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CN118033794A - 光学膜及使用所述光学膜的偏光板、表面板、图像显示面板和图像显示装置、所述光学膜的制造方法及选定方法、指纹擦拭性的评价方法 - Google Patents

光学膜及使用所述光学膜的偏光板、表面板、图像显示面板和图像显示装置、所述光学膜的制造方法及选定方法、指纹擦拭性的评价方法 Download PDF

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CN118033794A
CN118033794A CN202410375596.7A CN202410375596A CN118033794A CN 118033794 A CN118033794 A CN 118033794A CN 202410375596 A CN202410375596 A CN 202410375596A CN 118033794 A CN118033794 A CN 118033794A
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CN
China
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optical film
less
particles
layer
parts
Prior art date
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Application number
CN202410375596.7A
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辻本淳
岩田行光
竹井理哲
田中将史
池田圭辅
古井玄
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Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

本发明提供光学膜及使用所述光学膜的偏光板、表面板、图像显示面板和图像显示装置、所述光学膜的制造方法及选定方法、指纹擦拭性的评价方法。所述光学膜具有第1面、和作为与所述第1面相反一侧的面的第2面，其中，所述光学膜从所述第1面朝向所述第2面依次具有防反射层和防眩层，所述第1面具有凹凸形状，所述第1面的由ISO 25178‑2：2012所规定的算术平均高度Sa为0.05μm以上，所述第1面满足下述的式1，Sw×Vmp≤2.00 (式1)，在式1中，“Sw”是在所述第1面中30μl的纯水的液滴流下时的倾斜角(度)，在式1中，“Vmp”是所述第1面的由ISO 25178‑2：2012所规定的突出峰部实体体积(ml/m2)的值。

Description

光学膜及使用所述光学膜的偏光板、表面板、图像显示面板和 图像显示装置、所述光学膜的制造方法及选定方法、指纹擦拭 性的评价方法
本申请是申请日为2023年09月25日、发明名称为“光学膜及使用所述光学膜的偏光板、表面板、图像显示面板和图像显示装置、所述光学膜的制造方法及选定方法、指纹擦拭性的评价方法”、申请号为202380013248.9(PCT/JP2023/034628)的中国发明专利申请的分案申请。
技术领域
本公开涉及光学膜及使用了所述光学膜的偏光板、表面板、图像显示面板和图像显示装置、以及所述光学膜的制造方法、光学膜的选定方法、指纹擦拭性的评价方法。
背景技术
在电视机、笔记本PC、台式PC的显示屏等图像显示装置的表面，为了抑制照明及人物等背景的映入、或抑制表面的反射，有时会设置光学膜。
作为光学膜，例如提出了专利文献1～3等的方案。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：国际公开第2019/026466号
专利文献2：国际公开第2019/026471号
专利文献3：日本特开2019-85473号公报
发明内容
发明所要解决的课题
专利文献1～2的光学膜是具有在表面形成有凹凸的防眩层的防眩膜。关于表面具有凹凸形状的光学膜，由于指纹会进入凹凸形状，因此存在指纹擦拭性降低的倾向。对于防眩膜来说，越使防眩性良好，指纹擦拭性降低的倾向越高。专利文献1～2的光学膜未对防污性进行任何研究。
专利文献3的光学膜是油酸的滑落角为32°以下的涂膜。专利文献3的涂膜以容易将指纹擦拭作为课题，但并不能说指纹擦拭性良好。
在附着于光学膜的指纹未被充分擦拭的情况下，由于具有指纹成分的部位与不具有指纹成分的部位的光学特性的对比，因此导致光学膜的美观性降低。特别是在具有防反射层的光学膜的情况下，具有指纹成分的部位与不具有指纹成分的部位的反射率的对比变大，光学膜的美观性大幅降低。
本公开的课题在于，在表面具有凹凸形状且在表面具有防反射层的光学膜中，提供防眩性优异且指纹擦拭性良好的光学膜。本公开的课题在于，提供防眩性优异且指纹擦拭性良好的偏光板、表面板、图像显示面板及图像显示装置。本公开的课题在于提供防眩性优异且指纹擦拭性良好的光学膜的制造方法。本公开的课题在于提供防眩性优异且指纹擦拭性良好的光学膜的选定方法。本公开的课题在于提供一种能够简易地评价指纹擦拭性的评价方法。
用于解决课题的手段
本公开提供以下的[1]～[15]。
[1]一种光学膜，其具有第1面、和作为与所述第1面相反一侧的面的第2面，其中，
所述光学膜从所述第1面朝向所述第2面依次具有防反射层和防眩层，
所述第1面具有凹凸形状，
所述第1面的由ISO 25178-2：2012所规定的算术平均高度Sa为0.05μm以上，
所述第1面满足下述的式1，
Sw×Vmp≤2.00(式1)，
在式1中，“Sw”是在所述第1面中30μl的纯水的液滴流下时的倾斜角，在式1中，“Vmp”是所述第1面的由ISO 25178-2：2012所规定的突出峰部实体体积的值，所述倾斜角的单位是度，所述突出峰部实体体积的单位是ml/m2。
[2]一种偏光板，其具有偏光件、配置于所述偏光件的一侧的第一透明保护板、以及配置于所述偏光件的另一侧的第二透明保护板，其中，
所述第一透明保护板和所述第二透明保护板中的至少一方是[1]所述的光学膜，所述光学膜的所述第2面与所述偏光件对置地配置。
[3]一种图像显示装置用的表面板，其是在树脂板或玻璃板上贴合有保护膜而成的，其中，
所述保护膜是[1]所述的光学膜，所述光学膜的所述第2面与所述树脂板或所述玻璃板对置地配置。
[4]一种图像显示面板，其具有显示元件、和配置于所述显示元件的光出射面侧的光学膜，其中，作为所述光学膜，所述图像显示面板包含[1]所述的光学膜。
[5]一种图像显示装置，其包含[4]所述的图像显示面板。
[6]一种光学膜制造方法，其为[1]所述的光学膜的制造方法，其中，
所述光学膜制造方法具有：在基材上形成防眩层的第1工序；和在所述防眩层上形成防反射层的第2工序。
[7]一种光学膜的选定方法，其选定满足下述的选定条件的光学膜，
(光学膜的选定条件)
所述光学膜具有第1面、和作为与所述第1面相反一侧的面的第2面，其中，
所述光学膜从所述第1面朝向所述第2面依次具有防反射层和防眩层，
所述第1面具有凹凸形状，
所述第1面的由ISO 25178-2：2012所规定的算术平均高度Sa为0.05μm以上，
所述第1面满足下述的式1，
Sw×Vmp≤2.00(式1)，
在式1中，“Sw”是在所述第1面中30μl的纯水的液滴流下时的倾斜角，在式1中，“Vmp”是所述第1面的由ISO 25178-2：2012所规定的突出峰部实体体积的值，所述倾斜角的单位是度，所述突出峰部实体体积的单位是ml/m2。
[8]一种光学膜，其具有第1面、和作为与所述第1面相反一侧的面的第2面，其中，
所述光学膜从所述第1面朝向所述第2面依次具有防反射层和防眩层，
所述第1面具有凹凸形状，
所述第1面的由ISO 25178-2：2012所规定的突出谷部空间体积Vvv为0.005ml/m2以上，
通过下述的方法测量的落下式接触角为30.0度以上，
<落下式接触角的测量>
使表面张力为30mN/m的液滴相对于所述光学膜的所述第1面从45mm的高度落下，使所述液滴从与所述第1面垂直的方向落下，通过θ/2法测量着落10秒后的静态接触角。
[9]一种偏光板，其具有偏光件、配置于所述偏光件的一侧的第一透明保护板、以及配置于所述偏光件的另一侧的第二透明保护板，其中，
所述第一透明保护板和所述第二透明保护板中的至少一方是[8]所述的光学膜，所述光学膜的所述第2面与所述偏光件对置地配置。
[10]一种图像显示装置用的表面板，其是在树脂板或玻璃板上贴合有保护膜而成的，其中，所述保护膜是[8]所述的光学膜，所述光学膜的所述第2面与所述树脂板或所述玻璃板对置地配置。
[11]一种图像显示面板，其具有显示元件、和配置于所述显示元件的光出射面侧的光学膜，其中，作为所述光学膜，所述图像显示面板包含[8]所述的光学膜。
[12]一种图像显示装置，其包含[11]所述的图像显示面板。
[13]一种光学膜制造方法，其为[8]所述的光学膜的制造方法，其中，所述光学膜制造方法具有：在基材上形成防眩层的第1工序；和在所述防眩层上形成防反射层的第2工序。
[14]一种光学膜的选定方法，其选定满足下述的选定条件的光学膜，
(光学膜的选定条件)
所述光学膜具有第1面、和作为与所述第1面相反一侧的面的第2面，其中，
所述光学膜从所述第1面朝向所述第2面依次具有防反射层和防眩层，
所述第1面具有凹凸形状，
所述第1面的由ISO 25178-2：2012所规定的突出谷部空间体积Vvv为0.005ml/m2以上，
通过下述的方法测量的落下式接触角为30.0度以上，
<落下式接触角的测量>
使表面张力为30mN/m的液滴相对于所述光学膜的所述第1面从45mm的高度落下，使所述液滴从与所述第1面垂直的方向落下，通过θ/2法测量着落10秒后的静态接触角。
[15]一种指纹擦拭性的评价方法，其以通过下述的测量所测量出的落下式接触角的值作为评价指标，
<落下式接触角的测量>
使表面张力为30mN/m的液滴相对于测量对象物的表面从45mm的高度落下，使所述液滴从与所述表面垂直的方向落下，通过θ/2法测量着落10秒后的静态接触角。
发明的效果
本公开的光学膜、偏光板、表面板、图像显示面板以及图像显示装置在防眩性上优异，且能够使指纹擦拭性良好。本公开的光学膜的制造方法能够简易地制造出防眩性优异且指纹擦拭性良好的光学膜。本公开的光学膜的选定方法能够高效地选定出防眩性优异且指纹擦拭性良好的光学膜。本公开的指纹擦拭性的评价方法能够简易地评价测量对象物的指纹擦拭性。
附图说明
图1是示出本公开的光学膜的一个实施方式的概略剖视图。
图2是示出本公开的图像显示面板的一个实施方式的剖视图。
图3是用于说明纯水的液滴流下时的倾斜角(度)的图。
图4是示出本公开的光学膜的一个实施方式的概略剖视图。
图5是示出本公开的图像显示面板的一个实施方式的剖视图。
具体实施方式
以下，对本公开的实施方式进行说明。
[第1实施方式的光学膜]
本公开的第1实施方式的光学膜如下。
一种光学膜，其具有第1面、和作为与所述第1面相反一侧的面的第2面，其中，
所述光学膜从所述第1面朝向所述第2面依次具有防反射层和防眩层，
所述第1面具有凹凸形状，
所述第1面的由ISO 25178-2：2012所规定的算术平均高度Sa为0.05μm以上，
所述第1面满足下述的式1，
Sw×Vmp≤2.00(式1)，
在式1中，“Sw”是在所述第1面中30μl的纯水的液滴流下时的倾斜角，在式1中，“Vmp”是所述第1面的由ISO 25178-2：2012所规定的突出峰部实体体积的值，所述倾斜角的单位是度，所述突出峰部实体体积的单位是ml/m2。
图1是本公开的第1实施方式的光学膜100的截面形状的概略剖视图。
图1的光学膜100具有：第1面，其具有凹凸形状；以及第2面，其是与所述第1面相反一侧的面。在图1中，上侧的面为第1面，下侧的面为第2面。
图1的光学膜从第1面朝向第2面依次具有防反射层30、防眩层20以及基材10。
图1是示意性的剖视图。即，构成光学膜100的各层的比例尺及凹凸形状的比例尺是为了容易进行图示而示意化的比例尺，与实际的比例尺不同。图2和图3也相同。
本公开的第1实施方式的光学膜不限定于图1的层叠结构。例如，本公开的第1实施方式的光学膜也可以为不具有基材的层叠结构。本公开的第1实施方式的光学膜也可以具有除了基材、防眩层以及防反射层以外的层。
<第1面>
本公开的第1实施方式的光学膜具有第1面。关于本公开的第1实施方式的光学膜，优选的是，防反射层的表面为第1面。
第1实施方式的光学膜的第1面具有凹凸形状，由ISO 25178-2：2012所规定的算术平均高度Sa为0.05μm以上。在第1面不具有凹凸形状的情况下，无法使光学膜的防眩性良好。通过使第1面具有凹凸形状且使Sa为0.05μm以上，能够容易使光学膜的防眩性良好。
第1实施方式的第1面的Sa优选为0.10μm以上，更优选为0.20μm以上，进一步优选为0.30μm以上。
当第1面的Sa过大时，有时光学膜的耐擦伤性降低。因此，第1面的Sa优选为0.80μm以下，更优选为0.60μm以下，进一步优选为0.45μm以下。
关于第1面的Sa的范围的实施方式，可以列举出0.05μm以上且0.80μm以下、0.05μm以上且0.60μm以下、0.05μm以上且0.45μm以下、0.10μm以上且0.80μm以下、0.10μm以上且0.60μm以下、0.10μm以上且0.45μm以下、0.20μm以上且0.80μm以下、0.20μm以上且0.60μm以下、0.20μm以上且0.45μm以下、0.30μm以上且0.80μm以下、0.30μm以上且0.60μm以下、0.30μm以上且0.45μm以下。
第1实施方式的光学膜的第1面满足下述的式1，
Sw×Vmp≤2.00(式1)，
在式1中，“Sw”是在所述第1面中30μl的纯水的液滴流下时的倾斜角(度)，在式1中，“Vmp”是所述第1面的由ISO 25178-2：2012所规定的突出峰部实体体积(ml/m2)的值。
在第1实施方式中，通过使第1面的Sw×Vmp的值为2.00以上，能够容易使指纹擦拭性良好。以下，对Sw×Vmp与指纹擦拭性的关系进行说明。
Sw是在第1面中30μl的纯水的液滴流下时的倾斜角(度)。在本说明书中，有时将“30μl的纯水的液滴流下时的倾斜角(度)”称为“纯水落下倾斜角”。指纹中包含大量的水分。因此，第1面的Sw越小，第1面与指纹的附着性越弱，存在容易除去指纹的倾向。但是，仅减小第1面的Sw，有时无法使指纹擦拭性良好。特别是，在使光学膜的防眩性良好的情况下，仅通过减小第1面的Sw，难以使指纹擦拭性良好。
Vmp是由ISO 25178-2：2012所规定的突出峰部实体体积(ml/m2)。Vmp是表示高度比芯部高的突出的部分的体积的参数。芯部相当于在凹凸形状中具有平均高度的部分。Vmp越大，意味着比芯部突出的部分的体积越大。在本说明书中，有时将“比芯部突出的部分”称为“突出的凸部”。Sa与Vmp未必相关，但若为了使防眩性良好而增大Sa，则存在Vmp变大的倾向。而且，当Vmp变大时，指纹容易进入到突出的凸部之间，因此指纹擦拭性容易降低。若为了抑制指纹进入到突出的凸部之间而减小第1面的Vmp，则难以使光学膜的防眩性良好。另外，仅减小第1面的Vmp难以使光学膜的指纹擦拭性良好。
如上所述，通过仅调整Sw、以及仅调整Vmp，难以使具有防眩性的光学膜的指纹擦拭性良好。因此，本公开的第1实施方式的光学膜通过将Sw×Vmp设为2.00以下，由此使得指纹擦拭性良好。Sw×Vmp为2.00以下意味着：Sw和Vmp没有变得极大，并且Sw和Vmp中的至少任意一个较小。因此，通过将Sw×Vmp设为2.00以下，能够使光学膜的指纹擦拭性良好。
在第1实施方式中，Sw×Vmp优选为1.60以下，更优选为1.40以下，进一步优选为1.20以下。
Sw×Vmp过小意味着Sw和Vmp中的至少任一者过小。在Sw过小的情况下，防反射层中的氟系化合物及有机硅系化合物的含量增加，光学膜的耐擦伤性容易降低。在Vmp过小的情况下，Sa变小，防眩性容易降低。因此，Sw×Vmp优选为0.15以上，更优选为0.25以上，更优选为0.40以上，更优选为0.60以上。
在第1实施方式中，关于第1面的Sw×Vmp的范围的实施方式，可列举出0.15以上且2.00以下、0.15以上且1.60以下、0.15以上且1.40以下、0.15以上且1.20以下、0.25以上且2.00以下、0.25以上且1.60以下、0.25以上且1.40以下、0.25以上且1.20以下、0.40以上且2.00以下、0.40以上且1.60以下、0.40以上且1.40以下、0.40以上且1.20以下、0.60以上且2.00以下、0.60以上且1.60以下、0.60以上且1.40以下、0.60以上且1.20以下。
在第1实施方式中，为了容易使Sw×Vmp为1.60以下，第1面的Sw优选为65(度)以下，更优选为40(度)以下，进一步优选为30(度)以下。
在第1实施方式中，为了抑制光学膜的耐擦伤性降低，第1面的Sw优选为10(度)以上，更优选为13(度)以上，更优选为17(度)以上。
在第1实施方式中，关于第1面的Sw的范围的实施方式，可列举出10度以上且65度以下、10度以上且40度以下、10度以上且30度以下、13度以上且65度以下、13度以上且40度以下、13度以上且30度以下、17度以上且65度以下、17度以上且40度以下、17度以上且30度以下。
关于本公开的第1实施方式的光学膜，第1面的纯水接触角优选为100度以上且120度以下，更优选为110度以上且115度以下。
在本说明书中，对于纯水接触角，在第1面侧的表面上滴下1.0μL纯水，按照θ/2法测量着落10秒后的静态接触角。
在第1实施方式中，为了容易使Sw×Vmp为1.60以下，第1面的Vmp优选为0.100(ml/m2)以下，更优选为0.080(ml/m2)以下，更优选为0.060(ml/m2)以下，更优选为0.045(ml/m2)以下。
在第1实施方式中，为了容易使防眩性良好，第1面的Vmp优选为0.005(ml/m2)以上，更优选为0.007(ml/m2)以上，更优选为0.010(ml/m2)以上，更优选为0.020(ml/m2)以上。
关于第1面的Vmp的范围的实施方式，可以列举出0.005ml/m2以上且0.100ml/m2以下、0.005ml/m2以上且0.080ml/m2以下、0.005ml/m2以上且0.060ml/m2以下、0.005ml/m2以上且0.045ml/m2以下、0.007ml/m2以上且0.100ml/m2以下、0.007ml/m2以上且0.080ml/m2以下、0.007ml/m2以上且0.060ml/m2以下、0.007ml/m2以上且0.045ml/m2以下、0.010ml/m2以上且0.100ml/m2以下、0.010ml/m2以上且0.080ml/m2以下、0.010ml/m2以上且0.060ml/m2以下、0.010ml/m2以上且0.045ml/m2以下、0.020ml/m2以上且0.100ml/m2以下、0.020ml/m2以上且0.080ml/m2以下、0.020ml/m2以上且0.060ml/m2以下、0.020ml/m2以上且0.045ml/m2以下。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
在本说明书中，光学膜的“纯水落下倾斜角”是按照下述(1)～(3)的步骤进行测量的。下述(1)～(3)的步骤的测量例如可以通过使用协和界面科学公司的“DropMaster”系列的产品编号为“DMo-701”的产品、并使用“SA-301”作为附属品来测量。
对于纯水，可以使用通用的纯水。通常来说，纯水的电阻率值为0.1MΩ·cm以上且15MΩ·cm以下。
(1)从光学膜切出2cm×8cm大小的样品。在样品的第2面侧粘贴双面胶带，经由双面胶带将样品与倾斜角为0度的水平的台固定。双面胶带的大小为长8cm以上、宽5mm。在将样品与台固定时，使样品不产生褶皱，并且使样品与台之间不进入气泡。
(2)向样品的第1面滴下30μl的纯水。
(3)使设置有样品的台以2°/1秒的速度逐渐倾斜。在液滴的末端移动了0.2835mm以上时，判定为液滴流下。将液滴流下时的台的角度作为“纯水落下倾斜角”。“台的角度”是指水平面与台的平面所成的角。
图3是用于说明纯水的液滴流下时的倾斜角(度)的图。图3的“θ”相当于台的角度。在图3中，标号200表示水平面，标号300表示台的平面，标号400表示液滴。在图3中，省略了位于台的平面300与液液400之间的光学膜。
在本说明书中，Vmp、Vvc以及Vvv是将使芯部与突出峰部分离的负荷面积率设为10％、将使芯部与突出谷部分离的负荷面积率设为80％而算出的。
在本说明书中，后述的Sxp是指负荷面积率为2.5％的高度与负荷面积率为50％的高度之差。
