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CN1476601A - 光记录介质及其生产方法 - Google Patents

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CN1476601A
CN1476601A CNA028030575A CN02803057A CN1476601A CN 1476601 A CN1476601 A CN 1476601A CN A028030575 A CNA028030575 A CN A028030575A CN 02803057 A CN02803057 A CN 02803057A CN 1476601 A CN1476601 A CN 1476601A
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CN
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optical recording
film
thin polymer
polymer film
recording layer
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CNA028030575A
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English (en)
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山崎刚
美
行本智美
行
柏木俊行
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Abstract

本发明公开了一种可以抑制在连续使用期间产生翘曲的光记录介质及其生产方法。该光记录介质的结构包括：基片(13)；光记录层(14)，成型在基片(13)上；以及光透射保护薄膜(17)，成型在光记录层(14)上，其中保护薄膜(17)包括热收缩系数为0.02％或者更低的聚合物薄膜(16)和用于将聚合物薄膜(16)粘合到光记录层(14)上的粘合层(15)。利用浇铸法生产聚合物薄膜(16)，并事先对其进行退火处理，或者聚合物薄膜(16)最好在该薄膜内具有最高重量百分比0.3％的残留溶剂。

Description

光记录介质及其生产方法
技术领域
本发明涉及一种具有利用光学方法记录信息的光记录层的光记录介质及其生产方法。
背景技术
最近几年，在信息记录技术领域的许多领域内已对光信息记录方法进行了研究。光信息记录方法具有许多优点，可以进行非接触记录与再现，并且可以采用只读方式、一次性写入多次读出方式以及可重写方式的存储器形式，而且从工业应用到消费应用的广泛应用被看作实现廉价大容量文件的方法。
对于上述各种光信息记录方法，主要通过在光信息记录方法中缩短用作光源的激光的波长并通过提高物镜的数值孔径(NA)使焦面上的光点大小变小，实现大容量光记录介质(以下还将其称为光盘)。
例如，在CD(压缩光盘)中，激光波长为780nm，物镜的数值孔径(NA)为0.45，容量为650MB，而在DVD-ROM(数字通用光盘-只读存储器)中，激光波长为650nm，NA为0.6，容量为4.7GB。
此外，在下一代光盘系统中，利用在其光记录层上形成了例如约100μm的薄光透射保护薄膜(覆盖层)的光盘，通过使激光波长为450nm或者更短，NA为0.78或者更大，可以获得22GB或者更大的大容量。
图1A是上述下一代光盘系统的光盘的原理透视图；
光盘D大致为圆盘形，在其中心部分成型有中心孔CH，并在驱动方向DR驱动光盘D旋转。
在记录和再现信息时，利用其数值孔径为例如0.8或者更大的物镜OL，蓝色至浅紫色范围内的激光或者其它光LT辐照光盘DC的光记录层。
图1B是图1A所示光盘的原理剖视图，而图1C是图1B所示原理剖视图的关键部分的放大剖视图。
