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CN116403475A - 窗和电子装置 - Google Patents

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CN116403475A
CN116403475A CN202211597025.5A CN202211597025A CN116403475A CN 116403475 A CN116403475 A CN 116403475A CN 202211597025 A CN202211597025 A CN 202211597025A CN 116403475 A CN116403475 A CN 116403475A
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CN
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window
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electronic device
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inorganic layer
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Application number
CN202211597025.5A
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徐寅硕
姜韩率
朴南姬
朴商一
朴映相
安成国
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Original Assignee
Samsung Display Co Ltd
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Publication date
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Abstract

本公开提供了窗和电子装置。所述窗包括基体层和在基体层上的无机层。所述无机层包括氧化硅和氧化铝，相对于大约100wt％的所述氧化硅，所述氧化铝的含量为大约1wt％或更大且小于大约10wt％。

Description

窗和电子装置
相关申请的交叉引用
本专利申请要求于2021年12月14日提交的第10-2021-0178254号韩国专利申请的优先权以及从该专利申请获取的所有权益，该专利申请的全部内容通过引入并入本文。
技术领域
本文中的本公开涉及窗和包括该窗的电子装置。更具体地，本公开涉及包括无机层的窗和包括该窗的电子装置。
背景技术
正在开发在诸如电视机、蜂窝电话、平板计算机、导航装置和游戏机的多媒体装置中使用的各种电子装置。特别地，为了易于携带并且改善其使用，正在开发通过包括可弯曲的柔性显示构件而可折叠或可卷曲的电子装置。
发明内容
使用聚合物膜作为保护电子装置的显示表面的窗的基体材料，以实现柔性性质。然而，当使用聚合物膜时，窗的光学性质和抗冲击性劣化。
本公开提供了一种具有改善的光学性质和抗冲击性两者的窗。
本公开还提供了一种电子装置，所述电子装置通过包括具有改善的光学性质和抗冲击性两者的窗而展现出改善的显示质量和耐久性。
本发明的实施例提供了一种窗，所述窗包括：基体层；以及无机层，所述无机层在所述基体层上方和下方中的至少一者，所述无机层包括氧化硅和氧化铝，相对于大约100重量百分比(wt％)的所述氧化硅，所述氧化铝的含量为大约1wt％或更大且小于大约10wt％。
在实施例中，所述无机层可以具有大约40纳米(nm)至大约90nm的厚度。
在实施例中，所述无机层可以直接在所述基体层的上表面上。
在实施例中，所述窗可以进一步包括在基体层下方的硬涂覆层。
在实施例中，所述无机层可以直接在所述基体层的上表面上，并且所述硬涂覆层可以直接在所述基体层的下表面上。
在实施例中，所述无机层可以在所述基体层下方，并且所述硬涂覆层可以在所述基体层和所述无机层之间。
在实施例中，所述无机层可以包括直接在所述基体层的上表面上的上无机层和直接在所述基体层的下表面上的下无机层。
在实施例中，所述基体层可以是聚合物膜。
在实施例中，所述基体层可以包括聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚酰胺、聚碳酸酯或三乙酰纤维素。
在实施例中，所述基体层可以具有大约50微米(μm)至大约100μm的厚度。
在实施例中，所述窗可以在可见光范围内具有大约90％或更大的透射率，并且所述窗具有大约1.5％或更小的雾度值和大约2.0或更小的黄色指数。
在本发明的其他实施例中，一种电子装置包括显示模块和在所述显示模块上的窗。所述窗包括基体层和无机层，所述无机层在所述基体层上方和下方中的至少一者，所述无机层包括氧化硅和氧化铝，相对于大约100wt％的所述氧化硅，所述氧化铝的含量为大约1wt％或更大且小于大约10wt％。
在实施例中，所述无机层可以具有大约40nm至大约90nm的厚度。
在实施例中，所述窗可以进一步包括在所述基体层下方的硬涂覆层。
在实施例中，所述无机层可以直接在所述基体层的上表面上，并且所述硬涂覆层可以直接在所述基体层的下表面上。
在实施例中，所述无机层可以在所述基体层下方，并且所述硬涂覆层可以在所述基体层和所述无机层之间。
在实施例中，所述基体层可以是包括聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚酰胺、聚碳酸酯或三乙酰纤维素的聚合物膜。
在实施例中，所述电子装置可以进一步包括在所述窗上的保护层，其中，所述保护层可以包括聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚氯乙烯、聚醚砜、聚丙烯、聚酰胺、聚苯醚、聚甲醛、聚砜、聚苯硫醚、聚酰亚胺、聚乙烯亚胺、聚醚醚酮、聚酰胺酰亚胺、聚芳酯和热塑性聚氨酯中的至少一种聚合物树脂。
在本发明的实施例中，被划分成相对于在一个方向上延伸的折叠轴折叠的折叠区域和与所述折叠区域相邻的非折叠区域的电子装置包括显示模块、在所述显示模块下方的支撑模块和在所述显示模块上的窗，其中，所述窗包括基体层和无机层，所述无机层在所述基体层上方和下方中的至少一者，所述无机层包括氧化硅和氧化铝并且具有大约40nm至大约90nm的厚度，相对于大约100wt％的所述氧化硅，所述氧化铝的含量为大约1wt％或更大且小于大约10wt％。
在实施例中，所述窗可以在可见光范围内具有大约90％或更大的透射率，并且所述窗具有大约1.5％或更小的雾度值和大约2.0或更小的黄色指数。