关于“在本说明书中，xxx。”的记载，除非另有说明，否则其是指在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。例如，上述的Vmp等的定义是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
在本说明书中，Sa、Vmp、Vvv、Vvc、Sxp和Sal等表面形状是使用共聚焦激光显微镜进行测量的。作为共聚焦激光显微镜，可列举出KEYENCE公司的“VK-X”系列等。另外，通过使用上述的“VK-X”系列的“多文件解析应用”，能够简单地计算出Sa、Vmp、Vvv、Vvc、Sxp以及Sal。
关于使用上述的“VK-X”系列测量Sa、Vmp、Vvv、Vvc、Sxp和Sal时的测量条件，优选按照实施例中所记载的条件。例如，F-操作优选设为平面倾斜校正(区域指定)。关于测量区域，优选是一边为50μm以上且200μm以下的长方形，关于测量点，优选在每一边为500点以上且2000点以下。
在本说明书中，对于表面形状(Sa、Vmp、Vvv、Vvc、Sxp和Sal)、角度(纯水落下倾斜角、纯水接触角和落下式接触角)、元素比率(F/无机Si、有机Si/无机Si、F/有机Si等)、光学物性(RSCI、雾度、总透光率、透射图像鲜明度等)，只要没有特别说明，则是指从16处的测量值中除去最大值和最小值后的14处的测量值的平均值。
在本说明书中，关于16处测量部位，将距测量样品的外缘1cm的区域作为余白而除去，并且对于剩余的区域，将引出将纵向及横向5等分的线时的交点这16个部位作为测量的中心。例如，在测量样品为长方形的情况下，将距长方形的外缘0.5cm的区域作为余白而除去，以将剩余的区域在纵向和横向上5等分的虚线的交点这16个部位作为中心进行测量。然后，将从16处的测量值中除去最大值和最小值后的14个测量值的平均值作为参数的值。在测量样品为圆形、椭圆形、三角形、五边形等除长方形以外的形状的情况下，描绘与这些形状内切的长方形，关于所述长方形，通过上述方法进行16处测量。
在本说明书中，关于表面形状(Sa、Vmp、Vvv、Vvc、Sxp和Sal)、角度(纯水落下倾斜角、纯水接触角和落下式接触角)、表面张力、元素比率(F/无机Si、有机Si/无机Si、F/有机Si等)、光学物性(RSCI、雾度、总透光率、透射图像鲜明度等)，只要没有特别说明，则是在温度为23±5℃、相对湿度为40％以上且65％以下的条件下测量出的值。另外，在各测量开始前，将对象样品在上述气氛中暴露30分钟以上且60分钟以下，然后进行测量。
关于本公开的第1实施方式的光学膜，第1面的由ISO 25178-2：2012所规定的突出谷部空间体积Vvv为0.005ml/m2以上且0.100ml/m2以下。Vvv是表示深度比芯部深的突出的部分的体积的参数。通过将Vvv设为0.005ml/m2以上，能够容易使防眩性更良好。通过将Vvv设为0.100ml/m2以下，能够容易使指纹擦拭性更良好。
Vvv的下限更优选为0.007ml/m2以上，进一步优选为0.010ml/m2以上。Vvv的上限更优选为0.080ml/m2以下，进一步优选为0.060ml/m2以下。
关于第1面的Vvv的范围的实施方式，可以列举出0.005ml/m2以上且0.100ml/m2以下、0.005ml/m2以上且0.080ml/m2以下、0.005ml/m2以上且0.060ml/m2以下、0.007ml/m2以上且0.100ml/m2以下、0.007ml/m2以上且0.080ml/m2以下、0.007ml/m2以上且0.060ml/m2以下、0.010ml/m2以上且0.100ml/m2以下、0.010ml/m2以上且0.080ml/m2以下。
在第1实施方式中，关于本公开的光学膜的第1面，Vvv与由ISO 25178-2：2012所规定的芯部空间体积Vvc之比(Vvv/Vvc)优选为0.10以下。通过将Vvv/Vvc设为0.10以下，能够容易使指纹擦拭性更良好。Vvv/Vvc更优选为0.09以下，进一步优选为0.08以下。
在第1实施方式中，关于本公开的光学膜的第1面，Vmp与Vvc之比(Vmp/Vvc)优选为0.10以下。通过使Vmp/Vvc为0.10以下，能够容易使指纹擦拭性更良好。Vvv/Vvc更优选为0.09以下，进一步优选为0.08以下。
在第1实施方式中，关于本公开的光学膜的第1面，由ISO 25178-2：2012所规定的最小自相关长度Sal优选为4.0μm以上且12.0μm以下。
Sal是着眼于横向的参数。Sal越小，第1面具有凹凸越密集的形状，Sal越大，第1面具有凹凸的间隔越宽的形状。对于由JIS B0601所规定的“粗糙度曲线要素的平均长度RSm”的值，微细的凹凸几乎不产生影响，仅有大的凹凸会产生影响。另一方面，对于Sal的值，不仅大的凹凸会产生影响，而且微细的凹凸也会产生影响，在这一点上与RSm不同。另外，即使凹凸的间隔较宽，但若凸部较小或凹凸形状复杂，则Sal也有变小的倾向。另外，若凸部为单调的形状，则存在Sal变大的倾向。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
通过将Sal设为4.0μm以上，能够容易使指纹擦拭性更良好。通过将Sal设为12.0μm以下，能够容易使防眩性更良好。
Sal的下限更优选为5.0μm以上，进一步优选为6.0μm以上。Sal的上限更优选为11.0μm以下，进一步优选为10.0μm以下。
关于第1面的Sal的范围的实施方式，可以列举出4.0μm以上且12.0μm以下、4.0μm以上且11.0μm以下、4.0μm以上且10.0μm以下、5.0μm以上且12.0μm以下、5.0μm以上且11.0μm以下、5.0μm以上且10.0μm以下、6.0μm以上且12.0μm以下、6.0μm以上且11.0μm以下、6.0μm以上且10.0μm以下。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
在第1实施方式中，关于本公开的光学膜，优选的是，通过X射线光电子能谱法对第1面侧的表面区域进行分析而得到的元素比率满足下述的式2～4。
3.5≤F/无机Si≤10.0(式2)，
0.08≤有机Si/无机Si≤1.00(式3)，
5.0≤F/有机Si≤50.0(式4)，
在式2～式4中，“F”是氟元素的比率，“无机Si”是归属于无机硅化合物的硅元素的比率，“有机Si”是归属于有机硅化合物的硅元素的比率。
在本说明书中，“第1面侧的表面区域”表示从第1面侧的表面到10nm深度的区域。在本说明书中，有时将“X射线光电子能谱法”称为“XPS”。在本说明书中，第1面侧的表面区域的元素比率能够通过实施例中记载的方法进行测量。
光学膜的第1面的表面区域的无机Si主要来自二氧化硅颗粒。光学膜的第1面的表面区域的有机Si及F主要来自流平剂。
通过从Si2p轨道的X射线光电子能谱中对无机成分和有机成分进行峰分离，由此能够将无机Si和有机Si分开。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
在光学膜的第1面的表面区域中，无机Si能够降低第1面的折射率，另一方面，有使指纹擦拭性变差的倾向。另外，通过在光学膜的第1面的表面区域中相对于无机Si包含规定量以上的有机Si及F，由此，存在使指纹擦拭性良好的倾向。进而，通过在光学膜的第1面的表面区域中平衡性良好地包包含机Si和F，由此，存在使指纹擦拭性良好的倾向。因此，通过将F/无机Si设为3.5以上、将有机Si/无机Si设为0.08以上、将F/有机Si设为5.0以上且50.0以下，由此，能够容易减小Sw，从而能够容易满足式1。
另外，通过使F/无机Si为10.0以下、且使有机Si/无机Si为1.00以下，由此能够容易地抑制防反射层的涂布性的降低。
关于F/无机Si，其下限更优选为4.0以上，进一步优选为4.5以上，其上限更优选为9.0以下，进一步优选为8.0以下。
关于有机Si/无机Si，其下限更优选为0.10以上，进一步优选为0.15以上，其上限更优选为0.80以下，进一步优选为0.50以下。
关于F/有机Si，其下限更优选为10.0以上，进一步优选为15.0以上，更进一步优选为22.0以上，其上限更优选为40.0以下，进一步优选为35.0以下。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
关于F/无机Si的范围的实施方式，可以列举出3.5以上且10.0以下、3.5以上且9.0以下、3.5以上且8.0以下、4.0以上且10.0以下、4.0以上且9.0以下、4.0以上且8.0以下、4.5以上且10.0以下、4.5以上且9.0以下、4.5以上且8.0以下。
关于有机Si/无机Si的范围的实施方式，可列举出0.08以上且1.00以下、0.08以上且0.80以下、0.08以上且0.50以下、0.10以上且1.00以下、0.10以上且0.80以下、0.10以上且0.50以下、0.15以上且1.00以下、0.15以上且0.80以下、0.15以上且0.50以下。
关于F/有机Si的范围的实施方式，可列举出5.0以上且50.0以下、5.0以上且40.0以下、5.0以上且35.0以下、10.0以上且50.0以下、10.0以上且40.0以下、10.0以上且35.0以下、15.0以上且50.0以下、15.0以上且40.0以下、15.0以上且35.0以下、22.0以上且50.0以下、22.0以上且40.0以下、22.0以上且35.0以下。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
在本公开的光学膜中，关于通过X射线光电子能谱法对第1面侧的表面区域进行分析而得到的元素比率，无机Si相对于全部元素的比例优选为2原子％以上且20原子％以下。通过使无机Si相对于全部元素的比例为2原子％以上，能够容易降低第1面的折射率，因此能够容易使光学膜的防反射性良好。通过使无机Si的比例为20原子％以下，能够容易地使F/无机Si为3.5以上、且使有机Si/无机Si为0.08以上。
关于无机Si相对于全部元素的比例，其下限更优选为3原子％以上，进一步优选为4原子％以上，其上限更优选为15原子％以下，进一步优选为12原子％以下。
关于无机Si相对于全部元素的比例范围的实施方式，可以列举出2原子％以上且20原子％以下、2原子％以上且15原子％以下、2原子％以上且12原子％以下、3原子％以上且20原子％以下、3原子％以上且15原子％以下、3原子％以上且12原子％以下、4原子％以上且20原子％以下、4原子％以上且15原子％以下、4原子％以上且12原子％以下。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
<层叠结构>
本公开的第1实施方式的光学膜从第1面朝向第2面依次具有防反射层和防眩层。第1实施方式的光学膜的第1面侧的最表面优选为防反射层。
本公开的光学膜也可以具有除防反射层和防眩层以外的层。作为除防反射层和防眩层以外的层，可列举出基材、抗静电层、粘接剂层等。
本公开的光学膜优选从第1面朝向第2面依次具有防反射层、防眩层以及基材。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
《基材》
为了制造的容易性及操作性，第1实施方式的光学膜优选具有基材。
作为基材，优选的是，具备透光性、平滑性及耐热性，进而机械强度优异。作为这样的基材，可列举出聚酯、三乙酰纤维素(TAC)、二乙酸纤维素、乙酸丁酸纤维素、聚酰胺、聚酰亚胺、聚醚砜、聚砜、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚乙烯醇缩醛、聚醚酮、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚氨酯以及非晶质烯烃(Cyclo-Olefin-Polymer：COP)等塑料膜。基材也可以是将2片以上的塑料膜贴合而成的。
在塑料膜中，为了机械强度及尺寸稳定性，优选为经延伸加工而成的聚酯膜，更优选为经双轴延伸加工而成的聚酯膜。作为聚酯膜，可列举出聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、聚萘二甲酸乙二醇酯膜等。TAC膜、丙烯酸类膜容易使透光性及光学各向同性良好，因此优选。COP膜、聚酯膜的耐候性优异，因此优选。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
基材的厚度优选为5μm以上且300μm以下，更优选为20μm以上且200μm以下，进一步优选为30μm以上且120μm以下。
在想要将光学膜薄膜化的情况下，基材的厚度的优选的上限为100μm以下，更优选的上限为80μm以下。另外，在基材为聚酯、COP、丙烯酸等低透湿性基材的情况下，用于薄膜化的基材的厚度的优选上限为60μm以下，更优选的上限为40μm以下。即使在大画面的情况下，如果基材的厚度的上限为上述的范围，则在能够使变形难以产生这一点上也是优选的。
在本说明书中，基材的厚度是由膜厚测量仪测量的。作为膜厚测量仪，可列举出三丰公司的数显标准外侧测微计(型号：MDC-25SX)等。对于基材的厚度，只要测量任意10点所得到的平均值为上述数值即可。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
关于基材，JIS K7361-1：1997的总透光率优选为70％以上，更优选为80％以上，进一步优选为85％以上。
关于基材，JIS K7136：2000的雾度优选为10％以下，更优选为5％以下，进一步优选为3％以下。
为了提高粘接性，也可以对基材的表面实施电晕放电处理等物理处理、或实施化学处理。另外，基材也可以在表面具有易粘接层。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
《防眩层》
在第1实施方式中，防眩层是承担防眩性的中心的层。
在第1实施方式中，防眩层例如可以通过(A)使用了压花辊的方法、(B)蚀刻处理、(C)基于模具的成型、(D)基于涂布的涂膜形成等来形成。为了容易得到稳定的表面形状，(C)的基于模具的成型是优选的，为了提高生产率和应对多品种，(D)的基于涂布的涂膜形成是优选的。
在(C)的方法中，例如，通过使树脂流入模具中，并将成型后的树脂从模具中取出，由此能够形成防眩层。从模具取出的成型后的树脂可以配置在基材上。对于模具，使用将防眩层的表面形状反转的模具。这样的模具例如可以通过下述的(c1-1)～(c1-2)或下述的(c2)的方法来制作。
(c1-1)通过模拟来制作Sa和Vmp等成为规定的范围的形状。进而，将模拟的形状反转。
(c1-2)以反转后的形状被反映的方式，利用激光对金属的表面进行雕刻、或者利用光刻对金属的表面进行加工，由此得到模具。
(c2)通过通用的电铸法，得到将通过(D)制作的防眩层的形状反转的模具。
在通过(D)形成防眩层的情况下，例如可列举出下述的(d1)和(d2)的方法。(d1)在比(d2)更容易调整Sa及Vmp等表面形状的范围这一点上是优选的。
(d1)将包含粘合剂树脂和颗粒的涂布液涂布并干燥、形成具有基于颗粒的凹凸的防眩层的方法。
(d2)涂布包含任意的树脂和与上述树脂的相溶性差的树脂的涂布液、使树脂相分离而形成凹凸的方法。
-厚度-
为了实现与卷曲抑制、机械强度、硬度以及韧性的平衡，防眩层的厚度T优选为2.0μm以上且10.0μm以下，更优选为3.0μm以上且8.0μm以下，进一步优选为4.0μm以上且6.0μm以下。
在本说明书中，对于防眩层的厚度，例如可以在利用扫描型透射电子显微镜得到的光学膜的截面照片上选择任意20个部位，并通过其平均值来算出。优选的是，STEM的加速电压为10kv以上且30kV以下，STEM的倍率为1000倍以上且7000倍以下。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
-成分-
防眩层优选主要包含树脂成分。进而，防眩层也可根据需要而包含：有机颗粒及无机颗粒等颗粒；纳米单位的微粒；折射率调整剂、抗静电剂、流平剂、紫外线吸收剂、光稳定剂、抗氧化剂、粘度调整剂以及热聚合引发剂等添加剂等其他成分。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
防眩层优选包含粘合剂树脂和颗粒。
关于颗粒，可列举出有机颗粒和无机颗粒，无机颗粒是优选的。即，防眩层优选包含粘合剂树脂和无机颗粒。另外，防眩层更优选包含粘合剂树脂、无机颗粒以及有机颗粒。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
-颗粒-
作为无机颗粒，可列举出二氧化硅、氧化铝、氧化锆及二氧化钛等，优选二氧化硅。在无机颗粒中，优选无定形无机颗粒，更优选无定形二氧化硅。
作为有机颗粒，可列举出包含从聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯酸-苯乙烯共聚物、三聚氰胺树脂、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚氯乙烯、苯并胍胺-三聚氰胺-甲醛缩合物、有机硅、氟系树脂以及聚酯系树脂等中选择的1种以上的树脂的颗粒。
无定形无机颗粒是指将大粒径的无机颗粒粉碎后进行分级而得到的、不具有特定形状的无机颗粒。
作为颗粒，优选包含无机颗粒。另外，作为颗粒，更优选包含无定形无机颗粒，进一步优选包含无定形无机颗粒和有机颗粒。作为无定形无机颗粒，优选无定形二氧化硅。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
与球形的颗粒相比，无定形无机颗粒具有容易增大Sa、且容易减小Sal的倾向。然而，若无定形无机颗粒的粒径分布过宽，则Vmp容易变大，因此难以满足式1。特别地，若无定形无机颗粒凝集，则Vmp变得更大，从而变得更加难以满足式1。另一方面，若无定形无机颗粒的粒径分布过窄，则涂布适应性容易降低。因此，无定形无机颗粒的粒径的体积基准的累积分布优选为后述的范围。但是，若单独使用无机颗粒，则容易发生凝集。因此，在第1实施方式中，为了容易满足Sa及式1，优选将不定形颗粒的粒径分布设为后述的范围、并且并用有机颗粒。
在第1实施方式中，关于无定形无机颗粒等无机颗粒，优选的是，粒径的体积基准的累积分布d10、粒径的体积基准的累积分布d50、以及粒径的体积基准的累积分布d90满足下述(1)和(2)的关系。
1.5≤d50/d10≤4.0 (1)
1.0≤d90/d50≤3.0 (2)
d50/d10为1.5以上意味着粒径为平均以下的区域中的无机颗粒的粒度分布较宽。通过将d50/d10设为1.5以上，容易对凹凸表面赋予细小的凹凸，因此能够容易减小Sal。通过将d50/d10设为4.0以下，能够抑制埋没于防眩层中的无机颗粒的量增加，从而提高无机颗粒的添加效率。
d90/d50为1.0以上意味着粒径为平均以上的区域中的无机颗粒的粒度分布较宽。通过将d90/d50设为1.0以上，能够容易增大Vmp、并且容易增大Sal。通过将d90/d50设为3.0以下，能够容易地抑制Vmp变得过大、以及Sal变得过大的情况。
d50/d10的下限更优选为2.0以上，进一步优选为2.3以上，上限更优选为3.5以下，进一步优选为3.2以下。
d90/d50的下限更优选为1.3以上，进一步优选为1.5以上，上限更优选为2.5以下，进一步优选为2.0以下。
在本说明书中，无定形无机颗粒等无机颗粒的d10、d50和d90通过激光衍射法进行测量。
在第1实施方式中，无定形无机颗粒等无机颗粒的粒径的体积基准的累积分布d50优选为2.5μm以上且5.5μm以下，更优选为3.0μm以上且5.0μm以下，进一步优选为3.3μm以上且4.7μm以下。
通过将d50设为2.5μm以上，能够抑制无机颗粒的个数过度增加，因此能够容易抑制Sal变得过小。通过将d50设为5.5μm以下，能够抑制无机颗粒的个数过度减少，因此能够容易抑制Sal变得过大。
关于防眩层的厚度T与无定形无机颗粒等无机颗粒的d50，d50/T优选为0.55以上且1.00以下，更优选为0.60以上且0.95以下，进一步优选为0.70以上且0.90以下。
通过将d50/T设为0.55以上，能够容易减小Sal。通过将d50/T设为1.00以下，能够容易增大Sal。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
关于防眩层的厚度T与无定形无机颗粒等无机颗粒的d90，d90/T优选为1.00以上且1.50以下，更优选为1.08以上且1.45以下，进一步优选为1.20以上且1.40以下。
通过将d90/T设为1.00以上，能够容易增大Vmp。通过将d90/T设为1.50以下，能够容易减小Vmp。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
