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CN1648278A - 真空蒸镀机 - Google Patents

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CN1648278A
CN1648278A CNA2005100063980A CN200510006398A CN1648278A CN 1648278 A CN1648278 A CN 1648278A CN A2005100063980 A CNA2005100063980 A CN A2005100063980A CN 200510006398 A CN200510006398 A CN 200510006398A CN 1648278 A CN1648278 A CN 1648278A
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小林敏郎
加藤光雄
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Abstract

本发明涉及真空蒸镀机。通过在真空蒸镀机上设置对于从蒸发室(18)侧朝玻璃基板(12)侧流入的蒸镀材料(15)的蒸气量在玻璃基板(12)的板宽度方向L均匀地控制的阀部件(21)；以及在玻璃基板(12)的下面侧以平行于玻璃基板(12)的被蒸镀面的方式配置，且在蒸镀室(25a)内对蒸镀材料(15)的蒸气进行面内分布和流动的调整的多孔挡板(23)，从而谋求对于玻璃基板(12)的板宽度方向L的蒸镀均匀化。由此，本发明能够提供一种即使对大型基板也能形成蒸镀材料的蒸气的均匀流动同时，还能控制蒸气分布，从而能够对蒸镀进行均匀化的真空蒸镀机。

Description

真空蒸镀机
技术领域
本发明涉及向基板等被蒸镀体蒸镀蒸镀材料而形成薄膜的真空蒸镀机。
背景技术
所谓真空蒸镀机是指，在真空容器内配置蒸镀材料和被蒸镀体，以对真空容器内减压的状态，加热并熔融蒸镀材料使其蒸发或者升华从而使其气化，并将气化的蒸镀材料堆积在被蒸镀体表面而形成薄膜的装置。在上述真空蒸镀机中，作为蒸镀材料的加热方法，正在采用的有用外部加热器加热已放入蒸镀材料的坩锅的外部加热坩锅法等。近年来，真空蒸镀机的使用并没有仅限于通过金属蒸镀的金属薄膜的形成，还使用于通过有机物蒸镀的有机物薄膜形成或者通过多种有机物的共同蒸镀而进行的高分子薄膜形成。例如，使用于平板显示器(以下简称为FPD)的有机场致发光元件(以下称为有机EL元件)的形成等。
[专利文献1]特开平10-152777号公报
近年来，随着FPD的普及，FPD基板越来越大型化。而在对FPD进行大型化时，很难对已气化的蒸镀材料形成均匀的浓度分布和流动，很难在FPD基板上进行均匀蒸镀，容易引起出现不均匀等问题。例如，对于有机系蒸镀材料，考虑到控制的容易性，多采用上述的外部加热坩锅法，并通过控制蒸镀材料的温度或者控制设置在蒸镀材料和基板之间的阀(Shutter)的开闭量等，控制来自蒸镀材料的蒸气量。从而在上述方法中，即使能控制整体的蒸气量，也很难对相对大型FPD基板的宽度方向的蒸气量进行控制，进而很难通过蒸镀获得均匀的薄膜。
发明内容
本发明鉴于以上的事实，其目的在于提供一种即使对大型基板也能控制蒸镀材料的蒸气分布的同时，还能形成均匀流动，从而能由蒸镀获得均匀薄膜的真空蒸镀机。
为解决上述问题，本发明提供如下的真空蒸镀机。即，一种真空蒸镀机，包含以下各部分：设置在真空容器内并运送基板的运送机构；设置在所述基板的下面侧，且至少具有以下长度即作为与所述基板的运送方向垂直的方向的板宽度方向的被蒸镀区域的长度的蒸镀室；设置在所述真空容器的下方侧，通过气化或者升华蒸镀材料而产生所述蒸镀材料的蒸气的蒸发室；至少具有以下长度即所述基板的所述板宽度方向的被蒸镀区域的长度，同时对沿所述基板的所述板宽度方向的来自所述蒸发室的所述蒸镀材料的蒸气量进行控制的蒸气量控制机构；对从所述蒸发室到所述蒸镀室的真空容器的壁面进行加热的加热机构，其中，所述蒸气量控制机构又包含以下各部分：在所述基板的所述板宽度方向上，具备多个入口孔和与其对应的多个出口孔的块部件；以可转动的方式嵌合在所述块部件内，且在所述基板的所述板宽度方向排列设置多个的圆柱形轴部件；设置在各个所述轴部件上，且连通所述一个入口孔和与其对应的所述一个出口孔的连通孔。