在由聚碳酸酯树脂等制成的、厚度约为1.1mm的光盘基片13的一个表面上设置用于分离光道区的槽13a，并对其成型光记录层14，光记录层14包括例如：反射薄膜、介质薄膜、记录薄膜、另一个介质薄膜等，它们以此顺序层叠在一起。光记录层14的结构和层数随记录材料类型和设计的不同而不同。
上述记录薄膜是例如相变型记录薄膜、磁光记录薄膜或包括有机染料的记录薄膜。
此外，薄膜厚度为0.1mm的光透射保护薄膜37成型在光记录层14上，它包括由粘合剂或压敏胶粘剂薄膜等构成的粘合层35和聚合物薄膜36。
在对上述光盘进行记录信息或者从上述光盘再现信息时，诸如激光的光LT通过物镜OL从保护薄膜37侧辐照光记录层14。
在再现光盘上的信息时，光记录层14反射的返回光被光接收单元接收，信号处理电路产生预定信号，取出再现信号。
在上述光盘中，根据设置在光盘基片13表面上的槽13a，光记录层14具有不规则形状，而且光道区被该槽13a分离。
例如，从光盘基片13侧观看凸出到保护薄膜37上的区域被称为“平台(land)”L，而将凹进的区域称为“凹槽(groove)”G。
例如，可以采用既在平台上又在凹槽上记录信息的平台/凹槽记录方法，而且还可以仅将平台和凹槽之一用作记录区。
上述光盘是通过保护薄膜37将激光辐照到光记录层14上并读取反射光的光盘，因此它可处理增加的数值孔径。
以下将说明图1A至图1C所示的上述光盘的生产方法。
首先，例如，利用注模法成型由聚碳酸酯树脂等构成的、厚度约为1.1mm、在其表面上成型光记录层的不规则图形的光盘基片13，例如，利用喷涂方法，以如下薄膜的成型顺序，在其上的不规则图形上成型具有反射薄膜、介质薄膜、记录薄膜、另一个介质薄膜的层叠层体的光记录层14，以便成型其图形与上述不规则图形对应的光记录层14。
接着，利用诸如紫外线固化树脂粘合剂或压敏胶粘剂薄膜的粘合层35将聚合物薄膜36粘附到光记录层14上，以获得由粘合层35和聚合物层36构成的保护膜37。
从上述说明中可以看出，可以获得具有图1所示结构的光盘。
然而，在上述结构的光盘中，由于在长时间使用过程中，聚合物薄膜发生收缩，所以存在光盘发生翘曲的问题。
因为光盘向上翘曲(切向扭曲或者径向扭曲)时产生的慧形像差量与NA3/λ成正比，所以在缩短激光波长并提高大容量的数值孔径时，要求光盘的特性更严格抑制慧形像差，而且必须抑制光盘翘曲。
上述描述的光盘翘曲发生在径向和切向，但是因为聚合物薄膜发生收缩，主要发生在径向的翘曲变化大。
发明内容
考虑到上述情况提出本发明，而且本发明的目的是提供一种在长时间使用过程中可以抑制发生翘曲的光记录介质及其生产方法。
为了实现上述目的，本发明的光记录介质包括基片、成型在基片上的光记录介质以及成型在光记录层上的光透射保护薄膜；其中保护薄膜包括其热收缩系数为0.02％或者更低的聚合物薄膜以及用于将该聚合物薄膜粘附到光记录层上的粘合层。
根据本发明的上述光记录介质，该聚合物薄膜最好是利用浇铸法生产的聚合物薄膜。
根据本发明的上述光记录介质，聚合物薄膜最好是在将其成型为薄膜之后，而在将其粘附到光记录层之前，事先对其进行退火处理的聚合物薄膜。
根据本发明的上述光记录介质，以重量计，聚合物薄膜内的残留溶剂最好为0.3％或者更低。
根据本发明的上述光记录介质包括热收缩系数为0.02％或者更低的聚合物薄膜以及用于将该聚合物薄膜粘附到光记录层上作为光记录层上的光透射保护薄膜的粘合层。
在此，热收缩系数是在预定条件下进行退火处理前、后的热收缩之比，例如在90℃、在空气中退火处理2个小时等。
即使在某种温度和湿度条件下经过长时间之后，由于温度和湿度引起的聚合物薄膜收缩仍不会导致光盘翘曲，相反，即使在上述预定条件下，因为残留在聚合物薄膜内的残留溶剂的挥发以及释放内应力必然发生，因此，引起光盘翘曲。
在本发明的光记录介质中，聚合物薄膜的热收缩系数为0.02％或者更低，因此在长时间使用期间可以抑制聚合物薄膜发生收缩，而且可以抑制光记录介质发生翘曲。