附图说明
包括附图以提供对本发明的进一步理解，并且附图被并入本说明书中并且构成本说明书的一部分。附图示出了本发明的实施例，并且与描述一起用于说明本发明的原理。在附图中：
图1A是示出根据实施例的电子装置的展开状态的透视图；
图1B是示出图1A中所示的电子装置部分地内折叠的透视图；
图1C是示出图1A中所示的电子装置部分地外折叠的透视图；
图2A是示出根据实施例的电子装置的展开状态的透视图；
图2B是示出图2A中所示的电子装置部分地内折叠的透视图；
图3是根据实施例的电子装置的分解透视图；
图4是根据实施例的电子装置的截面图；
图5是根据实施例的窗的截面图；
图6是根据实施例的窗的截面图；并且
图7是根据实施例的窗的截面图。
具体实施方式
因为本发明允许各种改变和许多实施例，所以将在附图中示出特定实施例并且在以下描述中详细描述特定实施例。然而，这并不旨在将本发明的实施例限制于特定实施例，并且应当理解为包括包含在本发明的精神和范围内的所有改变、等同物和替代物。
将理解的是，当元件(或区域、层、膜、板、部分等)被称为与另一元件相关，诸如“在”另一元件“上”、“连接到”或“耦接到”另一元件时，所述元件可以直接设置在所述另一元件上、直接连接到或耦接到所述另一元件，或者它们之间可以存在中间元件。
同时，当元件被称为与另一元件相关(诸如“直接在……上”)时，其可以意指在所述元件与另一元件之间不存在附加的元件。例如，当元件被称为“直接在……上”时，其可以意指在两个元件之间不存在附加元件，诸如粘合元件。
相同的附图标记或符号始终指代相同的元件。如本文中使用的，附图标记可以指示单个元件或多个元件。例如，在附图中标记元件的单数形式的附图标记可以用于在说明书文本中标识多个单数元件。
此外，在附图中，为了有效地说明技术内容，夸大了组成元件的厚度、比例和尺寸。
本文中使用的术语仅用于描述特定实施例的目的，而并非意图是限制性的。除非上下文另有明确指示，否则如本文中使用的，“一个”、“一种”、“所述(该)”和“至少一个(种/者)”不表示对量的限制，并且旨在包括单数和复数两者。例如，除非上下文另有明确指示，否则“元件”与“至少一个元件”具有相同的含义。“至少一个(种/者)”不应被解释为限制性的“一个”或“一种”。“或”意指“和/或”。术语“和/或”包括可以由相关元件限定的一个或多个组合。
将理解的是，尽管可以在本文中使用术语第一、第二等来描述各种元件，但是这些元件不应受这些术语的限制。这些术语仅用于将一个元件与另一元件区分开。因此，在不脱离本发明的教导的情况下，第一元件可以被称为第二元件。类似地，第二元件可以被称为第一元件。除非上下文另有明确指示，否则如本文中使用的，单数形式也旨在包括复数形式。
另外，术语“在……下方”、“在……下面”、“上”和“在……上方”用于说明附图中所示的元件的关系。这些术语是相对概念，并且基于在附图中所示的方向进行解释。本文中使用的“设置在……上”可以指示不仅设置在任何一个构件上而且设置在任何一个构件下方的情况。
将进一步理解，当在本说明书中使用术语“包括”和/或“包含”时，说明存在陈述的特征、数字、步骤、操作、元件、部件或它们的组合，但不排除存在或添加一个或多个其他特征、数字、步骤、操作、元件、部件或它们的组合。
考虑到讨论中的测量和与特定量的测量相关的误差(即，测量系统的限制)，如本文中使用的“大约”或“近似”包括陈述的值，并且意指在如由本领域普通技术人员确定的特定值的可接受的偏差范围内。例如，“大约”可以指在一个或多个标准偏差内，或者在陈述的值的±30％、±20％、±10％或±5％内。
除非另有定义，否则本文中使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)与由本发明所属领域的普通技术人员通常理解的具有相同的含义。此外，将进一步理解，除非本文中明确地如此定义，否则诸如在通用字典中定义的术语的术语应该被解释为具有与它们在相关领域的背景中的意义相一致的意义，并且将不以理想的或过于形式化的含义来解释所述术语。
本文中参考作为理想化实施例的示意性图示的截面图示来描述实施例。这样，将预计这些图示的形状的由例如制造技术和/或公差而引起的变化。因此，本文中描述的实施例不应该被理解为局限于如本文中示出的区域的具体形状，而应该包括例如由制造导致的形状偏差。例如，示出或描述为平坦的区域可以通常具有粗糙的和/或非线性的特征。此外，示出的锐角可以被倒圆。因此，在附图中示出的区域实际上是示意性的，并且它们的形状并不旨在示出区域的精确形状，且不旨在限制本权利要求的范围。
在下文中，将参考附图描述根据本发明的实施例的窗WM和根据实施例的包括窗WM的电子装置ED。
图1A是示出根据实施例的展开(例如，在电子装置ED的展开状态下)的电子装置ED的透视图。图1B是示出图1A中所示的电子装置ED部分地内折叠的透视图。图1C是示出图1A中所示的电子装置ED部分地外折叠的透视图。在电子装置ED的折叠(或展开)时，电子装置ED的各种组件和层可以彼此一起折叠(或展开)。
根据实施例的电子装置ED可以是响应于电信号而被激活的装置。例如，电子装置ED可以是蜂窝电话、平板计算机、汽车导航装置、游戏机或可穿戴装置。然而，本发明的实施例不限于此。在包括图1A等的本说明书中，电子装置ED被示例性地示出为蜂窝电话。
图1A至图1C示出了作为可折叠以变形为折叠形状的可折叠电子装置的电子装置ED，但是本发明的实施例不限于此。根据实施例的电子装置ED可以是可弯曲或可卷曲以弯曲或卷曲成具有变形形状的柔性电子装置。
同时，图1A及其后续附图示出了第一方向轴DR1至第四方向轴DR4。由本文中描述的第一方向轴DR1至第四方向轴DR4指示的方向是相对概念，并且因此可以改变为不同的方向。另外，由第一方向轴DR1至第四方向轴DR4指示的方向可以被描述为第一方向至第四方向，并且可以为其使用相同的附图标记或符号。
参考图1A至图1C，根据实施例的电子装置ED可以包括与由第一方向轴DR1和与第一方向轴DR1交叉的第二方向轴DR2限定的平面平行的显示表面FS(例如，第一显示表面)(例如，显示表面FS在由彼此交叉的第一方向轴DR1和第二方向轴DR2限定的平面中)。电子装置ED可以通过显示表面FS向电子装置ED外部(诸如向其用户)提供图像IM。根据实施例的电子装置ED可以通过平行于第一方向轴DR1和第二方向轴DR2中的每一者的显示表面FS在第三方向轴DR3的方向上显示图像IM。在本说明书中，每个组件的前表面(或上表面)和后表面(或下表面)基于显示图像IM的方向来限定。在本说明书中，显示图像IM的方向可以被定义为第三方向轴DR3的方向，并且第四方向轴DR4的方向可以被定义为与第三方向轴DR3的方向相反的方向。
根据实施例的电子装置ED可以感测从外部(例如，电子装置ED的外部)施加的外部输入。外部输入可以包括从外部施加的各种类型的输入。例如，外部输入不仅可以包括由身体的一部分(诸如用户的手)进行的触摸，而且还可以包括在与电子装置ED相邻或以预定距离靠近电子装置ED的同时施加的外部输入(例如，悬停)。另外，外部输入可以具有各种形式，诸如力、压力、温度和光。