即，所述蒸气量控制机构以从蒸发室侧流入的蒸镀材料的蒸气量在基板的板宽度方向均匀分布的方式使各轴部件独立转动，从而独立地调整板宽度方向的蒸气量。
为解决上述问题，本发明还提供如下的真空蒸镀机。即，一种真空蒸镀机，包含以下各部分：设置在真空容器内并运送基板的运送机构；设置在所述基板的下面侧，且至少具有以下长度即作为与所述基板的运送方向垂直的方向的板宽度方向的被蒸镀区域的长度的蒸镀室；设置在所述真空容器的下方侧，通过气化或者升华蒸镀材料而产生所述蒸镀材料的蒸气的蒸发室；至少具有以下长度即所述基板的所述板宽度方向的被蒸镀区域的长度，同时在所述基板的下面侧，以平行于所述基板的被蒸镀面表面的方式配置，且调整所述蒸镀室内的所述蒸镀材料的蒸气的分布和流动的蒸气整流机构；对从所述蒸发室到所述蒸镀室的真空容器的壁面进行加热的加热机构，其中，所述蒸气整流机构又包含以下各部分：具备多个第一贯通孔的固定板；在所述固定板的平面上，以在所述基板的所述板宽度方向上可动的方式配置的同时，具备控制所述多个第一贯通孔的开口面积的开口面积控制机构的多个可动板。
即，所述蒸气整流机构，在作为基板的下面侧的蒸镀室中，以蒸镀室内的蒸镀材料的蒸气在面内分布和流动都均匀的方式，独立移动各可动板，控制蒸镀材料蒸气的分布和流动。
为解决上述问题，本发明又提供如下的真空蒸镀机。即，一种真空蒸镀机，包含以下各部分：设置在真空容器内并运送基板的运送机构；设置在所述基板的下方侧，且至少具有以下长度即作为与所述基板的运送方向垂直的方向的板宽度方向的被蒸镀区域的长度的蒸镀室；设置在所述真空容器的下方侧，通过气化或者升华蒸镀材料而产生所述蒸镀材料的蒸气的蒸发室；至少具有以下长度即所述基板的所述板宽度方向的被蒸镀区域的长度，同时对沿所述基板的所述板宽度方向的来自所述蒸发室的所述蒸镀材料的蒸气量进行控制的蒸气量控制机构；至少具有以下长度即所述基板的所述板宽度方向的被蒸镀区域的长度的同时，在作为所述蒸气量控制机构的上方侧的所述基板的下面侧，以平行于所述基板的被蒸镀面表面的方式配置，且调整所述蒸镀室内的所述蒸镀材料的蒸气的分布和流动的蒸气整流机构；对从所述蒸发室到所述蒸镀室的真空容器的壁面进行加热的加热机构，其中，所述蒸气量控制机构又包含以下各部分：在所述基板的所述板宽度方向上，具备多个入口孔和与其对应的多个出口孔的块部件；以可转动的方式嵌合在所述块部件内，且在所述基板的所述板宽度方向排列设置多个的圆柱形轴部件；设置在各个所述轴部件上，且连通所述一个入口孔和与其对应的所述一个出口孔的连通孔，另外其中，所述蒸气整流机构又包含以下各部分：具备多个第一贯通孔的固定板；在所述固定板的平面上，以在所述基板的所述板宽度方向上可动的方式配置的同时，具备控制所述多个第一贯通孔的开口面积的开口面积控制机构的多个可动板。
为解决上述问题，本发明又提供如下的真空蒸镀机。即，所述的真空蒸镀机，其特征是，所述蒸气量控制机构在所述轴部件的内部或者外部具有转动所述轴部件的转动机构。
作为转动机构，例如在轴部件的内部或者外部设置齿轮或者把手等突设部分，并通过由转动轴等的转动运动而转动该突设部，使轴部件本身转动。
为解决上述问题，本发明又提供如下的真空蒸镀机。即，所述的真空蒸镀机，其特征是，在所述蒸气整流机构中，将多个第二贯通孔作为所述开口面积控制机构；以规定间隔配置所述第一贯通孔和所述第二贯通孔的同时，所述第一贯通孔和所述第二贯通孔的开口宽度，在与所述可动板的移动方向垂直的方向上相同。
作为所述贯通孔的开口宽度在与可动板的移动方向垂直的方向相同的形式，适合使用矩形的贯通孔。
