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CN119116127A - 一种陶瓷上釉机 - Google Patents

一种陶瓷上釉机 Download PDF

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CN119116127A
CN119116127A CN202411580949.3A CN202411580949A CN119116127A CN 119116127 A CN119116127 A CN 119116127A CN 202411580949 A CN202411580949 A CN 202411580949A CN 119116127 A CN119116127 A CN 119116127A
Authority
CN
China
Prior art keywords
ceramic
frame
limiting
glazing
ceramic main
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202411580949.3A
Other languages
English (en)
Inventor
吴逸菲
王雨辰
王炳才
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Taizhou Shuiye New Material Technology Co ltd
Original Assignee
Taizhou Shuiye New Material Technology Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Taizhou Shuiye New Material Technology Co ltd filed Critical Taizhou Shuiye New Material Technology Co ltd
Priority to CN202411580949.3A priority Critical patent/CN119116127A/zh
Publication of CN119116127A publication Critical patent/CN119116127A/zh
Pending legal-status Critical Current

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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28BSHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
    • B28B11/00Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles
    • B28B11/04Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles for coating or applying engobing layers
    • B28B11/044Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles for coating or applying engobing layers with glaze or engobe or enamel or varnish
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B28B11/04Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles for coating or applying engobing layers
    • B28B11/045Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles for coating or applying engobing layers by dipping
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28BSHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
    • B28B17/00Details of, or accessories for, apparatus for shaping the material; Auxiliary measures taken in connection with such shaping

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Devices For Post-Treatments, Processing, Supply, Discharge, And Other Processes (AREA)

Abstract

本申请涉及陶瓷生产技术领域,具体为一种陶瓷上釉机,包括工作台,所述工作台的上方安装有传输板,所述传输板的上方设置有多个待上釉的陶瓷主体,所述工作台的上方设置有支撑架,所述支撑架的外侧设置有转运架,所述转运架的下方设置有夹持机构,所述夹持机构用于将待上釉的陶瓷主体进行夹持,所述工作台的上方靠近转运架的一侧安装有上釉腔;通过夹持机构以及驱动机构将上釉完成的陶瓷主体转运到回收台内,方便后续对陶瓷主体的继续烧制;通过驱动机构以及夹持机构,能自动将陶瓷主体夹起并上釉,且上釉过程中不会因为夹持机构对陶瓷主体表面夹持,导致部分夹持部位难以上釉完全的问题,操作较为方便,有利于陶瓷主体烧制成型的均匀性。

Description

一种陶瓷上釉机
技术领域
本申请涉及陶瓷生产技术领域,具体为一种陶瓷上釉机。
背景技术
陶瓷在成产过程中需要经过制料、成型、修坯、干燥、施釉及装窑烧制等工艺流程,其中施釉是指在坯体表面施以釉浆,使烧制的陶瓷更加绚丽,为了得到品相更加好的陶瓷,需对坯体均匀施釉。
现有技术针对陶瓷上釉也改进了一种方案,如公开号CN111805714A申请公开了一种公开了陶瓷瓶上釉机,包括链轮、电机减速器、压紧调节杆、电控箱、密封盖板、釉缸、拖瓶定位盘、快速夹紧机构以及回位传感器,所述釉缸上表面设有拖瓶定位盘,所述拖瓶定位盘上设有拖瓶,所述拖瓶顶部安装有密封盖板,所述密封盖板顶部连接压紧调节杆,所述压紧调节杆上设有快速夹紧机构,所述釉缸顶部一侧设有支撑框架,所述釉缸顶部的支撑框架顶部一侧安装有伺服电机,所述伺服电机一侧连接链轮:适用于大型陶罐,陶瓶的上釉工作,解决了人工施釉的诸多不足,它具有操作简单、调整方便、运行平稳等特点。
上述技术方案虽然具有操作简单的特点,然而在具体使用时仍存在其他问题,为了方便陶瓷的上釉以及取出,一般是使用夹持机构持续性对陶瓷进行夹持,并在上釉浆液中进行上釉,但是夹持机构的夹持部位会影响陶瓷自身的上釉效果,操作较为不便。
所以有必要提供一种陶瓷上釉机来解决上述问题。
需要说明的是,本背景技术部分中公开的以上信息仅用于理解本申请构思的背景技术,并且因此,它可以包含不构成现有技术的信息。
发明内容
本申请解决其技术问题所采用的技术方案是:一种陶瓷上釉机,包括工作台,所述工作台的上方安装有传输板,所述传输板的上方设置有多个待上釉的陶瓷主体,所述工作台的上方设置有支撑架,所述支撑架的外侧设置有转运架,所述转运架的下方设置有夹持机构,所述夹持机构用于将待上釉的陶瓷主体进行夹持,所述工作台的上方靠近转运架的一侧安装有上釉腔,所述上釉腔的内部储存有釉浆,所述支撑架的内部设置有驱动机构,驱动机构用于带动转运架转动并向上釉腔内移动,所述工作台的上方靠近上釉腔的一侧固定安装有回收台。
