,对羟基苯甲酸丁酯0.3%,蜂蜡4%,PEG-30二聚羟基硬脂酸酯3%,碳酸二辛酯10%,聚甘油基-3-二异硬脂酸酯1.5%,水78.64%,黄原胶1%,Na2EDTA 0.2%,NaCl 1%;对羟基苯甲酸甲酯0.17%。
根据情况向该制剂中加入常用碱,使化合物C10或O10或Parsol 1789的质量%相等。将15-20毫克的这些制剂扩散到石英载玻片上,随时间监测该载玻片在太阳辐射下的UVA吸光度(6月,北纬43°,13点-16点之间,太阳UV辐射的平均通量:4mW/cm2,Oriel 70380 UV辐射计-在280nm-400nm之间响应,最大值在370nm处)。接受Parsol 1789的载玻片在356nm处的吸光度1小时中下降51%,2小时中下降73%。同时,接受化合物O10的载玻片的吸光度在1小时中提高16%,2小时中提高19%。化合物C10的吸光度在暴露于日光的第一小时中大大提高,然后在第2小时中降低27%(相对于辐射1小时后获得的最大值)。不过,在暴露于日光2小时后,化合物C10的吸光度仍然明显高于其起始吸光度(照射前)。将所获的结果整理在下表中:
遮蔽分子         356nm处的吸光度变化
  太阳UV辐射1小时   太阳UV辐射2小时
  Parsol 1789   -51%   -73%
  化合物C10   +400%   +264%
  化合物O10   +16%   +19%
因此,这两个测试化合物显示比Parsol 1789的光稳定性更好。
然而,它们的摩尔吸光系数比Parsol 1789大约低30%(当通过辐射获得最大吸收时)。因此可能将本发明的二苯甲酰甲烷衍生物与其它遮蔽剂如Parsol 1789联合使用,本发明的二苯甲酰甲烷衍生物依靠遮蔽效果保护Parsol 1789。这种组合使得用最小量的遮蔽剂产生最大的遮蔽效果成为可能。
作为示范,用日光在与上述实施例相同的条件下辐射类似于上述制剂的总共含有1质量%遮蔽剂,其中32.5%是Parsol 1789,35%是化合物C10,32.5%是化合物O10的制剂,将它的改变与含有1质量%Parsol 1789的制剂的改变相比。混合制剂将其起始UVA吸光度(或更高吸光度)保持了1小时,而此吸光度在2小时后下降33%。仅含Parsol 1789的制剂的吸光度从开始暴露起一直下降。此下降在1小时中达到51%,在2小时中达到73%。
作为示范,用日光在与上述实施例相同的条件下辐射类似于上述制剂的含有1质量%遮蔽剂,其中10%是Parsol 1789,30%是化合物C10,60%是化合物O10的制剂,将它的改变与含有1质量%Parsol 1789的制剂的改变相比。混合制剂将其起始UVA吸光度(或更高吸光度)保持了2小时30分钟。

Claims (15)

1.式I的二苯甲酰甲烷基化合物:
其中,
R1、R’1、R2、R’2、R3、R’3、R4和R’4可以相同或不同,各自代表:
-氢原子,
-或含有1-4个碳原子的直链或支链烷基,
-或含有1-4个碳原子的直链或支链链烯基,
-或含有1-4个碳原子的直链或支链炔基,
-或C1-C4烷氧基,
-或卤原子,
-或羟基,
-或氨基,
-或硝基,
-或酰氨基,
-或式-CO-Y的羰基,其中Y代表-OH、-OR或-SR基团(R代表C1-C4烷基)或者卤原子。
R5和R’5不相同,各自代表:
-氢原子,
-或含有1-4个碳原子的直链或支链烷基,
-或含有1-4个碳原子的直链或支链链烯基,
-或含有1-4个碳原子的直链或支链炔基,
-或含有5-20个碳原子的直链或支链、饱和或不饱和无环碳基链,
-或含有5-20个碳原子的直链或支链、饱和或不饱和、末端官能化的无环碳基链,
-或含有5-20个碳原子的直链或支链、饱和或不饱和、包含胺或酰胺官能团的氮原子和/或醚或羧基官能团的氧原子的无环碳基链,
以及它们的盐和溶剂合物。
2.如权利要求1所述的二苯甲酰甲烷衍生物,其特征在于,R1、R’1、R2、R’2、R3、R’3、R4和R’4各自代表氢原子。
3.如上所述的二苯甲酰甲烷衍生物,其特征在于,不相同的R5和R’5各自代表:
-氢原子,
-或含有1-4个碳原子的直链或支链烷基,
-或含有5-20个碳原子的直链或支链、饱和或不饱和无环碳基链。
4.如权利要求1或2所述的二苯甲酰甲烷衍生物,其特征在于:
R1、R’1、R2、R’2、R3、R’3、R4和R’4各自代表一个氢原子,
不相同的R5和R’5各自代表:
-氢原子,
-或含有1-4个碳原子的直链或支链烷基,
-或含有5-20个碳原子的直链或支链、饱和或不饱和无环碳基链。
5.式I的二苯甲酰甲烷基化合物以及它们的盐和溶剂合物:
Figure A2004800202850003C1
其中,
R1、R’1、R2、R’2、R3、R’3、R4和R’4可以相同或不同,各自代表:
-氢原子,
-或含有1-4个碳原子的直链或支链烷基,
-或含有1-4个碳原子的直链或支链链烯基,
-或含有1-4个碳原子的直链或支链炔基,
-或C1-C4烷氧基,
-或卤原子,
-或羟基,
-或氨基,
-或硝基,
-或酰氨基,
-或式-CO-Y的羰基,其中Y代表-OH、-OR或-SR基团(R代表C1-C4烷基)或者卤原子。
R5和R’5可以相同或不同,各自代表:
-含有1-4个碳原子的直链或支链烷基,
-或含有1-4个碳原子的直链或支链链烯基,
-或含有1-4个碳原子的直链或支链炔基,
-或含有5-20个碳原子的直链或支链、饱和或不饱和无环碳基链,
-或含有5-20个碳原子的直链或支链、饱和或不饱和、末端官能化的无环碳基链,
-或含有5-20个碳原子的直链或支链、饱和或不饱和、包含胺或酰胺官能团的氮原子和/或醚或羧基官能团的氧原子的无环碳基链。
6.一种化妆品和/或皮肤病组合物,其特征在于,它含有上述如权利要求1-5所述的式(I)化合物的至少一种,或其盐或溶剂合物作为活性要素。
7.如上述权利要求所述的组合物,其特征在于,它也包含另一种活性要素,所述活性要素是选自Parsol 1789、2,4,6-三[对-(2’-乙基己基-1’-氧基羰基)苯胺基]-1,3,5-三嗪、4-叔丁基-4’-甲氧基二苯甲酰甲烷、2-羟基-4-甲氧基二苯甲酮和3-(4’-甲基苯亚甲基)樟脑的遮蔽剂。
8.如权利要求6或7所述的组合物,其特征在于,以所述组合物的总重计,所述组合物含有0.5-30重量%,优选1-10重量%的所述活性要素。
9.权利要求1-5中任一项所述的式(I)化合物或其盐或溶剂合物作为保护皮肤或头发免受UV辐射伤害的物质的用途。
10.权利要求1-5中任一项所述的式(I)化合物或其盐或溶剂合物用于制备化妆品和/或皮肤病组合物以保护皮肤或头发免受UV辐射伤害的用途。
11.权利要求1-5中任一项所述的式(I)化合物或其盐或溶剂合物作为可光敏化防晒剂的用途。
12.如权利要求1-5所述的式(I)化合物或其盐或溶剂合物用于制备化妆品和/或皮肤病组合物以保护皮肤或头发免受UV辐射伤害,其作用是可光敏化的和/或长期的。
13.一种化妆品和/或皮肤病产品,其特征是它包含权利要求1-5所述的式(I)化合物或其盐或溶剂合物作为活性要素。
14.制备如权利要求1-5之一所述的式(I)化合物的方法,其特征在于,该方法包括:
-在含水或有机介质中,在a)和b)之间形成络合物的步骤:
a)通式(I)的分子,其中R1、R’1、R2、R’2、R3、R’3、R4和R’4各自代表权利要求1-6中任一项所述的基团,R5和R’5是相同的,各自代表氢原子,和
b)卤化烷基铵;然后
-在有机介质中通过通式为R5X和R’5X的至少一种卤化物的作用,取代R5和R’5代表的至少一个氢原子的步骤,其中R5和R’5可以相同或不同,各自代表权利要求1-6中任一项所述的基团。
15.如上述权利要求所述的方法,其特征在于,取代R5和R’5代表的至少一个氢原子的步骤是通过通式为R5X和R’5X的至少一种烷化剂的作用进行的烷化反应,其中R5和R’5可以相同或不同,各自代表含有1-20个碳原子的直链或支链、饱和或不饱和无环碳基链。
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