为解决上述问题，本发明又提供如下的真空蒸镀机。即，所述的真空蒸镀机，其特征是，在所述蒸气整流机构中，将多个第二贯通孔作为所述开口面积控制机构；以规定间隔配置所述第一贯通孔和所述第二贯通孔的同时，所述第一贯通孔和所述第二贯通孔的开口宽度，在与所述可动板的移动方向垂直的方向上不相同。
作为所述贯通孔的开口宽度在与可动板的移动方向垂直的方向不相同的形式，适合使用圆形、椭圆形的贯通孔。
为解决上述问题，本发明又提供如下的真空蒸镀机。即，所述的真空蒸镀机，其特征是，在所述蒸气整流机构中，将以规定间隔配置的多个切口作为所述开口面积控制机构。
为解决上述问题，本发明又提供如下的真空蒸镀机。即，所述的真空蒸镀机，其特征是，在所述蒸气整流机构中，以使所述蒸镀室内的所述蒸镀材料的蒸气均匀分布的方式，设置所述规定间隔。
例如，如果蒸气整流机构的下方侧(蒸发室侧)的蒸镀材料的蒸气在基板的板宽度方向均匀分布，则最好以均等间隔配置贯通孔，而在分布有偏重的情况下，可根据该偏重适当变更配置贯通孔的间隔。
根据本发明，由于具有能够在玻璃基板的板宽度方向控制蒸镀材料的蒸气量、或者对其流动进行整流的机构，因此可对板宽度方向的蒸镀分布进行控制，使蒸镀变得均匀。
附图说明
图1是表示使用了本发明的真空蒸镀机的顺列式成膜装置的概略俯视图。
图2是表示配置多个本发明的真空蒸镀机的结构的一例的概略图。
图3是表示本发明的真空蒸镀机的内部结构的一例的概略图。
图4是表示构成本发明的真空蒸镀机的阀部件的一例的图。
图5是表示构成本发明的真空蒸镀机的阀部件的另一例的图。
图6是表示构成本发明的真空蒸镀机的多孔挡板的一例的图。
图7是用于说明构成本发明的真空蒸镀机的多孔挡板的调整方法的图。
图8是表示构成本发明的真空蒸镀机的多孔挡板的另一例的图。
图中：3a、3b、3c-真空蒸镀机，11-运送机，12-玻璃基板，13-加热器，14a、14b、14c-腔室，15、16、17-蒸镀材料，18、19、20-蒸发室，21、21A、21B-阀部件，23-多孔挡板，24-多孔整流板，25a、25b、25c-蒸镀室，26-中间室，31、41-阻挡块部件，32、42-轴部件，33、43-入口孔，34、44-出口孔，35、45-连通孔，61、73-固定多孔板，63a、63b、63c、71a、75a、79a-可动多孔板，64、74-贯通孔，65a、65b、65c、76a、80a-贯通孔，72a-切口。
具体实施方式
在本发明中，通过在真空蒸镀机上设置对于从蒸发室侧朝基板侧流入的蒸镀材料的蒸气量，在基板的板宽度方向均匀控制的蒸气量控制机构(阀部件，Spool Shutter)，以及在基板的下面侧以平行于基板的被蒸镀面的方式配置，且对蒸镀室内的蒸镀材料的蒸气进行面内分布和流动的调整的蒸气整流机构(多孔挡板)，从而对在基板的板宽度方向的蒸镀材料蒸气的分布以及流动，谋求进行蒸镀均匀化。
(实施例1)
图1是表示使用了多个本发明的真空蒸镀机的顺列式成膜装置的概略俯视图。
下面，作为实施方式的一例，对FPD的有机EL元件的形成作为实例进行说明，但本发明的真空蒸镀机并不仅限于此，即能够应用于其他基板的其他薄膜的形成中。另外，本发明能够很好地适用于大型基板。
图1所示的顺列式成膜装置，是为了能够以顺列方式形成FPD的有机EL元件而构成，且每个处理室都设有门(gate door)1，并在各个处理室以不相同的真空条件下实行根据各个目的的工序。
具体地说，成为FPD的玻璃基板从图1中的左侧由未图示的运送辊运送，通过门1，运送至掩模安装室2。在掩模安装室2中，用于形成有机EL元件的图案的掩模从掩模储存器2a运来并安装在玻璃基板上的同时，使用未图示的真空泵从大气压减压至真空。
达到规定真空度之后，安装有掩模的玻璃基板依次运送至成膜室3a、3b、3c。在这些成膜室3a、3b、3c中，使用后述的本发明的真空蒸镀机，而在图1所示的顺列式成膜装置中采用串联连接三个成膜室3a、3b、3c的结构，以便形成有机EL元件的发光层。另外，关于成膜室的数量和结构，可根据需要形成的薄膜的叠层数或者其目的，将其顺序或者数目与成膜的薄膜自身适当组合而构成。