进一步的,所述驱动机构包括安装在支撑架内部的固定轴,所述固定轴的外周面转动设置有驱动环,所述转运架固定安装在驱动环的外周面,所述驱动环的上端面固定安装有限位环,所述支撑架的内部滑动设置有移动块,所述移动块的侧壁通过支板固定安装有限位圆板,所述限位环转动设置在限位圆板内部,所述驱动环的外侧设置有限位单元,所述限位单元用于控制驱动环转动。
进一步的,所述限位单元包括开设在驱动环外周面的环形槽,所述环形槽底部以及顶部的形状为矩形;所述支撑架的上方靠近环形槽的一侧安装有柱型杆,所述柱型杆靠近环形槽的一侧转动安装限位滚头,所述限位滚头位于环形槽内部,所述限位滚头的形状和环形槽的形状相适配。
进一步的,所述限位圆板的内部开设有圆形槽,所述限位环的外周面通过圆环转动设置在圆形槽内部,所述圆环的形状和圆形槽的形状相适配;工作时,当驱动环在固定轴的外表面呈一定角度的转动时,驱动环会同时带动限位环以及圆环在圆形槽的内部转动,在圆形槽以及圆环的相互限位下,能给予驱动环在下移以及转动时的稳定性,保证陶瓷主体的正常上釉。
进一步的,所述支撑架通过转柱转动设置在工作台的上方,且转柱的端部与电机二的输出端连接。
进一步的,所述夹持机构包括安装在转运架端部的横轴,所述横轴的两个端部均转动设置有偏转架,两个所述偏转架的下端面均固定安装有夹持板,两个所述夹持板之间设置有弹性杆,所述传输板的上方靠近偏转架的一侧安装有限位弧柱一。
进一步的,所述上釉腔的内壁安装有限位弧柱二,所述限位弧柱二端部的形状为圆珠。
进一步的,两个所述夹持板的底部均安装有弹性板,所述弹性板的表面设置有多个圆形凸起,所述弹性板的外表面套接有橡胶套,工作时,当两个夹持板对陶瓷主体进行夹持时,在弹性板以及其外表面圆形凸起的作用下,能使得陶瓷主体被稳定的夹持,而且在橡胶套的作用下,能给予陶瓷主体一定的保护,避免夹持力过大导致其外形被损坏的问题。
进一步的,所述传输板的上方靠近夹持板的一侧安装有收缩架,收缩架内部设置有弹簧。
进一步的,所述传输板的上方安装有电动推架,所述电动推架的端部与其中一个陶瓷主体的表面接触;工作时,当其中一个陶瓷主体被夹持板夹持远离后,通过控制电动推架的伸缩端推动陶瓷主体向起始陶瓷主体的位置移动,方便对陶瓷主体持续性上釉。
本申请的有益效果是:本申请提供的一种陶瓷上釉机,通过夹持机构以及驱动机构将上釉完成的陶瓷主体转运到回收台内,方便后续对陶瓷主体的继续烧制;通过驱动机构以及夹持机构,能自动将陶瓷主体夹起并上釉,且上釉过程中不会因为夹持机构对陶瓷主体表面夹持,导致部分夹持部位难以上釉完全的问题,操作较为方便,有利于陶瓷主体烧制成型的均匀性。
在驱动环的继续上移下,其中一个夹持板会与限位弧柱一的端部接触,使得其中一个夹持板向远离另一个夹持板一侧转动,使得两个夹持板张开,弹性杆为拉伸状态,且此时也刚好移动到陶瓷主体的外侧,之后随着驱动环的继续上移,限位弧柱一会逐渐的与其接触的夹持板分离,且此时夹持板能稳定的对陶瓷主体进行夹持,随后在弹性杆的弹力恢复下,夹持板便可将陶瓷主体自动夹持的功能,使用较为方便。
除了上面所描述的目的、特征和优点之外,本申请还有其它的目的、特征和优点。下面将参照图,对本申请作进一步详细的说明。
附图说明
构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本申请的进一步理解,本申请的示意性实施例及其说明用于解释本申请,并不构成对本申请的不当限定。在附图中:
图1为本申请中的整体示意图;
图2为本申请中转运架部分结构示意图;
图3为本申请中驱动环部分结构示意图;
图4为本申请中环形槽部分结构示意图;
图5为本申请中固定轴部分结构示意图;
图6为本申请中限位圆板部分结构示意图;
图7为本申请中限位弧柱一部分结构示意图;
图8为本申请中偏转架部分结构示意图;
图9为本申请中陶瓷主体位于上釉腔内部分结构示意图;