电子装置ED的显示表面FS可以包括有源区域F-AA和外围区域F-NAA。有源区域F-AA可以是响应于电信号而被激活的区域。根据实施例的电子装置ED可以通过有源区域F-AA显示图像IM。另外，有源区域F-AA可以感测各种类型的外部输入。外围区域F-NAA与有源区域F-AA相邻。外围区域F-NAA可以具有预定颜色。外围区域F-NAA可以围绕有源区域F-AA。因此，有源区域F-AA的形状可以基本上由外围区域F-NAA限定。然而，这是示例，并且外围区域F-NAA可以设置为仅与有源区域F-AA的一侧相邻，或者可以省略外围区域F-NAA。根据本发明的实施例的电子装置ED可以包括具有各种形状的有源区域F-AA。然而，本发明的实施例不限于任何一个实施例。
有源区域F-AA可以包括感测区域SA。各种电子模块可以设置在感测区域SA中。例如，提供电子装置ED的功能的电子模块(例如，功能组件)可以包括相机模块、扬声器、光检测传感器和热检测传感器中的至少一者。感测区域SA可以感测通过显示表面FS接收的外部对象，或者通过显示表面FS提供诸如语音的声音信号。电子模块可以包括多个组件。然而，本发明的实施例不限于任何一个实施例。
感测区域SA可以被有源区域F-AA和外围区域F-NAA围绕。然而，本发明的实施例不限于此，并且感测区域SA可以设置在有源区域F-AA中。然而，本发明的实施例不限于任何一个实施例。图1A等示出了一个感测区域SA作为示例，但是感测区域SA的数量可以不限于此。
感测区域SA可以是有源区域F-AA的一部分。因此，即使在感测区域SA中，电子装置ED也可以显示图像IM。当设置在感测区域SA中的电子模块被停用时，感测区域SA可以用作显示表面FS并显示视频或图像IM。
根据实施例的电子装置ED的后表面RS可以与显示表面FS背对。在实施例中，后表面RS是电子装置ED的外表面，并且可以不通过其显示视频或图像IM。然而，本发明的实施例不限于此。后表面RS可以用作通过其显示视频或图像IM的第二显示表面。另外，根据实施例的电子装置ED可以进一步包括设置在后表面RS中的感测区域SA。相机、扬声器和光检测传感器等也可以设置在设置于后表面RS中的感测区域SA中。
电子装置ED可以包括折叠区域FA1和非折叠区域，电子装置ED在折叠区域FA1处可折叠，非折叠区域与折叠区域FA1相邻。非折叠区域可以包括多个非折叠区域NFA1和NFA2。根据实施例的电子装置ED可以包括第一非折叠区域NFA1和第二非折叠区域NFA2，而折叠区域FA1设置在第一非折叠区域NFA1和第二非折叠区域NFA2之间。同时，图1A至图1C示出了包括一个折叠区域FA1的电子装置ED的实施例。然而，本发明的实施例不限于此。可以在电子装置ED中限定多个折叠区域。然而，本发明的实施例不限于此。根据实施例的电子装置ED可以相对于多个折叠轴折叠，使得显示表面FS的各部分彼此面对，并且折叠轴的数量和非折叠区域的数量不特别限于此。
参考图1B和图1C，根据实施例的电子装置ED可以相对于第一折叠轴FX1折叠。图1B和图1C中所示的第一折叠轴FX1是在第一方向轴DR1的方向上延伸的虚拟轴，并且可以平行于电子装置ED的较长边方向。然而，本发明的实施例不限于此，并且第一折叠轴FX1的延伸方向不限于第一方向轴DR1的方向。
第一折叠轴FX1可以沿着第一方向轴DR1延伸并且在显示表面FS上(或上方)，或者沿着第一方向轴DR1延伸并且在后表面RS下方。参考图1B，在实施例中，显示表面FS的与第一非折叠区域NFA1和第二非折叠区域NFA2对应的部分可以彼此面对，并且电子装置ED可以内折叠，使得显示表面FS不暴露于外部。另外，参考图1C，根据实施例的电子装置ED可以相对于第一折叠轴FX1折叠并变形为外折叠状态，在该外折叠状态下，在后表面RS中，与第一非折叠区域NFA1重叠的一个区域和与第二非折叠区域NFA2重叠的另一区域彼此面对。
图2A是示出根据实施例的电子装置ED-a的展开状态的透视图。图2B是示出图2A中所示的电子装置ED-a部分地内折叠的透视图。
参考图2A和图2B，根据实施例的电子装置ED-a可以相对于在平行于第一方向轴DR1的一个方向上延伸的第二折叠轴FX2折叠。在图2B中，第二折叠轴FX2的延伸方向与电子装置ED-a的较短边的延伸方向平行。然而，本发明的实施例不限于此。
根据实施例的电子装置ED-a可以包括至少一个折叠区域FA2和与折叠区域FA2相邻的非折叠区域NFA3和NFA4。非折叠区域NFA3和NFA4可以彼此间隔开，而折叠区域FA2设置在非折叠区域NFA3和NFA4之间。
被折叠的电子装置ED-a将折叠区域FA2设置为具有曲率和曲率半径。在实施例中，第一非折叠区域NFA3和第二非折叠区域NFA4可以彼此面对，并且电子装置ED-a可以内折叠，使得显示表面FS不暴露于外部。
另外，与本文中所示的构造不同，在实施例中，电子装置ED-a可以外折叠，使得显示表面FS暴露于外部(例如，显示表面FS的与第一非折叠区域NFA3和第二非折叠区域NFA4对应的部分在远离彼此的方向上彼此背对)。同时，在实施例中，当电子装置ED-a在非折叠状态下(例如，平坦)时，第一显示表面FS可以从电子装置ED-a外部(例如，对用户)可见，并且当电子装置ED-a内折叠时，第二显示表面RS可以对用户可见。第二显示表面RS可以包括其中设置有具有各种组件的电子模块的电子模块区域EMA。
根据实施例的电子装置ED-a可以包括或限定第二显示表面RS，并且第二显示表面RS可以被限定为与第一显示表面FS的至少一部分背对的表面。当电子装置ED-a在内折叠状态下时，第二显示表面RS可以对用户可见。第二显示表面RS可以包括其中设置有具有各种组件的电子模块的电子模块区域EMA。同时，在实施例中，可以通过第二显示表面RS提供图像IM(图1A)。
在实施例中，如图1A至图2B中所示的电子装置ED和ED-a可以被构造为使得从展开操作起重复地执行内折叠操作或外折叠操作。然而，本发明的实施例不限于此。在实施例中，如图1A至图2B中所示的电子装置ED和ED-a可以被构造为选择执行展开操作、内折叠操作和外折叠操作之中的至少一种。
图1A至图2B示出了作为可折叠以变形为折叠形状的可折叠电子装置的电子装置ED和ED-a，但是本发明的实施例不限于此。根据实施例的电子装置ED和ED-a可以是可弯曲或可卷曲以弯曲或卷曲成具有可变形的形状的柔性电子装置。
图3是根据实施例的电子装置ED的分解透视图，并且图4是根据实施例的电子装置ED的截面图。图3示例性地示出了根据图1A中所示的实施例的电子装置ED的分解透视图。图4是示出沿着图3的线I-I'截取的部分的截面图。