在成膜室3a、3b、3c中进行成膜后，玻璃基板就运送至掩模剥离室4。在掩模剥离室4中，脱离在成膜室3a、3b、3c中使用的掩模的同时，把将在接下来的处理室(Al溅射室6)中使用的新的掩模，从掩模储存器4a运送过来并安装。另外，在掩模剥离室4中脱离的掩模在掩模净化室5中由O2等离子等净化，此后再运送至掩模储存器5a中。
安装有新掩模的玻璃基板被运送至Al溅射室6中，并在该Al溅射室6中形成将成为有机EL元件的发光层的配线的金属薄膜。此后运送至掩模去除室7，并在那里脱离掩模，再将脱离的掩模运送至掩模储存器7a的同时，将玻璃基板运送至密封室8。在密封室8中，使用来自密封材供给室8a的密封材，密封通过成膜形成的有机EL元件。进行密封后，将玻璃基板从密封室8运出。
图2是表示图1的成膜室3a、3b、3c的结构的一实施例的概略图。在这里，各个成膜室3a、3b、3c都是通过利用本发明的真空蒸镀机而构成。另外，成膜室3a、3b、3c是分别采用不相同的一蒸镀材料的真空蒸镀机。另外，图3表示成膜室3a的内部结构。
如图2所示，运送机11(运送机构)具有在玻璃基板12被运送的方向组合多个驱动辊11a和活动辊11b的结构，并设在未图示的上部腔室(真空容器)内。在成膜室3a、3b、3c中进行成膜处理时，运送机11以一定的规定速度移动玻璃基板12，使得被成膜的薄膜的厚度沿玻璃基板12的运送方向变得均匀。而且，驱动辊11a和活动辊11b以不接触玻璃基板12的成膜部分的方式配置在玻璃基板12的两端，支撑玻璃基板12。
玻璃基板12的薄膜的运送方向的膜厚的厚度以及均匀性，是可通过调整基于运送机11的移动速度来调整为规定条件，但是随着玻璃基板12变得大型化，与玻璃基板12的运送方向垂直的方向(以下称为板宽度方向L。板宽度方向L，参照图3。)的膜厚即板宽度方向L的玻璃基板12的蒸镀薄膜的均匀性，在采用以往真空蒸镀机的情况下就会成为问题。在本发明中，为改善板宽度方向L的蒸镀薄膜的均匀性，使用后述的图4至图8的蒸气量控制机构或者蒸气整流机构等，并采用图2、图3的结构，构成了本发明的真空蒸镀机。
如图2所示，成膜室3a具有从蒸发室18到蒸镀室25a的壁面被多个加热器13(加热机构)加热的腔室14a(真空容器)。腔室14a被称为所谓热壁腔室，且具有已气化的蒸镀材料15在到达玻璃基板12的途中的过程中不会蒸镀到壁面等的结构，而且使用未图示的多个温度传感器，将温度控制在不引起蒸镀材料15的蒸镀的温度。在使用这样的热壁腔室的情况下，可提高蒸镀材料蒸气的利用效率的同时，提高成膜速度。设在玻璃基板12的下面侧的腔室14a的蒸镀室25a是在玻璃基板12的板宽度方向L方向上长的蒸镀室，且至少具有以下长度即玻璃基板12的板宽度方向L的被蒸镀区域的长度。
另外，如图2、3所示，从腔室14a的下方侧朝向玻璃基板12侧依次配置有以下各部分：具有蒸镀材料15，且通过气化或者升华蒸镀材料15而产生蒸镀材料15的蒸气的蒸发室18(所谓坩锅部分)；对于来自蒸发室18且朝向玻璃基板12侧的蒸镀材料15的蒸气量进行控制，使其在玻璃基板12的板宽度方向L均匀分布的阀部件21(蒸气量控制机构)；由具有多个贯通孔的固定板以及可动板构成，且调整蒸镀室25a内的蒸镀材料15的蒸气的面内分布以及流动而使其均匀的多孔挡板23(蒸气整流机构)；具有多个比所述贯通孔小的贯通孔，进一步调整蒸镀材料15的蒸气的面内分布以及流动的多孔整流板24。
蒸镀材料15的蒸气经过阀部件21、多孔挡板23、以及多孔整流板24而均匀分布之后，在蒸镀室25a内蒸镀在玻璃基板12上。与蒸镀室25a一样，这些构成部件在玻璃基板12的板宽度方向L上也具有至少与玻璃基板12的被蒸镀区域的板宽度方向的长度相等的长度。但是在本发明中，由于后述的阀部件21和多孔挡板23具有能够控制在板宽度方向L的蒸镀均匀性的功能，因此蒸镀室18的板宽度方向L的长度也不一定是同等长度。
在本实施例中，腔室14a、14b、14c具有相同结构，并根据成膜的薄膜而使用不同的蒸镀材料15、16、17。这些腔室14a、14b、14c分别独立，且通过未图示的真空泵，适当地控制真空度。例如，可使用低温抽气泵达到要求的真空度。