图10为本申请中限位弧柱二与偏转架接触结构示意图。
其中,图中各附图标记:
1、工作台;101、支撑架;2、传输板;3、陶瓷主体;4、转运架;5、上釉腔;6、回收台;7、固定轴;8、驱动环;801、限位环;802、圆环;9、移动块;901、限位圆板;902、圆形槽;10、环形槽;11、柱型杆;12、限位滚头;13、横轴;14、偏转架;15、夹持板;151、弹性杆;16、限位弧柱一;17、限位弧柱二;18、弹性板;19、电动推架。
具体实施方式
需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本申请。
为了使本技术领域的人员更好地理解本申请方案,下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本申请一部分的实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都应当属于本申请保护的范围。
如图1-10所示,本申请提供了一种陶瓷上釉机,包括工作台1,所述工作台1的上方安装有传输板2,所述传输板2的上方设置有多个待上釉的陶瓷主体3,所述工作台1的上方设置有支撑架101,所述支撑架101的外侧设置有转运架4,所述转运架4的下方设置有夹持机构,所述夹持机构用于将待上釉的陶瓷主体3进行夹持,所述工作台1的上方靠近转运架4的一侧安装有上釉腔5,所述上釉腔5的内部储存有釉浆,所述支撑架101的内部设置有驱动机构,驱动机构用于带动转运架4转动并向上釉腔5内移动,所述工作台1的上方靠近上釉腔5的一侧固定安装有回收台6;
工作时,在初始状态下,参照附图1所示,夹持机构将其中一个陶瓷主体3进行夹持,之后控制支撑架101内部的驱动机构带动转运架4移动,使得转运架4带动夹持机构以及陶瓷主体3向靠近上釉腔5的一侧移动,之后陶瓷主体3会处于上釉腔5内部,使得上釉腔5内部的釉浆对陶瓷上釉处理,随后在通过夹持机构以及驱动机构将上釉完成的陶瓷主体3转运到回收台6内,方便后续对陶瓷主体3的继续烧制;通过驱动机构以及夹持机构,能自动将陶瓷主体3夹起并上釉,且上釉过程中不会因为夹持机构对陶瓷主体3表面夹持,导致部分夹持部位难以上釉完全的问题,操作较为方便,有利于陶瓷主体3烧制成型的均匀性。
所述驱动机构包括安装在支撑架101内部的固定轴7,所述固定轴7的外周面转动设置有驱动环8,所述转运架4固定安装在驱动环8的外周面,所述驱动环8的上端面固定安装有限位环801,所述支撑架101的内部滑动设置有移动块9,所述移动块9的侧壁通过支板固定安装有限位圆板901,所述限位环801转动设置在限位圆板901内部,所述驱动环8的外侧设置有限位单元,所述限位单元用于控制驱动环8转动;
工作时,在本发明实施例中,移动块9螺纹设置在外接螺纹杆外表面,且外接螺纹杆与电机一连接,通过电机一带动外接螺纹杆转动,能使得移动块9上下移动,此处操作方式为现有技术,在本发明实施例中不作多余赘述;
当夹持机构将待上釉的陶瓷主体3夹持完成后,通过外接电机一带动移动块9上移,使得移动块9带动限位圆板901以及限位环801下移,之后在限位单元的作用下,驱动环8会发生一定角度的转动,驱动环8会带动转运架4以及夹持机构向靠近上釉腔5的一侧移动,此处驱动环8的移动方式为边转动边下移,如此能方便夹持的陶瓷主体3输送至上釉腔5的内部,从而方便陶瓷主体3的上釉。
所述限位单元包括开设在驱动环8外周面的环形槽10,所述环形槽10底部以及顶部的形状为矩形;所述支撑架101的上方靠近环形槽10的一侧安装有柱型杆11,所述柱型杆11靠近环形槽10的一侧转动安装限位滚头12,所述限位滚头12位于环形槽10内部,所述限位滚头12的形状和环形槽10的形状相适配;