参考图3和图4，根据实施例的电子装置ED可以包括显示模块DM和设置在显示模块DM上并且面对显示模块DM的窗WM。另外，根据实施例的电子装置ED可以包括支撑模块SM和保护层PF，支撑模块SM设置在显示模块DM下方以面对并支撑显示模块DM，保护层PF设置在窗WM上以面对窗WM。在实施例中，可以省略保护层PF。在图3和图4中，作为实施例，已经描述了图1A至图1C中所示的电子装置ED，但是下面说明的相同描述可以应用于图2A和图2B中所示的电子装置ED-a。
窗WM可以覆盖显示模块DM的整个外侧(例如，整个显示模块DM)。窗WM可以具有诸如在平面图(例如，沿着第三方向轴DR3的视图)中与显示模块DM的形状对应的形状(例如，平面形状)。另外，根据实施例的电子装置ED可以包括容纳显示模块DM和支撑模块SM的壳体HAU。壳体HAU可以耦接到窗WM。尽管未示出，但是壳体HAU可以进一步包括铰链结构，以便于电子装置ED的折叠或弯曲。
在根据实施例的电子装置ED中，显示模块DM可以响应于电信号显示图像IM(图1A)并且发送/接收关于外部输入的信息。显示模块DM可以包括显示区域DP-DA和非显示区域DP-NDA。另外，显示区域DP-DA可以被定义为输出由显示模块DM提供的图像IM的区域。
非显示区域DP-NDA与显示区域DP-DA相邻。例如，非显示区域DP-NDA可以围绕显示区域DP-DA。然而，这是示例，并且非显示区域DP-NDA可以被限定为各种形状，并且本发明的实施例不限于任何一个实施例。根据实施例，显示模块DM的显示区域DP-DA可以对应于有源区域F-AA(图1A)的至少一部分。
在根据实施例的电子装置ED中，显示模块DM可以包括折叠显示部件FA-D和非折叠显示部件，非折叠显示部件提供为多个，提供为多个的非折叠显示部件包括非折叠显示部件NFA1-D和NFA2-D。折叠显示部件FA-D可以是与折叠区域FA1(图1A)对应的部分，并且非折叠显示部件NFA1-D和NFA2-D可以是与非折叠区域NFA1和NFA2(图1A)对应的部分。
根据实施例的窗WM设置在显示模块DM上。窗WM可以包括光学透明的绝缘材料。窗WM可以保护显示面板DP和传感器层IS等。即，窗WM可以是覆盖显示模块DM的顶部的覆盖窗。
由显示面板DP生成的图像IM(图1A)可以通过窗WM传输并且提供到电子装置ED外部。窗WM可以提供电子装置ED的触摸表面。在包括折叠区域FA1的电子装置ED中，窗WM可以是可以与电子装置ED的其他层一起折叠的柔性窗。
窗WM可以被提供为显示表面FS(图1A)和触摸表面，并且可以展现出优异的光学性质。根据实施例的窗WM可以在大约380纳米(nm)至大约780nm的可见光范围内具有大约90％或更大的高透射率。另外，根据实施例的窗WM可以具有低雾度值和低黄色指数(yellowindex)。例如，根据实施例的窗WM可以具有大约1.5％或更小的雾度值和大约2.0或更小的黄色指数，并且所述窗在大约380nm至大约780nm的可见光范围内具有大约90％或更大的透射率。
根据实施例的窗WM可以包括具有柔性的膜状基体层BS(图5)以及设置在基体层BS(图5)上方和下方中的至少一者的无机层IL-U和IL-B(图5至图7)。无机层IL-U和IL-B(图5至图7)可以用作改善窗WM的光学性质的光学底漆层。稍后将详细描述根据实施例的窗WM。无机层IL-U和IL-B(图5至图7)可以限定窗WM的最外表面(例如，第一外表面)，但不限于此。
显示模块DM可以包括显示面板DP、以及设置在显示面板DP上的传感器层IS。另外，尽管未示出，但是显示模块DM可以进一步包括设置在传感器层IS上的光学层(未示出)。光学层(未示出)可以减小对外部光的反射。例如，光学层(未示出)可以包括偏振层或滤色器层。
显示面板DP可以是基本上生成图像IM的组件。例如，显示面板DP可以是有机发光显示面板、无机发光显示面板、量子点显示面板、微型发光二极管(LED)显示面板、纳米LED显示面板或液晶显示面板。显示面板DP可以被称为显示层。
传感器层IS可以设置在显示面板DP上。传感器层IS可以感测从外部施加的外部输入。外部输入可以是用户的输入。用户的输入可以包括各种类型的外部输入，诸如用户身体的一部分、光、热、笔或压力。
在根据实施例的显示模块DM中，传感器层IS可以通过连续工艺形成在显示面板DP上。在这种情况下，传感器层IS可以表示为直接设置在显示面板DP上。直接设置可以意味着第三组件不设置在传感器层IS和显示面板DP之间，并且这些层可以在它们之间形成界面。即，可以不在传感器层IS和显示面板DP之间设置单独的粘合构件。另外，在本发明的实施例中，传感器层IS和显示面板DP可以通过粘合构件彼此接合。粘合构件可以包括典型的粘合剂或典型的接合剂。
保护层PF可以设置在窗WM上。保护层PF可以是保护窗WM的上表面的功能层。
根据实施例的保护层PF可以包括聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚对苯二甲酸丁二醇酯(PBT)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚碳酸酯(PC)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚苯乙烯(PS)、聚氯乙烯(PVC)、聚醚砜(PES)、聚丙烯(PP)、聚酰胺(PA)、聚苯醚(PPO)、聚甲醛(POM)、聚砜(PSU)、聚苯硫醚(PPS)、聚酰亚胺(PI)、聚乙烯亚胺(PEI)、聚醚醚酮(PEEK)、聚酰胺酰亚胺(PAI)、聚芳酯(PAR)和热塑性聚氨酯(TPU)中的至少一种聚合物树脂。保护层PF可以是聚合物膜，并且例如，在实施例中，保护层PF可以是聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜或热塑性聚氨酯(TPU)膜。
同时，根据实施例的电子装置ED可以进一步包括保护层粘合层(未示出)。保护层粘合层(未示出)可以设置在窗WM和保护层PF之间。保护层PF可以通过保护层粘合层(未示出)附接到窗WM。保护层粘合层(未示出)可以包括硅基树脂、丙烯酸基树脂或氨基甲酸酯基树脂。另外，保护层PF可以进一步包括诸如防指纹涂覆剂、防静电剂或硬涂覆剂的材料，并且因此可以用作功能层。同时，保护层PF可以具有多层堆叠结构，并且可以进一步包括单独的功能层，诸如防指纹涂覆层、防静电涂覆层或硬涂覆层。
窗粘合层AP-W可以是光学透明粘合剂(OCA)膜或光学透明树脂(OCR)层。
根据实施例的电子装置ED可以包括设置在显示模块DM下方的下膜LF。下膜LF可以设置在显示模块DM下方并且保护显示面板DP的下部。根据实施例的电子装置ED可以包括将显示模块DM接合到下膜LF的下粘合层AP-L。
下膜LF可以是聚合物膜。例如，下膜LF可以包括聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜或聚酰亚胺(PI)膜。下膜LF可以防止在制造(或提供)显示面板DP的工艺期间在显示面板DP的底表面上发生划痕。另外，下膜LF保护显示面板DP免受从外部施加的压力，并且可以因此防止显示面板DP的变形。下膜LF可以具有单个膜层或其中多个膜层堆叠的结构。