(实施例2)
阀部件21用于在玻璃基板12的板宽度方向L供给为均匀的蒸气量(浓度分布)，而只要能实现相同功能，则不特别限定蒸气通过的流路的配置和方向。具体地说，阀部件21具有以下结构，即，为了在玻璃基板的板宽度方向L方向上均匀供给蒸镀材料的蒸气量，相对于在板宽度方向L的方向长的蒸镀室，在板宽度方向L的方向设置多个流路，并能够分别独立控制通过这些流路的蒸气量。下面参照图4，详细说明具有以上结构的阀部件21的机构及动作。另外，图5是表示阀部件21的另一实施例的概略图。
图4(a)是表示构成本发明的真空蒸镀机的阀部件的立体图；图4(b)、(c)是图4(a)的A-A线向视断面图，且表示阀部件的动作状况。
如图4所示，阀部件21至少具备具有玻璃基板12的板宽度方向L的被蒸镀区域长度的长方体形状的阻挡块部件31、设置在阻挡块部件31的内部的长度方向上的圆柱形的空间部分、以可转动的方式嵌合在该圆柱状的空间部分的圆柱状的多个轴部件32。即换言之，将被分割的多个圆柱(轴部件32)在块部件31的内部的圆筒状的空间部分沿板宽度方向L的方向纵向排列组合。阻挡块部件31中，在相对的位置形成有入口孔33和出口孔34，且这些多个入口孔33和出口孔34在板宽度方向L的方向形成。另外，在轴部件32的内部设置有对于对应位置的入口孔33、出口孔34进行连通的连通孔35，且在配置于规定位置时，例如图4(b)所示，可将对应位置的入口孔33、出口孔34和连通孔35进行连通，流动最大蒸气量。
在欲调整蒸气量时，如图4(c)所示，通过转动轴部件32自身，调整相对于入口孔33、出口孔34的连通孔35的位置，减少连通孔35的开口面积，调整蒸气量。此时，通过向形成于轴部件32的内部的空间部36的突设部37，嵌合(转动机构)被驱动轴38贯通的圆盘状的钥匙部件39的缺欠部，从而进行轴部件32的转动。由此，通过调整空间部36中的钥匙部件39的插入深度的位置，可对欲改变转动位置的轴部件32分别独立地进行调整，这样，通过将各个轴部件调整到适当转动位置，能够实现在板宽度方向L的均匀的蒸气量供给。另外，由于轴部件32的连通孔35在轴部件32的内部具有圆柱状的空间部36，因此能够以在该空间部36内迂回的方式形成流路。另外，可使用上述钥匙部件39以手动方式调整轴部件32，也可以由发动机等驱动机构进行驱动轴38的转动控制以及插入位置控制，从而实现自动控制。
在这里，基于阀部件21A的蒸气量控制主要是通过改变连通孔35的开口面积而进行，而实际上通过阀部件21A的蒸气量也由其他物理要素例如蒸发室15的压力和中间室26的压力之间的压力差所影响。然而，在本发明的真空蒸镀机中，未图示的真空计设置在各室(蒸发室、中间室、蒸镀室等)中，且在考虑蒸发室15和中间室26的压力差的前提下，决定了连通孔35的开口面积。这在后述的阀部件21B中也是一样的。而且，在后述的多孔挡板23的情况下，也在考虑中间室26和蒸发室25a的压力差的前提下，决定了贯通孔的开口面积。
(实施例3)
图5(a)是表示构成本发明的真空蒸镀机的阀部件的另一实施例的立体图；图5(b)、(c)是图5(a)的B-B线向视断面图，且表示阀部件的动作状况。
如图5所示，阀部件21B至少具备具有玻璃基板12的板宽度方向L的被蒸镀区域长度的长方体形状的阻挡块部件41、设置在阻挡块部件41的内部的长度方向上的圆柱形的空间部分、嵌合在该圆柱状的空间部分的圆柱状的多个轴部件42。阻挡块部件41中，在相对的位置形成有入口孔43和出口孔44，且当形成于轴部件的连通孔45配置于规定位置时，例如图5(b)所示，可将连通孔45、入口孔44和出口孔44完全连通，流动最大蒸气量。在欲调整蒸气量时，如图5(c)所示，通过转动轴部件42，调整相对于入口孔43、出口孔44的连通孔45的位置，减少连通孔45的开口面积，调整蒸气量。