相对于100质量份的粘合剂树脂，无定形无机颗粒等无机颗粒的含量优选为8质量份以上且40质量份以下，更优选为12质量份以上且30质量份以下，进一步优选为15质量份以上且28质量份以下。
通过使无定形无机颗粒等无机颗粒的含量为8质量份以上，能够抑制无机颗粒的个数过度减少，因此无机颗粒被致密地配置，从而在无机颗粒之间形成谷。因此，Vvv成为规定的值以上，进而Sal不会变得过大，因此能够容易使防眩性良好。
通过使无定形无机颗粒等无机颗粒的含量为40质量份以下，能够抑制无机颗粒的个数过度增加，因此能够容易地抑制Sal变得过小。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
在第1实施方式中，相对于100质量份的粘合剂树脂，有机颗粒的含量优选为1质量份以上且25质量份以下，更优选为3质量份以上且18质量份以下，进一步优选为8质量份以上且14质量份以下。
通过使有机颗粒的含量为1质量份以上，能够容易地抑制无机颗粒的凝集。另外，通过使有机颗粒的含量为1质量份以上，能够抑制有机颗粒的个数过度减少，因此能够容易地抑制Vmp变得过大。
由于有机颗粒的粒径分布比较均匀，因此，若有机颗粒的含量增加，则Sal变小的倾向增强。因此，通过使有机颗粒的含量为25质量份以下，能够抑制Sal变得过小，容易使指纹擦拭性良好。
在第1实施方式中，有机颗粒的平均粒径优选为1.0μm以上且5.0μm以下，更优选为1.2μm以上且3.0μm以下，进一步优选为1.3μm以上且2.5μm以下。
通过使有机颗粒的平均粒径为1.0μm以上，能够抑制有机颗粒的个数过度增加，因此能够容易地抑制Sal变得过小。因此，通过使有机颗粒的平均粒径为1.0μm以上，能够容易使指纹擦拭性良好。通过使有机颗粒的平均粒径为5.0μm以下，能够抑制有机颗粒的个数过度减少，因此能够容易地抑制Vmp变得过大。
在本说明书中，有机颗粒的平均粒径是指作为激光衍射法中的体积平均值d50而求出的值。
在第1实施方式中，有机颗粒的粒度分布优选较窄。具体而言，在第1实施方式中，有机颗粒的平均粒径的±0.5μm的范围内的颗粒的比例优选为有机颗粒的总量的80体积％以上，更优选为85体积％以上，进一步优选为90％以上。通过使无定形无机颗粒等无机颗粒的粒度分布变宽，另一方面使有机颗粒的粒度分布变窄，由此能够减小Vmp而容易满足式1。
作为有机颗粒的形状，可列举出球状、圆盘状、橄榄球状、不定形等。在这些形状中，为了容易控制粒度分布，优选球状的有机颗粒。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
在第1实施方式中，有机颗粒的平均粒径与防眩层的厚度之比(有机颗粒的平均粒径/防眩层的厚度)优选为0.20以上且0.70以下，更优选为0.23以上且0.50以下，进一步优选为0.25以上且0.35以下。通过使有机颗粒的平均粒径/防眩层的厚度为上述范围，能够容易地使Vmp、Sa和Sal为上述的范围。
-无机微粒-
防眩层除了包含粘合剂树脂和颗粒以外，还可以进一步包含无机微粒。在本说明书中，无机微粒与上述的颗粒可以用平均粒径来区别。
通过使防眩层包含无机微粒，由此，颗粒的折射率与防眩层的除颗粒以外的组成物的折射率之差变小，能够容易减小内部雾度。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
作为无机微粒，可列举出由二氧化硅、氧化铝、氧化锆及二氧化钛等构成的微粒。其中，容易抑制内部雾度的产生的二氧化硅是优选的。
无机微粒的平均粒径优选为1nm以上且200nm以下，更优选为2nm以上且100nm以下，进一步优选为5nm以上且50nm以下。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
-粘合剂树脂-
为了容易使耐擦伤性良好，粘合剂树脂优选包含热固性树脂组成物的固化物或电离放射线固化性树脂组成物的固化物等固化性树脂组成物的固化物，更优选包含电离放射线固化性树脂组成物的固化物。
粘合剂树脂可以在不损害本公开的效果的范围内包含热塑性树脂。
为了容易使耐擦伤性良好，固化性树脂组成物的固化物相对于粘合剂树脂的总量的比例优选为80质量％以上，更优选为90质量％以上，进一步优选为100质量％。
热固性树脂组成物是至少包含热固性树脂的组成物，是通过加热而固化的树脂组成物。
作为热固性树脂，可列举出丙烯酸树脂、聚氨酯树脂、酚醛树脂、尿素三聚氰胺树脂、环氧树脂、不饱和聚酯树脂、有机硅树脂等。在热固性树脂组成物中，根据需要在这些固化性树脂中添加固化剂。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
电离放射线固化性树脂组成物是包含具有电离放射线固化性官能团的化合物(以下，也称为“电离放射线固化性化合物”)的组成物。
作为电离放射线固化性官能团，可列举出(甲基)丙烯酰基、乙烯基、烯丙基等烯属不饱和键基、以及环氧基、氧杂环丁基等。作为电离放射线固化性化合物，优选具有烯属不饱和键基的化合物，更优选具有2个以上烯属不饱和键基的化合物，其中，进一步优选具有2个以上烯属不饱和键基的多官能(甲基)丙烯酸酯系化合物。作为多官能(甲基)丙烯酸酯系化合物，可以使用单体和低聚物中的任一种。
在本说明书中，电离放射线是指电磁波或带电粒子束中的、具有能够使分子聚合或交联的能量量子的电磁波或带电粒子束。关于电离放射线，通常使用紫外线(UV)或电子束(EB)，此外，也可以使用X射线、γ射线等电磁波、α射线、离子射线等带电粒子束。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
在多官能(甲基)丙烯酸酯系化合物中，作为2官能(甲基)丙烯酸酯系单体，可列举出乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、双酚A四乙氧基二丙烯酸酯、双酚A四丙氧基二丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯等。
作为3官能以上的(甲基)丙烯酸酯系单体，例如可列举出三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、异氰脲酸改性三(甲基)丙烯酸酯等。
上述(甲基)丙烯酸酯系单体可以是对分子骨架的一部分进行了改性的单体。例如，对于上述(甲基)丙烯酸酯系单体，也可以使用通过环氧乙烷、环氧丙烷、己内酯、异氰脲酸、烷基、环状烷基、芳香族、双酚等将分子骨架的一部分改性而成的单体。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
作为多官能(甲基)丙烯酸酯系低聚物，可列举出氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、环氧(甲基)丙烯酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯、聚醚(甲基)丙烯酸酯等丙烯酸酯系聚合物等。
关于氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯，例如能够通过多元醇及有机二异氰酸酯与羟基(甲基)丙烯酸酯的反应而得到。
优选的环氧(甲基)丙烯酸酯是：使3官能以上的芳香族环氧树脂、脂环族环氧树脂、脂肪族环氧树脂等与(甲基)丙烯酸反应而得到的(甲基)丙烯酸酯；使2官能以上的芳香族环氧树脂、脂环族环氧树脂、脂肪族环氧树脂等与多元酸和(甲基)丙烯酸反应而得到的(甲基)丙烯酸酯；以及使2官能以上的芳香族环氧树脂、脂环族环氧树脂、脂肪族环氧树脂等与酚类和(甲基)丙烯酸反应而得到的(甲基)丙烯酸酯。
多官能(甲基)丙烯酸酯系低聚物的重均分子量优选为500以上3000以下，更优选为700以上2500以下。
在本说明书中，重均分子量是通过GPC分析进行测量的，并且是以标准聚苯乙烯换算出的平均分子量。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
出于调整防眩层涂布液的粘度等目的，作为电离放射线固化性化合物，可以并用单官能(甲基)丙烯酸酯。作为单官能(甲基)丙烯酸酯，可列举出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯以及(甲基)丙烯酸异冰片酯等。
对于上述电离放射线固化性化合物，可以单独使用1种或组合使用2种以上。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
在电离放射线固化性化合物为紫外线固化性化合物的情况下，电离放射线固化性组成物优选包含光聚合引发剂或光聚合促进剂等添加剂。
作为光聚合引发剂，可列举出从苯乙酮、二苯甲酮、α-羟基烷基苯酮、米蚩酮、苯偶姻、苯偶酰二甲基缩酮、苯甲酰苯甲酸酯、α-酰基肟酯、噻吨酮类等中选择的1种以上。
光聚合促进剂能够减轻固化时的由空气引起的聚合阻碍而加快固化速度。作为促进剂，可列举出对二甲基氨基苯甲酸异戊酯、对二甲基氨基苯甲酸乙酯等。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
在第1实施方式中，在粘合剂树脂包含电离放射线固化性树脂组成物的固化物的情况下，电离放射线固化性树脂组成物优选包含多官能(甲基)丙烯酸酯单体和多官能(甲基)丙烯酸酯低聚物。
在第1实施方式中，多官能(甲基)丙烯酸酯单体与多官能(甲基)丙烯酸酯低聚物的质量比优选为5：95～60：40，更优选为20：80～60：40，进一步优选为40：60～60：40。
通过使多官能(甲基)丙烯酸酯单体为规定的比例以上，能够容易使防眩层的耐擦伤性良好。
通过使多官能(甲基)丙烯酸酯低聚物为规定的比例以上，能够提高防眩层用涂布液的粘度，容易抑制颗粒沉入防眩层的下方，并且能够容易抑制粘合剂树脂流下到基于颗粒的凸部之间。因此，能够容易使Sa及Vvv为规定的值以上，并且容易使Sal为规定的值以下。另一方面，若多官能(甲基)丙烯酸酯低聚物的比例过多，则有时防眩层的强度会降低。另外，若防眩层用涂布液的粘度过高，则有时Vmp会变得过大、或者Sal会变得过小。因此，电离放射线固化性树脂组成物优选包含规定量的多官能(甲基)丙烯酸酯低聚物和规定量的多官能(甲基)丙烯酸酯单体。
-溶剂、干燥条件-
为了调节粘度、或者使各成分能够溶解或分散，防眩层涂布液优选包含溶剂。涂布、干燥后的防眩层的表面形状根据溶剂的种类而不同，因此优选考虑溶剂的饱和蒸气压、溶剂相对于基材的渗透性等来选定溶剂。
具体而言，关于溶剂，例如可例示出酮类(丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮(MIBK)、环己酮等)、醚类(二噁烷、四氢呋喃等)、脂肪族烃类(己烷等)、脂环式烃类(环己烷等)、芳香族烃类(甲苯、二甲苯等)、卤化碳类(二氯甲烷、二氯乙烷等)、酯类(乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等)、醇类(异丙醇、丁醇、环己醇等)、溶纤剂类(甲基溶纤剂、乙基溶纤剂等)、二醇醚类(丙二醇单甲醚乙酸酯等)、溶纤剂乙酸酯类、亚砜类(二甲基亚砜等)、酰胺类(二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺等)等，也可为它们的混合物。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
在第1实施方式中，防眩层涂布液中的溶剂优选以蒸发速度快的溶剂作为主成分。通过加快溶剂的蒸发速度，能够抑制颗粒沉入防眩层的下部，进而容易抑制粘合剂树脂流下到基于颗粒的凸部之间。因此，能够容易使Sa及Vvv为规定的值以上，并且容易使Sal为规定的值以下。
主成分是指溶剂的总量的50质量％以上，优选为70质量％以上，更优选为90质量％以上，进一步优选为97质量％以上。
在本说明书中，蒸发速度快的溶剂是指在将乙酸丁酯的蒸发速度设为100时蒸发速度为100以上的溶剂。蒸发速度快的溶剂的蒸发速度更优选为120以上且300以下，进一步优选为150以上且220以下。
作为蒸发速度快的溶剂，例如可列举出甲基异丁基酮(蒸发速度为160)、甲苯(蒸发速度为200)、甲乙酮(蒸发速度为370)。
另一方面，作为蒸发速度小于100的蒸发速度慢的溶剂，可列举出环己酮(蒸发速度为32)、丙二醇单甲醚乙酸酯(蒸发速度为44)。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
在第1实施方式中，在由防眩层涂布液形成防眩层时，优选对干燥条件进行控制。
可以通过干燥温度和干燥机内的风速来控制干燥条件。干燥温度优选为30℃以上且120℃以下，干燥风速优选为0.2m/s以上且50m/s以下。另外，为了通过干燥来控制防眩层的表面形状，优选在涂布液的干燥后进行电离放射线的照射。
关于干燥条件，优选在上述的温度范围和风速范围内实施2个阶段的干燥。而且，优选的是，与第1阶段的干燥相比，在第2阶段的干燥中，使干燥温度为高温且使风速增强。通过在第1阶段缓慢地进行干燥，由此，在粘合剂树脂覆盖无定形无机颗粒的表面时，能够容易地使无定形无机颗粒的形状反映在粘合剂树脂的表面。另外，通过使第2阶段的干燥温度比第1阶段的干燥温度高并增强风速，由此能够容易地抑制有机颗粒的凝集。因此，通过采用2个阶段的干燥，能够容易地抑制Vmp变得过大，并且容易使Sal为规定的值以下。
在第1阶段的干燥中，优选将干燥温度设为30℃以上且小于60℃，并将干燥风速设为0.2m/s以上且小于7m/s。在第2阶段的干燥中，优选将干燥温度设为60℃以上且120℃以下，并将干燥风速设为7m/s以上且50m/s以下。
《防反射层》
在第1实施方式中，防反射层优选位于第1面侧的最表面。
对于防反射层，例如可列举出：低折射率层的单层结构；高折射率层和低折射率层的2层结构；以及3层结构以上的多层结构。低折射率层和高折射率层可以通过通用的湿法或干法等形成。在湿法的情况下，优选上述的单层结构或2层结构，在干法的情况下，优选上述的多层结构。
湿法在生产效率和耐化学药品性的方面上优于干法。
在本公开的光学膜中，为了容易维持防眩层的凹凸形状，防反射层优选为低折射率层的单层结构。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
-单层结构或2层结构的情况-
单层结构是低折射率层的单层，2层结构由高折射率层和低折射率层形成。单层结构或2层结构优选通过湿法形成。
作为利用湿法形成防反射层的方法，可列举出：使用金属醇盐等并通过溶胶凝胶法形成的方法；涂布氟树脂那样的低折射率的树脂而形成的方法；以及涂布在粘合剂树脂组成物中包含低折射率颗粒或高折射率颗粒的涂布液而形成的方法。
在湿法中，为了提高紧密贴合性及耐擦伤性，也优选利用在粘合剂树脂组成物中包含低折射率颗粒或高折射率颗粒的涂布液来形成防反射层。即，低折射率层优选包含粘合剂树脂和低折射率颗粒。另外，高折射率层优选包含粘合剂树脂和高折射率颗粒。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
低折射率层的折射率的下限优选为1.10以上，更优选为1.20以上，更优选为1.26以上，更优选为1.28以上，更优选为1.30以上，上限优选为1.48以下，更优选为1.45以下，更优选为1.40以下，更优选为1.38以下，更优选为1.32以下。
在本说明书中，折射率是指在550nm的波长下的值。
低折射率层的厚度的下限优选为80nm以上，更优选为85nm以上，更优选为90nm以上，上限优选为150nm以下，更优选为110nm以下，更优选为105nm以下。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
为了使耐擦伤性更好，低折射率层的粘合剂树脂优选包含热固性树脂组成物的固化物或电离放射线固化性树脂组成物的固化物等固化性树脂组成物的固化物，更优选包含电离放射线固化性树脂组成物的固化物。
低折射率层的粘合剂树脂也可以在不妨碍本公开的效果的范围内包含热塑性树脂。
作为低折射率层的固化性树脂组成物的固化物，可列举出与在防眩层中例示的固化性树脂组成物的固化物同样的固化物。
固化性树脂组成物的固化物相对于低折射率层的粘合剂树脂的总量的比例优选为80质量％以上，更优选为90质量％以上，进一步优选为97质量％以上。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
在第1实施方式中，低折射率层的粘合剂树脂也可以包含热塑性树脂。通过包含热塑性树脂作为粘合剂树脂，由此，会提高低折射率层用涂布液的粘度，并且低折射率层用涂布液不易流下到防眩层的凸部之间。因此，通过包含热塑性树脂作为粘合剂树脂，由此能够容易使Sa和Vvv为规定的值以上，并且容易使Sal为规定的值以下。进而，由于容易使有机Si和氟残存在第1面的表面附近，因此能够容易满足式2～式4的元素比率。另一方面，若低折射率层用涂布液的粘度变得过高，则在涂布防反射层用涂布液时，有时会在防眩层的表面产生缺陷。
由于上述的作用和涂膜强度，热塑性树脂的含量优选为粘合剂树脂总量的0.1质量％以上且3.0质量％以下，更优选为0.2质量％以上且1.5质量％以下，进一步优选为0.3质量％以上且0.7质量％以下。
作为热塑性树脂，可以列举出聚苯乙烯系树脂、聚烯烃系树脂、ABS树脂(包括耐热ABS树脂)、AS树脂、AN树脂、聚苯醚系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚缩醛系树脂、丙烯酸系树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯系树脂、聚对苯二甲酸丁二醇酯系树脂、聚砜系树脂以及聚苯硫醚系树脂等，从透明性的观点出发，优选丙烯酸系树脂。
热塑性树脂的重均分子量优选为2万以上且20万以下，更优选为3万以上且15万以下，进一步优选为5万以上且10万以下。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
关于低折射率颗粒，可列举出中空颗粒和实心颗粒。作为低折射率颗粒，可以仅包含中空颗粒和实心颗粒中的任一者，但为了降低折射率，优选包含中空颗粒。为了抑制低折射率层的涂膜强度的降低，除了中空颗粒以外，还可以包含实心颗粒。需要说明的是，通过不包含实心颗粒而仅包含中空颗粒，由此能够容易发挥本公开的效果。
中空颗粒及实心颗粒的材质可以是二氧化硅及氟化镁等无机化合物、以及有机化合物中的任意，但为了低折射率化和强度，优选二氧化硅。即，低折射率层优选包含中空二氧化硅颗粒。另外，也优选的是，低折射率层除了包含中空二氧化硅颗粒以外，还包含实心二氧化硅颗粒。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
中空颗粒的平均一次粒径优选小于低折射率层的厚度，例如可以列举出1nm以上且150nm以下。中空颗粒的平均一次粒径优选为35nm以上且100nm以下，更优选为50nm以上且100nm以下，进一步优选为60nm以上且80nm以下。
实心颗粒的平均一次粒径优选小于低折射率层的厚度，例如可以列举出0.5nm以上且100nm以下。实心颗粒的平均一次粒径优选为1nm以上且30nm以下，更优选为5nm以上且20nm以下，进一步优选为10nm以上且15nm以下。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
中空颗粒和后述的实心颗粒、以及后述的高折射颗粒的平均一次粒径通过以下的(A1)～(A3)的操作而算出。
(A1)用TEM或STEM拍摄防反射部件的截面。优选的是，TEM或STEM的加速电压为10kv～30kV，倍率为5万～30万倍。
(A2)从观察图像提取任意的10个颗粒，算出各个颗粒的粒径。粒径是在用任意的平行的两条直线夹着颗粒的截面时、作为该两条直线间的距离变为最大的两条直线的组合中的直线间距离而测量出的。
(A3)在同一样品的另一画面的观察图像中进行5次同样的操作，将由合计50个的粒径的数均得到的值作为颗粒的平均一次粒径。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
中空颗粒的含量越多，粘合剂树脂中的中空颗粒的填充率越高，低折射率层的折射率越降低。因此，中空颗粒的含量相对于100质量份的粘合剂树脂优选为100质量份以上，更优选为150质量份以上。
另一方面，若中空颗粒的含量过多，则中空颗粒容易损伤或脱落，存在低折射率层的耐擦伤性等机械强度降低的倾向。另外，若中空颗粒的含量过多，则有时难以满足上述式2和式3。因此，中空颗粒的含量相对于100质量份的粘合剂树脂优选为300质量份以下，更优选为250质量份以下。