下粘合层AP-L可以设置在显示面板DP和下膜LF之间。下粘合层AP-L可以是光学透明粘合剂(OCA)膜或光学透明树脂(OCR)层。然而，本发明的实施例不限于此，并且下粘合层AP-L可以包括丙烯酸基粘合剂或硅基粘合剂。另外，在实施例中，可以省略下粘合层AP-L。
根据实施例的电子装置ED可以包括设置在显示模块DM下方的支撑模块SM。支撑模块SM可以包括支撑板MP和下支撑构件BSM。
支撑板MP可以设置在显示模块DM下方。在实施例中，支撑板MP可以包括金属材料或聚合物材料。例如，支撑板MP可以通过包括不锈钢、铝或其合金来形成。另外，可选地，支撑板MP可以由碳纤维增强塑料(CFRP)等形成。然而，本发明的实施例不限于此，并且支撑板MP可以包括诸如塑料、玻璃纤维增强塑料或玻璃的非金属材料。
多个开口OP可以限定在支撑板MP中(或由支撑板MP限定)。支撑板MP可以包括开口图案OP-PT，该开口图案OP-PT包括多个开口OP。开口图案OP-PT可以对应于折叠区域FA1。
下支撑构件BSM可以包括支撑构件SPM和填充部件SAP(例如，补偿构件)。支撑构件SPM可以是与显示模块DM的大部分重叠(或对应)的部分。填充部件SAP可以是设置在支撑构件SPM外部并且与显示模块DM的边缘重叠的部分。
下支撑构件BSM可以包括支撑层SP、缓冲层CP、屏蔽层EMP和层间接合层ILP中的至少一者。同时，下支撑构件BSM的构造不限于图4等中所示的构造，并且可以根据电子装置ED的尺寸和形状或电子装置ED的操作特性等而变化。例如，可以省略支撑层SP、缓冲层CP、屏蔽层EMP和层间接合层ILP中的一些，或者可以将其堆叠顺序改变为与图4的顺序不同的顺序，或者可以进一步包括除了所示的组件之外的附加组件。例如，下支撑构件BSM可以进一步包括数字化仪等。
支撑层SP可以包括金属材料或聚合物材料。支撑层SP可以设置在支撑板MP下方。例如，支撑层SP可以是薄膜金属基底。
支撑层SP可以包括在第二方向轴DR2的方向上彼此间隔开的第一子支撑层SSP1和第二子支撑层SSP2。第一子支撑层SSP1和第二子支撑层SSP2可以相对于与折叠轴FX1对应的部分彼此间隔开。即，支撑构件SPM可以在折叠区域FA1处断开。支撑层SP被提供为在折叠区域FA1中彼此间隔开的第一子支撑层SSP1和第二子支撑层SSP2，并且因此，可以改善电子装置ED的折叠性质或弯曲性质。
缓冲层CP可以设置在支撑层SP下方。缓冲层CP可以防止由外部冲击和外部力引起的支撑板MP的挤压现象和塑性变形。缓冲层CP可以改善电子装置ED的抗冲击性。缓冲层CP可以包括弹性体，诸如海绵、泡沫或氨基甲酸酯树脂。另外，缓冲层CP可以通过包括丙烯酸基聚合物、氨基甲酸酯基聚合物、硅基聚合物和酰亚胺基聚合物中的至少一种来形成。然而，本发明的实施例不限于此。
另外，缓冲层CP可以包括在第二方向轴DR2的方向上彼此间隔开的第一子缓冲层CP1和第二子缓冲层CP2。第一子缓冲层CP1和第二子缓冲层CP2可以在与折叠轴FX1对应的部分中彼此间隔开。缓冲层CP被提供为在折叠区域FA1中彼此间隔开的第一子缓冲层CP1和第二子缓冲层CP2，并且因此，可以改善电子装置ED的折叠性质或弯曲性质。
屏蔽层EMP可以是电磁屏蔽层或热辐射层。另外，屏蔽层EMP可以用作接合层。层间接合层ILP可以将支撑板MP接合到支撑层SP。层间接合层ILP可以以接合树脂层或粘合带的形式提供。图4示出了层间接合层ILP在与折叠区域FA1对应的部分中被划分成彼此间隔开的两个部分。然而，本发明的实施例不限于此，并且层间接合层ILP可以被提供为在折叠区域FA1中未被划分的单层。
填充部件SAP可以设置在支撑层SP和缓冲层CP中的每一者的边缘上。填充部件SAP可以设置在支撑板MP和壳体HAU之间。填充部件SAP可以填充支撑板MP和壳体HAU之间的空间并且固定支撑板MP。
另外，根据实施例的电子装置ED可以进一步包括设置在显示模块DM和支撑模块SM之间的模块粘合层AP-DM。模块粘合层AP-DM可以是光学透明粘合剂(OCA)膜或光学透明树脂(OCR)层。同时，尽管未示出，但是可以在包括在支撑模块SM中的各个构件之间进一步设置附加的粘合层。
图5至图7各自是根据实施例的窗WM的截面图。图5中所示的窗WM可以是图3和图4中所示的根据实施例的窗WM，并且图5至图7中所示的根据实施例的窗WM、WM-1和WM-2可以用作参考图1A至图4描述的根据实施例的电子装置ED和ED-a的覆盖窗。图5至图7中所示的根据实施例的窗WM、WM-1和WM-2可以各自包括基体层BS以及设置在基体层BS上方和下方中的至少一者的无机层IL-U和IL-B。
参考图5，根据实施例的窗WM可以包括基体层BS和设置在基体层BS的距离显示模块DM(图3)最远的上表面上的无机层IL-U。例如，无机层IL-U可以直接设置在基体层BS的上表面上。
在根据实施例的窗WM中，基体层BS可以是聚合物膜。基体层BS可以包括聚酰亚胺(PI)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚酰胺(PA)、聚碳酸酯(PC)和三乙酰纤维素(TAC)中的至少一种。然而，本发明的实施例不限于此，并且可以在基体层BS中使用任何材料而没有限制，只要该材料是具有柔性的光学透明材料即可。例如，根据实施例的窗WM可以包括透明聚酰亚胺膜或透明聚对苯二甲酸乙二醇酯膜作为基体层BS。
基体层BS具有大约50微米(μm)至大约100μm的厚度tBS(例如，第一厚度)。当基体层BS的厚度tBS小于大约50μm时，基体层BS可能无法用作提供无机层IL-U的支撑层，或者可能无法保护在其下方设置的显示模块DM(图3)。另外，当基体层BS的厚度tBS大于大约100μm时，电子装置ED(图3)的总厚度可能增加。特别地，在如图1A至图2B中所示折叠电子装置ED和ED-a的情况下，基体层BS的较大厚度可能导致折叠特性劣化。
根据实施例的窗WM可以包括一个基体层BS。在根据实施例的窗WM中，基体层BS可以是单个聚合物膜(例如，单层)。然而，本发明的实施例不限于此。
在实施例中，无机层IL-U可以包括氧化硅(SiOx)和氧化铝(Al2O3)。另外，在无机层IL-U中，相对于大约100重量百分比(wt％)的氧化硅，氧化铝的含量可以为大约1wt％或更大且小于大约10wt％。例如，在无机层IL-U中，相对于大约100wt％的氧化硅，氧化铝的含量可以为大约2wt％至大约3wt％。
同时，在无机层IL-U中包括氧化硅SiOx的情况下，x可以满足条件0<x<3。例如，氧化硅可以是SiO2。然而，本发明的实施例不限于此。