通过使用形成于轴部件42的圆柱外面的把手47，即经由形成于块部件41的孔46而从外部调整该把手47，进行轴部件42的转动(转动机构)。在调整其他轴部件42的转动位置时，使用其他轴部件42的把手47，对各轴部件42的转动位置独立进行调整。在本发明中，由于是使用把手47而调整转动位置，因此轴部件42的连通孔45可以是直线流路，从而与实施例2的轴部件32的连通孔35相比，制造上更容易。
(实施例4)
多孔挡板23与具有多个更小贯通孔的的多孔整流板24一同，在玻璃基板12的下面侧以平行于玻璃基板12的被蒸镀面的方式配置，并与多孔整流板24一同在蒸镀室内更详细地说是在朝蒸镀室内露出的玻璃基板12的被蒸镀区域的全面上，对蒸镀材料蒸气量调整使其在面内分布和面内流动均匀，从而在玻璃基板12上形成均匀的蒸镀薄膜。下面参照图6、图7，详细说明上述多孔挡部23的结构及其动作。另外，图8是表示多孔挡板23的另一实施例的概略图。
如图6(a)、(b)所示，本发明中的多孔挡板23至少具备具有玻璃基板12的板宽度方向L的被蒸镀区域长度的固定多孔板61、以及多个(图6中是三个)通过使用柄部62a、62b、62c(开口面积控制机构)而能够在固定多孔板61的平面上进行水平移动的可动多孔板63a、63b、63c(开口面积控制机构)。换言之，可动多孔板63a、63b、63c，将固定多孔板61上的同一平面，在相互不同的区域，以能够在板宽度方向L的方向水平移动的方式配置。
在固定多孔板61中设有圆形或者椭圆形的多个贯通孔64(第一贯通孔)，并在可动多孔板63a、63b、63c的与这些贯通孔64对应的位置上，同样地形成圆形或者椭圆形的贯通孔65a、65b、65c。例如，贯通孔64和贯通孔65a、65b、65c可具有相同形状、相同尺寸、相同间隔，而在这种情况下，在处于规定位置时贯通孔65a、65b、65c可以不阻塞贯通孔64而获得通过蒸气的最大开口面积，且可通过从该规定位置进行移动，使贯通孔65a、65b、65c阻塞贯通孔64的一部分，从而使其处于调整开口面积的状态(参照图6(c))。
另外，由于上述多孔挡板23在固定多孔板61的平面上配置有多个可动多孔板63a、63b、63c，因此可通过独立移动各个可动多孔板63a、63b、63c，对通过可动多孔板63a、63b、63c的贯通孔65a、65b、65c的蒸气量，用各个可动多孔板63a、63b、63c独立进行控制。在采用如图6所示的多孔挡板23的情况下，由于相对于玻璃基板12的板宽度方向L，具备位于中央部位置的可动多孔板63b和位于周边部的可动多孔板63a、63c，因此可以对特别容易产生薄膜的膜厚差的玻璃基板12的中央部和周边部上的蒸气量进行整流使其均等，进而使在板宽度方向L的薄膜的膜厚变得均匀。另外，考虑到支撑可动多孔板63a、63b、63c的容易度，最好将可动多孔板63a、63b、63c配置在固定多孔板61上，但并不一限定于采用该配置。而且，贯通孔64、65a、65b、65c的数量、大小、配置位置等都可以根据需要由蒸气量决定。
(实施例5)
图7(a)、(b)是表示在可动多孔板63a、63b、63c的贯通孔65a、65b、65c以等间隔配置时的各个可动多孔板63a、63b、63c的贯通孔65a、65b、65c的位置关系的图。
如图7(a)所示，在贯通孔65a、65b、65c以等间隔W1配置的情况下，当将可动多孔板63a、63b、63c配置于规定位置时，可动多孔板63a、63b、63c的相邻的贯通孔65a、65b、65c彼此的间隔也成为相同间隔W1。而且，如图7(b)所示，当移动可动多孔板63a、63b、63c时，可动多孔板63a、63b、63c的仅相邻的贯通孔65a、65b、65c彼此的间隔变化为间隔W2、W3。此时，基于可动多孔板63a、63b、63c的位置，未图示的固定多孔板的贯通孔64被堵塞而改变开口面积，进而使通过的蒸气量发生变化。
(实施例6)
图7(c)、(d)是表示在可动多孔板66a、66b、66c的贯通孔67a、67b、67c以不等间隔配置时的各个可动多孔板66a、66b、66c的贯通孔67a、67b、67c的位置关系的图。