关于上述聚合物薄膜，即使在热收缩系数大于0.02％时，通过在粘附到光记录层之前事先进行退火处理，可以使其热收缩系数处于0.02％或者更低的范围内，因此可以实现上述效果。
可以利用循环干燥炉、热板或红外线加热炉，例如在90℃下在空气中退火处理2个小时，可以根据聚合物薄膜的热收缩系数调节退火条件。
此外，为了实现上述目的，根据本发明的生产光记录介质的方法包括步骤：在基片上成型光记录层；以及在光记录层上成型光透射保护薄膜，其中成型保护薄膜的步骤包括利用粘合层将热收缩系数为0.02％或者更低的聚合物薄膜粘附到光记录层上的步骤。
根据本发明的生产光记录介质的上述方法，最好将利用浇铸法生产的聚合物薄膜用作聚合物薄膜。
根据本发明的生产光记录介质的上述方法，在将聚合物薄膜成型为薄膜的步骤之后，而在将其粘附到所述光记录层的步骤之前，最好事先对聚合物薄膜进行退火处理。
根据本发明的生产光记录介质的上述方法，最好将以重量计，其中聚合物薄膜内的残留溶剂为0.3％或者更低的聚合物薄膜用作聚合物薄膜。
在本发明的生产光记录介质的方法中，在基片上成型光记录层，然后，在光记录层上成型光透射保护薄膜。在此，成型保护薄膜的步骤包括利用粘合层将热收缩系数为0.02％或者更低的聚合物薄膜粘附到上述光记录层的步骤。
根据本发明的生产光记录介质的上述方法，可以生产其中利用粘合层将热收缩系数为0.02％或者更低的聚合物薄膜粘附到光记录层作为光透射保护薄膜，在长时间使用期间抑制聚合物薄膜发生收缩，而且抑制发生翘曲的光记录介质。
附图的简要说明
图1A是根据传统例子的光盘的透视图，图1B是剖视图，图1C是放大剖视图。
图2A是根据本发明第一和第二实施例的光盘的透视图，图2B是剖视图，图2C是放大剖视图。
图3A和3B是根据本发明第一实施例的光盘生产方法的生产过程的剖视图。
图4A是示出继续图3B的生产过程的剖视图，而图4B是继续图4A的生产过程的剖视图。
图5A是示出继续图4B的生产过程的注模法生产过程的原理图，图5B是其剖视图。
图6A是示出继续图5A和5B的生产过程的剖视图，而图6B是继续图6A的生产过程的剖视图。
图7是用于解释利用浇铸法生产聚合物薄膜的生产方法的原理图。
图8是用于解释聚合物薄膜的压膜过程的透视图。
图9A是生产继续图6B的生产过程的透视图，而图9B是示出继续图9A的生产过程的透视图。
图10A是示出继续图9B的生产过程的透视图，而图10B是示出继续图10A的生产过程的透视图。
图11A和图11B是示出根据本发明第二实施例生产光盘的生产方法的生产过程的透视图。
图12A是示出继续图11b的生产过程的透视图，而图12B是示出继续图12A的生产过程的透视图。
图13A是示出继续图12B的生产过程的透视图，而图13B是示出继续图13A的生产过程的透视图。
图14A是示出继续图13B的生产过程的透视图，而图14B是示出继续图14A的生产过程的透视图。
实现本发明的最佳方式
以下将参考附图详细说明实现本发明的最佳方式。
第一实施例
图2A是根据本发明的光记录介质(以下还将其称为光盘)的透视图。
光盘DC大致为圆盘形，在其中心部分成型有中心孔CH，并在驱动方向DR驱动光盘DC旋转。
在记录和再现信息时，利用其数值孔径为例如0.8或者更大的物镜OL，蓝色至浅紫色范围内的激光或者其它光LT辐照光记录层。
图2B是图2A所示光盘的剖视图，而图2C是图2B所示剖视图关键部分的放大剖视图。
在由例如聚碳酸酯树脂制成的、薄膜厚度约为0.3mm或者更大例如1.1mm的光盘基片13的一个表面上设置用于分离诸如“平台”L和“凹槽”G的光道区的槽13a，并成型光记录层14作为其上部层。
光记录层14具有这样的结构，其中例如反射薄膜、介质薄膜、记录薄膜以及另一个介质薄膜等以此顺序层叠在一起。光记录层14的这种层结构和层数随记录材料类型和设计的不同而不同。
上述记录薄膜是例如相变型记录薄膜、磁光记录薄膜或包括有机染料的记录薄膜。
对于ROM型光盘，光记录层14包括由铝等构成的反射薄膜。