当根据实施例的窗WM在无机层IL-U中包括氧化硅和氧化铝两者，并且相对于大约100wt％的氧化硅以大约1wt％或更大且小于大约10wt％的量包括氧化铝时，窗WM可以展现出优异的光学性质，诸如高透射率、低反射率、低雾度值和低黄色指数。另外，当无机层IL-U包括相对于大约100wt％的氧化硅以大约1wt％或更大且小于大约10wt％的量包含的氧化铝时，根据实施例的窗WM可以展现出改善的耐久性，诸如优异的抗冲击性。即，在实施例中，无机层IL-U可以通过包括与氧化硅混合的在可见光范围内没有光吸收并且具有大约1.8至大约2.0的相对高折射率的氧化铝来改善基体层BS的光学性质。同时，当相对于大约100wt％的氧化硅以大约2wt％至大约3wt％的量包括氧化铝时，根据实施例的窗WM可以展现出进一步改善的光学性质和耐久性。
在实施例中，无机层IL-U可以具有大约40nm至大约90nm的厚度tIL-U(例如，第二厚度)。当无机层IL-U具有范围为大约40nm至大约90nm的厚度时，根据实施例的窗WM可以展现出优异的光学性质，诸如高透射率、低反射率、低雾度值和低黄色指数。另外，根据实施例的包括具有厚度范围为大约40nm至大约90nm的无机层IL-U的窗WM可以展现出优异的抗冲击性和增强的耐久性。
即，根据实施例的窗WM包括具有聚合物材料的基体层BS和设置在基体层BS上并且包括氧化硅和氧化铝两者的无机层IL-U，由此展现出优异的光学性质、优越的抗冲击性和令人满意的折叠性质。另外，当无机层IL-U具有大约40nm至大约90nm的厚度并且相对于大约100wt％的氧化硅以大约1wt％或更大且大约10wt％或更小的量包括氧化铝时，根据实施例的窗WM可以展现出优异的光学性质和优越的抗冲击性。
根据实施例的包括基体层BS和无机层IL-U的窗WM可以展现出优异的光学性质，诸如在可见光范围内大约90％或更大的透射率、大约1.5％或更小的雾度值和大约2.0或更小的黄色指数。
根据实施例的窗WM可以进一步包括设置在基体层BS下方的硬涂覆层HCL。硬涂覆层HCL可以保护窗WM的基体层BS或显示模块DM(图3)。硬涂覆层HCL可以具有大于基体层BS和/或显示模块DM的硬度的硬度，但不限于此。硬涂覆层HCL可以限定窗WM的与第一外表面背对的最外表面(例如，第二外表面)，但不限于此。
在图5中所示的根据实施例的窗WM中，无机层IL-U可以直接设置在基体层BS的上表面BS-U上，并且硬涂覆层HCL可以直接设置在基体层BS的下表面BS-B上。然而，硬涂覆层HCL的布置位置不限于图5等中所示的布置位置，并且根据实施例的窗WM可以进一步包括设置在基体层BS的上侧上的硬涂覆层HCL。
硬涂覆层HCL可以由已经硬化的树脂(诸如包括有机组合物、无机组合物和有机-无机复合组合物中的至少一种)的层形成。例如，用于形成硬涂覆层HCL的硬涂覆剂可以包括丙烯酸酯基化合物、硅氧烷化合物和倍半硅氧烷化合物中的至少一种。另外，硬涂覆剂可以进一步包括无机颗粒。硬涂覆层HCL可以是有机层、无机层或有机-无机复合材料层。
在根据实施例的窗WM中，硬涂覆层HCL的厚度tHC(例如，第三厚度)可以为大约10μm或更小。例如，硬涂覆层HCL的厚度tHC可以为大约5μm至大约10μm。当硬涂覆层HCL的厚度tHC小于大约5μm时，硬涂覆层HCL可能不太能够保护基体层BS，使得窗WM的耐久性可能劣化。另外，当硬涂覆层HCL的厚度tHC小于大约5μm时，硬涂覆层HCL可能不能展现出用于保护显示模块DM(图3)的足够的表面硬度。另外，当硬涂覆层HCL的厚度tHC大于大约10μm时，窗WM变得更厚，使得窗WM可能不适合于实现薄的电子装置或可折叠电子装置。
另外，在实施例中，硬涂覆层HCL可以具有大约3％或更大的伸长率。因为硬涂覆层HCL具有大约3％或更大的伸长率，所以硬涂覆层HCL可以具有柔性，并且因此，包括硬涂覆层HCL的窗WM可以展现出令人满意的折叠性质。
参考图6，根据实施例的窗WM-1可以包括基体层BS、设置在基体层BS上的上无机层IL-U和设置在基体层BS下方并且最靠近显示模块DM(图3)的下无机层IL-B。例如，在实施例中，上无机层IL-U可以直接设置在基体层BS的上表面BS-U上，并且下无机层IL-B可以直接设置在基体层BS的下表面BS-B上。然而，本发明的实施例不限于此，并且至少一个功能层可以进一步设置在上无机层IL-U和基体层BS之间以及下无机层IL-B和基体层BS之间。尽管未示出，但是根据实施例的窗WM-1可以进一步包括例如在下无机层IL-B和基体层BS之间的硬涂覆层(未示出)。同时，诸如硬涂覆层(未示出)等的功能层可以设置在上无机层IL-U的上侧或下无机层IL-B的下侧上。
参考图5说明的对基体层BS和无机层IL-U的相同描述可以应用于图6中所示的根据实施例的窗WM-1的基体层BS、上无机层IL-U和下无机层IL-B。
在根据实施例的窗WM-1中，上无机层IL-U和下无机层IL-B可以各自包括氧化硅(SiOx)和氧化铝(Al2O3)。另外，在上无机层IL-U和下无机层IL-B中的每一者中，相对于大约100wt％的氧化硅，可以以大约1wt％或更大且小于10wt％的量包括氧化铝。例如，在上无机层IL-U中，相对于大约100wt％的氧化硅，氧化铝的含量可以为大约2wt％至大约3wt％。
在根据实施例的窗WM-1中，上无机层IL-U和下无机层IL-B可以分别独立地具有大约40nm至大约90nm的厚度tIL-U和tIL-B。上无机层IL-U的厚度tIL-U可以与下无机层IL-B的厚度tIL-B相同，但是本发明的实施例不限于此。
当上无机层IL-U和下无机层IL-B中的每一者包括氧化硅和氧化铝两者，相对于大约100wt％的氧化硅以大约1wt％或更大且小于大约10wt％的量包括氧化铝，并且上无机层IL-U和下无机层IL-B分别独立地具有大约40nm至大约90nm的厚度tIL-U和tIL-B时，窗WM-1可以展现出优异的光学性质(诸如高透射率、低反射率、低雾度值和低黄色指数)和耐久性(诸如优异的抗冲击性)两者。另外，通过包括由聚合物材料制成的基体层BS以及各自包括氧化硅和氧化铝两者的上无机层IL-U和下无机层IL-B，窗WM-1可以展现出令人满意的折叠性质。
参考图7，根据实施例的窗WM-2可以包括基体层BS和设置在基体层BS下方的无机层IL-B。根据实施例的窗WM-2可以进一步包括设置在基体层BS和无机层IL-B之间的硬涂覆层HCL。
参考图5说明的对基体层BS、无机层IL-U和硬涂覆层HCL的相同描述可以应用于图7中所示的根据实施例的窗WM-2的基体层BS、无机层IL-B和硬涂覆层HCL。
在实施例中，硬涂覆层HCL可以直接设置在基体层BS的下表面上，并且无机层IL-B可以直接设置在硬涂覆层HCL的下表面上。然而，本发明的实施例不限于此，并且硬涂覆层HCL可以设置在无机层IL-B下方，或者除了设置在基体层BS的下表面上的硬涂覆层HCL之外，根据实施例的窗WM-2可以进一步包括设置在基体层BS的上侧上的附加硬涂覆层(未示出)。同时，作为图7中所示的构造的替代，可以省略设置在基体层BS下方的硬涂覆层HCL，并且根据实施例的窗WM-2可以包括基体层BS、直接设置在基体层BS的下表面上的无机层IL-B和设置在基体层BS的上表面上的硬涂覆层(未示出)。