工作时,环形槽10底部以及顶部的形状为矩形,且在初始状态下,参照附图4所示,限位滚头12位于环形槽10的最下侧矩形槽中;当驱动环8跟随限位圆板901以及限位环801下移至一定距离后,即环形槽10的弧形槽壁与限位滚头12接触时,在限位滚头12的限位下,驱动环8会呈一定角度转动且带动夹持机构转动和下移,当夹持机构下侧的陶瓷主体3移动到上釉腔5内部时,此时停止移动块9移动,之后陶瓷主体3会掉落至上釉腔5内部,给予陶瓷主体3的上釉时间,保证陶瓷主体3上釉均匀性。
所述限位圆板901的内部开设有圆形槽902,所述限位环801的外周面通过圆环802转动设置在圆形槽902内部,所述圆环802的形状和圆形槽902的形状相适配;工作时,当驱动环8在固定轴7的外表面呈一定角度的转动时,驱动环8会同时带动限位环801以及圆环802在圆形槽902的内部转动,在圆形槽902以及圆环802的相互限位下,能给予驱动环8在下移以及转动时的稳定性,保证陶瓷主体3的正常上釉。
所述支撑架101通过转柱转动设置在工作台1的上方,且转柱的端部与电机二的输出端连接;工作时,当陶瓷主体3在上釉腔5内部上釉完成之后,先控制移动块9上移,使得移动块9带动驱动环8在环形槽10以及限位滚头12的作用下反转至一定角度,并转动至如附图9所示,此时上釉完成的陶瓷主体3已从上釉腔5内取出,且此时停止移动块9移动,再控制电机二带动转柱以及支撑架101向靠近回收台6的一侧移动,随后控制夹持机构便可将上釉完成的陶瓷主体3进行放下;
由于限位滚头12设置在支撑架101上方,故支撑架101在转动时,驱动环8以及限位滚头12也会跟随转动,故驱动环8不会发生转动,因此方便将陶瓷主体3放置在回收台6上方。
所述夹持机构包括安装在转运架4端部的横轴13,所述横轴13的两个端部均转动设置有偏转架14,两个所述偏转架14的下端面均固定安装有夹持板15,两个所述夹持板15之间设置有弹性杆151,所述传输板2的上方靠近偏转架14的一侧安装有限位弧柱一16;
工作时,在初始状态下,参照附图7和图8所示,两个夹持板15对其中一组的陶瓷主体3进行夹持,且此时弹性杆151为收缩状态,如此能确保夹持板15对陶瓷主体3夹持的稳定性;当陶瓷一次上釉以及放置完成后,且驱动环8反转并上移时,环形槽10的弧形槽壁不与限位滚头12相互限位时,此时环形槽10底部的柱型槽与限位滚头12接触,但是限位滚头12并不会导致驱动环8转动,故在驱动环8的继续上移下,其中一个偏转架14会与限位弧柱一16的端部接触,在限位弧柱一16位置不变下,其中一个偏转架14会带动与其连接的夹持板15转动,而在另一夹持板15位置不动下,两个夹持板15会张开且拉动弹性杆151,且此时也刚好移动到陶瓷主体3的外侧,之后随着驱动环8的继续上移,限位弧柱一16会逐渐的与其接触的偏转架14分离,当限位弧柱一16与其接触的偏转架14完全分离时,两个夹持板15会移动到初始状态附图7和图8所示,随后在弹性杆151的弹力恢复下,夹持板15便可将陶瓷主体3自动夹持的功能,使用较为方便。
所述上釉腔5的内壁安装有限位弧柱二17,所述限位弧柱二17端部的形状为圆珠;工作时,当驱动环8从起始状态下移时,环形槽10的弧形槽与限位滚头12接触时,在两者相互限位下,驱动环8会边转动边下移,使得陶瓷主体3逐渐的向上釉腔5内部移动,当陶瓷主体3的底部与釉浆接触时,此时环形槽10最顶部的弧形槽也刚好与限位滚头12接触,故此时驱动环8不会发生转动,只会下移,在下移一定距离后,其中一个偏转架14会与限位弧柱二17接触,参照附图10所示,限位弧柱二17会对偏转架14一定的限位,并使其中一个偏转架14呈一定幅度的转动,使得陶瓷主体3完全处于上釉腔5内,且此时两个夹持板15不会与陶瓷主体3的外表面接触,如此能避免陶瓷主体3的夹持部位难以被上釉的问题,保证了陶瓷主体3的后续正常烧制。
两个所述夹持板15的底部均安装有弹性板18,所述弹性板18的表面设置有多个圆形凸起,所述弹性板18的外表面套接有橡胶套,工作时,当两个夹持板15对陶瓷主体3进行夹持时,在弹性板18以及其外表面圆形凸起的作用下,能使得陶瓷主体3被稳定的夹持,而且在橡胶套的作用下,能给予陶瓷主体3一定的保护,避免夹持力过大导致其外形被损坏的问题。