在光记录层14上，利用粘合层15层叠并粘附例如利用浇铸法(melt east method)产生的聚合物薄膜16，因此，通过将粘合层15和聚合物薄膜16粘合在一起，粘合层15和聚合物薄膜16形成薄膜厚度约为100μm的光透射保护薄膜17。
上述光盘是通过保护薄膜17对光记录层14辐照激光并读取反射光形式的光盘。因为其这种形式，所以在光盘系统中可以处理具有增大的数值孔径的物镜。
例如，在该光盘系统中，利用形成了例如约100μm的薄光透射保护薄膜(覆盖层)的光盘，通过使激光波长为450nm或者更短，NA为0.78或者更大，可以获得22GB或者更大的大容量。
本实施例光盘的特征在于，聚合物薄膜16的热收缩系数为0.02％或者更低，与利用例如浇铸法等生产的聚合物薄膜的热收缩系数相同。
在此，热收缩系数是在预定条件下进行退火处理(annealingprocessing)前、后的热收缩之比，例如在90℃、在空气中退火处理2个小时等。
作为上述聚合物薄膜16，最好采用在被成型为薄膜后而在粘附到光记录层之前事先进行退火处理以使其热收缩系数为0.02％或者更低的聚合物薄膜。
此外，以重量计算，聚合物薄膜上的残留溶剂最好为0.3％或者更低，因此，可以抑制热收缩系数。
在本实施例的光盘中，光透射保护薄膜包括热收缩系数为0.02％或者更低的聚合物薄膜和用于将聚合物薄膜粘附到光记录层上的粘合层，因此可以抑制聚合物薄膜经过长时间使用发生收缩，而且可以抑制光记录介质发生翘曲。
上述聚合物薄膜16最好是透明的，而且其双折射率低，薄膜厚度均匀。作为满足这些条件的材料，可以采用例如聚碳酸酯树脂、环状聚烯、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)等以及改性丙烯酸树脂。
可以从例如：紫外线固化树脂粘合剂、热固化树脂粘合剂、环氧树脂粘合剂以及压敏胶粘剂等中选择用于将聚合物薄膜16粘附到光记录层14的粘合层15。作为一种选择，可以将其中的两种或者更多种混合在一起使用或者层叠在一起使用。
使粘合层15的粘合强度达到可以抵抗温度变化、湿度变化、外部冲击等而不发生剥落的程度。
粘合力取决于光记录层14的材料和薄膜厚度以及光盘基片13和聚合物层16等的材料和厚度。
为了防止发生腐蚀或其它化学反应而改变光记录层14的记录/再现特性以及散射，需要调整粘合层15中的聚合物、聚合物消散剂、不起反应单体、反应引发剂、平衡吸收率等。
接着，将参考相应生产过程的剖视图、原理图或透视图，说明本实施例光盘的生产方法。
首先，制备在图3A所示的玻璃基片10上成型抗蚀剂薄膜11的抗蚀剂盘RD。
将其直径例如约为200mm、具有精细抛光面的玻璃基片用作上述玻璃基片10。
此外，作为抗蚀剂薄膜11，可以采用例如利用紫外线或电子束曝光的抗蚀剂，其薄膜厚度为10至100nm，而且利用旋涂方法等形成抗蚀剂薄膜11。
接着，如图3B示出的剖视图所示，采用紫外线曝光设备或电子束曝光设备等，利用用于将光盘基片上的区域曝光为凹槽或坑的图形，对抗蚀剂薄膜11进行电子束曝光，并利用专用液体显影剂进行显影处理，以获得抗蚀剂薄膜11a，抗蚀剂薄膜11a具有图形，其中光盘基片上为凹槽或坑的区域是未被覆盖的。
接着，如图4A示出的剖视图所示，例如，通过进行镍喷涂处理过程等，在玻璃基片10和抗蚀剂薄膜11a上成型压模12。
将作为成型在抗蚀剂薄膜11a上的凹槽11b的反图形的不规则图形转移到压模12的表面上，并成型凸出部分12a。
然后，如图4B示出的剖视图所示，从玻璃基片10和抗蚀剂薄膜11a释放压模12。
然后，如图5A示出的原理图所示，将以上获得的压模12固定到由模型(mold)(MD1和MD2)构成的型腔的内部形成浇铸模型。
此时，对着型腔的内表面安排压模12的凸出部分成型表面12a’。
通过将例如熔融状态的聚碳酸酯树脂等从模型的浇口IM注入上述浇铸模型型腔的内部，在压模12的不规则图形上成型光盘基片13。
在此，光盘基片13被转移(transfer)，槽13a为“凹槽”图形或“坑”图形，该图形是压模12的不规则图形的反不规则图形。