如图7(c)所示，在将贯通孔67a彼此间间隔设置为W4、将贯通孔67b彼此间间隔设置为W6、将贯通孔67c彼此间间隔设置为W8的情况下，当将可动多孔板66a、66b、66c配置于规定位置时，可动多孔板66a、66b、66c的相邻的贯通孔67a、67b、67c彼此的间隔具体是贯通孔67a和贯通孔67b之间的间隔为间隔W5、贯通孔67b和贯通孔67c之间的间隔为间隔W7。而且，如图7(d)所示，当移动可动多孔板66a、66b、66c时，可动多孔板66a、66b、66c的仅相邻的贯通孔67a、67b、67c彼此的间隔变化为间隔W9、W10。此时，基于可动多孔板66a、66b、66c的位置，未图示的固定多孔板的贯通孔64被堵塞而改变开口面积，进而使通过的蒸气量发生变化。当存在蒸气量容易供给过剩的部分或者相反存在蒸气量容易供给不足的部分，则如图7(c)、(d)所示，可通过变大或者变小贯通孔密度，即增大或者缩小贯通孔间隔，控制蒸气量分布。
(实施例7)
在图6、图7所示的多孔挡板23中，贯通孔的形状采用了圆形或者椭圆形，而贯通孔还可以采用其他各种形状，甚至可以组合使用各种贯通孔，构成多孔挡板23。即只要不超出本发明的宗旨的前提下，可以采用各种组合。图8表示了若干这样的实例。
图8(a)表示了多孔挡板的另外的一例。其中固定多孔板61与所述的相同，且具有多个圆形的贯通孔64。在固定多孔板61上以可移动方式配置的可动多孔板71a(开口面积控制机构)是梳子形状，并具有以规定间隔配置的U字型的切口72a，而且，通过移动可动多孔板71a而改变贯通孔64的开口面积，进而调整通过的蒸气量。
(实施例8)
另外，图8(b)表示了多孔挡板的另外的一例。其中，固定多孔板73和以可移动方式配置在固定多孔板73上的可动多孔板75a(开口面积控制机构)，共同具备多个具有相同尺寸、相同矩形形状的贯通孔74、76a，通过使可动多孔板75a移动，使贯通孔74的开口面积变化，从而调整通过的蒸气量。在本实施例的多孔挡板的情况下，固定多孔板73、可动多孔板75a共同具备多个具有相同尺寸、相同矩形形状的贯通孔74、76a，且贯通孔的开口宽度在与可动多孔板的移动方向垂直的方向上相同，因此在移动可动多孔板75a时能够以其移动量的线性比例而改变开口面积，进而根据该变化以线性改变通过的蒸气量。相反在采用图6、图7所示的圆形或者椭圆形的贯通孔时，由于贯通孔的开口宽度在与可动多孔板的移动方向垂直的方向上不相同，因此开口面积就与可动多孔板63a等移动时的移动量非线性地变化，并根据该变化而非线性地改变通过的蒸气量。
(实施例9)
另外，图8(c)表示了多孔挡板的另外的一例。其中，本实施例的固定多孔板73与在实施例8时一样具有多个矩形形状的贯通孔74，但在固定多孔板73上以可移动方式配置的可动多孔板79a(开口面积控制机构)却具有多个特殊形状的贯通孔80a。该贯通孔80a是将两个大小不同的矩形形状的贯通孔用梯形贯通孔连成一体的孔，并称为例如板条形状。在采用本实施例的多孔挡板的情况下，由于固定多孔板73具有矩形的贯通孔74且可动多孔板75a具有板条形状的贯通孔80a，因此在移动可动板79a的情况下，当相对于移动方向的垂直方向的贯通孔80a宽度大时，能够伴随可动多孔板79a的移动而以线性增大的方式改变其开口面积，而当相对于移动方向的垂直方向的贯通孔80a宽度小时，能够伴随可动多孔板79a的移动而以线性减小的方式改变其开口面积。即，可通过对欲相对于移动量而使变化量增大的部分采用宽的贯通孔宽度，而欲使变化量减小的部分采用窄的贯通孔宽度，从而获得期望的开口面积变化特性，进而通过改变其开口面积而改变通过的蒸气量。
如上所述，通过采用各种贯通孔形状、贯通孔组合，能够控制期望的变化特性、期望的控制范围的蒸气量。

Claims (8)

1.一种真空蒸镀机，其特征是，
包含以下各部分：
设置在真空容器内并运送基板的运送机构；
设置在所述基板的下面侧，且至少具有与所述基板的运送方向垂直的方向即板宽度方向的被蒸镀区域的长度的蒸镀室；
设置在所述真空容器的下方侧，通过气化或者升华蒸镀材料而产生所述蒸镀材料的蒸气的蒸发室；