为了使低折射率层的耐擦伤性良好，实心颗粒的含量相对于100质量份的粘合剂树脂优选为20质量份以上，更优选为40质量份以上。
另一方面，若实心颗粒的含量过多，则实心颗粒容易凝聚。另外，若实心颗粒的含量过多，则有时难以满足上述式2和式3。因此，实心颗粒的含量相对于100质量份的粘合剂树脂优选为100质量份以下，更优选为60质量份以下。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
在第1实施方式中，为了使第1表面容易满足上述式2～式4的元素比率，低折射率层优选包含包含有机Si及氟的流平剂。
包含有机Si和氟的流平剂可以是在分子内包含有机Si和氟的化合物。另外，对于包含有机Si和氟的流平剂，可以并用在分子内包含有机Si的化合物、和在分子内包含氟的化合物。为了使与粘合剂树脂的相溶性良好，低折射率层优选包含在1个分子内包含有机Si及氟的化合物作为流平剂。流平剂优选在分子内具有与粘合剂树脂具有反应性的官能团。
对于上述式2～式4的元素比率，能够主要通过流平剂的含量、以及流平剂内的有机Si和氟的比例来调整。但是，仅靠流平剂的含量、以及流平剂内的有机Si和氟的比例，难以对流下到防眩层的凸部之间的低折射率层用涂布液的量进行控制。为了容易满足上述式2～式4的元素比率，优选的是，提高低折射率层用涂布液的粘度，或控制低折射率层用涂布液的干燥条件，从而减少流下到防眩层的凸部之间的低折射率层用涂布液的量。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
关于流平剂的优选的含量，优选根据流平剂内的有机Si和氟的比例，以满足上述式2～式4的元素比率的方式进行调整。
在本公开的一个实施方式中，相对于低折射率层的总固体成分来说，流平剂的含量优选为10质量％以上且40质量％以下，更优选为15质量％以上且40质量％以下，进一步优选为20质量％以上且40质量％以下。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
高折射率层优选配置得比低折射率层更靠防眩层侧。
高折射率层的折射率的下限优选为1.53以上，更优选为1.54以上，更优选为1.55以上，更优选为1.56以上，上限优选为1.85以下，更优选为1.80以下，更优选为1.75以下，更优选为1.70以下。
高折射率层的厚度的上限优选为200nm以下，更优选为180nm以下，进一步优选为150nm以下，下限优选为50nm以上，更优选为70nm以上。
作为高折射率层的粘合剂树脂，可列举出与低折射率层的粘合剂树脂同样的粘合剂树脂。
作为高折射率颗粒，可列举出五氧化锑、氧化锌、氧化钛、氧化铈、掺锡氧化铟、掺锑氧化锡、氧化钇以及氧化锆等。
高折射率颗粒的平均一次粒径优选为2nm以上，更优选为5nm以上，进一步优选为10nm以上。另外，从抑制白化和提高透明性的观点出发，高折射率颗粒的平均一次粒径优选为200nm以下、更优选为100nm以下、更优选为80nm以下、更优选为60nm以下、更优选为30nm以下。
关于高折射率颗粒的含量，只要设为使高折射率层的折射率成为上述范围的含量即可。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
在通过湿法形成低折射率层及高折射率层等防反射层时，优选提高防反射层用涂布液的粘度。通过提高防反射层用涂布液的粘度，防反射层用涂布液不易流下到防眩层的凸部之间，因此，即使在防眩层上形成防反射层，也能够容易地维持防眩层的表面形状。因此，通过适度提高防反射层用涂布液的粘度，能够容易使Sa和Vvv为规定的值以上，并且容易使Sal为规定的值以下。进而，由于容易使有机Si和氟残存在第1面的表面附近，因此能够容易满足式2～式4的元素比率。例如，通过添加热塑性树脂作为粘合剂树脂、或者增加低聚物的比例作为电离放射线固化性树脂组成物、或者选择粘度高的溶剂作为溶剂等，由此能够提高防反射层用涂布液的粘度。
另一方面，若过度提高防反射层用涂布液的粘度，则在涂布防反射层用涂布液时有时会在防眩层的表面产生缺陷。
因此，防反射层用涂布液在23℃下的粘度优选为0.1mPa·s以上且5.0mPa·s以下。
作为防反射层用涂布液的溶剂，可列举出与防眩层用涂布液的实施方式同样的溶剂。
在由防反射层用涂布液形成防眩层时，优选对干燥条件进行控制。
对于干燥条件，可以通过干燥温度和干燥机内的风速来控制。干燥温度优选为30℃以上且70℃以下，干燥风速优选为10m/s以上且30m/s以下。通过将干燥温度设为低温，能够容易提高防反射层用涂布液的粘度。另外，通过增强风速，能够迅速提高防反射层用涂布液的粘度。因此，通过以较低的温度且较强的风速对防反射层用涂布液进行干燥，能够使防反射层用涂布液不易流下到防眩层的凸部之间。即，通过以较低的温度且较强的风速对防反射层用涂布液进行干燥，能够容易地使第1面的Sa等表面形状成为上述的范围，并且能够容易满足式1～式4。
优选在防反射层用涂布液干燥后进行电离放射线的照射。
-3层结构以上的多层结构的情况-
通过干法优选地形成的多层结构是将高折射率层和低折射率层交替地层叠合计3层以上的结构。在多层结构中，低折射率层也优选配置于光学膜的最表面。
关于高折射率层，厚度优选为10nm以上且200nm以下，折射率优选为2.10以上且2.40以下。高折射率层的厚度更优选为20nm以上且70nm以下。
关于低折射率层，厚度优选为5nm以上且200nm以下，折射率优选为1.33以上且1.53以下。低折射率层的厚度更优选为20nm以上且120nm以下。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
<光学特性>
关于第1实施方式的光学膜，优选的是，通过下述方法测量的总光线反射率RSCI为3.0％以下，
[总光线反射率(RSCI)的测量]
制作在所述光学膜的所述第2面侧借助透明粘合剂贴合有黑色板而成的样品。将上述样品的上述光学膜侧作为光入射面而测量总光线反射率(RSCI)。
通过使RSCI为3.0％以下，由此，在照度强的光不入射到第1面的环境中，能够容易提高黑显示部的黑色调，因此能够容易使对比度良好。光学膜的RSCI更优选为2.5％以下，进一步优选为2.0％以下。光学膜的RSCI的下限没有特别限制，通常为0.1％以上。
通常，在将RSCI设为3.0％以下的情况下，具有指纹成分的部位与不具有指纹成分的部位的反射率的对比度变大，光学膜的美观性容易大幅降低。但是，在本公开的光学膜中，通过满足式1，由此指纹擦拭性良好，因此即使将RSCI设为3.0％以下，也能够容易地抑制光学膜的美观性降低。
RSCI是使用积分球从所有方向对样品表面赋予光、并关闭与正反射方向相当的光阱而测量出的反射光。
代表性的RSCI的测量装置为依据JIS Z8722：2009的几何条件c的结构。更具体而言，代表性的RSCI的测量装置使用D65作为积分球分光光度计的光源，受光器的位置相对于样品的法线为+8度，受光器的开口角为10度，光阱的位置相对于样品的法线为-8度，视角为2度或10度。在本说明书中，将视角设为2度。
作为满足上述条件的测量装置，例如可列举出柯尼卡美能达公司制的积分球分光光度计(商品名：CM-2002)。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
样品的透明粘合剂的折射率与光学膜的第2面侧的层的折射率之差优选为0.05以内，更优选为0.03以内，进一步优选为0.01以内。样品的透明粘合剂的折射率与黑色板的粘合剂树脂的折射率之差优选为0.05以内，更优选为0.03以内，进一步优选为0.01以内。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
光学膜的JIS K7361-1：1997的总透光率优选为80％以上，更优选为85％以上，进一步优选为90％以上。
测量总透光率和雾度时的光入射面为光学膜的第2面侧。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
光学膜的JIS K7136：2000的雾度优选为20％以上且75％以下。雾度的下限更优选为30％以上，进一步优选为40％以上，更进一步优选为50％以上，上限更优选为70％以下，进一步优选为65％以下。
通过使雾度为20％以上，由此能够容易使防眩性良好。另外，通过使雾度为75％以下，由此能够容易地抑制影像的分辨率降低。
关于光学膜的雾度的实施方式，可以列举出20％以上且75％以下、20％以上且70％以下、20％以上且65％以下、30％以上且75％以下、30％以上且70％以下、30％以上且65％以下、40％以上且75％以下、40％以上且70％以下、40％以上且65％以下、50％以上且75％以下、50％以上且70％以下、50％以上且65％以下。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
为了容易使影像的分辨率及对比度良好，光学膜的内部雾度优选为20％以下，更优选为15％以下，进一步优选为10％以下。
对于内部雾度，可以利用通用的方法进行测量，例如可以通过在光学膜的第1表面上借助透明粘合剂层贴合透明片材等而将第1表面的凹凸压扁，由此进行测量。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
关于光学膜的依据JIS K7374：2007测量出的透射图像鲜明度，在将光梳的宽度为0.125mm的透射图像鲜明度定义为C0.125、将光梳的宽度为0.25mm的透射图像鲜明度定义为C0.25、将光梳的宽度为0.5mm的透射图像鲜明度定义为C0.5、将光梳的宽度为1.0mm的透射图像鲜明度定义为C1.0、将光梳的宽度为2.0mm的透射图像鲜明度定义为C2.0时，C0.125、C0.25、C0.5、C1.0以及C2.0的值优选为下述的范围。
为了使防眩性良好，C0.125优选为50％以下，更优选为40％以下，更优选为30％以下，更优选为20％以下。为了使分辨率良好，C0.125优选为1.0％以上。作为C0.125的范围，可列举出1.0％以上且50％以下、1.0％以上且40％以下、1.0％以上且30％以下、1.0％以上且20％以下。
为了使防眩性良好，C0.25优选为50％以下，更优选为40％以下，更优选为30％以下，更优选为20％以下。为了使分辨率良好，C0.25优选为1.0％以上。作为C0.25的范围，可列举出1.0％以上且50％以下、1.0％以上且40％以下、1.0％以上且30％以下、1.0％以上且20％以下。
为了使防眩性良好，C0.5优选为50％以下，更优选为40％以下，更优选为30％以下，更优选为20％以下。为了使分辨率良好，C0.5优选为1.0％以上。作为C0.5的范围，可列举出1.0％以上且50％以下、1.0％以上且40％以下、1.0％以上且30％以下、1.0％以上且20％以下。
为了使防眩性良好，C1.0优选为50％以下，更优选为40％以下，更优选为30％以下，更优选为20％以下。为了使分辨率良好，C1.0优选为1.0％以上。作为C1.0的范围，可列举出1.0％以上且50％以下、1.0％以上且40％以下、1.0％以上且30％以下、1.0％以上且20％以下。
为了使防眩性良好，C2.0优选为50％以下，更优选为40％以下，更优选为30％以下，更优选为20％以下。为了使分辨率良好，C2.0优选为5.0％以上。作为C2.0的范围，可列举出5.0％以上且50％以下、5.0％以上且40％以下、5.0％以上且30％以下、5.0％以上且20％以下。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
为了使防眩性良好，光学膜的C0.125、C0.5、C1.0及C2.0的合计优选为200％以下，更优选为150％以下，更优选为100％以下，更优选为80％以下。为了使分辨率良好，上述合计优选为10.0％以上。作为上述合计的范围，可列举出10.0％以上且200％以下、10.0％以上且150％以下、10.0％以上且100％以下、10.0％以上且80％以下。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
<大小、形状等>
光学膜也可以是切割为规定大小的单片状的形态，也可以是将长条片材卷取成卷状的卷状形态。单片的大小没有特别限定，但最大直径为2英寸以上且500英寸以下左右。“最大直径”是指将光学膜的任意2点连结时的最大长度。例如，在光学膜为长方形的情况下，该区域的对角线成为最大直径。在光学膜为圆形的情况下，圆的直径成为最大直径。
卷状的宽度和长度没有特别限定，但通常宽度为500mm以上且3000mm以下，长度为500m以上且5000m以下左右。对于卷状形态的光学膜，可以根据图像显示装置等的大小将其切割为单片状来使用。在切割时，优选将物性不稳定的卷端部除去。
单片的形状也没有特别限定，例如可以列举出三角形、四边形、五边形等多边形、圆形、随机的不定形等形状。更具体而言，在光学膜为四边形的情况下，只要作为显示画面没有问题，则纵横比没有特别限定。例如，可列举出横：纵＝1：1、4：3、16：10、16：9、2：1等，但在富有设计性的车载用途或数字标牌的用途中，并不限定于这样的纵横比。
光学膜的第2表面的表面形状没有特别限定，但优选为大致平滑。大致平滑是指截止值为0.8mm时的、JIS B0601：1994的算术平均粗糙度Ra小于0.03μm，优选为0.02μm以下。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
[第1实施方式的光学膜的制造方法]
本公开的第1实施方式的光学膜的制造方法是上述的本公开的光学膜的制造方法，其具有在基材上形成防眩层的第1工序、和在所述防眩层上形成防反射层的第2工序。
作为在基材上形成防眩层的手段，可列举出上述的(A)使用了压花辊的方法、(B)蚀刻处理、(C)基于模具的成型、(D)基于涂布的涂膜形成。
在(A)的方法的情况下，例如，通过在基材上形成树脂层，从树脂层侧使用压花辊进行赋形，由此可以在基材上形成防眩层。
在(B)的方法的情况下，例如通过在基材上形成光固化性树脂的层并进行光蚀刻，由此能够在基材上形成防眩层。
在(C)的方法的情况下，例如，通过使树脂流入模具中，将成型后的树脂从模具中取出，并且配置在基材上，由此能够在基材上形成防眩层。
在(D)的方法的情况下，例如，通过利用上述(d1)或(d2)的方法在基材上形成涂膜，由此能够在基材上形成防眩层。
作为在防眩层上形成防反射层的手段，例如可以列举出上述的湿法或干法。
[第1实施方式的偏光板]
本公开的第1实施方式的偏光板具有偏光件、配置于所述偏光件的一侧的第一透明保护板、和配置于所述偏光件的另一侧的第二透明保护板，
所述第一透明保护板和所述第二透明保护板中的至少一方为所述的本公开的第1实施方式的光学膜，所述光学膜的所述第2面与所述偏光件对置地配置。
<偏光件>
作为偏光件，例如可列举出：利用碘等进行染色并进行拉伸而成的聚乙烯醇膜、聚乙烯醇缩甲醛膜、聚乙烯醇缩乙醛膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系皂化膜等的片型偏光件；由平行排列的多根金属线构成的线栅型偏光件；涂布有溶致液晶或二色性客体-主体材料的涂布型偏光件；以及多层薄膜型偏光件等。这些偏光件也可以是具备将不透过的偏光成分反射的功能的反射型偏光件。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
<透明保护板>
在偏光件的一侧配置有第一透明保护板，在另一侧配置有第二透明保护板。第一透明保护板和第二透明保护板中的至少一方为上述的本公开的第1实施方式的光学膜。
在本公开的偏光板中，可以是，第一透明保护板和第二透明保护板中的一方为上述的本公开的第1实施方式的光学膜，也可以是，第一透明保护板和第二透明保护板双方为上述的本公开的第1实施方式的光学膜。
作为第一透明保护板和第二透明保护板中的不是本公开的第1实施方式的光学膜的透明保护板，可以使用通用的塑料膜和玻璃等。
偏光件与透明保护板优选经由粘接剂贴合在一起。关于粘接剂，可以使用通用的粘接剂，优选PVA系粘接剂。
[第1实施方式的图像显示装置用的表面板]
本公开的第1实施方式的图像显示装置用的表面板是在树脂板或玻璃板上贴合保护膜而成的图像显示装置用的表面板，其中，所述保护膜是上述的本公开的第1实施方式的光学膜，所述光学膜的所述第2面与所述树脂板或所述玻璃板对置地配置。
作为树脂板或玻璃板，可以使用通常作为图像显示装置的表面板的树脂板或玻璃板。
为了使强度良好，树脂板或玻璃板的厚度优选为10μm以上。树脂板或玻璃板的厚度的上限通常为5000μm以下。为了薄型化，树脂板或玻璃板的厚度的上限优选为1000μm以下，更优选为500μm以下，进一步优选为100μm以下。
关于树脂板或玻璃板的厚度范围的实施方式，可列举出10μm以上且5000μm以下、10μm以上且1000μm以下、10μm以上且500μm以下、10μm以上且100μm以下。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
[第1实施方式的图像显示面板]
本公开的第1实施方式的图像显示面板具有显示元件、和配置于所述显示元件的光出射面侧的光学膜，其中，所述图像显示面板包含上述的本公开的第1实施方式的光学膜作为所述光学膜(参照图2)。
在图像显示面板内，本公开的第1实施方式的光学膜优选以第2面侧朝向显示元件侧的方式配置。
在图像显示面板内，本公开的第1实施方式的光学膜优选配置于显示元件的光出射面侧的最表面。
作为显示元件，可列举出液晶显示元件、EL显示元件(有机EL显示元件、无机EL显示元件)、等离子体显示元件等，进而可列举出微型LED显示元件等LED显示元件。这些显示元件也可以在显示元件的内部具有触摸面板功能。
作为液晶显示元件的液晶的显示方式，可列举出IPS方式、VA方式、多畴方式、OCB方式、STN方式、TSTN方式等。
另外，本公开的图像显示面板也可以是在显示元件与光学膜之间具有触摸面板的带触摸面板的图像显示面板。
图像显示面板的大小没有特别限定，但最大直径为2英寸以上且500英寸以下左右。最大直径是指连接图像显示面板的面内的任意两点时的最大长度。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
[第1实施方式的图像显示装置]
本公开的第1实施方式的图像显示装置包括本公开的第1实施方式的图像显示面板。
本公开的第1实施方式的图像显示装置只要包含本公开的第1实施方式的图像显示面板即可，没有特别限定。本公开的第1实施方式的图像显示装置优选具备本公开的第1实施方式的图像显示面板、与所述图像显示面板电连接的驱动控制部、以及收容它们的壳体。
当显示元件是液晶显示元件时，在本公开的图像显示装置中需要背光源。背光源配置在液晶显示元件的与光出射面侧相反的一侧。
图像显示装置的大小没有特别限定，但有效显示区域的最大直径为2英寸以上且500英寸以下左右。
图像显示装置的有效显示区域是能够显示图像的区域。例如，在图像显示装置具有包围显示元件的壳体的情况下，壳体的内侧的区域成为有效图像区域。
另外，有效图像区域的最大直径是指连接有效图像区域内的任意2点时的最大长度。例如，在有效图像区域为长方形的情况下，该区域的对角线成为最大直径。另外，在有效图像区域为圆形的情况下，该区域的直径为最大直径。
本段的记载是在第1实施方式和第2实施方式中共通的记载。
[第1实施方式的光学膜的选定方法]
本公开的第1实施方式的光学膜的选定方法选定满足下述的选定条件的光学膜。
(光学膜的选定条件)
所述光学膜具有第1面、和作为与所述第1面相反一侧的面的第2面，其中，
所述光学膜从所述第1面朝向所述第2面依次具有防反射层和防眩层，
所述第1面具有凹凸形状，
所述第1面的由ISO 25178-2：2012所规定的算术平均高度Sa为0.05μm以上，
所述第1面满足下述的式1，
Sw×Vmp≤2.00(式1)，
在式1中，“Sw”是在所述第1面中30μl的纯水的液滴流下时的倾斜角(度)，在式1中，“Vmp”是所述第1面的由ISO 25178-2：2012所规定的突出峰部实体体积(ml/m2)的值。
在本公开的第1实施方式的光学膜的选定方法中，也可以具有追加的选定条件。作为追加的选定条件，可列举出第1实施方式的光学膜的优选的实施方式。作为追加的选定条件，例如可列举出下述A～D。
A：Vmp为0.005ml/m2以上且0.100ml/m2以下。
B：所述光学膜从所述第1面朝向所述第2面依次具有所述防反射层、所述防眩层以及基材。
C：元素比率满足下述的式2～式4。
3.5≤F/无机Si≤10.0(式2)，
0.08≤有机Si/无机Si≤1.00(式3)，
5.0≤F/有机Si≤50.0(式4)，
D：通过下述方法测量的总光线反射率RSCI为3.0％以下，
[总光线反射率(RSCI)的测量]