从上述浇铸模型释放后，就获得了光盘基片13，在其表面上槽13a为“凹槽”图形或“坑”图形，如图6A的剖视图所示。
接着，如图6B示出的剖视图所示，在经过对光盘基片13的表面吹空气或诸如氮化物气体的气体清除灰尘后，利用喷涂方法等，通过以如下薄膜成型顺序成型各薄膜，来成型具有包括反射薄膜、介质薄膜、记录薄膜以及另一个介质薄膜的层叠体的光记录层14。
作为上述记录薄膜，可以采用相变型记录薄膜、磁光记录薄膜或包括有机染料的记录薄膜。
作为一种选择，对于ROM型光盘，利用铝层构成的反射层等成型光记录层。
接着，将参考图7所示的原理图说明利用浇铸法产生聚合物薄膜的方法。
通过将聚合物材料溶解到溶解槽21内的溶剂中并加热到高温获得聚合物溶液22，将聚合物溶液22注入喷涂槽(application tank)23，然后，将聚合物溶液22从位于喷涂槽23的底部的喷涂口喷涂到平滑基片或皮带24上，从而获得聚合物溶液喷涂薄膜25。
对上述聚合物溶液喷涂薄膜25进行烘干，即，使溶剂挥发，但是其仍保留在或者在输送带26上传送，从而获得薄膜，该薄膜与保护薄膜27缠绕在一起，获得聚合物薄膜卷28。
根据浇铸法，在生产薄膜厚度为例如100μm的聚合物薄膜时，制备利用溶剂稀释5倍的聚合物溶液，然后，喷涂为500μm的薄膜厚度。首先，薄膜厚度是均匀的，因为在喷涂时进行均匀化。此时，薄膜厚度的不均匀度约为例如±5μm，但是在干燥喷涂薄膜以具有100μm的薄膜厚度时，薄膜厚度的不均匀度平均被降低到例如约±1μm。因此，可以获得薄膜厚度不均匀度低的薄膜。
在将聚碳酸酯树脂构成的薄膜用作上述聚合物薄膜时，在某些情况下，在浇铸法中用作溶剂的二氯甲烷(CH2Cl2)残留在薄膜中。在粘附到构成光盘的基片的光记录层上后，残留溶剂还在挥发，因此会导致聚合物薄膜发生体积收缩，从而导致光盘发生翘曲。
因此，聚碳酸酯树脂构成的聚合物薄膜中的残留溶剂越少越好，以重量计，最好为例如0.3％或者更低。
在此，将热收缩系数为0.02％或者更低的聚合物薄膜用作上述聚合物薄膜。
在此，热收缩系数是在预定条件下进行退火处理前、后的热收缩之比，例如在90℃、在空气中退火处理2个小时等。
在聚合物薄膜的热收缩系数大于0.02％时，经过利用循环干燥炉、热板、红外线加热炉，例如在90℃下在空气中退火处理2个小时，挥发聚合物薄膜中的残留溶剂或者释放内应力，从而使其热收缩系数处于0.02％或者更低的范围内后，可以使用该聚合物薄膜。
可以根据聚合物薄膜的热收缩系数调节退火条件。
例如，如图8示出的透视图所示，通过利用冲压机M冲压为光盘大小，可以使用以上生产的片形聚合物薄膜16s。
在此后的处理过程中，利用粘合层，将上述聚合物薄膜粘附到成型在如图6B所示的光盘基片13上的光记录层14上。
首先，如图9A示出的透视图所示，在旋转光盘基片13的同时，利用喷施器(dispenser)D，将诸如液体紫外线固化树脂、热固化树脂或环氧树脂的粘合剂R喷涂到光记录层14上。
接着，如图9B示出的透视图所示，将例如利用浇铸法生产的、被冲压为圆盘形状的、由聚碳酸酯树脂等构成的聚合物薄膜16层叠到在其上喷涂了粘合剂R的光记录层14上。需要时，事先对聚合物薄膜16进行退火处理。
然后，如图10A示出的透视图所示，因为以高速旋转光盘基片13产生离心力，所以粘合剂R被均匀喷涂在光记录层14与聚合物薄膜16之间，并甩掉多余粘合剂。
接着，如图10B示出的透视图所示，进行固化过程，例如，在粘合剂R是紫外线固化树脂时，利用紫外线灯UVL进行紫外线辐照处理，或者如果是热固化树脂，则进行热处理，以便获得固化粘合层15。
利用上述处理过程，可以生产图2所示结构的光盘。
根据上述生产本实施例光盘的方法，可以生产其中利用粘合层将其热收缩系数为0.02％或者更低的聚合物薄膜粘附到光记录层上作为光透射保护薄膜，在长时间使用过程中抑制聚合物薄膜发生收缩，而且抑制发生翘曲的光记录介质。
第二实施例