所述传输板2的上方靠近夹持板15的一侧安装有收缩架,收缩架内部设置有弹簧;工作时,由于驱动环8从起始状态下移时,环形槽10最底部的柱型槽先与限位滚头12接触,故此时驱动环8还不会发生变化,只会下移,因此驱动环8会带动夹持板15以及陶瓷主体3下压收缩架,当环形槽10的弧形槽壁与限位滚头12接触时,驱动环8才会发生边下移边转动的效果,在收缩架的作用下,提供了驱动环8一定的移动余量,操作较为方便。
所述传输板2的上方安装有电动推架19,所述电动推架19的端部与其中一个陶瓷主体3的表面接触;工作时,当其中一个陶瓷主体3被夹持板15夹持远离后,通过控制电动推架19的伸缩端推动陶瓷主体3向起始陶瓷主体3的位置移动,方便对陶瓷主体3持续性上釉。
工作原理:在初始状态下,参照附图1所示,夹持机构将其中一个陶瓷主体3进行夹持,之后控制支撑架101内部的驱动机构带动转运架4移动,使得转运架4带动夹持机构以及陶瓷主体3向靠近上釉腔5的一侧移动,之后陶瓷主体3会处于上釉腔5内部,使得上釉腔5内部的釉浆对陶瓷上釉处理,随后在通过夹持机构以及驱动机构将上釉完成的陶瓷主体3转运到回收台6内,方便后续对陶瓷主体3的继续烧制;通过驱动机构以及夹持机构,能自动将陶瓷主体3夹起并上釉,且上釉过程中不会因为夹持机构对陶瓷主体3表面夹持,导致部分夹持部位难以上釉完全的问题,操作较为方便,有利于陶瓷主体3烧制成型的均匀性;
环形槽10底部以及顶部的形状为矩形,且在初始状态下,参照附图4所示,限位滚头12位于环形槽10的最下侧矩形槽中;当驱动环8跟随限位圆板901以及限位环801下移至一定距离后,即环形槽10的弧形槽壁与限位滚头12接触时,在限位滚头12的限位下,驱动环8会呈一定角度转动且带动夹持机构转动和下移,当夹持机构下侧的陶瓷主体3移动到上釉腔5内部时,此时停止移动块9移动,之后陶瓷主体3会掉落至上釉腔5内部,给予陶瓷主体3的上釉时间,保证陶瓷主体3上釉均匀性;当陶瓷主体3在上釉腔5内部上釉完成之后,先控制移动块9上移,使得移动块9带动驱动环8在环形槽10以及限位滚头12的作用下反转至一定角度,并转动至如附图9所示,此时上釉完成的陶瓷主体3已从上釉腔5内取出,且此时停止移动块9移动,再控制电机二带动转柱以及支撑架101向靠近回收台6的一侧移动,随后控制夹持机构便可将上釉完成的陶瓷主体3进行放下;
由于限位滚头12设置在支撑架101上方,故支撑架101在转动时,驱动环8以及限位滚头12也会跟随转动,故驱动环8不会发生转动,因此方便将陶瓷主体3放置在回收台6上方;在初始状态下,参照附图7和图8所示,两个夹持板15对其中一组的陶瓷主体3进行夹持,且此时弹性杆151为收缩状态,如此能确保夹持板15对陶瓷主体3夹持的稳定性;当陶瓷一次上釉以及放置完成后,且驱动环8反转并上移时,环形槽10的弧形槽壁不与限位滚头12相互限位时,此时环形槽10底部的柱型槽与限位滚头12接触,但是限位滚头12并不会导致驱动环8转动,故在驱动环8的继续上移下,其中一个偏转架14会与限位弧柱一16的端部接触,使得其中一个夹持板15向远离另一个夹持板15一侧转动,使得两个夹持板15张开,弹性杆151为拉伸状态,且此时也刚好移动到陶瓷主体3的外侧,之后随着驱动环8的继续上移,限位弧柱一16会逐渐的与其接触的偏转架14分离,且此时夹持板15能稳定的对陶瓷主体3进行夹持,并移动到初始状态附图7和图8所示,随后在弹性杆151的弹力恢复下,夹持板15便可将陶瓷主体3自动夹持的功能,使用较为方便;当驱动环8从起始状态下移时,环形槽10的弧形槽与限位滚头12接触时,在两者相互限位下,驱动环8会边转动边下移,使得陶瓷主体3逐渐的向上釉腔5内部移动,当陶瓷主体3的底部与釉浆接触时,此时环形槽10最顶部的弧形槽也刚好与限位滚头12接触,故此时驱动环8不会发生转动,只会下移,在下移一定距离后,其中一个偏转架14会与限位弧柱二17接触,参照附图10所示,限位弧柱二17会对偏转架14一定的限位,并使其中一个偏转架14呈一定幅度的转动,使得陶瓷主体3完全处于上釉腔5内,且此时两个夹持板15不会与陶瓷主体3的外表面接触,如此能避免陶瓷主体3的夹持部位难以被上釉的问题,保证了陶瓷主体3的后续正常烧制。