即，当设置在基体层BS下方的无机层IL-B包括氧化硅和氧化铝两者，相对于大约100wt％的氧化硅以大约1wt％或更大且小于大约10wt％的量包括氧化铝，并且无机层IL-B具有大约40nm至大约90nm的厚度时，根据实施例的窗WM-2可以展现出优异的光学性质(诸如高透射率、低反射率、低雾度值和低黄色指数)和耐久性(诸如优异的抗冲击性)。另外，窗WM-2可以通过包括由聚合物材料制成的基体层BS以及包括氧化硅和氧化铝两者的无机层IL-B而展现出令人满意的折叠性质。
在下文中，参考根据比较示例和示例的窗的评估结果，将详细描述根据本发明的实施例的窗。另外，举例说明下面要描述的示例以帮助理解本发明，并且本发明的范围不限于此。
下面的表1至表3示出了通过评估根据比较示例和示例的窗的光学性质和机械性质而获得的结果。在表1至表3中，使用CM-3700A(柯尼卡美能达(KONICA MINOLTA))测量透射率、反射率和黄色指数。使用D65光源在大约2度(2°)的视角条件下测量透射率、反射率和黄色指数。使用D65光源通过NDH200(日本电色(NIPPON DENSHOKU))测量雾度。通过ASTMD1925方法测量黄色指数，并且根据ISO 13468标准测量透射率。
压痕硬度是使用压痕硬度测试仪测量的值。通过以大约15秒(s)的加载和卸载速度向样品施加大约30毫牛顿(mN)的负载来测量压痕硬度。作为压痕硬度测量的值是维氏硬度(Hv)值。使用铅笔硬度测试仪在大约1千克(kg)的负载下测量铅笔硬度。
使用笔落测试来评估抗冲击性。抗冲击性被表示为通过将预定重量的笔落到窗的上表面而损坏窗的上表面的笔的高度(厘米(cm))。用于测试抗冲击性的笔的一端具有大约0.3毫米(mm)的直径，并且使用没有弹簧的基于碳化钨的笔。已经使用不具有弹簧且重量为大约5.81克(g)的笔。
在表3中，裂纹应变表示当执行拉伸时，拉伸的测试样品相对于原始测试样品的尺寸的增量程度。通过经由激光切割将测试样品切割成大约1.0cm×大约10cm的尺寸来制备在测量裂纹应变期间的测试样品。拉伸速度为大约10毫米每分钟(mm/min)，并且在执行拉伸之后，用显微镜观察裂纹的出现，并且在这种情况下，确认并评估样品尺寸的增量程度。
对于室温折叠性质，根据比较示例和示例的窗在室温下重复折叠大约200000次，并且然后良好状态评估为“OK”；并且对于高温高湿折叠性质，根据比较示例和示例的窗在大约60摄氏度(℃)和大约百分之93(％)湿度的条件下重复折叠大约150000次，并且然后良好状态评估为“OK”。
在表1至表3中，比较示例1是在没有无机层的情况下制备的窗，并且对应于聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜，并且根据比较示例1的窗具有大约50μm的厚度。在表1和表2中，比较示例2是包括基体层和无机层的窗，其中，具有大约50μm的厚度的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜用作基体层，并且无机层具有大约30nm的厚度并且仅包括氧化硅。
表1示出了通过根据无机层中的氧化铝和氧化硅的含量比评估窗的光学性质和耐久性而获得的结果。表1中所示的示例1-1至示例1-3和实验示例1-1与图5等中所示的各自包括设置在基体层的一个表面上的无机层的窗的示例相对应。在示例1-1至示例1-3和实验示例1-1中，通过改变无机层中的氧化铝相对于氧化硅的含量来执行评估。在实验示例1-2中，氧化铝相对于大约100wt％的氧化硅的含量大于大约10wt％，并且在这种情况下，不评估窗的物理性质，因为不容易形成用于形成无机层的组合物或不容易通过将形成的组合物提供给基体层来形成无机层。在示例1-1至示例1-3和实验示例1-1中，已经使用具有大约50μm的厚度的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜作为基体层，并且在示例1-1至示例1-3和实验示例1-1中，无机层具有大约30nm的厚度。
[表1]
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参考在表1中所示的结果，可以看出，与比较示例相比，根据示例的窗展现出优异的光学性质和优越的抗冲击性。与比较示例1和比较示例2相比，示例1-1至示例1-3展现出诸如高透射率和低反射率的光学性质。另外，示例1-1至示例1-3展现出与比较示例1和比较示例2的黄色指数和雾度值相近的黄色指数和雾度值。另外，可以看出，与实验示例1-1相比，示例1-1至示例1-3具有低反射率性质。
与比较示例1和比较示例2相比，示例1-1至示例1-3展现出改善的抗冲击性，并且通过比较，示例1-1至示例1-3展现出与比较示例1和比较示例2的压痕硬度值相近的压痕硬度值。
即，可以确认，在包括具有氧化硅和氧化铝的无机层的窗中，在无机层中，相对于大约100wt％的氧化硅，以大约1wt％或更大且小于大约10wt％的量包括氧化铝，并且因此，窗展现出优异的光学性质和优越的抗冲击性两者。
表2示出了通过根据无机层的厚度评估根据示例的窗的光学性质和耐久性而获得的结果。表2中所示的示例2-1和实验示例2-1至实验示例2-3对应于图5等中所示的各自包括设置在基体层的一个表面上的无机层的窗的示例或实验示例。在示例2-1和实验示例2-1至实验示例2-3中，使用具有大约50μm的厚度的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜作为基体层，并且在根据示例2-1和实验示例2-1至实验示例2-3的无机层中的每一个中，相对于大约100wt％的氧化硅，氧化铝的含量为大约2wt％至大约3wt％。
[表2]
Figure BDA0003993492160000221
参考表2中所示的结果，可以看出，与比较示例相比，根据示例2-1的窗展现出优异的光学性质和优越的抗冲击性。可以看出，与实验示例2-1至实验示例2-3相比，根据示例2-1的窗还展现出优异的光学性质。
与比较示例1和比较示例2相比，示例2-1展现出诸如高透射率、低反射率和低黄色指数的光学性质。另外，示例2-1展现出与比较示例1和比较示例2的雾度值相近的雾度值。另外，与实验示例2-1和实验示例2-2相比，示例2-1展现出诸如高透射率、低反射率、低黄色指数和低雾度值的光学性质。
与比较示例1和比较示例2相比，示例2-1展现出改善的抗冲击性，并且通过比较，示例2-1展现出与比较示例1和比较示例2的压痕硬度值相近的压痕硬度值。
即，可以确认，当无机层具有大约40nm至大约90nm的厚度时，包括具有氧化硅和氧化铝的无机层的窗展现出优异的光学性质和优越的抗冲击性。
表3示出了通过评估根据各自具有图6中所示的窗的结构的示例3和比较示例1的窗的光学性质和耐久性而获得的结果。在表3的示例3中，使用具有大约50μm的厚度的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜作为基体层，并且上无机层和下无机层各自形成为具有大约60nm的厚度。上无机层和下无机层各自具有相对于大约100wt％的氧化硅以大约2wt％至大约3wt％的量包含的氧化铝。