根据本实施例的光盘的结构与根据第一实施例的光盘的结构相同。请注意，其不同之处在于，将诸如压敏胶粘剂薄膜的粘合剂薄膜用作粘合层15，用于将聚合物薄膜16粘附到光记录层14上。
例如，如果假定保护薄膜的薄膜厚度为100μm，则使由胶粘剂构成的粘合层的薄膜厚度为25μm，而使聚合物薄膜的薄膜厚度为75μm。
以下将参考附图说明生产本实施例的上述光盘的方法。
首先，如图11A示出的透视图所示，制备其中胶粘剂薄膜TA夹在两层PET(聚对苯二甲酸酯乙二醇酯)衬垫(liner)(PL1和PL2)之间的层叠胶粘剂薄膜ST。
接着，如图11B示出的透视图所示，利用冲压机M，将上述层叠胶粘剂薄膜ST冲压为光盘大小。
然后，如图12A示出的透视图所示，将位于被冲压为光盘大小的上述层叠胶粘剂薄膜ST一侧上的PET衬垫PL1剥落。
接着，如图12B示出的透视图所示，将这样获得的在其一侧具有PET衬垫PL2的胶粘剂薄膜TA设置到基底S上，基底S在中心位置具有用于对准的凸出部分，而且在该基底S上，可以使由聚碳酸酯树脂等构成的、以与第一实施例同样的方式利用独立处理过程在其上成型了光记录层14的光盘基片13对准放置，光记录层14侧朝着胶粘剂薄膜TA侧。
然后，如图13A示出的透视图所示，利用缓冲垫(pad)P或滚轮等从上方对光盘基片13施加压力，以使成型在光盘基片13上的光记录层14与胶粘剂薄膜TA充分粘合在一起。
接着，如图13B示出的透视图所示，剥落保留在胶粘剂薄膜TA的另一侧上的PET衬垫PL2。
接着，如图14A示出的透视图所示，将事先利用独立处理过程成型的聚合物薄膜16设置在基底S上，基底S在中心位置具有用于对准的凸出部分，而且在该基底S上，可以使与上述胶粘剂薄膜TA粘合在一起的光盘基片13对准放置，胶粘剂薄膜TA侧朝着聚合物薄膜16侧。
然后，如图14B示出的透视图所示，利用缓冲垫(pad)P或滚轮等从上方对光盘基片13施加压力，以使聚合物薄膜16与胶粘剂薄膜TA充分粘合在一起。
利用上述处理过程，可以生产其中粘合层15由图2所示结构的胶粘剂薄膜TA构成的光盘。
根据生产上述本实施例的光盘的方法，可以生产其中利用粘合层将其热收缩系数为0.02％或者更低的聚合物薄膜粘附到光记录层上作为光透射保护薄膜，在长时间使用过程中抑制聚合物薄膜发生收缩，而且抑制产生翘曲的光记录介质。
[例子1]
利用浇铸法制备由聚碳酸酯树脂构成的聚合物薄膜。
也就是说，利用二氯甲烷作为溶剂，在高温下，在铸型(cast)上喷涂薄层聚碳酸酯树脂和二氯甲烷溶液并进行烘干，以制备薄膜厚度为75μm的聚合物薄膜。
此时，通过调节烘干条件和拉动薄膜时的拉力，可以获得不同热收缩系数的聚合物薄膜。
接着，利用注塑成型法，在外径为120mm、内径为15mm而厚度为1.1mm的聚碳酸酯基片上成型光记录层的不规则图形，在其上成型铝光记录层、在其表面上粘附薄膜厚度为25μm的压敏胶粘剂薄膜(Nitto Denko Corporation生产的CS9603)，并将上述聚碳酸酯薄膜粘附到其上以制备样品。
在此，利用其热收缩系数不同(0.01％、0.02％、0.03％、0.05％、0.09％、0.12％和0.15％)的7种薄膜作为聚碳酸酯薄膜制备4个光盘样品。
作为加速条件，使上述光盘样品在80℃和85％湿度的高温、高湿度环境下放置96小时，并对此前和此后的径向扭曲的变化进行测量。
在此，在使光盘的中心部分保持在基准面上的情况下，利用垂直于基准面的光辐照光盘边缘部分的表面，然后测量所获得的反射光的反射角，从而测量径向扭曲时光盘边缘部分的表面倾角。
由于径向扭曲值在光盘的外径处最大，所以在本例中在半径为58mm的位置进行测量。
表1示出测量结果。
表1
    热收缩系数(％)   径向扭曲的变化(度)
       0.01         -0.04
       0.02         -0.09
       0.03         -0.13
       0.05         -0.24
       0.09         -0.71