制作在所述光学膜的所述第2面侧借助透明粘合剂贴合有黑色板而成的样品。将所述样品的所述光学膜侧作为光入射面来测量总光线反射率(RSCI)。
根据本公开的第1实施方式的光学膜的选定方法，能够高效地选定防眩性优异且指纹擦拭性良好的光学膜。
[第2实施方式的光学膜]
本公开的第2实施方式的光学膜如下。
一种光学膜，其具有第1面、和作为与所述第1面相反一侧的面的第2面，其中，
所述光学膜从所述第1面朝向所述第2面依次具有防反射层和防眩层，
所述第1面具有凹凸形状，
所述第1面的由ISO 25178-2：2012所规定的突出谷部空间体积Vvv为0.005ml/m2以上，
通过下述的方法测量的落下式接触角为30.0度以上，
<落下式接触角的测量>
使表面张力为30mN/m的液滴相对于所述光学膜的所述第1面从45mm的高度落下，使所述液滴从与所述第1面垂直的方向落下，通过θ/2法测量着落10秒后的静态接触角。
图4是本公开的第2实施方式的光学膜100的截面形状的概略剖视图。
图4的光学膜100具有：第1面，其具有凹凸形状；以及第2面，其是与所述第1面相反一侧的面。在图4中，上侧的面为第1面，下侧的面为第2面。
图4的光学膜从第1面朝向第2面依次具有防反射层30、防眩层20和基材10。
图4是示意性的剖视图。即，构成光学膜100的各层的比例尺及凹凸形状的比例尺是为了容易图示而示意化的比例尺，与实际的比例尺不同。图5也是这样。
本公开的第2实施方式的光学膜不限定于图1的层叠结构。例如，本公开的第2实施方式的光学膜也可以为不具有基材的层叠结构。本公开的第2实施方式的光学膜也可以具有除基材、防眩层及防反射层以外的层。
<第1面>
本公开的第2实施方式的光学膜具有第1面。关于本公开的第2实施方式的光学膜，优选的是，防反射层的表面为第1面。
第2实施方式的光学膜的第1面具有凹凸形状，由ISO 25178-2：2012所规定的突出谷部空间体积Vvv为0.005ml/m2以上。在第1面不具有凹凸形状的情况下，无法使光学膜的防眩性良好。通过使第1面具有凹凸形状、且使Vvv为0.005ml/m2以上，由此能够容易使光学膜的防眩性良好。
Vvv优选为0.007ml/m2以上，更优选为0.010ml/m2以上，更优选为0.020ml/m2以上，更优选为0.030ml/m2以上。
若Vvv过大，则存在难以使落下式接触角为30.0度以上的倾向。因此，Vvv优选为0.100ml/m2以下，更优选为0.080ml/m2以下，更优选为0.060ml/m2以下，更优选为0.045ml/m2以下。
关于第1面的Vvv的范围的实施方式，可以列举出0.005ml/m2以上且0.100ml/m2以下、0.005ml/m2以上且0.080ml/m2以下、0.005ml/m2以上且0.060ml/m2以下、0.005ml/m2以上且0.045ml/m2以下、0.007ml/m2以上且0.100ml/m2以下、0.007ml/m2以上且0.080ml/m2以下、0.007ml/m2以上且0.060ml/m2以下、0.007ml/m2以上且0.045ml/m2以下、0.010ml/m2以上且0.100ml/m2以下、0.010ml/m2以上且0.080ml/m2以下、0.010ml/m2以上且0.060ml/m2以下、0.010ml/m2以上且0.045ml/m2以下、0.020ml/m2以上且0.100ml/m2以下、0.020ml/m2以上且0.080ml/m2以下、0.020ml/m2以上且0.060ml/m2以下、0.020ml/m2以上且0.045ml/m2以下、0.030ml/m2以上且0.100ml/m2以下、0.030ml/m2以上且0.080ml/m2以下、0.030ml/m2以上且0.060ml/m2以下、0.030ml/m2以上且0.045ml/m2以下。
第2实施方式的光学膜的第1面的通过下述方法测量的落下式接触角为30.0度以上。
<落下式接触角的测量>
使表面张力为30mN/m的液滴相对于所述光学膜的所述第1面从45mm的高度落下，使所述液滴从与所述第1面垂直的方向落下，通过θ/2法测量着落10秒后的静态接触角。
通过使第1面的落下式接触角为30.0度以上，能够容易使指纹擦拭性良好。以下说明落下式接触角与指纹擦拭性之间的关系。
在本公开的落下式接触角的测量中，使液滴相对于光学膜的第1面从45mm的高度落下。落下到第1面的液滴由于落下时的冲击而成为被压溃的形状，因此存在刚落下后的液滴的接触角变小的倾向。特别是在具有Vvv为规定的值以上的凹凸形状的光学膜的情况下，由于液滴容易润湿扩展，因此刚落下后的液滴的接触角变小的倾向变高。
在光学膜的第1面上，以被压溃的形状存在的液液难以擦拭。在本公开的落下式接触角的测量中，通过θ/2法测量着落10秒后的静态接触角。而且，本公开的光学膜的落下式接触角为30.0度以上。即，落下式接触角为30.0度以上的本公开的第2实施方式的光学膜是指：因落下时的冲击而成为被压溃的形状的液滴恢复为接近球形的形状。因此，对于本公开的第2实施方式的光学膜来说，尽管具有Vvv为0.005ml/m2以上的凹凸形状，但也能够使指纹擦拭性良好。
若用手指触摸光学膜的表面，则由于触摸时的压力，指纹成分渗透到凹凸形状的内部。在本公开的落下式接触角的测量中，使液滴从45mm的高度落下的理由是因为考虑了前述的现象(指纹成分因压力而渗透到凹凸形状的内部的现象)。
在落下式接触角的测量中，滴下的液滴的量为5.0μl。
在指纹中不仅包含水，还包含皮脂等。因此，在本公开的落下式接触角的测量中，使用表面张力为30mN/m的液体而不是纯水。在本说明书中，作为表面张力为30mN/m的液体，使用了下述组成的液体。在本说明书中，表面张力是指利用由JIS K2241：2017所规定的Wilhelmy表面张力计测量出的值。
<表面张力为30mN/m的液体的组成>
其是包含100质量％的乙二醇单乙醚的液体。
落下式接触角优选为40.0度以上，更优选为45.0度以上，进一步优选为50.0度以上。
在落下式接触角过大的情况下，防反射层中的氟系化合物及有机硅系化合物的含量增加，光学膜的耐擦伤性容易降低。因此，落下式接触角优选为70.0度以下，更优选为60.0度以下，进一步优选为55.0度以下。
关于第1面的落下式接触角的范围的实施方式，可以列举出30.0度以上且70.0度以下、30.0度以上且60.0度以下、30.0度以上且55.0度以下、40.0度以上且70.0度以下、40.0度以上且60.0度以下、40.0度以上且55.0度以下、45.0度以上且70.0度以下、45.0度以上且60.0度以下、45.0度以上且55.0度以下、50.0度以上且70.0度以下、50.0度以上且60.0度以下、50.0度以上且55.0度以下。
本公开的第2实施方式的光学膜的第1面的纯水接触角优选为100度以上且120度以下，更优选为110度以上且115度以下。
在第2实施方式中，本公开的光学膜的第1面的Vvv与由ISO 25178-2：2012所规定的芯部空间体积Vvc之比(Vvv/Vvc)优选为0.10以下。通过将Vvv/Vvc设为0.10以下，能够容易使指纹擦拭性更良好。Vvv/Vvc更优选为0.09以下，进一步优选为0.08以下。
在第2实施方式中，关于本公开的光学膜的第1面，优选的是，由ISO 25178-2：2012所规定的突出峰部实体体积Vmp为0.005ml/m2以上且0.100ml/m2以下。
通过使第1面的Vmp为0.005ml/m2以上，能够容易使防眩性良好。Vmp更优选为0.007ml/m2以上，更优选为0.010ml/m2以上，更优选为0.020ml/m2以上。
通过使第1面的Vmp为0.100ml/m2以下，能够容易使光学膜的耐擦伤性良好。Vmp更优选为0.080(ml/m2)以下，更优选为0.060(ml/m2)以下，更优选为0.045(ml/m2)以下。
在第2实施方式中，关于本公开的光学膜的第1面，优选的是，由ISO 25178-2：2012所规定的最小自相关长度Sal为4.0μm以上且12.0μm以下。
通过将Sal设为4.0μm以上，能够容易使指纹擦拭性更良好。通过将Sal设为12.0μm以下，能够容易使防眩性更良好。
Sal的下限更优选为5.0μm以上，进一步优选为6.0μm以上。Sal的上限更优选为11.0μm以下，进一步优选为10.0μm以下。
在第2实施方式中，本公开的光学膜的第1面的由ISO 25178-2：2012所规定的极点高度Sxp优选为0.15μm以上且2.00μm以下。
Sxp是表示将凹凸形状中的特别高的凸部去除后的、凹凸形状的平均面与凸部的差分的参数。通过将Sxp设为0.15μm以上，能够容易使防眩性良好。通过将Sxp设为2.00μm以下，能够容易使指纹擦拭性更良好。
Sxp的下限更优选为0.20μm以上，更优选为0.25μm以上，更优选为0.50μm以上，更优选为0.70μm以上。Sxp的上限更优选为1.80μm以下，更优选为1.50μm以下，更优选为1.40μm以下。
关于第1面的Sxp的范围的实施方式，可以列举出0.15μm以上且2.00μm以下、0.15μm以上且1.80μm以下、0.15μm以上且1.50μm以下、0.15μm以上且1.40μm以下、0.20μm以上且2.00μm以下、0.20μm以上且1.80μm以下、0.20μm以上且1.50μm以下、0.20μm以上且1.40μm以下、0.25μm以上且2.00μm以下、0.25μm以上且1.80μm以下、0.25μm以上且1.50μm以下、0.25μm以上且1.40μm以下、0.50μm以上且2.00μm以下、0.50μm以上且1.80μm以下、0.50μm以上且1.50μm以下、0.50μm以上且1.40μm以下、0.70μm以上且2.00μm以下、0.70μm以上且1.80μm以下、0.70μm以上且1.50μm以下、0.70μm以上且1.40μm以下。
在第2实施方式中，关于本公开的光学膜，优选的是，通过X射线光电子能谱法对第1面侧的表面区域进行分析而得到的元素比率满足下述的式2～式4。
3.5≤F/无机Si≤10.0(式2)，
0.08≤有机Si/无机Si≤1.00(式3)，
5.0≤F/有机Si≤50.0(式4)，
在式2～式4中，“F”是氟元素的比率，“无机Si”是归属于无机硅化合物的硅元素的比率，“有机Si”是归属于有机硅化合物的硅元素的比率。
在光学膜的第1面的表面区域中，无机Si能够降低第1面的折射率，另一方面，有使指纹擦拭性变差的倾向。另外，通过在光学膜的第1面的表面区域中相对于无机Si包含规定量以上的有机Si及F，由此，有使指纹擦拭性良好的倾向。进而，通过在光学膜的第1面的表面区域中平衡性良好地包包含机Si和F，由此，有使指纹擦拭性良好的倾向。因此，通过使F/无机Si为3.5以上、且使有机Si/无机Si为0.08以上、且使F/有机Si为5.0以上且50.0以下，由此，能够容易使落下式接触角为30.0度以上，且能够容易使指纹擦拭性良好。
另外，通过使F/无机Si为10.0以下、且使有机Si/无机Si为1.00以下，由此能够容易地抑制防反射层的涂布性降低。
F/无机Si、有机Si/无机Si、F/有机Si的优选范围的实施方式如上所述。
光学膜的第1面的表面区域的无机Si相对于全部元素的比例的范围的实施方式如上所述。
<层叠结构>
本公开的第2实施方式的光学膜从第1面朝向第2面依次具有防反射层及防眩层。第2实施方式的光学膜的第1面侧的最表面优选为防反射层。
如上所述，本公开的光学膜也可以具有除防反射层和防眩层以外的层。除防反射层和防眩层以外的层的实施方式如上所述。
《基材》
为了制造的容易性及操作性，第2实施方式的光学膜优选具有基材。
基材的材质、基材的构成、基材的厚度、基材的总透光率、基材的雾度、基材的表面处理的实施方式如上所述。
《防眩层》
在第2实施方式中，防眩层是承担防眩性的中心的层。
在第2实施方式中，防眩层例如可以通过(A)使用了压花辊的方法、(B)蚀刻处理、(C)基于模具的成型、(D)基于涂布的涂膜形成等来形成。为了容易得到稳定的表面形状，优选(C)的基于模具的成型，为了提高生产率和应对多品种，优选(D)的基于涂布的涂膜形成。
在(C)的方法中，例如，通过使树脂流入模具中，并将成型后的树脂从模具中取出，由此能够形成防眩层。从模具取出的成型后的树脂可以配置在基材上。对于模具，使用将防眩层的表面形状反转的模具。这样的模具例如可以通过下述的(c1-1)～(c1-2)或下述的(c2)的方法来制作。
(c1-1)通过模拟来制作Vvv等成为规定的范围的形状。进而，将模拟的形状反转。
(c1-2)以反转后的形状被反映的方式，利用激光对金属的表面进行雕刻、或者利用光刻对金属的表面进行加工，由此得到模具。
(c2)通过通用的电铸法，得到将通过(D)制作的防眩层的形状反转的模具。
在通过(D)形成防眩层的情况下，例如可列举出下述的(d1)和(d2)的方法。(d1)在比(d2)更容易调整Vvv等表面形状的范围这一点上是优选的。
(d1)将包含粘合剂树脂和颗粒的涂布液涂布并干燥、形成具有基于颗粒的凹凸的防眩层的方法。
(d2)涂布包含任意的树脂和与上述树脂的相溶性差的树脂的涂布液、使树脂相分离而形成凹凸的方法。
-厚度-
防眩层的厚度T的范围的实施方式如上所述。
-成分-
如上所述，防眩层优选主要包含树脂成分。进而，防眩层也可以根据需要包含上述的其他成分。
如上所述，防眩层优选包含粘合剂树脂和颗粒。
关于颗粒，可列举出有机颗粒及无机颗粒，优选无机颗粒。即，防眩层优选包含粘合剂树脂和无机颗粒。另外，防眩层更优选包含粘合剂树脂、无机颗粒及有机颗粒。
-颗粒-
关于无机颗粒和有机颗粒的材质的实施方式、无机颗粒和有机颗粒的形状的实施方式，只要没有特别提及则如上所述。
与球形的颗粒相比，无定形无机颗粒具有容易增大Vvv、容易减小Sal的倾向。但是，若无定形无机颗粒的粒径分布过宽，则Vvv容易变大，因此指纹擦拭性容易降低。特别是，若无定形无机颗粒发生凝聚，则Vvv变得更大，指纹擦拭性变得更容易降低。另一方面，若无定形无机颗粒的粒径分布过窄，则涂布适应性容易降低。因此，无定形无机颗粒的粒径的体积基准的累积分布优选为后述的范围。但是，若单独使用无机颗粒，则容易发生凝聚。因此，在第2实施方式中，为了使Vvv为上述范围且容易使指纹擦拭性良好，优选使无定形颗粒的粒径分布为后述的范围、并且并用有机颗粒。
在第2实施方式中，关于无定形无机颗粒等无机颗粒，优选的是，粒径的体积基准的累积分布d10、粒径的体积基准的累积分布d50、以及粒径的体积基准的累积分布d90满足下述(1)和(2)的关系。
1.5≤d50/d10≤4.0 (1)
1.0≤d90/d50≤3.0 (2)
d50/d10为1.5以上意味着粒径为平均以下的区域中的无机颗粒的粒度分布较宽。通过将d50/d10设为1.5以上，容易对凹凸表面赋予细小的凹凸，因此能够容易减小Sal。通过将d50/d10设为4.0以下，能够抑制埋没于防眩层的无机颗粒的量增加，从而提高无机颗粒的添加效率。
d90/d50为1.0以上意味着粒径为平均以上的区域中的无机颗粒的粒度分布较宽。通过将d90/d50设为1.0以上，能够容易增大Vvv、并且容易增大Sal。通过将d90/d50设为3.0以下，能够容易抑制Vvv变得过大、以及Sal变得过大的情况。
d50/d10的下限更优选为1.8以上，进一步优选为2.0以上，上限更优选为3.5以下，进一步优选为3.0以下。
d90/d50的下限更优选为1.3以上，进一步优选为1.5以上，上限更优选为2.5以下，进一步优选为2.0以下。
无定形无机颗粒等无机颗粒的d10、d50和d90能够通过激光衍射法来测量。
在第2实施方式中，无定形无机颗粒等无机颗粒的粒径的体积基准的累积分布d50优选为2.5μm以上且5.5μm以下，更优选为3.0μm以上且5.0μm以下，进一步优选为3.3μm以上且4.7μm以下。
通过将d50设为2.5μm以上，能够抑制无机颗粒的个数过度增加，因此能够容易抑制Sal变得过小。通过将d50设为5.5μm以下，能够抑制无机颗粒的个数过度减少，因此能够容易抑制Sal变得过大。另外，通过抑制无机颗粒的个数过度减少，由此能够容易在颗粒之间形成谷，因此能够容易增大Vvv。
防眩层的厚度T与无定形无机颗粒等无机颗粒的d50之比(d50/T)的范围的实施方式如上所述。
防眩层的厚度T与无定形无机颗粒等无机颗粒的d90之比(d90/T)的范围的实施方式如上所述。
无定形无机颗粒等无机颗粒的含量的范围的实施方式如上所述。
在第2实施方式中，相对于100质量份的粘合剂树脂，有机颗粒的含量优选为1质量份以上且25质量份以下、更优选为3质量份以上且18质量份以下、进一步优选为8质量份以上且14质量份以下。
通过使有机颗粒的含量为1质量份以上，能够容易地抑制无机颗粒的凝集。另外，通过使有机颗粒的含量为1质量份以上，能够抑制有机颗粒的个数过度减少，因此能够容易在颗粒之间形成谷。因此，能够容易增大Vvv。需要说明的是，若颗粒的数量减少，则Vmp有增加的倾向。
由于有机颗粒的粒径分布比较均匀，因此若有机颗粒的含量增加，则Sal变小的倾向变强。因此，通过使有机颗粒的含量为25质量份以下，由此，能够抑制Sal变得过小，容易使指纹擦拭性良好。
在第2实施方式中，有机颗粒的平均粒径优选为1.0μm以上且5.0μm以下，更优选为1.2μm以上且3.0μm以下，进一步优选为1.3μm以上且2.5μm以下。
通过使有机颗粒的平均粒径为1.0μm以上，能够抑制有机颗粒的个数过度增加，因此能够容易地抑制Sal变得过小。因此，通过使有机颗粒的平均粒径为1.0μm以上，能够容易使指纹擦拭性良好。通过使有机颗粒的平均粒径为5.0μm以下，能够抑制有机颗粒的个数过度减少，因此能够容易在颗粒之间形成谷。因此，能够容易增大Vvv。需要说明的是，若颗粒的数量减少，则Vmp有增加的倾向。
在第2实施方式中，关于有机颗粒，优选的是，粒度分布较窄。具体而言，在第2实施方式中，有机颗粒的平均粒径的±0.5μm的范围内的颗粒的比例优选为有机颗粒的总量的80体积％以上，更优选为85体积％以上，进一步优选为90％以上。通过使有机颗粒的粒度分布变窄，由此，均匀粒径的有机颗粒被致密地配置，从而容易抑制Vvv变得过大。
有机颗粒的形状的实施方式如上所述。
在第2实施方式中，有机颗粒的平均粒径与防眩层的厚度之比(有机颗粒的平均粒径/防眩层的厚度)优选为0.20以上且0.70以下，更优选为0.23以上且0.50以下，进一步优选为0.25以上且0.35以下。通过使有机颗粒的平均粒径/防眩层的厚度为上述范围，由此能够容易使Vvv和Sal为上述的范围。
-无机微粒-
如上所述，防眩层除了包含粘合剂树脂和颗粒以外，还可以进一步包含无机微粒。
无机微粒的材质及平均粒径的实施方式如上所述。
-粘合剂树脂-
如上所述，为了容易使耐擦伤性良好，粘合剂树脂优选包含热固性树脂组成物的固化物或电离放射线固化性树脂组成物的固化物等、固化性树脂组成物的固化物，更优选包含电离放射线固化性树脂组成物的固化物。
如上所述，粘合剂树脂也可以在不妨碍本公开的效果的范围内包含热塑性树脂。
关于固化性树脂组成物的固化物及热塑性树脂等粘合剂树脂的实施方式，只要没有特别提及则如上所述。
在第2实施方式中，在粘合剂树脂包含电离放射线固化性树脂组成物的固化物的情况下，电离放射线固化性树脂组成物优选包含多官能(甲基)丙烯酸酯单体和多官能(甲基)丙烯酸酯低聚物。
在第2实施方式中，多官能(甲基)丙烯酸酯单体与多官能(甲基)丙烯酸酯低聚物的质量比优选为5：95～60：40，更优选为20：80～60：40，进一步优选为40：60～60：40。
通过使多官能(甲基)丙烯酸酯单体为规定的比例以上，能够容易使防眩层的耐擦伤性良好。
通过使多官能(甲基)丙烯酸酯低聚物为规定的比例以上，能够提高防眩层用涂布液的粘度，容易抑制颗粒沉入防眩层的下方，并且能够容易抑制粘合剂树脂流下到基于颗粒的凸部之间。因此，能够容易使Vvv为规定的值以上，并且容易使Sal为规定的值以下。另一方面，若多官能(甲基)丙烯酸酯低聚物的比例过多，则有时防眩层的强度会降低。另外，若防眩层用涂布液的粘度过高，则有时Vmp会变得过大、或者Sal会变得过小。因此，电离放射线固化性树脂组成物优选包含规定量的多官能(甲基)丙烯酸酯低聚物和规定量的多官能(甲基)丙烯酸酯单体。
-溶剂、干燥条件-
如上所述，为了调节粘度、或者使各成分能够溶解或分散，防眩层涂布液优选包含溶剂。
只要没有特别提及，则溶剂的种类和混配量等的实施方式如上所述。
在第2实施方式中，防眩层涂布液中的溶剂优选以蒸发速度快的溶剂作为主成分。通过加快溶剂的蒸发速度，能够抑制颗粒沉入防眩层的下部，进而容易抑制粘合剂树脂流下到基于颗粒的凸部之间。因此，能够容易使Vvv为规定的值以上，并且容易使Sal为规定的值以下。
在第2实施方式中，在由防眩层涂布液形成防眩层时，优选对干燥条件进行控制。
可以通过干燥温度和干燥机内的风速来控制干燥条件。干燥温度优选为30℃以上且120℃以下，干燥风速优选为0.2m/s以上且50m/s以下。另外，为了通过干燥来控制防眩层的表面形状，优选在涂布液的干燥后进行电离放射线的照射。