[表3]
Figure BDA0003993492160000231
参考表3中所示的结果，与比较示例1相比，根据示例3的窗展现出低反射率、低黄色指数和低雾度值。另外，示例3展现出与比较示例1的透射率性质相近的透射率性质。可以确认，与比较示例1相比，根据示例3的窗展现出优异的光学性质。
另外，与比较示例1相比，示例3展现出改善的抗冲击性，并且展现出与比较示例1的压痕硬度和折叠性质相近的压痕硬度和折叠性质。即，可以确认，根据示例3的窗展现出优异的耐久性。
参考表1至表3中所示的结果，可以确认，当在无机层中相对于大约100wt％的氧化硅以大约1wt％或更大且小于大约10wt％的量包括氧化铝并且无机层具有大约40nm至大约90nm的厚度时，包括具有氧化硅和氧化铝的无机层的窗展现出优异的光学性质、改善的抗冲击性和令人满意的折叠性质。
根据实施例的窗包括基体层以及设置在基体层上、并且包括氧化硅和氧化铝并且具有相对于无机层中的大约100wt％的氧化硅以大约1wt％或更大且小于大约10wt％的量包含的氧化铝的无机层，由此展现出优异的光学性质和优越的耐久性。另外，根据实施例的窗可以展现出用于保护设置在窗下方的显示模块的抗冲击性和用于改善显示模块的显示质量的优异的光学性质，同时具有柔性电子装置所需的柔性。
根据实施例的电子装置包括窗，该窗包括具有氧化硅和氧化铝的无机层，由此展现出优异的耐久性和优越的折叠性质，同时具有优异的光学性质。另外，根据实施例的包括通过包含具有氧化硅和氧化铝的无机层而展现出优异的光学性质的窗的电子装置可以展现出优异的显示质量。
根据实施例的窗包括包含氧化硅和氧化铝的无机层，由此展现出优异的光学性质和改善的抗冲击性两者。
根据实施例的电子装置包括设置在电子模块上并且包括包含氧化硅和氧化铝的无机层的窗，由此展现出令人满意的显示质量、改善的抗冲击性以及优异的柔性。
在前面的描述中，尽管已经参考附图描述了本发明的实施例，但是将理解的是，在如所要求保护的本发明的精神和范围内，本领域普通技术人员能够对本发明进行各种改变和修改。
因此，本发明的技术范围不应限于在说明书的详细描述中描述的内容，而应由权利要求限定。

Claims (20)

1.一种窗，其中，所述窗包括：
基体层；以及
无机层，在所述基体层上限定所述窗的第一外表面，并且
其中，限定所述窗的所述第一外表面的所述无机层包括氧化硅和氧化铝，相对于100重量百分比的所述氧化硅，所述氧化铝的含量为1重量百分比或更大且小于10重量百分比。
2.根据权利要求1所述的窗，其中，限定所述窗的所述第一外表面的所述无机层具有40纳米至90纳米的厚度。
3.根据权利要求1所述的窗，其中，限定所述窗的所述第一外表面的所述无机层直接在所述基体层上。
4.根据权利要求1所述的窗，其中，所述窗进一步包括面对所述无机层的硬涂覆层，所述基体层在所述硬涂覆层和所述无机层之间，
其中，所述硬涂覆层具有大于所述基体层的硬度的硬度，并且限定所述窗的与所述第一外表面背对的第二外表面。
5.根据权利要求4所述的窗，其中，所述无机层和所述硬涂覆层中的每一者直接在所述基体层上。
6.根据权利要求1所述的窗，其中，所述窗进一步包括硬涂覆层，所述硬涂覆层具有大于所述基体层的硬度的硬度并且在所述基体层和所述无机层之间。
7.根据权利要求1所述的窗，其中，所述无机层提供为多个，提供为多个的所述无机层包括：
上无机层，直接在所述基体层的上表面上；以及
下无机层，直接在所述基体层的与所述基体层的所述上表面背对的下表面上。
8.根据权利要求1所述的窗，其中，所述基体层是聚合物膜。
9.根据权利要求1所述的窗，其中，所述基体层包括聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚酰胺、聚碳酸酯或三乙酰纤维素。
10.根据权利要求1所述的窗，其中，所述基体层具有50微米至100微米的厚度。
11.根据权利要求1所述的窗，其中，所述窗在可见光范围内具有90％或更大的透射率，并且所述窗具有1.5％或更小的雾度值和2.0或更小的黄色指数。
12.一种电子装置，其中，所述电子装置包括：
显示模块；以及
窗，在所述显示模块上，
其中，所述窗包括：
基体层；以及
无机层，在所述基体层上限定所述窗的第一外表面；并且
其中，限定所述窗的所述第一外表面的所述无机层包括氧化硅和氧化铝，相对于100重量百分比的所述氧化硅，所述氧化铝的含量为1重量百分比或更大且小于10重量百分比。
13.根据权利要求12所述的电子装置，其中，限定所述窗的所述第一外表面的所述无机层具有40纳米至90纳米的厚度。
14.根据权利要求12所述的电子装置，其中，所述窗进一步包括：
硬涂覆层，面对所述无机层，所述基体层在所述硬涂覆层和所述无机层之间，并且所述硬涂覆层具有大于所述基体层的硬度的硬度，并且
所述硬涂覆层限定所述窗的与所述第一外表面背对的第二外表面。
15.根据权利要求14所述的电子装置，其中，所述无机层和所述硬涂覆层中的每一者直接在所述基体层上。
16.根据权利要求12所述的电子装置，其中，所述窗进一步包括硬涂覆层，所述硬涂覆层具有大于所述基体层的硬度的硬度并且在所述基体层和所述无机层之间。
17.根据权利要求12所述的电子装置，其中，所述基体层是聚合物膜，所述聚合物膜包括聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚酰胺、聚碳酸酯或三乙酰纤维素。
18.根据权利要求12所述的电子装置，其中，所述窗进一步包括面对所述显示模块的保护层，所述窗在所述保护层和所述显示模块之间，
其中，所述保护层包括聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚氯乙烯、聚醚砜、聚丙烯、聚酰胺、聚苯醚、聚甲醛、聚砜、聚苯硫醚、聚酰亚胺、聚乙烯亚胺、聚醚醚酮、聚酰胺酰亚胺、聚芳酯和热塑性聚氨酯中的至少一种聚合物树脂。
19.一种电子装置，其中，所述电子装置包括：
折叠区域和非折叠区域，所述电子装置在所述折叠区域处是可折叠的，所述非折叠区域与所述折叠区域相邻；
显示模块；
支撑模块，设置在所述显示模块下方；以及
窗，在所述显示模块上，
其中，所述窗包括：
基体层；以及
无机层，在所述基体层上限定所述窗的外表面；并且
其中，限定所述窗的所述外表面的所述无机层包括氧化硅和氧化铝，并且具有40纳米至90纳米的厚度，相对于100重量百分比的所述氧化硅，所述氧化铝的含量为1重量百分比或更大且小于10重量百分比。
20.根据权利要求19所述的电子装置，其中，所述窗在可见光范围内具有90％或更大的透射率，并且所述窗具有1.5％或更小的雾度值和2.0或更小的黄色指数。
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