以上所述仅为本申请的优选实施例而已,并不用于限制本申请,对于本领域的技术人员来说,本申请可以有各种更改和变化。凡在本申请的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本申请的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种陶瓷上釉机,其特征在于:包括工作台(1),所述工作台(1)的上方安装有传输板(2),所述传输板(2)的上方设置有多个待上釉的陶瓷主体(3),所述工作台(1)的上方设置有支撑架(101),所述支撑架(101)的外侧设置有转运架(4),所述转运架(4)的下方设置有夹持机构,所述夹持机构用于将待上釉的陶瓷主体(3)进行夹持,所述工作台(1)的上方靠近转运架(4)的一侧安装有上釉腔(5),所述上釉腔(5)的内部储存有釉浆,所述支撑架(101)的内部设置有驱动机构,驱动机构用于带动转运架(4)转动并向上釉腔(5)内移动,所述工作台(1)的上方靠近上釉腔(5)的一侧固定安装有回收台(6);
所述驱动机构包括安装在支撑架(101)内部的固定轴(7),所述固定轴(7)的外周面转动设置有驱动环(8),所述转运架(4)固定安装在驱动环(8)的外周面,所述驱动环(8)的上端面固定安装有限位环(801),所述支撑架(101)的内部滑动设置有移动块(9),所述移动块(9)的侧壁通过支板固定安装有限位圆板(901),所述限位环(801)转动设置在限位圆板(901)内部,所述驱动环(8)的外侧设置有限位单元,所述限位单元用于控制驱动环(8)转动;
所述限位单元包括开设在驱动环(8)外周面的环形槽(10),所述环形槽(10)底部以及顶部的形状为矩形;所述支撑架(101)的上方靠近环形槽(10)的一侧安装有柱型杆(11),所述柱型杆(11)靠近环形槽(10)的一侧转动安装限位滚头(12),所述限位滚头(12)位于环形槽(10)内部,所述限位滚头(12)的形状和环形槽(10)的形状相适配。
2.根据权利要求1所述的一种陶瓷上釉机,其特征在于:所述限位圆板(901)的内部开设有圆形槽(902),所述限位环(801)的外周面通过圆环(802)转动设置在圆形槽(902)内部,所述圆环(802)的形状和圆形槽(902)的形状相适配。
3.根据权利要求1所述的一种陶瓷上釉机,其特征在于:所述支撑架(101)通过转柱转动设置在工作台(1)的上方,且转柱的端部与电机二的输出端连接。
4.根据权利要求3所述的一种陶瓷上釉机,其特征在于:所述夹持机构包括安装在转运架(4)端部的横轴(13),所述横轴(13)的两个端部均转动设置有偏转架(14),两个所述偏转架(14)的下端面均固定安装有夹持板(15),两个所述夹持板(15)之间设置有弹性杆(151),所述传输板(2)的上方靠近偏转架(14)的一侧安装有限位弧柱一(16)。
5.根据权利要求4所述的一种陶瓷上釉机,其特征在于:所述上釉腔(5)的内壁安装有限位弧柱二(17),所述限位弧柱二(17)端部的形状为圆珠。
6.根据权利要求5所述的一种陶瓷上釉机,其特征在于:两个所述夹持板(15)的底部均安装有弹性板(18),所述弹性板(18)的表面设置有多个圆形凸起,所述弹性板(18)的外表面套接有橡胶套。
7.根据权利要求6所述的一种陶瓷上釉机,其特征在于:所述传输板(2)的上方靠近夹持板(15)的一侧安装有收缩架,收缩架内部设置有弹簧。
8.根据权利要求7所述的一种陶瓷上釉机,其特征在于:所述传输板(2)的上方安装有电动推架(19),所述电动推架(19)的端部与其中一个陶瓷主体(3)的表面接触。
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