关于干燥条件，优选在上述的温度范围和风速范围内实施2个阶段的干燥。而且，优选的是，与第1阶段的干燥相比，在第2阶段的干燥中，使干燥温度为高温且使风速增强。通过在第1阶段缓慢地进行干燥，由此，在粘合剂树脂覆盖无定形无机颗粒的表面时，能够容易地使无定形无机颗粒的形状反映在粘合剂树脂的表面。另外，通过使第2阶段的干燥温度比第1阶段的干燥温度高并增强风速，由此能够容易地抑制有机颗粒的凝集，因此能够容易致密地配置有机颗粒。因此，通过设为2个阶段的干燥，由此，能够容易使Vvv为规定的值以上，并且容易使Sal为规定的值以下。
在第1阶段的干燥中，优选将干燥温度设为30℃以上且小于60℃，并将干燥风速设为0.2m/s以上且小于7m/s。在第2阶段的干燥中，优选将干燥温度设为60℃以上且120℃以下，并将干燥风速设为7m/s以上且50m/s以下。
《防反射层》
在第2实施方式中，防反射层优选位于第1面侧的最表面。
关于防反射层的结构、构成低折射率层及高折射率层等防反射层的层的形成方法、形成低折射率层及高折射率层的材料的实施方式，只要没有特别提及则如上所述。
低折射率层的折射率、低折射率层的厚度、低折射率层的粘合剂树脂的实施方式如上所述。
在第2实施方式中，低折射率层的粘合剂树脂也可以包含热塑性树脂。通过包含热塑性树脂作为粘合剂树脂，由此，会提高低折射率层用涂布液的粘度，并且低折射率层用涂布液不易流下到防眩层的凸部之间。因此，通过包含热塑性树脂作为粘合剂树脂，由此能够容易使Vvv为规定的值以上，并且容易使Sal为规定的值以下。进而，由于容易使有机Si和氟残存在第1面的表面附近，因此能够容易满足式2～式4的元素比率。另一方面，若低折射率层用涂布液的粘度变得过高，则在涂布防反射层用涂布液时，有时会在防眩层的表面产生缺陷。
由于上述的作用和涂膜强度，热塑性树脂的含量优选为粘合剂树脂总量的0.1质量％以上且3.0质量％以下，更优选为0.2质量％以上且1.5质量％以下，进一步优选为0.3质量％以上且0.7质量％以下。
热塑性树脂的种类和重均分子量的实施方式如上所述。
关于中空颗粒及实心颗粒等低折射率颗粒的实施方式，只要没有特别提及则如上所述。
中空颗粒及实心颗粒的平均一次粒径、中空颗粒及实心颗粒的含量的实施方式如上所述。
在第2实施方式中，为了使第1表面容易满足上述式2～式4的元素比率，低折射率层优选包含包含有机Si及氟的流平剂。
所述流平剂的构成、所述流平剂的含量等的实施方式如上所述。
如上所述，高折射率层优选配置得比低折射率层更靠防眩层侧。
高折射率层的折射率、高折射率层的厚度、高折射率层的粘合剂树脂、高折射率颗粒、高折射率颗粒的平均一次粒径、以及高折射率颗粒的含量的实施方式如上所述。
在通过湿法形成低折射率层及高折射率层等防反射层时，优选提高防反射层用涂布液的粘度。通过提高防反射层用涂布液的粘度，防反射层用涂布液不易流下到防眩层的凸部之间，因此，即使在防眩层上形成防反射层，也能够容易地维持防眩层的表面形状。因此，通过适度提高防反射层用涂布液的粘度，能够容易使Vvv为规定的值以上，并且容易使Sal为规定的值以下。进而，由于容易使有机Si和氟残存在第1面的表面附近，因此能够容易满足式2～式4的元素比率。例如，通过添加热塑性树脂作为粘合剂树脂、或者增加低聚物的比例作为电离放射线固化性树脂组成物、或者选择粘度高的溶剂作为溶剂等，由此能够提高防反射层用涂布液的粘度。
另一方面，若过度提高防反射层用涂布液的粘度，则在涂布防反射层用涂布液时有时会在防眩层的表面产生缺陷。
因此，防反射层用涂布液在23℃下的粘度优选为0.1mPa·s以上且5.0mPa·s以下。
作为防反射层用涂布液的溶剂，可列举出与防眩层用涂布液的溶剂的实施方式同样的溶剂。
在由防反射层用涂布液形成防眩层时，优选对干燥条件进行控制。
对于干燥条件，可以通过干燥温度和干燥机内的风速来控制。干燥温度优选为30℃以上且70℃以下，干燥风速优选为10m/s以上且30m/s以下。通过将干燥温度设为低温，能够容易提高防反射层用涂布液的粘度。另外，通过增强风速，能够迅速提高防反射层用涂布液的粘度。因此，通过以较低的温度且较强的风速对防反射层用涂布液进行干燥，能够使防反射层用涂布液不易流下到防眩层的凸部之间。即，通过以较低的温度且较强的风速对防反射层用涂布液进行干燥，能够容易地使第1面的Vvv等表面形状成为上述的范围，并且能够容易满足式1～式4。
优选在防反射层用涂布液干燥后进行电离放射线的照射。
-3层结构以上的多层结构的情况-
3层结构以上的防反射层的层叠结构、各层的厚度的实施方式如上所述。
<光学特性>
关于第2实施方式的光学膜，通过下述方法测量的总光线反射率RSCI优选为3.0％以下。
[总光线反射率(RSCI)的测量]
制作在所述光学膜的所述第2面侧借助透明粘合剂贴合有黑色板而成的样品。将所述样品的所述光学膜侧作为光入射面来测量总光线反射率(RSCI)。
通过使RSCI为3.0％以下，由此，在照度强的光不入射到第1面的环境中，能够容易提高黑显示部的黑色调，因此能够容易使对比度良好。光学膜的RSCI更优选为2.5％以下，进一步优选为2.0％以下。光学膜的RSCI的下限没有特别限制，通常为0.1％以上。
通常，在将RSCI设为3.0％以下的情况下，具有指纹成分的部位与不具有指纹成分的部位的反射率的对比度变大，光学膜的美观性容易大幅降低。但是，在本公开的光学膜中，通过提高落下式接触角，由此指纹擦拭性良好，因此即使将RSCI设为3.0％以下，也能够容易地抑制光学膜的美观性降低。
RSCI是使用积分球从所有方向对样品表面赋予光、并关闭与正反射方向相当的光阱而测量出的反射光。
RSCI的测量装置、测量RSCI时所使用的样品的实施方式如上所述。
光学膜的JIS K7361-1：1997的总透光率优选为上述范围。光学膜的JIS K7136：2000的雾度优选为上述范围。光学膜的内部雾度优选为上述的范围。
关于光学膜的依据JIS K7374：2007测量出的透射图像鲜明度，C0.125、C0.25、C0.5、C1.0及C2.0优选为上述范围。光学膜的C0.125、C0.5、C1.0及C2.0的合计优选为上述范围。
<大小、形状等>
光学膜的大小、光学膜的形状、光学膜的第2表面的表面形状的实施方式如上所述。
[第2实施方式的光学膜的制造方法]
本公开的第2实施方式的光学膜的制造方法是上述的本公开的光学膜的制造方法，其具有在基材上形成防眩层的第1工序、和在所述防眩层上形成防反射层的第2工序。
作为在基材上形成防眩层的手段，可列举出上述的(A)使用了压花辊的方法、(B)蚀刻处理、(C)基于模具的成型、(D)基于涂布的涂膜形成。
在(A)的方法的情况下，例如，通过在基材上形成树脂层，从树脂层侧使用压花辊进行赋形，由此可以在基材上形成防眩层。
在(B)的方法的情况下，例如通过在基材上形成光固化性树脂的层并进行光蚀刻，由此能够在基材上形成防眩层。
在(C)的方法的情况下，例如，通过使树脂流入模具中，将成型后的树脂从模具中取出，并且配置在基材上，由此能够在基材上形成防眩层。
在(D)的方法的情况下，例如，通过利用上述(d1)或(d2)的方法在基材上形成涂膜，由此能够在基材上形成防眩层。
作为在防眩层上形成防反射层的手段，例如可以列举出上述的湿法或干法。
[第2实施方式的偏光板]
本公开的第2实施方式的偏光板具有偏光件、配置于所述偏光件的一侧的第一透明保护板、和配置于所述偏光件的另一侧的第二透明保护板，其中，所述第一透明保护板和所述第二透明保护板中的至少一方为上述的本公开的第2实施方式的光学膜，所述光学膜的所述第2面与所述偏光件对置地配置。
<偏光件>
偏光件的实施方式如上所述。
<透明保护板>
在偏光件的一侧配置有第一透明保护板，在另一侧配置有第二透明保护板。第一透明保护板和第二透明保护板中的至少一方为上述的本公开的第2实施方式的光学膜。
在本公开的偏光板中，可以是，第一透明保护板和第二透明保护板中的一方为上述的本公开的第2实施方式的光学膜，也可以是，第一透明保护板和第二透明保护板双方为上述的本公开的第2实施方式的光学膜。
作为第一透明保护板和第二透明保护板中的不是本公开的第2实施方式的光学膜的透明保护板，可以使用通用的塑料膜和玻璃等。
偏光件与透明保护板优选经由粘接剂贴合在一起。关于粘接剂，可以使用通用的粘接剂，优选PVA系粘接剂。
[第2实施方式的图像显示装置用的表面板]
本公开的第2实施方式的图像显示装置用的表面板是在树脂板或玻璃板上贴合有保护膜而成的图像显示装置用的表面板，其中，所述保护膜是上述的本公开的第2实施方式的光学膜，所述光学膜的所述第2面与所述树脂板或所述玻璃板对置地配置。
树脂板或玻璃板的实施方式如上所述。
[第2实施方式的图像显示面板]
本公开的第2实施方式的图像显示面板是具有显示元件、和配置于所述显示元件的光出射面侧的光学膜的图像显示面板，其中，所述图像显示面板包含上述的本公开的第2实施方式的光学膜作为所述光学膜(参照图5)。
在图像显示面板内，本公开的第2实施方式的光学膜优选以第2面侧朝向显示元件侧的方式配置。
在图像显示面板内，本公开的第2实施方式的光学膜优选配置于显示元件的光出射面侧的最表面。
显示元件的实施方式及图像显示面板的大小的实施方式如上所述。带触摸面板的图像显示面板的实施方式如上所述。
[第2实施方式的图像显示装置]
本公开的第2实施方式的图像显示装置包括本公开的第2实施方式的图像显示面板。
本公开的第2实施方式的图像显示装置只要包含本公开的第2实施方式的图像显示面板即可，没有特别限定。本公开的第2实施方式的图像显示装置优选具备本公开的第2实施方式的图像显示面板、与所述图像显示面板电连接的驱动控制部、以及收容它们的壳体。
背光源的实施方式、图像显示装置的大小的实施方式如上所述。
[第2实施方式的光学膜的选定方法]
本公开的第2实施方式的光学膜的选定方法选定满足下述选定条件的光学膜。
(光学膜的选定条件)
所述光学膜具有第1面、和作为与所述第1面相反一侧的面的第2面，其中，
所述光学膜从所述第1面朝向所述第2面依次具有防反射层和防眩层，
所述第1面具有凹凸形状，
所述第1面的由ISO 25178-2：2012所规定的突出谷部空间体积Vvv为0.005ml/m2以上，
通过下述的方法测量的落下式接触角为30.0度以上，
<落下式接触角的测量>
使表面张力为30mN/m的液滴相对于所述光学膜的所述第1面从45mm的高度落下，使所述液滴从与所述第1面垂直的方向落下，通过θ/2法测量着落10秒后的静态接触角。
包含本公开的图像显示面板。
在本公开的第2实施方式的光学膜的选定方法中，也可以具有追加的选定条件。作为追加的选定条件，可列举出第2实施方式的光学膜的优选的实施方式。作为追加的选定条件，例如可列举出下述A～D。
A：Vvv/Vvc为0.10以下。
B：所述光学膜从所述第1面朝向所述第2面依次具有所述防反射层、所述防眩层以及基材。
C：元素比率满足下述的式2～式4。
3.5≤F/无机Si≤10.0(式2)，
0.08≤有机Si/无机Si≤1.00(式3)，
5.0≤F/有机Si≤50.0(式4)，
D：通过下述方法测量的总光线反射率RSCI为3.0％以下，
[总光线反射率(RSCI)的测量]
制作在所述光学膜的所述第2面侧借助透明粘合剂贴合有黑色板而成的样品。将所述样品的所述光学膜侧作为光入射面来测量总光线反射率(RSCI)。
根据本公开的第2实施方式的光学膜的选定方法，能够高效地选定防眩性优异且指纹擦拭性良好的光学膜。
[指纹擦拭性的评价方法]
本公开的指纹擦拭性的评价方法将通过下述测量而测量出的落下式接触角的值作为评价指标。
<落下式接触角的测量>
使表面张力为30mN/m的液滴相对于测量对象物的表面从45mm的高度落下，使所述液滴从与所述表面垂直的方向落下，通过θ/2法测量着落10秒后的静态接触角。
根据本公开的指纹擦拭性的评价方法，能够简易地评价测量对象物的指纹擦拭性。具体而言，落下式接触角的值越小，则可以评价为指纹擦拭性越良好。
本公开包括以下的[1]～[34]。
[1]一种光学膜，其具有第1面、和作为与所述第1面相反一侧的面的第2面，其中，
所述光学膜从所述第1面朝向所述第2面依次具有防反射层和防眩层，
所述第1面具有凹凸形状，
所述第1面的由ISO 25178-2：2012所规定的算术平均高度Sa为0.05μm以上，
所述第1面满足下述的式1，
Sw×Vmp≤2.00(式1)，
在式1中，“Sw”是在所述第1面中30μl的纯水的液滴流下时的倾斜角，在式1中，“Vmp”是所述第1面的由ISO 25178-2：2012所规定的突出峰部实体体积的值，所述倾斜角的单位是度，所述突出峰部实体体积的单位是ml/m2。
[2]根据[1]所述的光学膜，其中，所述第1面的Vmp为0.005ml/m2以上且0.100ml/m2以下。
[3]根据[1]或[2]所述的光学膜，其中，所述第1面的由ISO 25178-2：2012所规定的、将使芯部与突出谷部分离的负荷面积率设为80％而算出的突出谷部空间体积Vvv为0.005ml/m2以上且0.100ml/m2以下。
[4]根据[3]所述的光学膜，其中，所述第1面的Vvv与由ISO 25178-2：2012所规定的芯部空间体积Vvc之比(Vvv/Vvc)为0.10以下。
[5]根据[1]～[4]中的任意一项所述的光学膜，其中，所述第1面的由ISO 25178-2：2012所规定的最小自相关长度Sal为4.0μm以上且12.0μm以下。
[6]根据[1]～[5]中的任意一项所述的光学膜，其中，所述光学膜从所述第1面朝向所述第2面依次具有所述防反射层、所述防眩层以及基材。
[7]根据[1]～[6]中的任意一项所述的光学膜，其中，所述防眩层包含粘合剂树脂和颗粒。
[8]根据[1]～[6]中的任意一项所述的光学膜，其中，所述光学膜的通过X射线光电子能谱法对所述第1面侧的表面区域进行分析而得到的元素比率满足下述的式2～式4，
3.5≤F/无机Si≤10.0(式2)，
0.08≤有机Si/无机Si≤1.00(式3)，
5.0≤F/有机Si≤50.0(式4)，
在式2～式4中，“F”是氟元素的比率，“无机Si”是归属于无机硅化合物的硅元素的比率，“有机Si”是归属于有机硅化合物的硅元素的比率。
[9]根据[8]所述的光学膜，其中，关于通过所述X射线光电子能谱法进行分析而得到的元素比率，无机Si相对于全部元素的比例为2原子％以上且20原子％以下。
[10]根据[1]～[9]中的任意一项所述的光学膜，其中，所述光学膜的通过下述方法测量的总光线反射率RSCI为3.0％以下，
[总光线反射率RSCI的测量]
制作在所述光学膜的所述第2面侧借助透明粘合剂贴合有黑色板而成的样品，将所述样品的所述光学膜侧作为光入射面来测量总光线反射率RSCI。
[11]根据[1]～[10]中的任意一项所述的光学膜，其中，所述光学膜的JIS K7136：2000的雾度为20％以上且75％以下。
[12]一种偏光板，其具有偏光件、配置于所述偏光件的一侧的第一透明保护板、以及配置于所述偏光件的另一侧的第二透明保护板，其中，
所述第一透明保护板和所述第二透明保护板中的至少一方是[1]～[11]中的任意一项所述的光学膜，所述光学膜的所述第2面与所述偏光件对置地配置。
[13]一种图像显示装置用的表面板，其是在树脂板或玻璃板上贴合有保护膜而成的，其中，所述保护膜是[1]～[11]中的任意一项所述的光学膜，所述光学膜的所述第2面与所述树脂板或所述玻璃板对置地配置。
[14]一种图像显示面板，其具有显示元件、和配置于所述显示元件的光出射面侧的光学膜，其中，作为所述光学膜，所述图像显示面板包含[1]～[11]中的任意一项所述的光学膜。
[15]一种图像显示装置，其包含[14]所述的图像显示面板。
[16]一种光学膜制造方法，其是[1]～[11]中的任意一项所述的光学膜的制造方法，其中，
所述光学膜制造方法具有：在基材上形成防眩层的第1工序；和在所述防眩层上形成防反射层的第2工序。
[17]一种光学膜的选定方法，其选定满足下述的选定条件的光学膜，
(光学膜的选定条件)
所述光学膜具有第1面、和作为与所述第1面相反一侧的面的第2面，其中，
所述光学膜从所述第1面朝向所述第2面依次具有防反射层和防眩层，
所述第1面具有凹凸形状，
所述第1面的由ISO 25178-2：2012所规定的算术平均高度Sa为0.05μm以上，
所述第1面满足下述的式1，
Sw×Vmp≤2.00(式1)，
在式1中，“Sw”是在所述第1面中30μl的纯水的液滴流下时的倾斜角，在式1中，“Vmp”是所述第1面的由ISO 25178-2：2012所规定的突出峰部实体体积的值，所述倾斜角的单位是度，所述突出峰部实体体积的单位是ml/m2。
[18]一种光学膜，其具有第1面、和作为与所述第1面相反一侧的面的第2面，其中，
所述光学膜从所述第1面朝向所述第2面依次具有防反射层和防眩层，
所述第1面具有凹凸形状，
所述第1面的由ISO 25178-2：2012所规定的突出谷部空间体积Vvv为0.005ml/m2以上，
通过下述的方法测量的落下式接触角为30.0度以上，
<落下式接触角的测量>
使表面张力为30mN/m的液滴相对于所述光学膜的所述第1面从45mm的高度落下，使所述液滴从与所述第1面垂直的方向落下，通过θ/2法测量着落10秒后的静态接触角。
[19]根据[18]所述的光学膜，其中，所述第1面的Vvv与由ISO 25178-2：2012所规定的芯部空间体积Vvc之比(Vvv/Vvc)为0.10以下。
[20]根据[18]或[19]所述的光学膜，其中，所述第1面的由ISO 25178-2：2012所规定的最小自相关长度Sal为4.0μm以上且12.0μm以下。
[21]根据[18]～[20]中的任意一项所述的光学膜，其中，所述第1面的极点高度Sxp为0.15μm以上且2.00μm以下，所述极点高度Sxp由ISO 25178-2：2012所规定，是指负荷面积率为2.5％的高度与负荷面积率为50％的高度之差。
[22]根据[18]～[21]中的任意一项所述的光学膜，其中，所述光学膜从所述第1面朝向所述第2面依次具有所述防反射层、所述防眩层以及基材。
[23]根据[18]～[22]中的任意一项所述的光学膜，其中，所述防眩层包含粘合剂树脂和颗粒。
[24]根据[18]～[23]中的任意一项所述的光学膜，其中，所述光学膜的通过X射线光电子能谱法对所述第1面侧的表面区域进行分析而得到的元素比率满足下述的式2～式4，
3.5≤F/无机Si≤10.0(式2)，
0.08≤有机Si/无机Si≤1.00(式3)，
5.0≤F/有机Si≤50.0(式4)，
在式2～式4中，“F”是氟元素的比率，“无机Si”是归属于无机硅化合物的硅元素的比率，“有机Si”是归属于有机硅化合物的硅元素的比率。
[25]根据[24]所述的光学膜，其中，关于通过所述X射线光电子能谱法进行分析而得到的元素比率，无机Si相对于全部元素的比例为2原子％以上且20原子％以下。
[26]根据[18]～[25]中的任意一项所述的光学膜，其中，所述光学膜的通过下述方法测量的总光线反射率RSCI为3.0％以下，
[总光线反射率RSCI的测量]
制作在所述光学膜的所述第2面侧借助透明粘合剂贴合有黑色板而成的样品，将所述样品的所述光学膜侧作为光入射面来测量总光线反射率RSCI。
[27]根据[18]～[26]中的任意一项所述的光学膜，其中，所述光学膜的JISK7136：2000的雾度为20％以上且75％以下。
[28]一种偏光板，其具有偏光件、配置于所述偏光件的一侧的第一透明保护板、以及配置于所述偏光件的另一侧的第二透明保护板，其中，
所述第一透明保护板和所述第二透明保护板中的至少一方是[18]～[27]中的任意一项所述的光学膜，所述光学膜的所述第2面与所述偏光件对置地配置。
[29]一种图像显示装置用的表面板，其是在树脂板或玻璃板上贴合有保护膜而成的，其中，所述保护膜是[18]～[27]中的任意一项所述的光学膜，所述光学膜的所述第2面与所述树脂板或所述玻璃板对置地配置。
[30]一种图像显示面板，其具有显示元件、和配置于所述显示元件的光出射面侧的光学膜，其中，作为所述光学膜，所述图像显示面板包含[18]～[27]中的任意一项所述的光学膜。
[31]一种图像显示装置，其包含[30]所述的图像显示面板。
[32]一种光学膜制造方法，其是[18]所述的光学膜的制造方法，其中，
所述光学膜制造方法具有：在基材上形成防眩层的第1工序；和在所述防眩层上形成防反射层的第2工序。
[33]一种光学膜的选定方法，其选定满足下述的选定条件的光学膜，
(光学膜的选定条件)
所述光学膜具有第1面、和作为与所述第1面相反一侧的面的第2面，其中，
所述光学膜从所述第1面朝向所述第2面依次具有防反射层和防眩层，
所述第1面具有凹凸形状，
所述第1面的由ISO 25178-2：2012所规定的突出谷部空间体积Vvv为0.005ml/m2以上，
通过下述的方法测量的落下式接触角为30.0度以上，
<落下式接触角的测量>