至少具有在所述基板的所述板宽度方向上的被蒸镀区域的长度，同时对沿所述基板的所述板宽度方向上的来自所述蒸发室的所述蒸镀材料的蒸气量进行控制的蒸气量控制机构；
对从所述蒸发室到所述蒸镀室的真空容器的壁面进行加热的加热机构，
其中，所述蒸气量控制机构又包含以下各部分：
在所述基板的所述板宽度方向上，具备多个入口孔和与其对应的多个出口孔的块部件；
以可转动的方式嵌合在所述块部件内，且在所述基板的所述板宽度方向排列设置多个的圆柱形轴部件；
设置在各个所述轴部件上，且连通所述一个入口孔和与其对应的所述一个出口孔的连通孔。
2.一种真空蒸镀机，其特征是，
包含以下各部分：
设置在真空容器内并运送基板的运送机构；
设置在所述基板的下面侧，且至少具有与所述基板的运送方向垂直的方向即板宽度方向的被蒸镀区域的长度的蒸镀室；
设置在所述真空容器的下方侧，通过气化或者升华蒸镀材料而产生所述蒸镀材料的蒸气的蒸发室；
至少具有在所述基板的所述板宽度方向的被蒸镀区域的长度，同时在所述基板的下面侧，以平行于所述基板的被蒸镀面表面的方式配置，且调整所述蒸镀室内的所述蒸镀材料的蒸气的分布和流动的蒸气整流机构；
对从所述蒸发室到所述蒸镀室的真空容器的壁面进行加热的加热机构，
其中，所述蒸气整流机构又包含以下各部分：
具备多个第一贯通孔的固定板；
在所述固定板的平面上以在所述基板的所述板宽度方向上可动的方式配置，同时具备控制所述多个第一贯通孔的开口面积的开口面积控制机构的多个可动板。
3.一种真空蒸镀机，其特征是，
包含以下各部分：
设置在真空容器内并运送基板的运送机构；
设置在所述基板的下方侧，且至少具有与所述基板的运送方向垂直的方向即板宽度方向的被蒸镀区域的长度的蒸镀室；
设置在所述真空容器的下方侧，通过气化或者升华蒸镀材料而产生所述蒸镀材料的蒸气的蒸发室；
至少具有在所述基板的所述板宽度方向的被蒸镀区域的长度，同时对沿所述基板的所述板宽度方向的来自所述蒸发室的所述蒸镀材料的蒸气量进行控制的蒸气量控制机构；
至少具有在所述基板的所述板宽度方向的被蒸镀区域的长度，同时在作为所述蒸气量控制机构的上方侧的所述基板的下面侧，以平行于所述基板的被蒸镀面表面的方式配置，且调整所述蒸镀室内的所述蒸镀材料的蒸气的分布和流动的蒸气整流机构；
对从所述蒸发室到所述蒸镀室的真空容器的壁面进行加热的加热机构，
其中，所述蒸气量控制机构又包含以下各部分：
在所述基板的所述板宽度方向上，具备多个入口孔和与其对应的多个出口孔的块部件；
以可转动的方式嵌合在所述块部件内，且在所述基板的所述板宽度方向排列设置多个的圆柱形轴部件；
设置在各个所述轴部件上，且连通所述一个入口孔和与其对应的所述一个出口孔的连通孔，
另外，所述蒸气整流机构又包含以下各部分：
具备多个第一贯通孔的固定板；
在所述固定板的平面上以在所述基板的所述板宽度方向上可动的方式配置，同时具备控制所述多个第一贯通孔的开口面积的开口面积控制机构的多个可动板。
4.如权利要求1或3所述的真空蒸镀机，其特征是，
所述蒸气量控制机构，在轴部件的内部或者外部设置使所述轴部件转动的转动机构。
5.如权利要求2～4中任何一项所述的真空蒸镀机，其特征是，
所述蒸气整流机构，将多个第二贯通孔作为所述开口面积控制机构；以规定间隔配置所述第一贯通孔和所述第二贯通孔的同时，所述第一贯通孔和所述第二贯通孔的开口宽度，在与所述可动板的移动方向垂直的方向上相同。
6.如权利要求2～4中任何一项所述的真空蒸镀机，其特征是，
所述蒸气整流机构，将多个第二贯通孔作为所述开口面积控制机构；以规定间隔配置所述第一贯通孔和所述第二贯通孔的同时，所述第一贯通孔和所述第二贯通孔的开口宽度，在与所述可动板的移动方向垂直的方向上不相同。
7.如权利要求2～4中任何一项所述的真空蒸镀机，其特征是，
所述蒸气整流机构，将以规定间隔配置的多个切口作为所述开口面积控制机构。
8.如权利要求2～7中任何一项所述的真空蒸镀机，其特征是，
所述蒸气整流机构，以使所述蒸镀室内的所述蒸镀材料的蒸气均匀分布的方式，设置所述规定间隔。
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