       0.12         -1.01
       0.15         -1.20
从表1中可以看出，随着热收缩系数变小，径向扭曲变化值也变小，而随着热收缩系数变大，径向扭曲变化值也变大。
可以发现，径向扭曲的变化最好在±0.1度范围内，并因此获得聚合物薄膜的热收缩系数必须为0.02％或者更低的范围。
[例子2]
接着，在粘附之前，事先利用热板，在空气中，以90℃温度对热收缩系数大于0.02％(0.03％、0.05％和0.09％)的聚合物薄膜退火处理两个小时，以便制备与上述相同的样品，并以上述同样的方式测量径向扭曲变化值。
表2列出测量结果。
表2
  退火之前的热收缩系数(％)    退火之后的热收缩系数(％)   径向扭曲变化(度)
     0.03      0.01       -0.06
     0.05      0.01       -0.08
     0.09      0.02       -0.09
从表2可以发现，通过进行退火处理，可以使其热收缩系数大于0.02％的聚合物薄膜具有处于0.02％或者更低范围内的热收缩系数，而且使用此聚合物薄膜时产生的径向扭曲变化被抑制到±0.1度范围内。
请注意，在上述实验中，利用光盘基片，测量与径向扭曲的变化量的差值，在该光盘基片中不粘附聚合物薄膜作为基准以消除因为热处理引起的光盘基片变化量。
本发明并不局限于上述实施例。
例如，构成光记录介质的基片、光记录层以及各层之间的粘合层等的材料和薄膜厚度等不局限于在上述实施例中说明的材料和薄膜厚度等，而且可以适当选择其材料和薄膜厚度。
此外，作为聚合物薄膜，可以采用利用浇铸法之外的方法生产的聚合物薄膜，只要热收缩系数为0.02％或者更低即可，而且可以适当选择材料和厚度等。
除上述内容之外，还可以在本发明范围内进行各种修改。
根据本发明的光记录介质，构成光透射保护薄膜的聚合物薄膜的热收缩系数为0.02％或者更低，因此，在长时间使用过程中可以抑制聚合物薄膜发生收缩，而且可以抑制光记录介质发生翘曲。
此外，根据本发明的生产光记录介质的方法，可以生产其中将热收缩系数为0.02％或者更低的聚合物薄膜粘附到光记录层上作为光透射保护薄膜，以便在长时间使用过程中抑制聚合物薄膜发生收缩并抑制发生翘曲的光记录介质。
工业应用
本发明的光记录介质可以应用于利用光学方法在光记录层上记录大量信息的光记录介质。
本发明的光记录介质的生产方法可以应用于根据上述本发明的光记录介质的生产方法。

Claims (8)

1、一种光记录介质，该光记录介质包括：
基片；
光记录介质，成型在所述基片上；以及
光透射保护薄膜，成型在所述光记录层上；
其中所述保护薄膜包括热收缩系数为0.02％或者更低的聚合物薄膜和用于将所述聚合物薄膜粘附到所述光记录层的粘合层。
2、根据权利要求1所述的光记录介质，其中所述聚合物薄膜是利用浇铸法生产的聚合物薄膜。
3、根据权利要求1所述的光记录介质，其中所述聚合物薄膜是在将其成型为薄膜之后，而在将其粘附到所述光记录层之前，事先对其进行退火处理的聚合物薄膜。
4、根据权利要求1所述的光记录介质，其中以重量计，所述聚合物薄膜内的残留溶剂为0.3％或者更低。
5、一种生产光记录介质的方法，该方法包括步骤：
在基片上成型光记录层；以及
在所述光记录层上成型光透射保护薄膜；
其中成型所述保护薄膜的步骤包括利用粘合层将热收缩系数为0.02％或者更低的聚合物薄膜粘附到所述光记录层上的步骤。
6、根据权利要求5所述的方法，其中将利用浇铸法生产的聚合物薄膜用作所述聚合物薄膜。
7、根据权利要求5所述的方法，其中在将所述聚合物薄膜成型为薄膜的步骤之后，而在将其粘附到所述光记录层的步骤之前，事先对所述聚合物薄膜进行退火处理。
8、根据权利要求5所述的方法，其中将以重量计，其中所述聚合物薄膜内的残留溶剂为0.3％或者更低的聚合物薄膜用作所述聚合物薄膜。
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