使表面张力为30mN/m的液滴相对于所述光学膜的所述第1面从45mm的高度落下，使所述液滴从与所述第1面垂直的方向落下，通过θ/2法测量着落10秒后的静态接触角。
[34]一种指纹擦拭性的评价方法，其以通过下述的测量所测量出的落下式接触角的值作为评价指标，
<落下式接触角的测量>
使表面张力为30mN/m的液滴相对于测量对象物的表面从45mm的高度落下，使所述液滴从与所述表面垂直的方向落下，通过θ/2法测量着落10秒后的静态接触角。
[实施例]
接着，通过实施例更详细地说明本公开，但本公开不受这些例子的任何限定。另外，只要没有特别说明，则“份”和“％”是质量基准。
《第1实施方式的实施例和比较例》
1.测量及评价
如下这样进行了实施例和比较例的光学膜的测量及评价。各测量和评价时的气氛为：温度为23±5℃，相对湿度为40％以上且65％以下。另外，在各测量和评价开始前，将对象样品在所述气氛中暴露30分钟以上且60分钟以下，然后进行测量和评价。将结果示于表1或2。
1-1.表面形状的测量
将实施例和比较例的光学膜切断成10cm×10cm。对于切断部位，在通过目视确认没有污物和伤痕等异常点的基础上，从随机的部位中选择切断部位。制作出如下这样的样品1：其是将切断后的光学膜的基材侧借助PANAC公司的光学透明粘合片(商品名：Panaclean PD-S1、厚度为25μm)贴合于纵10cm×横10cm的大小的玻璃板(厚度为2.0mm)而成的。
使用共聚焦激光显微镜(VK-X 250(控制部)、VK-X 260(测量部))，在以样品1成为固定且紧贴于测量台的状态的方式进行设置后，在以下的测量条件1、图像处理条件1以及解析条件1下，进行各样品的第1面的表面形状的测量及解析。需要说明的是，对于测量/解析软件，使用了多文件解析应用(版本为1.3.1.120)。
(测量条件1)
激光波长：408nm
测量用光学系统：共焦点光学系统
物镜：150倍
Zoom：1倍
测量区域：93.95μm×70.44μm
测量点的数量：1024×768点
测量条件：透明体表面形状/高精度/存在双扫描
(图像处理条件1)
·DCL/BCL：DCL＝13000，BCL＝65535，处理方法：从周围的像素补充
·高度截止等级：强
(解析条件1)
·区域：整个区域
·滤波器类别：高斯
·S-过滤器：0.25μm
·F-操作：平面倾斜校正(区域指定)
·L-过滤器：无
·终端效果的校正：ON
·计算Sal时的s：s＝0.20
·计算Sxp时的p、q：p＝2.5％，q＝50.0％
由解析软件显示各测量区域的“Sa”、“Vmp”、“Vvv”、“Vvc”、“Sal”、“Sxp”并将它们作为测量值。
1-2.接触角
<通常的接触角>
将实施例和比较例的光学膜切断为10cm见方。将切断后的光学膜的基材侧借助透明粘合片贴合于玻璃板(纵10cm×横10cm、厚度为2.0mm)，制作出测量用的样品。对于切断部位，在通过目视确认没有污物和伤痕等异常点后，从光学膜的随机的部位中选择切断部位。在将光学膜与玻璃板贴合时，使光学膜不产生褶皱，并且使光学膜与玻璃板之间不进入气泡。
使用接触角计(DM-300、协和界面科学公司)，在各样品的第1面侧的表面滴下1.0μL纯水，按照θ/2法测量着落10秒后的静态接触角。在滴加纯水时，使用了注射器的针部被氟树脂涂布的注射器。
<纯水落下倾斜角>
按照说明书正文的(1)～(3)的步骤，测量各样品的纯水落下倾斜角Sw。对于测量装置，使用了接触角计(协和界面科学公司的“DropMaster”系列的产品编号为“DMo-701”的产品。使用了“SA-301”作为附属品)。
1-3.元素比率
从实施例和比较例的光学膜切出测量用片。使用X射线光电子分光分析装置，在以下记载的条件下测量了各测量用片的第1面侧的表面区域的C1s轨道、O1s轨道、Si2p轨道和F1s轨道的X射线光电子能谱。对各X射线光电子能谱进行峰分离，求出F元素和Si元素等的比率。另外，由Si2p轨道的X射线光电子光谱求出归属于无机硅化合物的Si元素(无机Si)与归属于有机硅化合物的Si元素(有机Si)的比例。
<测量>
装置：岛津制作所公司制的商品名为“Kratos Nova”的装置
X射线源：AlKα
X射线输出：150W
发射电流：10mA
加速电压：15kV
测量区域：300×700μm
电荷中和机构：ON
通过能量(窄谱测量时)：40eV
1-4.总光线反射率(RSCI)
将实施例和比较例的光学膜切断成10cm×10cm。对于切断部位，在通过目视确认没有污物和伤痕等异常点的基础上，从随机的部位中选择切断部位。制作出如下这样的样品2：其是将切断后的光学膜的基材侧借助PANAC公司的光学透明粘合片(商品名：Panaclean PD-S1)贴合于纵10cm×横10cm的大小的黑色板(Kuraray公司、商品名：Comoglass DFA2CG 502K(黑)系、厚度为2mm)上而成的。
使用积分球分光光度计(柯尼卡美能达株式会社制、商品名：CM-2002)，从样品2的第1面侧测量了总光线反射率(RSCI)。积分球分光光度计的光源为D65，受光器的位置相对于样品的法线为+8度，受光器的开口角为10度，光阱的位置相对于样品的法线为-8度，视角为2度。
1-5.雾度(Hz)
将实施例和比较例的光学膜切断为10cm见方。对于切断部位，在通过目视确认没有污物和伤痕等异常点的基础上，从随机的部位中选择切断部位。使用雾度计(HM-150、村上色彩技术研究所制)，测量了各样品的JIS K7136：2000的雾度。
为了使光源稳定，在事先接通装置的电源开关后等待15分钟以上，在入口开口不设置任何东西地进行校正，然后在入口开口设置测量样品进行测量。将光入射面设为基材侧。
需要说明的是，实施例和比较例的光学膜的总透光率均为90％以上。
1-6.透射图像鲜明度
将实施例和比较例的光学膜切断为10cm见方。对于切断部位，在通过目视确认没有污物和伤痕等异常点的基础上，从随机的部位中选择切断部位。使用Suga试验机公司制的映像性测量仪(商品名：ICM-1T)，依据JIS K7374：2007测量了样品的透射图像鲜明度。光梳的宽度为0.125mm、0.25mm、0.5mm、1.0mm、2.0mm这5个宽度。将测量时的光入射面设为基材侧。将C0.125、C0.25、C0.5、C1.0及C2.0的值、以及C0.125、C0.5、C1.0及C2.0的合计值示于表2。
1-7.黑色调
关于样品，使用在1-4中制作出的样品2。除了将观测者的视线变更为距地面160cm左右以外，与1-4同样地观察样品。
20名受试者基于下述评价分数进行了评价。关于20名受试者，在20岁～50岁的各年龄段各为5名。算出20人的评价的平均分，按照下述基准进行排序。可以说，下述基准的排名越高，黑显示部的黑色调越良好。
<评价分数>
(1)未感觉到白度而充分感觉到黑色：3分
(2)虽然是黑色但稍微感觉到白度：2分
(3)注意到了白度：1分
<评价基准>
A：平均分为2.5以上
B：平均分为2.0以上且小于2.5
C：平均分为1.5以上且小于2.0
D：平均分小于1.5
1-8.防眩性
在明室环境下，以在1-4中制作的样品2的凹凸表面朝上的方式将其设置在高度为70cm的水平台上。此时，以处于照明光的大致正下方的方式设置样品。从正面观察样品(其中，观察者不遮挡照明光)，按照下述的评价基准评价了照明光向凹凸表面的映入。
在照明中，使用了Hf32型的直管三波长型日光色荧光灯，将照明的位置设为从水平台向铅垂方向上方2m的高度。在样品的凹凸表面上的照度为500lux以上且1000lux以下的范围内进行了评价。观测者的视线距地面120cm左右。观测者是视力为0.7以上的健康的30多岁的人。
<评价基准>
A：没有照明的轮廓，也不知道位置
B：没有照明的轮廓，但模糊地知道位置
C：模糊地知道照明的轮廓和位置
D：照明的轮廓的模糊性较弱，也清楚地知道位置
1-9.指纹擦拭性
使0.1ml的下述的人造污垢渗入废布。渗入的时间为10秒。关于废布，使用了日本制纸Crecia公司的商品名为“吸水擦拭纸”的产品。
以300g/cm2的载荷将渗入至废布的人工污垢转印至橡胶的表面。橡胶的形状是直径为12mm的圆柱形状。转印时间为5秒。以300g/cm2的载荷将转印至橡胶的表面的人工污垢转印至样品2的第1面。转印时间为5秒。使用分光测色计(柯尼卡美能达株式会社制，商品名：CM-600d)，从样品2的第1面侧测量转印有人工污垢的部位的全光线反射SCI的L*值、a*值和b*值。将得到的L*值、a*值和b*值作为L1、a1和b1。
接着，将转印有人工污垢的样品2的黑色板侧贴合于学振磨损试验机(TESTERSANGYO株式会社制、商品名为“AB-301”)的基座。将废布安装于所述试验机的摩擦件上，在下述的擦拭条件下将转印于样品2的第1面的人工污垢擦拭掉。关于废布，使用了AS ONE公司的商品名为“ASPURE PROPREA II”的商品。使用分光测色计(柯尼卡美能达株式会社制，商品名：CM-600d)，从样品2的第1面侧测量擦拭掉人工污垢后的部位的全光线反射SCI的L*值、a*值和b*值。将得到的L*值、a*值和b*值作为L2、a2和b2。
通过下述算式计算出色差(ΔE)，根据色差的值，按照下述基准进行排序。下述基准的排名越高，可以说指纹擦拭性越良好。
ΔE＝{(L1-L2)2+(a1-a2)2+(b1-b2)2}1/2
<人工污垢>
是包含约45质量％的油酸、约25质量％的三油酸甘油酯、约20质量％的油酸胆固醇、约4％的液体石蜡、约4％的角鲨烯、约2％的胆固醇的液体(伊势久公司制的人工污垢(依据JIS C9606：2007的污染液))。
<擦拭条件>
·移动速度：100mm/秒
·载荷：150g/cm2
·擦拭次数：单程1次
<评价基准>
A：色差为2以下
B：色差超过2且为4以下
C：色差超过4且为7以下
D：色差超过7
1-10.综合评价
基于防眩性和指纹擦拭性这2个评价，按照下述基准进行了综合评价。
<评价基准>
A：2个评价全部为A。
B：两个评价中的一个为A，一个为B。
C：2个评价中的2个均为B。
D：在2个评价中至少有1个为C或D。
2.光学膜的制作
[实施例1-1]
在基材(厚度为80μm的三乙酰纤维素树脂膜，富士胶片公司)上涂布下述的防眩层涂布液1-1。接着，以50℃、2m/s的风速干燥40秒，进一步以70℃、15m/s的风速干燥45秒。接着，在氧浓度为200ppm以下的氮气氛下以累积光量成为50mJ/cm2的方式照射紫外线，形成厚度为5.5μm的防眩层。
接着，在防眩层上涂布下述的低折射率层涂布液1-1。接着，以40℃、20m/s的风速干燥15秒，进一步以70℃、15m/s的风速干燥30秒。接着，在氧浓度为200ppm以下的氮气氛下以累积光量成为150mJ/cm2的方式照射紫外线，形成厚度为0.10μm的低折射率层，从而得到实施例1-1的光学膜。低折射率层的折射率为1.31。
<防眩层涂布液1-1>
·聚氨酯丙烯酸酯A 50份
(新中村化学工业公司、商品名：U-1100H：分子量800、官能团数为6)
·聚氨酯丙烯酸酯B10份
(新中村化学工业公司、商品名：U-15HA：分子量2300、官能团数为15)
·季戊四醇三丙烯酸酯40份
(东亚合成公司、商品名：M-305)
·二氧化硅颗粒23份
(表面处理无定形二氧化硅、d10：1.2μm、d50：3.8μm、d90：6.5μm)
·有机颗粒B 8份
(球状聚丙烯酸-苯乙烯共聚物、平均粒径为1.5μm、折射率为1.595)
·光聚合引发剂5.0份
(IGM Resins B.V.公司、商品名：Omnirad184)
·光聚合引发剂1.0份
(IGM Resins B.V.公司、商品名：Omnirad907)
·有机硅系流平剂0.1份
(Momentive Performance Materials公司、商品名：TSF 4460)
·溶剂(甲苯)195份
·溶剂(环己酮)5份
·溶剂(甲基异丁基酮)15份
<低折射率层涂布液1-1>
·多官能丙烯酸酯100份
(东亚合成公司制、商品名“Aronix M-400”)
·丙烯酸类聚合物0.5份(重均分子量：40000)
·中空二氧化硅颗粒180份
(平均一次粒径为75nm、用具有甲基丙烯酰基的硅烷偶联剂进行表面处理而成的颗粒)
·具有反应性官能团的氟系有机硅系流平剂600份
(信越化学公司、商品名“KY 1203”、固体成分：20％、溶剂：甲基异丁基酮)
·光聚合引发剂5.0份
(IGM Resins公司、商品名为“Omnirad127”)
·溶剂(甲基异丁基酮)11000份
·溶剂(1-甲氧基-2-丙基乙酸酯)1300份
[实施例1-2、1-3、1-5、1-6]
将防眩层涂布液1-1变更为下述的防眩层涂布液1-2～1-5，除此以外，与实施例1-1同样地操作而得到实施例1-2、1-3、1-5、1-6的光学膜。
[实施例1-4]
将防眩层涂布液1-1变更为下述的防眩层涂布液1-2，将低折射率层涂布液1-1变更为下述的低折射率层涂布液1-2，除此以外，与实施例1-1同样地操作而得到实施例1-4的光学膜。
[实施例1-7]
将防眩层涂布液1-1变更为下述的防眩层涂布液1-6，将防眩层的厚度设为4.8μm，除此以外，与实施例1-1同样地操作而得到实施例1-7的光学膜。
[实施例1-8]
将防眩层涂布液1-1变更为下述的防眩层涂布液1-2，将低折射率层涂布液1-1变更为下述的低折射率层涂布液1-3，除此以外，与实施例1-1同样地操作而得到实施例1-8的光学膜。低折射率层的折射率为1.36。
[比较例1-1]
将低折射率层涂布液1-1变更为下述的低折射率层涂布液1-4，除此以外，与实施例1-1同样地操作而得到比较例1-1的光学膜。
[比较例1-2～1-3]
将防眩层涂布液1-1变更为下述的防眩层涂布液1-2～1-3，除此以外，与比较例1-1同样地操作而得到比较例1-2～1-3的光学膜。
[比较例1-4]
将防眩层涂布液1-1变更为下述的防眩层涂布液1-7，将防眩层的厚度设为5.0μm，除此以外，与实施例1-1同样地操作而得到比较例1-4的光学膜。
<防眩层涂布液1-2>
·聚氨酯丙烯酸酯A 50份
(新中村化学工业公司、商品名：U-1100H：分子量800、官能团数为6)
·聚氨酯丙烯酸酯B10份
(新中村化学工业公司、商品名：U-15HA：分子量2300、官能团数为15)
·季戊四醇三丙烯酸酯40份
(东亚合成公司、商品名：M-305)
·二氧化硅颗粒21份(表面处理无定形二氧化硅、d10：1.2μm、d50：3.8μm、d90：6.5μm)·有机颗粒B10份(球状聚丙烯酸-苯乙烯共聚物、平均粒径为1.5μm、折射率为1.595)·光聚合引发剂5.0份(IGM Resins B.V.公司、商品名：Omnirad184)
·光聚合引发剂1.0份(IGM Resins B.V.公司、商品名：Omnirad907)
·有机硅系流平剂0.1份(Momentive Performance Materials公司、商品名：TSF4460)
·溶剂(甲苯)185份
·溶剂(环己酮)15份
·溶剂(甲基异丁基酮)15份
<防眩层涂布液1-3>
·聚氨酯丙烯酸酯A 50份(新中村化学工业公司、商品名：U-1100H：分子量800、官能团数为6)·聚氨酯丙烯酸酯B10份(新中村化学工业公司、商品名：U-15HA：分子量2300、官能团数为15)·季戊四醇三丙烯酸酯40份(东亚合成公司、商品名：M-305)
·二氧化硅颗粒19份(表面处理无定形二氧化硅、d10：1.2μm、d50：3.8μm、d90：6.5μm)·有机颗粒A 3份(球状聚丙烯酸-苯乙烯共聚物、平均粒径为1.5μm、折射率为1.515)·有机颗粒B 5份(球状聚丙烯酸-苯乙烯共聚物、平均粒径为1.5μm、折射率为1.595)·光聚合引发剂5.0份(IGM Resins B.V.公司、商品名：Omnirad184)
·光聚合引发剂1.0份(IGM Resins B.V.公司、商品名：Omnirad907)
·有机硅系流平剂0.1份(Momentive Performance Materials公司、商品名：TSF4460)
·溶剂(甲苯)165份
·溶剂(环己酮)20份
·溶剂(甲基异丁基酮)30份
<防眩层涂布液1-4>
·聚氨酯丙烯酸酯A 50份(新中村化学工业公司、商品名：U-1100H：分子量800、官能团数为6)·聚氨酯丙烯酸酯B10份(新中村化学工业公司、商品名：U-15HA：分子量2300、官能团数为15)·季戊四醇三丙烯酸酯40份(东亚合成公司、商品名：M-305)
·二氧化硅颗粒20份(表面处理无定形二氧化硅、d10：1.2μm、d50：3.8μm、d90：6.5μm)·有机颗粒A 8份(球状聚丙烯酸-苯乙烯共聚物、平均粒径为1.5μm、折射率为1.515)·有机颗粒B 2份(球状聚丙烯酸-苯乙烯共聚物、平均粒径为1.5μm、折射率为1.595)·光聚合引发剂5.0份(IGM Resins B.V.公司、商品名：Omnirad184)
·光聚合引发剂1.0份(IGM Resins B.V.公司、商品名：Omnirad907)
·有机硅系流平剂0.1份(Momentive Performance Materials公司、商品名：TSF4460)
·溶剂(甲苯)190份
·溶剂(环己酮)10份
·溶剂(甲基异丁基酮)15份
<防眩层涂布液1-5>
·聚氨酯丙烯酸酯A 50份(新中村化学工业公司、商品名：U-1100H：分子量800、官能团数为6)·聚氨酯丙烯酸酯B10份(新中村化学工业公司、商品名：U-15HA：分子量2300、官能团数为15)·季戊四醇三丙烯酸酯40份(东亚合成公司、商品名：M-305)
·二氧化硅颗粒10份(表面处理无定形二氧化硅、d10：1.0μm、d50：3.0μm、d90：4.8μm)·有机颗粒A 5份(球状聚丙烯酸-苯乙烯共聚物、平均粒径为1.5μm、折射率为1.515)·有机颗粒B 5份(球状聚丙烯酸-苯乙烯共聚物、平均粒径为1.5μm、折射率为1.595)·光聚合引发剂5.0份(IGM Resins B.V.公司、商品名：Omnirad184)
·光聚合引发剂1.0份(IGM Resins B.V.公司、商品名：Omnirad907)
·有机硅系流平剂0.1份(Momentive Performance Materials公司、商品名：TSF4460)
·溶剂(甲苯)170份
·溶剂(环己酮)40份
·溶剂(甲基异丁基酮)5份
<防眩层涂布液1-6>
·聚氨酯丙烯酸酯C 50份(三菱化学公司、商品名：U-1700B：分子量2000、官能团数为10)
·季戊四醇三丙烯酸酯50份(东亚合成公司、商品名：M-305)
·有机颗粒C11份(球状聚丙烯酸-苯乙烯共聚物、平均粒径为3.0μm、折射率为1.595)·无机超微颗粒70份(在表面导入有反应性官能团的二氧化硅、溶剂：MIBK、固体成分：30％)(平均一次粒径为12nm)
·光聚合引发剂5.0份(IGM Resins B.V.公司、商品名：Omnirad184)
·光聚合引发剂1.0份(IGM Resins B.V.公司、商品名：Omnirad907)
·有机硅系流平剂0.1份(Momentive Performance Materials公司、商品名：TSF4460)
·溶剂(甲苯)170份
·溶剂(环己酮)25份
<防眩层涂布液1-7>
·聚氨酯丙烯酸酯A 30份(三菱化学公司、商品名：U-1700B：分子量2000、官能团数为10)
·聚氨酯丙烯酸酯B10份(新中村化学工业公司、商品名：U-15HA：分子量2300、官能团数为15)·季戊四醇三丙烯酸酯60份(东亚合成公司、商品名：M-305)
·二氧化硅颗粒3份(表面处理无定形二氧化硅、d10：1.0μm、d50：3.0μm、d90：4.8μm)·有机颗粒B 0.5份(球状聚丙烯酸-苯乙烯共聚物、平均粒径为1.5μm、折射率为1.595)
·光聚合引发剂5.0份(IGM Resins B.V.公司、商品名：Omnirad184)
·光聚合引发剂1.0份(IGM Resins B.V.公司、商品名：Omnirad907)
·有机硅系流平剂0.1份(Momentive Performance Materials公司、商品名：TSF4460)
·溶剂(甲苯)180份
·溶剂(环己酮)5份
·溶剂(甲基异丁基酮)25份
<低折射率层涂布液1-2>
·多官能丙烯酸酯180份
(东亚合成公司制、商品名“Aronix M-400”)
·中空二氧化硅颗粒100份
(平均一次粒径为75nm、用具有甲基丙烯酰基的硅烷偶联剂进行表面处理而成的颗粒)
·具有反应性官能团的氟系有机硅系流平剂600份
(信越化学公司、商品名“KY 1203”、固体成分：20％、溶剂：甲基异丁基酮)
·光聚合引发剂5份
(IGM Resins公司、商品名为“Omnirad127”)
·溶剂(甲基异丁基酮)11000份
·溶剂(1-甲氧基-2-丙基乙酸酯)1300份
<低折射率层涂布液1-3>
·多官能丙烯酸酯100份
(东亚合成公司制、商品名“Aronix M-400”)
·中空二氧化硅颗粒100份
(平均一次粒径为75nm、用具有甲基丙烯酰基的硅烷偶联剂进行表面处理而成的颗粒)
·丙烯酸类聚合物0.5份(重均分子量：40000)
·具有反应性官能团的氟系有机硅系流平剂250份
(信越化学公司、商品名“KY 1203”、固体成分：20％、溶剂：甲基异丁基酮)
·光聚合引发剂5份
(IGM Resins公司、商品名为“Omnirad127”)
·溶剂(甲基异丁基酮)11000份
·溶剂(1-甲氧基-2-丙基乙酸酯)1300份
<低折射率层涂布液1-4>
·多官能丙烯酸酯100份
(东亚合成公司制、商品名“Aronix M-400”)
·丙烯酸类聚合物0.5份(重均分子量：40000)
·中空二氧化硅颗粒180份
(平均一次粒径为75nm、用具有甲基丙烯酰基的硅烷偶联剂进行表面处理而成的颗粒)
·具有反应性官能团的氟系有机硅系流平剂150份
(信越化学公司、商品名“KY 1203”、固体成分：20％、溶剂：甲基异丁基酮)
·光聚合引发剂5.0份
(IGM Resins公司、商品名为“Omnirad127”)
·溶剂(甲基异丁基酮)11000份
·溶剂(1-甲氧基-2-丙基乙酸酯)1300份
[表1]
[表2]
由表1的结果可以确认，第1实施方式的实施例的光学膜能够使防眩性及指纹擦拭性良好。
《第2实施方式的实施例和比较例》
3.测量及评价
如下这样进行实施例和比较例的光学膜的测量及评价。各测量和评价时的气氛为：温度为23±5℃，相对湿度为40％以上且65％以下。另外，在各测量和评价开始前，将对象样品在所述气氛中暴露30分钟以上且60分钟以下，然后进行测量和评价。将结果示于表3或4。
3-1.表面形状的测量
通过与上述1-1同样的方法，测量了实施例和比较例的光学膜的表面形状。
3-2.接触角
<通常的接触角>
通过与上述1-2同样的方法，测量了实施例和比较例的光学膜的通常的接触角。
<落下式接触角>
将表面张力为30mN/m的液滴放入注射器中，该注射器的针部被氟树脂涂布。对于各样品的第1面，使表面张力为30mN/m的液滴从45mm的高度自然落下。落下的液滴的量为5.0μl。关于液体，使用下述组成的液体。使液滴从第1面的垂直方向落下。通过θ/2法测量着落10秒后的静态接触角。关于测量装置，使用了接触角计(型号：DM-300、协和界面科学公司)。
<液体的组成>
其是包含100质量％的乙二醇单乙醚的液体(富士胶片和光纯药公司、型号：润湿张力试验用混合液No.30)
3-3.元素比率
通过与上述1-3同样的方法，测量了实施例和比较例的光学膜的第1面侧的表面区域的元素比率。
3-4.总光线反射率(RSCI)
通过与上述1-4同样的方法，测量了实施例和比较例的光学膜的总光线反射率(RSCI)。
3-5.雾度(Hz)
通过与上述1-5同样的方法，测量了实施例和比较例的光学膜的雾度。
需要说明的是，实施例和比较例的光学膜的总透光率均为90％以上。
3-6.透射图像鲜明度
通过与上述1-6同样的方法，测量了实施例和比较例的光学膜的透射图像鲜明度。
3-7.黑色调
通过与上述1-7同样的方法，评价了实施例和比较例的光学膜的黑色调。
3-8.防眩性
通过与上述1-8同样的方法，评价了实施例和比较例的光学膜的防眩性。
3-9.指纹擦拭性
通过与上述1-9同样的方法，评价了实施例和比较例的光学膜的指纹擦拭性。
3-10.综合评价
通过与上述1-10同样的基准，进行了实施例和比较例的光学膜的综合评价。
4.光学膜的制作
[实施例2-1]
在基材(厚度为80μm的三乙酰纤维素树脂膜、富士胶片公司)上涂布下述的防眩层涂布液2-1。接着，以50℃、2m/s的风速干燥40秒，进一步以70℃、15m/s的风速干燥45秒。接着，在氧浓度为200ppm以下的氮气氛下以累积光量成为50mJ/cm2的方式照射紫外线，形成厚度为5.5μm的防眩层。
接着，在防眩层上涂布下述的低折射率层涂布液2-1。接着，以40℃、20m/s的风速干燥15秒，进一步以70℃、15m/s的风速干燥30秒。接着，在氧浓度为200ppm以下的氮气氛下以累积光量成为150mJ/cm2的方式照射紫外线，形成厚度为0.10μm的低折射率层，从而得到实施例2-1的光学膜。低折射率层的折射率为1.31。
<防眩层涂布液2-1>
·聚氨酯丙烯酸酯A 30份
(三菱化学公司、商品名：U-1700B：分子量2000、官能团数为10)
·聚氨酯丙烯酸酯B10份
(新中村化学工业公司、商品名：U-15HA：分子量2300、官能团数为15)
·季戊四醇三丙烯酸酯60份
(东亚合成公司、商品名：M-305)
·二氧化硅颗粒23份
(表面处理无定形二氧化硅、d10：1.2μm、d50：3.7μm、d90：6.2μm)
·有机颗粒B 8份
(球状聚丙烯酸-苯乙烯共聚物、平均粒径为1.5μm、折射率为1.595)
·光聚合引发剂5.0份
(IGM Resins B.V.公司、商品名：Omnirad184)
·光聚合引发剂1.0份
(IGM Resins B.V.公司、商品名：Omnirad907)
·有机硅系流平剂0.1份
(Momentive Performance Materials公司、商品名：TSF 4460)
·溶剂(甲苯)190份
·溶剂(环己酮)5份
·溶剂(甲基异丁基酮)20份
<低折射率层涂布液2-1>
·多官能丙烯酸酯100份
(东亚合成公司制、商品名“Aronix M-400”)
·丙烯酸类聚合物0.5份(重均分子量：40000)
·中空二氧化硅颗粒180份
(平均一次粒径为75nm、用具有甲基丙烯酰基的硅烷偶联剂进行表面处理而成的颗粒)
·具有反应性官能团的氟系有机硅系流平剂600份
(信越化学公司、商品名“KY 1203”、固体成分：20％、溶剂：甲基异丁基酮)
·光聚合引发剂5.0份
(IGM Resins公司、商品名为“Omnirad127”)
·溶剂(甲基异丁基酮)11000份
·溶剂(1-甲氧基-2-丙基乙酸酯)1300份
[实施例2-2、2-3、2-5、2-6]
将防眩层涂布液2-1变更为下述的防眩层涂布液2-2～2-5，除此以外，与实施例2-1同样地操作而得到实施例2-2、2-3、2-5、2-6的光学膜。
[实施例2-4]
将防眩层涂布液2-1变更为下述的防眩层涂布液2-2，将低折射率层涂布液2-1变更为下述的低折射率层涂布液2-2，除此以外，与实施例2-1同样地操作而得到实施例2-4的光学膜。
[实施例2-7]
将防眩层涂布液2-1变更为下述的防眩层涂布液2-6，将防眩层的厚度设为4.8μm，除此以外，与实施例2-1同样地操作而得到实施例2-7的光学膜。
[实施例2-8]
将防眩层涂布液2-1变更为下述的防眩层涂布液2-2，将低折射率层涂布液2-1变更为下述的低折射率层涂布液2-3，除此以外，与实施例2-1同样地操作而得到实施例2-8的光学膜。低折射率层的折射率为1.36。
[比较例2-1]
将低折射率层涂布液2-1变更为下述的低折射率层涂布液2-4，除此以外，与实施例2-1同样地操作而得到比较例2-1的光学膜。
[比较例2-2～2-3]
将防眩层涂布液2-1变更为下述的防眩层涂布液2-2～2-3，除此以外，与比较例2-1同样地操作而得到比较例2-2～2-3的光学膜。
[比较例2-4]
将防眩层涂布液2-1变更为下述的防眩层涂布液2-7，将防眩层的厚度设为5.0μm，除此以外，与实施例2-1同样地操作而得到比较例2-4的光学膜。
<防眩层涂布液2-2>
·聚氨酯丙烯酸酯A 30份
(三菱化学公司、商品名：U-1700B：分子量2000、官能团数为10)
·聚氨酯丙烯酸酯B10份
(新中村化学工业公司、商品名：U-15HA：分子量2300、官能团数为15)
·季戊四醇三丙烯酸酯60份
(东亚合成公司、商品名：M-305)
·二氧化硅颗粒21份
(表面处理无定形二氧化硅、d10：1.2μm、d50：3.7μm、d90：6.2μm)
·有机颗粒B10份
(球状聚丙烯酸-苯乙烯共聚物、平均粒径为1.5μm、折射率为1.595)
·光聚合引发剂5.0份
(IGM Resins B.V.公司、商品名：Omnirad184)
·光聚合引发剂1.0份
(IGM Resins B.V.公司、商品名：Omnirad907)
·有机硅系流平剂0.1份
(Momentive Performance Materials公司、商品名：TSF 4460)
·溶剂(甲苯)180份
·溶剂(环己酮)15份
·溶剂(甲基异丁基酮)20份
<防眩层涂布液2-3>
·聚氨酯丙烯酸酯A 30份
(三菱化学公司、商品名：U-1700B：分子量2000、官能团数为10)
·聚氨酯丙烯酸酯B10份
(新中村化学工业公司、商品名：U-15HA：分子量2300、官能团数为15)·季戊四醇三丙烯酸酯60份(东亚合成公司、商品名：M-305)
·二氧化硅颗粒19份(表面处理无定形二氧化硅、d10：1.2μm、d50：3.7μm、d90：6.2μm)·有机颗粒A 3份(球状聚丙烯酸-苯乙烯共聚物、平均粒径为1.5μm、折射率为1.515)·有机颗粒B 5份(球状聚丙烯酸-苯乙烯共聚物、平均粒径为1.5μm、折射率为1.595)·光聚合引发剂5.0份(IGM Resins B.V.公司、商品名：Omnirad184)
·光聚合引发剂1.0份(IGM Resins B.V.公司、商品名：Omnirad907)
·有机硅系流平剂0.1份(Momentive Performance Materials公司、商品名：TSF4460)
·溶剂(甲苯)175份
·溶剂(环己酮)15份
·溶剂(甲基异丁基酮)25份
<防眩层涂布液2-4>
·聚氨酯丙烯酸酯A 30份(三菱化学公司、商品名：U-1700B：分子量2000、官能团数为10)
·聚氨酯丙烯酸酯B10份(新中村化学工业公司、商品名：U-15HA：分子量2300、官能团数为15)·季戊四醇三丙烯酸酯60份(东亚合成公司、商品名：M-305)
·二氧化硅颗粒20份(表面处理无定形二氧化硅、d50：3.5μm)
·有机颗粒A 8份(球状聚丙烯酸-苯乙烯共聚物、平均粒径为1.5μm、折射率为1.515)·有机颗粒B 2份(球状聚丙烯酸-苯乙烯共聚物、平均粒径为1.5μm、折射率为1.595)
·光聚合引发剂5.0份(IGM Resins B.V.公司、商品名：Omnirad184)
·光聚合引发剂1.0份(IGM Resins B.V.公司、商品名：Omnirad907)
·有机硅系流平剂0.1份(Momentive Performance Materials公司、商品名：TSF4460)
·溶剂(甲苯)200份
·溶剂(环己酮)5份
·溶剂(甲基异丁基酮)10份
<防眩层涂布液2-5>
·聚氨酯丙烯酸酯A 30份(三菱化学公司、商品名：U-1700B：分子量2000、官能团数为10)
·聚氨酯丙烯酸酯B10份(新中村化学工业公司、商品名：U-15HA：分子量2300、官能团数为15)·季戊四醇三丙烯酸酯60份(东亚合成公司、商品名：M-305)
·二氧化硅颗粒10份(表面处理无定形二氧化硅、d10：0.08μm、d50：2.8μm、d90：4.5μm)·有机颗粒A 5份(球状聚丙烯酸-苯乙烯共聚物、平均粒径为1.5μm、折射率为1.515)
·有机颗粒B 5份(球状聚丙烯酸-苯乙烯共聚物、平均粒径为1.5μm、折射率为1.595)
·光聚合引发剂5.0份(IGM Resins B.V.公司、商品名：Omnirad184)
·光聚合引发剂1.0份(IGM Resins B.V.公司、商品名：Omnirad907)
·有机硅系流平剂0.1份(Momentive Performance Materials公司、商品名：TSF4460)
·溶剂(甲苯)180份
·溶剂(环己酮)30份
·溶剂(甲基异丁基酮)5份
<防眩层涂布液2-6>
·聚氨酯丙烯酸酯C 60份(新中村化学工业公司、商品名：U-1100H：分子量800、官能团数为6)·季戊四醇三丙烯酸酯40份(东亚合成公司、商品名：M-305)
·有机颗粒C11份(球状聚丙烯酸-苯乙烯共聚物、平均粒径为3.0μm、折射率为1.595)
·无机超微颗粒70份(在表面导入有反应性官能团的二氧化硅、溶剂：MIBK、固体成分：30％)(平均一次粒径为12nm)
·光聚合引发剂5.0份(IGM Resins B.V.公司、商品名：Omnirad184)
·光聚合引发剂1.0份(IGM Resins B.V.公司、商品名：Omnirad907)
·有机硅系流平剂0.1份(Momentive Performance Materials公司、商品名：TSF4460)
·溶剂(甲苯)180份
·溶剂(环己酮)15份
<防眩层涂布液2-7>
·聚氨酯丙烯酸酯A 30份(三菱化学公司、商品名：U-1700B：分子量2000、官能团数为10)
·聚氨酯丙烯酸酯B10份(新中村化学工业公司、商品名：U-15HA：分子量2300、官能团数为15)·季戊四醇三丙烯酸酯60份(东亚合成公司、商品名：M-305)
·二氧化硅颗粒3份
(表面处理无定形二氧化硅、d10：0.08μm、d50：2.8μm、d90：4.5μm)
·有机颗粒B 0.5份
(球状聚丙烯酸-苯乙烯共聚物、平均粒径为1.5μm、折射率为1.595)
·光聚合引发剂5.0份
(IGM Resins B.V.公司、商品名：Omnirad184)
·光聚合引发剂1.0份
(IGM Resins B.V.公司、商品名：Omnirad907)
·有机硅系流平剂0.1份
(Momentive Performance Materials公司、商品名：TSF 4460)
·溶剂(甲苯)180份
·溶剂(环己酮)5份
·溶剂(甲基异丁基酮)25份
<低折射率层涂布液2-2>
·多官能丙烯酸酯180份
(东亚合成公司制、商品名“Aronix M-400”)
·中空二氧化硅颗粒100份
(平均一次粒径为75nm、用具有甲基丙烯酰基的硅烷偶联剂进行表面处理而成的颗粒)
·具有反应性官能团的氟系有机硅系流平剂600份
(信越化学公司、商品名“KY 1203”、固体成分：20％、溶剂：甲基异丁基酮)
·光聚合引发剂5份
(IGM Resins公司、商品名为“Omnirad127”)
·溶剂(甲基异丁基酮)11000份
·溶剂(1-甲氧基-2-丙基乙酸酯)1300份
<低折射率层涂布液2-3>
·多官能丙烯酸酯100份
(东亚合成公司制、商品名“Aronix M-400”)
·丙烯酸类聚合物0.5份(重均分子量：40000)
·中空二氧化硅颗粒100份
(平均一次粒径为75nm、用具有甲基丙烯酰基的硅烷偶联剂进行表面处理而成的颗粒)
·具有反应性官能团的氟系有机硅系流平剂250份
(信越化学公司、商品名“KY 1203”、固体成分：20％、溶剂：甲基异丁基酮)
·光聚合引发剂5份
(IGM Resins公司、商品名为“Omnirad127”)
·溶剂(甲基异丁基酮)11000份
·溶剂(1-甲氧基-2-丙基乙酸酯)1300份
<低折射率层涂布液2-4>
·多官能丙烯酸酯100份
(东亚合成公司制、商品名“Aronix M-400”)
·丙烯酸类聚合物0.5份(重均分子量：40000)
·中空二氧化硅颗粒180份
(平均一次粒径为75nm、用具有甲基丙烯酰基的硅烷偶联剂进行表面处理而成的颗粒)
·具有反应性官能团的氟系有机硅系流平剂150份
(信越化学公司、商品名“KY 1203”、固体成分：20％、溶剂：甲基异丁基酮)
·光聚合引发剂5.0份
(IGM Resins公司、商品名为“Omnirad127”)
·溶剂(甲基异丁基酮)11000份
·溶剂(1-甲氧基-2-丙基乙酸酯)1300份
[表3]
[表4]
由表3的结果可以确认，第2实施方式的实施例的光学膜能够使防眩性和指纹擦拭性良好。
标号说明
10：基材；
20：防眩层；
30：防反射层；
100：光学膜；
110：显示元件；
120：图像显示面板；
200：水平面；
300：台的平面；
400：液滴。

Claims (17)

1.一种光学膜，其具有第1面、和作为与所述第1面相反一侧的面的第2面，其中，
所述光学膜从所述第1面朝向所述第2面依次具有防反射层和防眩层，
所述第1面具有凹凸形状，
所述第1面的由ISO 25178-2：2012所规定的突出谷部空间体积Vvv为0.005ml/m2以上，并且，所述第1面的由ISO 25178-2：2012所规定的最小自相关长度Sal为4.0μm以上且12.0μm以下，
通过下述的方法测量的落下式接触角为30.0度以上，
<落下式接触角的测量>
使表面张力为30mN/m的液滴相对于所述光学膜的所述第1面从45mm的高度落下，使所述液滴从与所述第1面垂直的方向落下，通过θ/2法测量着落10秒后的静态接触角。
2.根据权利要求1所述的光学膜，其中，
所述第1面的Vvv与由ISO 25178-2：2012所规定的芯部空间体积Vvc之比(Vvv/Vvc)为0.10以下。
3.根据权利要求1或2所述的光学膜，其中，
所述第1面的由ISO 25178-2：2012所规定的最小自相关长度Sal为4.0μm以上且11.0μm以下。
4.根据权利要求1或2所述的光学膜，其中，
所述第1面的极点高度Sxp为0.15μm以上且2.00μm以下，所述极点高度Sxp由ISO25178-2：2012所规定，是指负荷面积率为2.5％的高度与负荷面积率为50％的高度之差。
5.根据权利要求1或2所述的光学膜，其中，
所述光学膜从所述第1面朝向所述第2面依次具有所述防反射层、所述防眩层以及基材。
6.根据权利要求1或2所述的光学膜，其中，
所述防眩层包含粘合剂树脂和颗粒。
7.根据权利要求1或2所述的光学膜，其中，
所述光学膜的通过X射线光电子能谱法对所述第1面侧的表面区域进行分析而得到的元素比率满足下述的式2～式4，
3.5≤F/无机Si≤10.0(式2)，
0.08≤有机Si/无机Si≤1.00(式3)，
5.0≤F/有机Si≤50.0(式4)，
在式2～式4中，“F”是氟元素的比率，“无机Si”是归属于无机硅化合物的硅元素的比率，“有机Si”是归属于有机硅化合物的硅元素的比率。
8.根据权利要求7所述的光学膜，其中，
关于通过所述X射线光电子能谱法进行分析而得到的元素比率，无机Si相对于全部元素的比例为2原子％以上且20原子％以下。
9.根据权利要求1或2所述的光学膜，其中，
所述光学膜的通过下述方法测量的总光线反射率RSCI为3.0％以下，
[总光线反射率RSCI的测量]
制作在所述光学膜的所述第2面侧借助透明粘合剂贴合有黑色板而成的样品，将所述样品的所述光学膜侧作为光入射面来测量总光线反射率RSCI。
10.根据权利要求1或2所述的光学膜，其中，
所述光学膜的JIS K7136：2000的雾度为20％以上且75％以下。
11.一种偏光板，其具有偏光件、配置于所述偏光件的一侧的第一透明保护板、以及配置于所述偏光件的另一侧的第二透明保护板，其中，
所述第一透明保护板和所述第二透明保护板中的至少一方是权利要求1或2所述的光学膜，所述光学膜的所述第2面与所述偏光件对置地配置。
12.一种图像显示装置用的表面板，其是在树脂板或玻璃板上贴合有保护膜而成的，其中，
所述保护膜是权利要求1或2所述的光学膜，所述光学膜的所述第2面与所述树脂板或所述玻璃板对置地配置。
13.一种图像显示面板，其具有显示元件、和配置于所述显示元件的光出射面侧的光学膜，其中，
作为所述光学膜，所述图像显示面板包含权利要求1或2所述的光学膜。
14.一种图像显示装置，其中，
所述图像显示装置包含权利要求13所述的图像显示面板。
15.一种光学膜制造方法，其是权利要求1所述的光学膜的制造方法，其中，
所述光学膜制造方法具有：在基材上形成防眩层的第1工序；和在所述防眩层上形成防反射层的第2工序。
16.一种光学膜的选定方法，其选定满足下述的选定条件的光学膜，
(光学膜的选定条件)
所述光学膜具有第1面、和作为与所述第1面相反一侧的面的第2面，其中，
所述光学膜从所述第1面朝向所述第2面依次具有防反射层和防眩层，
所述第1面具有凹凸形状，
所述第1面的由ISO 25178-2：2012所规定的突出谷部空间体积Vvv为0.005ml/m2以上，并且，所述第1面的由ISO 25178-2：2012所规定的最小自相关长度Sal为4.0μm以上且12.0μm以下，
通过下述的方法测量的落下式接触角为30.0度以上，
<落下式接触角的测量>
使表面张力为30mN/m的液滴相对于所述光学膜的所述第1面从45mm的高度落下，使所述液滴从与所述第1面垂直的方向落下，通过θ/2法测量着落10秒后的静态接触角。
17.一种指纹擦拭性的评价方法，其以通过下述的测量所测量出的落下式接触角的值作为评价指标，
<落下式接触角的测量>
使表面张力为30mN/m的液滴相对于测量对象物的表面从45mm的高度落下，使所述液滴从与所述表面垂直的方向落下，通过θ/2法测量着落10秒后的静态接触角。
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